JP2015233120A - 軟磁性金属粉末、およびその粉末を用いた軟磁性金属圧粉コア - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Bを含み、FeとNiを主成分とする軟磁性金属粉末であって、Niの含有量が30〜80質量%、FeとNiの含有量の合計が90質量%以上であり、軟磁性金属粉末の金属粒子5内のBの含有量が10〜150ppmであり、粒子表面に窒化ホウ素皮膜6を有する軟磁性金属粉末とする。
【選択図】図2
Description
る。
本発明の軟磁性金属粉末は、Bを含み、FeとNiを主成分とする軟磁性金属粉末であって、軟磁性金属粉末の金属粒子内のBの含有量が10〜150ppmであり、軟磁性金属粉末の金属粒子表面に窒化ホウ素皮膜を有する。軟磁性金属粉末の金属粒子のBの含有量を10〜150ppmとすることによって、保磁力が十分に小さくなる。150ppm以上のBが軟磁性金属粉末の金属粒子中に存在すると、Fe2Bなどの結晶磁気異方性が大きい強磁性相を形成することと、結晶粒成長を阻害するため、保磁力悪化の原因となる。原料粉末に対して、窒素を含む非酸化性雰囲気で高温熱処理を行うと、原料粉末粒子内の多量のBが金属粒子表面で窒化して窒化ホウ素となるので、容易に軟磁性金属粉末の金属粒子内のB含有量を10〜150ppmとすることができる。軟磁性金属粉末の金属粒子内のBの含有量が10〜150ppmであれば、高温熱処理時に金属粒子表面方向へのBの拡散によって結晶粒成長が促進され、保磁力を小さくできる。軟磁性金属粉末の金属粒子の母相のbcc相に対して数ppm程度のBは固溶すること、金属粒子内のB濃度が低くなると拡散速度が低下すること、などから軟磁性金属粉末の金属粒子内のBを10ppm以下とするのは困難である。軟磁性金属粉末のNiの含有量は30〜80質量%とする。Niの含有量が30質量%未満、もしくは80質量%より多いと、結晶磁気異方性や磁歪定数が大きく、保磁力が増大するため、良好な軟磁気特性を得ることができない。
軟磁性金属粉末の原料粉の作製方法はとくに制限されないが、例えば、水アトマイズ法、ガスアトマイズ法、鋳造粉砕法などの方法を用いることができる。ガスアトマイズ法で製造された原料粉末を用いれば、軟磁性金属粉末を構成する金属粒子の90%以上の金属粒子の断面の円形度が0.80以上である軟磁性金属粉末を得ることが容易なため、好ましい。
Bを含有した原料粉末に対して窒素を含む非酸化性雰囲気中で高温熱処理を行う。この熱処理により歪が開放され、結晶粒成長が起こり、結晶粒径が大きくなる。十分に保磁力を低減するために、熱処理は、窒素を含む非酸化性雰囲気中、昇温速度は5℃/min以下、温度は1000〜1500℃で、保持時間は30〜600minとする。この熱処理を行うことで、雰囲気中の窒素と、原料粉末中のBが反応して、窒化ホウ素の皮膜を金属粒子表面に形成するとともに、原料粉末粒子の結晶粒を結晶粒成長させる。熱処理温度が1000℃に満たない場合には、原料粉末中のホウ素の窒化反応が不十分となり、Fe2Bなどの強磁性相が残留して、保磁力が十分に低くならない。また、原料粉末の結晶粒成長が不十分となる。熱処理温度が1500℃を超えると、窒化が速やかに進行して反応が完了するとともに、結晶粒成長も速やかに進行して単結晶化するので、温度をそれ以上上げても効果がない。高温熱処理は、窒素を含む非酸化性雰囲気で行う。非酸化性雰囲気で熱処理を行うのは、軟磁性金属粉末の酸化を防ぐためである。昇温速度が速すぎると、十分な量の窒化ホウ素が生成される前に原料粉末粒子が焼結する温度に到達し、原料粉末が焼結してしまうため、昇温速度は5℃/min以下とする。
本発明で得られた軟磁性金属粉末は低い保磁力を示すことから、これを軟磁性金属圧粉コアに用いた場合には、損失が小さくなる。軟磁性金属圧粉コアの作製方法は、軟磁性金属粉末として本発明で得られた軟磁性金属粉末を使用すること以外は、一般的な製造方法で作製することができるが、一例を示す。
本発明の軟磁性金属粉末を用いて軟磁性金属圧粉コアを作製する際に、本発明の軟磁性金属粉末の金属粒子表面に形成された窒化ホウ素皮膜を研削して、軟磁性金属圧粉コア中に含まれる窒化ホウ素の量を減じても良い。窒化ホウ素は非磁性成分であるため、粉の保磁力に対してなんら影響を与えることはない。また、窒化ホウ素は絶縁物であるため、本発明の軟磁性金属粉末を用いて圧粉コアとしたときに、窒化ホウ素皮膜が金属粒子同士の導通を防ぐ絶縁被膜の役目を果たす効果もある。しかし、軟磁性金属粉末中に窒化ホウ素が大量に含まれると、軟磁性金属圧粉コアにしたときに、コアの透磁率が低下する。そのため、窒化ホウ素皮膜を研削して、軟磁性金属粉末中から取り除き、その粉末を用いて軟磁性金属圧粉コアを作製することで、透磁率が高い軟磁性金属圧粉コアとすることができる。窒化ホウ素皮膜の研削処理方法としては、ボールミル処理により窒化ホウ素皮膜を研削して窒化ホウ素皮膜を剥がしたり、酸で軟磁性金属粉末粒子のごく表面部のみを溶かすことにより窒化ホウ素を軟磁性金属粉末の金属粒子表面から剥がすなどして、剥がした窒化ホウ素を風力分級や篩で分離したり、アルコールや水などで洗い流すといった方法がある。軟磁性圧粉コアを作製する場合、保形性と絶縁性を持たせるために樹脂などを粒子表面に被覆するため、窒化ホウ素皮膜研削後、軟磁性金属粉末の金属粒子表面の窒化ホウ素は、均一な皮膜状態を保った状態である必要はなく、軟磁性金属粉末の金属粒子表面に窒化ホウ素がまだらに点在する状態でも良い。窒化ホウ素の軟磁性金属粉末中の含有量を4900ppm以下とすることで、軟磁性金属圧粉コアの透磁率が十分な大きさとなる。軟磁性金属粉末の金属粒子表面の窒化ホウ素皮膜は、金属粒子表面に強固に固着しているため、完全に取り除くためにはボールミル処理を長時間行う必要があり、その場合には軟磁性金属粉末に歪みが入ってしまい、保磁力が悪化する。または、酸の中に長時間、軟磁性金属粉末を浸し、軟磁性金属粉末粒子を溶かす事で窒化ホウ素を剥がす方法もあるが、軟磁性金属粉末が錆びてしまい、保磁力が悪化する。そのため、軟磁性金属粉末中に、窒化ホウ素は50ppm以上は含有する。窒化ホウ素の含有量が50ppm以上であれば、窒化ホウ素皮膜研削処理によって保磁力を損なうことはない。
2…Fe2B相
3…母相中のB
4…結晶粒界
5…軟磁性金属粉末粒子
6…窒化ホウ素の皮膜
Claims (6)
- Bを含み、FeとNiを主成分とする軟磁性金属粉末であって、
前記軟磁性金属粉末において、
Niの含有量が30〜80質量%、
FeとNiの含有量の合計が90質量%以上であり、
前記軟磁性金属粉末の金属粒子内のBの含有量が10〜150ppmであり、
前記金属粒子表面に窒化ホウ素皮膜を有することを特徴とする軟磁性金属粉末。 - 請求項1に記載された軟磁性金属粉末であって、
前記軟磁性金属粉末を構成する金属粒子のうち、90%以上の金属粒子の断面の円形度が0.80以上であることを特徴とする軟磁性金属粉末。 - 請求項1または2のいずれかに記載された軟磁性金属粉末であって、前記軟磁性金属粉末を構成する金属粒子の90%以上が一個の結晶粒からなることを特徴とする軟磁性金属粉末。
- 請求項1〜3のいずれかに記載された軟磁性金属粉末であって、前記軟磁性金属粉末に含まれる酸素量が500ppm以下であることを特徴とする軟磁性金属粉末。
- 請求項1〜4のいずれかに記載された軟磁性金属粉末を用いて作製された軟磁性金属圧粉コア。
- 請求項1〜4のいずれかに記載された軟磁性金属粉末を用いて作製された軟磁性金属圧粉コアであって、前記軟磁性金属圧粉コア中の前記窒化ホウ素の含有量が50〜4900ppmであることを特徴とする軟磁性金属圧粉コア。
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