JP2015153811A5 - - Google Patents

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実施形態の半導体装置の製造方法では、まず、図6に示すような配線基板5を用意する。配線基板5は、厚み方向の中央部にコア基板10を備えている。コア基板10はガラスエポキシ樹脂などの絶縁材料から形成される。
このように、狭ピッチの柱状電極PExを備えた第2半導チップ7を先封止技術で第1半導体チップ6に低い荷重でフリップチップ接続する際には、溶融粘度の低い樹脂材を使用することが有効であることが確認された。
さらには、第1半導体チップ及び第2半導体チップの代わりに、各種の配線基板を採用し、3つの配線基板を積層して同様な構成としてもよい。

Claims (8)

  1. 配線基板と、
    前記配線基板の上にフリップチップ接続された第1半導体チップと、
    前記配線基板と前記第1半導体チップの間に充填され、かつ前記第1半導体チップの周囲に配置された台座部を備えた第1アンダーフィル樹脂と、
    前記第1半導体チップの上にフリップチップ接続され、前記第1半導体チップより面積が大きな第2半導体チップと、
    前記第1半導体チップと前記第2半導体チップの間に充填され、かつ前記第1アンダーフィル樹脂の台座部の上面及び前記第2半導体チップの側面を被覆する第2アンダーフィル樹脂と
    を有することを特徴とする半導体装置。
  2. 前記第2半導体チップの側面は、前記第1半導体チップの側面と前記第1アンダーフィル樹脂の台座部の側面との間の領域に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記第1半導体チップの上面と前記第1のアンダーフィル樹脂の台座部の上面とは、同一面となっていることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
  4. 配線基板の上に第1封止樹脂材を形成する工程と、
    前記第1封止樹脂材に第1半導体チップの電極を押し込んで前記配線基板にフリップチップ接続し、前記配線基板と前記第1半導体チップとの間に第1アンダーフィル樹脂を充填すると共に、前記第1半導体チップの周囲に前記第1アンダーフィル樹脂により台座部を形成する工程と、
    前記第1半導体チップの上に第2封止樹脂材を形成する工程と、
    前記第2封止樹脂材に第2半導体チップの電極を押し込んで前記第1半導体チップにフリップチップ接続し、前記第1半導体チップと前記第2半導体チップとの間に第2アンダーフィル樹脂を充填すると共に、前記第1アンダーフィル樹脂の台座部の上面及び第2半導体チップの側面を前記第2アンダーフィル樹脂で被覆する工程と
    有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  5. 配線基板の上に封止樹脂材を形成する工程と、
    前記封止樹脂材に第1半導体チップの電極を押し込んで前記配線基板にフリップチップ接続し、前記配線基板と前記第1半導体チップとの間に第1アンダーフィル樹脂を充填すると共に、前記第1半導体チップの周囲に前記第1アンダーフィル樹脂により台座部を形成する工程と、
    前記第1半導体チップの上に第2半導体チップをフリップチップ接続する工程と、
    前記第1半導体チップと前記第2半導体チップとの間に第2アンダーフィル樹脂を充填すると共に、前記第1アンダーフィル樹脂の台座部の上面及び第2半導体チップの側面を前記第2アンダーフィル樹脂で被覆する工程と
    有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  6. 前記第1アンダーフィル樹脂を充填する工程において、
    前記第1半導体チップは、前記第1半導体チップよりも面積が大きなボンディングツールに固定された状態で前記第1封止樹脂材に押し込まれ、
    前記ボンディングツールの周縁部の下面で前記第1封止樹脂材の周縁部が押圧されて前記台座部が形成され、前記台座部の上面と前記第1半導体チップの上面とが同一面となることを特徴とする請求項4又は5に記載の半導体装置の製造方法。
  7. 前記第2アンダーフィル樹脂は、前記第1アンダーフィル樹脂よりも溶融粘度が低い樹脂材から形成されることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
  8. 前記第1半導体チップの上に前記第2半導体チップをフリップチップ接続する工程において、前記第2半導体チップの側面は、前記第1半導体チップの側面と前記第1アンダーフィル樹脂の台座部の側面との間の領域に配置されることを特徴とする請求項4乃至7のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI566305B (zh) * 2014-10-29 2017-01-11 巨擘科技股份有限公司 製造三維積體電路的方法
KR102356810B1 (ko) * 2015-01-22 2022-01-28 삼성전기주식회사 전자부품내장형 인쇄회로기판 및 그 제조방법
JP6489965B2 (ja) * 2015-07-14 2019-03-27 新光電気工業株式会社 電子部品装置及びその製造方法
JP6478853B2 (ja) * 2015-07-14 2019-03-06 新光電気工業株式会社 電子部品装置及びその製造方法
US10957672B2 (en) * 2017-11-13 2021-03-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Package structure and method of manufacturing the same
US11075133B2 (en) * 2018-06-29 2021-07-27 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Underfill structure for semiconductor packages and methods of forming the same
JP2020047793A (ja) * 2018-09-19 2020-03-26 株式会社東芝 半導体装置の製造方法
JP2022002261A (ja) * 2020-06-22 2022-01-06 キオクシア株式会社 ストレージ装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002184936A (ja) * 2000-12-11 2002-06-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP3683179B2 (ja) * 2000-12-26 2005-08-17 松下電器産業株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP2003258034A (ja) * 2002-03-06 2003-09-12 Mitsubishi Electric Corp 多層配線基体の製造方法および多層配線基体
JP2011054851A (ja) * 2009-09-03 2011-03-17 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法
JP2011061004A (ja) * 2009-09-10 2011-03-24 Elpida Memory Inc 半導体装置及びその製造方法
KR101719636B1 (ko) * 2011-01-28 2017-04-05 삼성전자 주식회사 반도체 장치 및 그 제조 방법
JP5357241B2 (ja) 2011-08-10 2013-12-04 新光電気工業株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP2013115190A (ja) * 2011-11-28 2013-06-10 Elpida Memory Inc 半導体装置の製造方法
JP2013138177A (ja) * 2011-11-28 2013-07-11 Elpida Memory Inc 半導体装置の製造方法
JP2015122445A (ja) * 2013-12-24 2015-07-02 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法

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