JP2015126222A - 検査装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】フラックスに起因する検査精度の低下を抑制することが可能な検査装置を提供する。【解決手段】この検査装置100は、リフロー後の基板110を所定の検査位置で撮像して画像を取得する撮像部41と、撮像された画像に基づいて、基板110の検査を行うCPU60と、基板110上の半田から発生するフラックスを吸引するためのフラックス吸引ファン53aおよび53bとを備える。【選択図】図3

Description

本発明は、検査装置に関し、特に、リフロー後の基板を検査する検査装置に関する。
従来、リフロー後の基板を検査する検査装置が知られている(たとえば、特許文献1参照)。
上記特許文献1には、リフロー後の基板を所定の検査位置で撮像して画像を取得する撮像部と、撮像された画像に基づいて、基板の検査を行う制御部とを備える検査装置が開示されている。
特開2012−18082号公報
しかしながら、上記特許文献1に記載された検査装置では、基板がリフローされた際の熱に起因して基板上の半田から発生(気化)するフラックスにより、撮像部が汚れてしまい、その結果、検査精度が低下するという問題点がある。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、フラックスに起因する検査精度の低下を抑制することが可能な検査装置を提供することである。
この発明の一の局面における検査装置は、リフロー後の基板を所定の検査位置で撮像して画像を取得する撮像部と、撮像された画像に基づいて、基板の検査を行う制御部と、基板上の半田から発生するフラックスを吸引するためのフラックス吸引ファンとを備える。
この発明の一の局面による検査装置では、上記のように、基板上の半田から発生するフラックスを吸引するためのフラックス吸引ファンを設けることによって、基板上の半田から発生(気化)したフラックスを積極的に取り除くことができるので、撮像部が気化したフラックスに曝されるのを抑制することができる。これにより、撮像部がフラックスにより汚れてしまうのを抑制することができるので、フラックスに起因する検査精度の低下を抑制することができる。また、半田からフラックスが発生するのを抑制するために基板を冷却する冷却装置を、基板の搬送方向における検査装置の上流側に設ける構成と比べて、省スペース化を図ることができる。また、撮像部が気化したフラックスに曝されるのを抑制するために、ケースにより撮像部を覆う構成と異なり、撮像部に熱がこもるのを抑制することができる。
上記一の局面による検査装置において、好ましくは、検査位置に基板を搬送する第1コンベアと、検査位置に搬送された基板の上方に向けて送風する第1送風ファンとをさらに備え、フラックス吸引ファンは、第1送風ファンとの間に検査位置に搬送された基板を挟み、第1送風ファンと対向するように配置された第1フラックス吸引ファンを含む。このように構成すれば、第1送風ファンにより、基板上の半田から発生(気化)したフラックスを第1フラックス吸引ファンに積極的に送り込むことができるので、気化したフラックスを第1フラックス吸引ファンに確実に吸引させることができる。また、第1送風ファンにより、検査位置に搬送された基板の上方に空気の流れが形成されるので、その空気の流れにより基板を冷却することができる。これにより、基板から発生するフラックスの量を徐々に低減することができる。
上記一の局面による検査装置において、好ましくは、基板が検査位置に搬送されたことを検出する検出センサをさらに備え、制御部は、検出センサにより基板が検出されたと判断した場合に、フラックス吸引ファンを動作させるように構成されている。このように構成すれば、検査位置(撮像部の近傍の位置)に基板が搬送された際にのみフラックス吸引ファンを動作させることができるので、撮像部が汚れてしまうのを抑制しながら、省電力化を図ることができる。
この場合、好ましくは、撮像部と撮像部により撮像が行われる際に光を照射する照明部とを含む検査ヘッドをさらに備え、検査ヘッドは、検査位置の上方と、基板の上方とは異なる退避位置とに移動可能に構成され、制御部は、基板が検査位置に搬送されたと判断した場合に、フラックス吸引ファンを動作させた後、検査ヘッドを退避位置から検査位置の上方に移動させ、撮像部に基板を撮像させるように構成されている。このように構成すれば、基板の撮像が行われない場合には、基板上の半田から発生したフラックスに曝されにくい退避位置に検査ヘッドを退避させておくことにより、撮像部が汚れてしまうのをより抑制することができる。
上記一の局面による検査装置において、好ましくは、撮像部を取り囲むように設けられた筺体と、筺体に設けられ、筺体の外部から内部に空気を吸引する外部空気吸引ファンとをさらに備える。このように構成すれば、外部空気吸引ファンにより筺体の内部を正圧にすることができるので、フラックス吸引ファンにより吸引されたフラックスを容易に筺体の外部に排出することができる。
上記一の局面による検査装置において、好ましくは、検査位置よりも基板の搬送方向の上流側の基板待機位置に基板を搬送する第2コンベアと、基板待機位置に搬送された基板の上方に向けて送風する第2送風ファンとをさらに備え、フラックス吸引ファンは、第2送風ファンとの間に基板待機位置に搬送された基板を挟み、第2送風ファンと対向するように配置された第2フラックス吸引ファンを含む。このように構成すれば、基板待機位置においても、第2送風ファンにより基板上の半田から発生(気化)したフラックスを第2フラックス吸引ファンに積極的に送り込むことができるので、気化したフラックスに撮像部が曝されるのをさらに抑制することができる。また、第2送風ファンにより、基板待機位置に搬送された基板の上方に空気の流れが形成されるので、その空気の流れにより基板を冷却することができる。これにより、基板が検査位置に搬送される前に基板から発生するフラックスの量を低減することができる。
この場合、好ましくは、制御部は、基板を基板待機位置に待機させる予め設定された待機時間よりも検査位置における基板の検査時間の方が長い場合には、待機時間経過後も基板を基板待機位置に待機させて第2送風ファンおよび第2フラックス吸引ファンの動作を継続させるように構成されている。このように構成すれば、検査待ちの時間を利用して、より長時間、気化したフラックスを第2フラックス吸引ファンに積極的に送り込むことができるとともに基板待機位置に搬送された基板を冷却することができる。
上記一の局面による検査装置において、好ましくは、制御部は、検査される基板の情報に基づいて、フラックス吸引ファンの回転数を制御するように構成されている。このように構成すれば、たとえば基板寸法の情報に基づいて、大型の基板を検査する場合(気化するフラックスの量が多い場合)に回転数を高めに設定する制御を行うことにより、大型の基板から発生したフラックスを確実に取り除くことができる。このように、基板の情報に基づいてフラックス吸引ファンの適切な回転数を設定することにより、撮像部が汚れてしまうことを更に効果的に抑制することができる。
上記基板が検査位置に搬送されたことを検出する検出センサを備える構成において、好ましくは、基板が検査位置から下流側に搬送されたことを検出する基板搬出検出センサをさらに備え、制御部は、基板搬出検出センサにより基板が搬出されたと判断した場合に、フラックス吸引ファンの動作を停止させるように構成されている。このように構成すれば、省電力化を図ることができるとともに、フラックス吸引ファンに起因する騒音を低減することができる。
本発明によれば、上記のように、フラックスに起因する検査精度の低下を抑制することができる。
本発明の第1実施形態による検査装置の外観を示す図である。 本発明の第1実施形態による検査装置の内部を示した平面図である。 本発明の第1実施形態による検査装置の内部を示した側面図である。 本発明の第1実施形態による検査装置が気化したフラックスを吸引する状態を示した図である。 本発明の第1実施形態による検査装置の構成を示したブロック図である。 本発明の第1実施形態による検査装置の検査処理を説明するためのフローチャートである。 本発明の第2実施形態による検査装置が気化したフラックスを吸引する状態を示した図である。 本発明の第2実施形態による検査装置の構成を示したブロック図である。 本発明の第2実施形態による検査装置の検査処理を説明するためのフローチャートである。 図9に示した検査処理における第1待機処理(サブルーチン)を示したフローチャートである。 図9に示した検査処理における第2待機処理(サブルーチン)を示したフローチャートである。 図9に示した検査処理(サブルーチン)を示したフローチャートである。 本発明の第3実施形態による検査装置の内部を示した側面図である。 本発明の第1実施形態の変形例による検査装置が気化したフラックスを吸引する状態を示した図である。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
(第1実施形態)
まず、図1〜図5を参照して、本発明の第1実施形態における検査装置100の構造について説明する。
図1および図2に示す検査装置100は、リフロー後の基板110(図2参照)を所定の検査位置で検査を行うための装置である。具体的には、検査装置100は、半田が基板110に正確に印刷されているか否か、部品が基板110に正確に実装されているかなどの各種検査を行うための装置である。
図2に示すように、検査装置100は、基台1上に設けられた基板搬送コンベア(以下、コンベアという)10と、Xビーム20と、Yビーム30と、検査ヘッド40と、ファン装置50(図3参照)とを備えている。また、検査装置100は、図5に示すように、CPU60と、記憶部70と、表示部80(図1参照)とを備えている。また、検査装置100は、筺体100a(図1参照)のX1方向側の開口部101(図1参照)から基板110が搬入され、検査が完了した基板110をX2方向側から搬出するように構成されている。なお、コンベア10は、本発明の「第1コンベア」の一例である。また、CPU60は、本発明の「制御部」の一例である。
コンベア10は、図2に示すように、基板110を保持してX1方向側の開口部101(図1参照)からX2方向に向けて搬送する機能を有する。また、コンベア10は一対のレール10aおよび10bを含んでいる。また、一対のレール10aおよび10bの間には、検出センサ11と、ストッパ12とが設けられている。コンベア10は、検査位置まで基板110を搬送し、保持機構(図示せず)によって、基板110を検査位置に固定するように構成されている。この検査位置において、基板110の検査が行われる。また、コンベア10は、レール10bがY方向に移動可能な可動コンベアである。これにより、搬送方向と垂直方向(Y方向)の幅が異なる基板110も搬送することが可能である。
検出センサ11は、基板110が検査位置に搬送(搬入)されたことを検出する機能を有している。また、検出センサ11は、基板110が検査位置から搬送(搬出)されたことを検出する機能を有している。なお、検出センサ11は、本発明の「基板搬出検出センサ」の一例である。
ストッパ12は、搬送される基板110を検査位置で停止させる機能を有している。ストッパ12に当接した状態において基板110が検出センサ11により検出されると、ストッパ12は基板110に当接しない高さ位置まで下降する。また、ストッパ12は、検査位置から基板110が搬送(搬出)されると基板110に当接可能な高さ位置まで上昇する。
Xビーム20は、検査ヘッド40をX方向に移動可能に支持するように構成されている。具体的には、Xビーム20は、Xビームモータ21を含んでいる。このXビームモータ21が駆動することによって、検査ヘッド40がXビーム20に沿って移動される。また、Yビーム30は、Xビーム20を介して検査ヘッド40をY方向に移動可能に支持するように構成されている。具体的には、Yビーム30は、Yビームモータ31を含んでいる。このYビームモータ31が駆動することによって、Xビーム20を介して検査ヘッド40がYビーム30に沿って移動される。これらによって、検査ヘッド40を、検査位置の上方(図3参照)と、検査位置に配置された基板110の上方とは異なる退避位置(図2参照)とに移動させることが可能である。なお、退避位置とは、検査位置に配置された基板110の上方とは異なる位置であるとともに、コンベア10の一対のレール10aおよび10bに挟まれている位置とは異なる位置である。
検査ヘッド40は、図3に示すように、撮像部41と、撮像部41により撮像が行われる際に光を照射する照明部42とを含む。また、検査ヘッド40は、ドーム状のケース40aを含んでいる。このケース40aの内面側に照明部42と、撮像部41のレンズ部(図示せず)が配置されている。また、検査ヘッド40は、基板110の上方に移動された状態で、基板110の検査を行う。
照明部42は、たとえば、複数のLED光源を含んでいる。
ここで、第1実施形態では、ファン装置50は、外部空気吸引ファン51a〜51cと、送風ファン52と、フラックス吸引ファン53aおよび53bとを含んでいる。なお、送風ファン52は、本発明の「第1送風ファン」の一例である。また、フラックス吸引ファン53aは、本発明の「第1フラックス吸引ファン」の一例である。なお、図3において、斜線付きの矢印は空気の流れを示し、黒色の矢印は気化フラックスの流れを示している。
外部空気吸引ファン51a〜51cは、図3に示すように、筺体100aの外部から内部に空気を吸引する機能を有している。これにより、筺体100aの内部を正圧することが可能である。外部空気吸引ファン51aは、筺体100aの上面に設けられている。また、外部空気吸引ファン51bおよび51cは、それぞれ、筺体100aの側面の下方に設けられて、基台1下方の部屋(図示せず)に空気を吸引する。この空気は基台1に設けられた開口1aを通り基台1上方の部屋3に入る。また、外部空気吸引ファン51a〜51cには、それぞれ、交換可能なフィルタ55が設けられている。外部空気吸引ファン51a〜51cに設けられるフィルタ55は、ほこりなどが筺体100aの外部から内部に侵入するのを抑制する機能を有している。
送風ファン52は、検査位置に搬送された基板110に向けて送風することにより、基板110から発生するフラックスをフラックス吸引ファン53aに向けて基板110上側に沿って送り込む機能を有している。送風ファン52は、図2〜図4に示すように、コンベア10のレール10bに設けられている。また、送風ファン52は、フラックス吸引ファン53aと対向(正対)するように配置されている。また、送風ファン52は、コンベア10のレール10bとともにY方向に移動可能である。具体的には、送風ファン52とフラックス吸引ファン53aとは、互いに、基板110の搬送方向と垂直な方向(Y方向)において、対向するように配置されている。また、送風ファン52およびフラックス吸引ファン53aは、それぞれ、レール10bおよび10aに平行に配置されている。言い換えると、送風ファン52(フラックス吸引ファン53a)は、送風(吸引)方向がレール10b(10a)に垂直になるように、レール10b(10a)に配置されている。
フラックス吸引ファン53aおよび53bは、基板110上の半田から発生するフラックスを吸引する機能を有している。フラックス吸引ファン53aおよび53bは、互いに、ダクト54を介して連結されている。
フラックス吸引ファン53aは、コンベア10のレール10aに設けられている。フラックス吸引ファン53aは、送風ファン52との間に検査位置に搬送された基板110を挟むように、送風ファン52と対向するように配置されている。また、フラックス吸引ファン53aの基板110側(Y1方向側)には、交換可能なフィルタ55が設けられている。フラックス吸引ファン53aに設けられるフィルタ55は、フラックス吸引ファン53aにより吸引されたフラックスが直接、筺体100aの外部に排気されるのを抑制する機能を有している。すなわち、フラックス吸引ファン53aにより吸引され、フィルタ55に捕捉(吸着)されなかったフラックスが、空気と共に筺体100aの外部に排気される。
フラックス吸引ファン53bは、筺体100aの側面に設けられている。フラックス吸引ファン53bは、フラックス吸引ファン53aにより吸引されてダクト54を介して送り込まれたフラックスを、筺体100aの外部に排出するように構成されている。
CPU60は、図5に示すように、検査装置100全体の制御を行うように構成されている。また、CPU60は、撮像部41により撮像された画像に基づいて、基板110の検査を行う。また、CPU60は、基板110が検査装置100に搬入されるまでは、ファン装置50(外部空気吸引ファン51a〜51c、送風ファン52、フラックス吸引ファン53aおよび53b)を停止させるように構成されている。また、CPU60は、検出センサ11により基板110が検出されたと判断した場合に、ファン装置50を動作させるように構成されている。また、CPU60は、検査される基板110の情報(たとえば、サイズなどの情報)に基づいて、ファン装置50の回転数を制御するように構成されている。具体的には、CPU60は、基板110のY方向の幅の大きさ(コンベア10のレール10aおよび10bの間隔の大きさ)に比例するようにファン装置50の回転数を設定する。
記憶部70は、検査に関するデータなどを格納するように構成されている。
表示部80は、検査結果などを表示するように構成されている。
次に、図2〜図4および図6を参照して、検査装置100の検査処理について説明する。この検査処理は、CPU60により実施される。
まず、ステップS1において、CPU60は、ストッパ12を下降位置から上昇させた後、検査位置に基板110を搬送させる。
次に、ステップS2において、CPU60は、検査位置に基板110が搬送されたか否かを判断する。具体的には、CPU60は、検出センサ11により基板110が検出されたことに基づいて、検査位置に基板110が搬送されたと判断する。CPU60は、検査位置に基板110が搬送されるまでこの判断を繰り返し、検査位置に基板110が搬送されると、ステップS3に処理を進める。
次に、ステップS3において、CPU60は、ファン装置50の電源をオンにする。具体的には、CPU60は、外部空気吸引ファン51a〜51cと、送風ファン52と、フラックス吸引ファン53aおよび53bとの電源をオンにする。これにより、ファン装置50による送風(吸引および排気)が開始される。なお、ステップS3において、CPU60は、検査される基板110(検査装置100に搬入される基板110)のサイズの情報に基づいて、外部空気吸引ファン51a〜51cと、送風ファン52と、フラックス吸引ファン53aおよび53bを所定の回転数で動作させる。
次に、ステップS4において、CPU60は、検査ヘッド40を検査位置に移動させる。具体的には、検査ヘッド40は、退避位置(図2参照)から検査位置(図3参照)に移動される。
次に、ステップS5において、検査を開始する。このように、ステップS3〜ステップS5の処理により、CPU60は、図4に示すように、基板110が検査位置に搬送されたと判断した場合に、ファン装置50を動作させた後、検査ヘッド40を退避位置から検査位置の上方に移動させる。そして、CPU60は、撮像部41に基板110を撮像させて、検査を行う。
次に、ステップS6において、CPU60は、検査が終了したか否かを判断する。CPU60は、検査が終了するまでこの判断を繰り返し、検査が終了すると、ステップS7に処理を進める。
次に、ステップS7において、CPU60は、ストッパ12を上昇位置から下降させた後検査位置から基板110を搬送する。
次に、ステップS8において、CPU60は、検査位置から基板110が搬送(搬出)されたか否かを判断する。具体的には、CPU60は、検出センサ11により基板110が検出されている状態から検出されなくなった状態に変化したことに基づいて、基板110が検査位置から搬送されたと判断する。すなわち、検出センサ11は基板110が検査位置から下流側に搬出されたことを検出する基板搬出検出センサとしても機能する。CPU60は、基板110が検査位置から搬送されるまでこの判断を繰り返し、基板110が検査位置から搬送されると、ステップS9に処理を進める。
次に、ステップS9において、CPU60は、ファン装置50の電源をオフにする。具体的には、CPU60は、ストッパ12を下降位置から上昇させた後、外部空気吸引ファン51a〜51cと、送風ファン52と、フラックス吸引ファン53aおよび53bとの電源をオフにする。これにより、ファン装置50による送風(吸引および排気)が停止される。
次に、ステップS10において、CPU60は、検査ヘッド40を退避位置に移動(退避)させる。その後、CPU60は、検査処理を終了する。
第1実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
第1実施形態では、上記のように、基板110上の半田から発生するフラックスを吸引するためのフラックス吸引ファン53aおよび53bを設ける。これにより、基板110上の半田から発生(気化)したフラックスを積極的に取り除くことができるので、撮像部41が気化したフラックスに曝されるのを抑制することができる。その結果、撮像部41がフラックスにより汚れてしまうのを抑制することができるので、フラックスに起因する検査精度の低下を抑制することができる。また、基板110上の半田からフラックスが発生するのを抑制するために、検査装置100の基板110の搬送方向における上流側に、基板110を冷却する冷却装置を設ける構成と異なり、省スペース化を図ることができる。また、撮像部41が気化したフラックスに曝されるのを抑制するために、ケースにより撮像部41を覆う構成と比べて、撮像部41に熱がこもるのを抑制することができる。
また、第1実施形態では、上記のように、送風ファン52との間に検査位置に搬送された基板110を挟み、送風ファン52と対向するように配置されたフラックス吸引ファン53aを設ける。これにより、送風ファン52により、基板110上の半田から発生(気化)したフラックスをフラックス吸引ファン53aに積極的に送り込むことができるので、気化したフラックスをフラックス吸引ファン53aに確実に吸引させることができる。また、送風ファン52により、検査位置に搬送された基板110の上方に空気の流れが形成されるので、その空気の流れにより基板110を冷却することができる。これにより、基板110から発生するフラックスの量を徐々に低減することができる。
また、第1実施形態では、上記のように、CPU60を、検出センサ11により基板110が検出されたと判断した場合に、フラックス吸引ファン53aおよび53bを動作させるように構成する。これにより、検査位置(撮像部41の近傍の位置)に基板110が搬送された際にのみフラックス吸引ファン53aおよび53bを動作させることができるので、撮像部41が汚れてしまうのを抑制しながら、省電力化を図ることができる。
また、第1実施形態では、上記のように、検査ヘッド40を、検査位置の上方と、基板110の上方とは異なる退避位置とを移動可能に構成する。また、CPU60を、基板110が検査位置に搬送されたと判断した場合に、フラックス吸引ファン53aおよび53bを動作させた後、検査ヘッド40を退避位置から検査位置の上方に移動させ、撮像部41に基板110を撮像させるように構成する。これにより、基板110の撮像が行われない場合には、基板110上の半田から発生したフラックスに曝されにくい退避位置に検査ヘッド40を退避させておくことにより、撮像部41が汚れてしまうのをより抑制することができる。
また、第1実施形態では、上記のように、筺体100aに設けられ、筺体100aの外部から内部に空気を吸引する外部空気吸引ファン51a〜51cを設ける。これにより、外部空気吸引ファン51a〜51cにより筺体100aの内部を正圧にすることができるので、フラックス吸引ファン53aおよび53bにより吸引されたフラックスを容易に筺体100aの外部に排出することができる。
また、第1実施形態では、上記のように、CPU60を、検査される基板110の情報に基づいて、フラックス吸引ファン53bの回転数を制御するように構成する。これにより、たとえば基板110寸法の情報に基づいて、大型の基板110を検査する場合(気化するフラックスの量が多い場合)に回転数を高めに設定する制御を行うことにより、大型の基板110から発生したフラックスを確実に取り除くことができる。このように、基板110の情報に基づいてフラックス吸引ファンの適切な回転数を設定することにより、撮像部41が汚れてしまうことを更に効果的に抑制することができる。
また、第1実施形態では、上記のように、CPU60を、検出センサ11により検査位置から基板110が下流側に搬出されたと判断した場合に、フラックス吸引ファン53aおよび53bを停止させるように構成する。これにより、省電力化を図ることができるとともに、フラックス吸引ファン53aおよび53bに起因する騒音を低減することができる。
なお、ステップS1の後ステップS3を実施し、このステップS3の後にステップS2を実施し、ステップS2の後ステップS4を実施するようにしても良い。これにより、基板110が検査位置に到達する前にファン装置の電源をオンにしてフラックス吸引ファン53bの回転数を高め、基板110が検査位置に到達した時点では、フラックスを確実に取り除くことができる回転数とすることができる。
(第2実施形態)
以下、図7および図8を参照して、本発明の第2実施形態による検査装置200の構成について説明する。
この第2実施形態では、検査位置の搬送方向の上流(X1方向)に基板110の待機位置を設けない第1実施形態と異なり、検査位置の搬送方向の上流に基板110の待機位置を設けた検査装置200について説明する。なお、以下の説明において、上記第1実施形態における参照符号と同じ参照符号が付された部材は、上記第1実施形態と同様の構成であるためその説明を省略する。
ここで、第2実施形態では、図7に示すように、基板110を保持してX1方向からX2方向に搬送する第1コンベア210と、第2コンベア215とが設けられている。また、第1コンベア210は、基板110の搬送方向(X2方向)における第2コンベア215の下流側(X2方向側)に設けられている。また、第1コンベア210は一対のレール210aおよび210bを含んでいる。また、第2コンベア215は一対のレール215aおよび215bを含んでいる。また、第1コンベア210(第2コンベア215)は、レール210b(215b)がY方向に移動可能な可動コンベアである。また、検査装置200は、第2コンベアCPU260(図8参照)を備えている。第2コンベアCPU260により、第2コンベア215の駆動が制御される。
第1コンベア210の一対のレール210aおよび210bの間には、検出センサ11cと、ストッパ12cとが設けられている。第1コンベア210は、検査位置まで基板110を搬送し、保持機構(図示せず)によって、基板110を検査位置に固定するように構成されている。なお、検出センサ11cは、本発明の「基板搬出検出センサ」の一例である。
第2コンベア215の一対のレール215aおよび215bの間には、検出センサ11a(11b)およびストッパ12a(12b)が設けられている。具体的には、基板110の搬送方向の上流側(X1方向側)から順に、検出センサ11aおよびストッパ12aと、検出センサ11bおよびストッパ12bとがそれぞれ設けられている。また、第2コンベア215は、基板110の搬送方向の上流の位置である第1基板待機位置(以下、第1待機位置という)から第2基板待機位置(以下、第2待機位置という)に向けて基板110を搬送するように構成されている。検出センサ11aは、第1待機位置に基板が搬送されたことを検出し、検出センサ11bは、第2待機位置に基板が搬送されたことを検出するように構成されている。検出センサ11a〜11cおよびストッパ12a〜12cは、それぞれ、第1実施形態の検出センサ11およびストッパ12と同様の構成であるため詳細な説明は省略する。なお、第2基板待機位置は、本発明の「基板待機位置」の一例である。
ここで、第2実施形態では、ファン装置250は、外部空気吸引ファン51a〜51c(図3参照)と、送風ファン52と、フラックス吸引ファン53aおよび53bとに加えて、送風ファン252aおよび252bと、フラックス吸引ファン253aおよび253bとを含んでいる。なお、送風ファン252bは、本発明の「第2送風ファン」の一例である。また、フラックス吸引ファン253bは、本発明の「第2フラックス吸引ファン」の一例である。
送風ファン252a(送風ファン252b)は、第1待機位置(第2待機位置)に搬送された基板110に向けて送風することにより、基板110から発生するフラックスをフラックス吸引ファン253a(フラックス吸引ファン253b)に向けて送り込む機能を有している。送風ファン252aおよび252bは、共に第2コンベア215のレール215bに設けられている。また、送風ファン252aおよび252bは、それぞれ、フラックス吸引ファン253aおよび253bと対向(正対)するように配置されている。また、送風ファン252aおよび252bは、第2コンベア215のレール215bとともにY方向に移動可能である。
フラックス吸引ファン253aおよび253bは、基板110上の半田から発生するフラックスを吸引する機能を有している。フラックス吸引ファン253a(253b)およびフラックス吸引ファン53aは、いずれも、共通のダクト254を介してフラックス吸引ファン53bに連結されている。
フラックス吸引ファン253aおよび253bは、第2コンベア215のレール215aに設けられている。フラックス吸引ファン253aは、送風ファン252aとの間に第1待機位置に搬送された基板110を挟むように、送風ファン252aと対向するように配置されている。フラックス吸引ファン253bは、送風ファン252bとの間に第2待機位置に搬送された基板110を挟むように、送風ファン252bと対向するように配置されている。また、フラックス吸引ファン253aおよび253bの基板110側(Y1方向側)には、交換可能なフィルタ55が設けられている。
フラックス吸引ファン53bは、フラックス吸引ファン53aと、フラックス吸引ファン253aおよび253bとにより吸引されてダクト254を介して送り込まれたフラックスを、筺体100aの外部に排出するように構成されている。
次に、図7および図9を参照して、検査装置200の検査処理について説明する。この検査処理は、CPU60および第2コンベアCPU260により実施される。
まず、ステップS100において、CPU60および第2コンベアCPU260は、第1待機処理を行う。具体的には、第2コンベアCPU260は、基板110を第1待機位置(図7参照)に搬送する。そして、CPU60は、送風ファン252aおよびフラックス吸引ファン253aを動作させる。また、第2コンベアCPU260は、基板110を第1待機位置に所定時間待機させた後、第1待機位置から搬送する。ステップS100の詳細(サブルーチン)については、後で詳細に説明する。
次に、ステップS200において、CPU60および第2コンベアCPU260は、第2待機処理を行う。具体的には、第2コンベアCPU260は、基板110を第2待機位置(図7参照)に搬送する。そして、CPU60は、送風ファン252bおよびフラックス吸引ファン253bを動作させる。また、第2コンベアCPU260は、基板110を第2待機位置に所定時間待機させた後、第2待機位置から搬送する。ステップS200の詳細(サブルーチン)については、後で詳細に説明する。
次に、ステップS300において、CPU60は、検査処理を行う。具体的には、CPU60は、基板110を検査位置(図7参照)に搬送する。そして、CPU60は、送風ファン52およびフラックス吸引ファン53を動作させる。また、CPU60は、基板110の検査が終了すると、検査位置から基板110を搬送する。ステップS300の詳細(サブルーチン)については、後で詳細に説明する。
次に、図7および図10を参照して、図9に示した第1待機処理(サブルーチン)について説明する。第2コンベアCPU260は第2コンベア215の駆動を制御し、CPU60はそれ以外の制御を行う。
まず、ステップS101において、第2コンベアCPU260は、ストッパ12aを下降位置から上昇させた後、第1待機位置(図7参照)に基板110を搬送させる。
次に、ステップS102において、CPU60は、第1待機位置に基板110が搬送されたか否かを判断する。具体的には、CPU60は、検出センサ11aにより基板110が検出されたことに基づいて、第1待機位置に基板110が搬送されたと判断する。CPU60は、第1待機位置に基板110が搬送されるまでこの判断を繰り返し、第1待機位置に基板110が搬送されると、ステップS103に処理を進める。
次に、ステップS103において、CPU60は、第1待機位置に配置されるファンの電源をオンにする。具体的には、CPU60は、外部空気吸引ファン51a〜51cと、送風ファン252aと、フラックス吸引ファン253aおよび53bとの電源をオンにし、送風(吸引および排気)を開始させる。なお、2枚目以降の基板110が第1待機位置に搬送された際にステップS103の処理を行う場合には、外部空気吸引ファン51a〜51cと、フラックス吸引ファン53bとの電源は既にオン状態であり、CPU60は、送風ファン252aと、フラックス吸引ファン253aとの電源をオンにする。
次に、ステップS104において、CPU60は、第1待機位置に基板110が搬送されてから所定時間が経過したか否かを判断する。CPU60は、第1待機位置に基板110が搬送されてから所定時間が経過するまでこの判断を繰り返し、第1待機位置に基板110が搬送されてから所定時間が経過すると、ステップS105に処理を進める。すなわち、所定時間は、第1待機位置に基板110が待機する時間であり、予めユーザにより設定されている。
次に、ステップS105において、CPU60は、第2待機位置に基板110があるか否かを判断する。すなわち、CPU60は、第2待機位置から基板110が搬送されたか否かを判断する。具体的には、CPU60は、検出センサ11bにより基板110が検出されなくなったこと基づいて、基板110が第2待機位置から搬送されたと判断する。また、CPU60は、第2待機位置から基板110が搬送されるまでこの判断を繰り返し、第2待機位置から基板110が搬送されると、ステップS106に処理を進める。
次に、ステップS106において、第2コンベアCPU260は、ストッパ12aを上昇位置から下降した後第1待機位置から基板110を搬送する。
次に、ステップS107において、CPU60は、第1待機位置から基板110が搬送されたか否かを判断する。具体的には、CPU60は、検出センサ11aにより基板110が検出されなくなったことに基づいて、基板110が第1待機位置から搬送されたと判断する。CPU60は、基板110が第1待機位置から搬送されるまでこの判断を繰り返し、基板110が第1待機位置から搬送されると、ステップS108に処理を進める。
次に、ステップS108において、CPU60は、第1待機位置に配置されるファンの電源をオフにする。具体的には、CPU60は、送風ファン252aと、フラックス吸引ファン253aとの電源をオフにする。
次に、ステップS109において、CPU60は、次の基板110があるか否かを判断する。具体的には、CPU60は、次に検査装置200に搬入される基板110があるか否かを判断する。次に検査装置200に搬入される基板110があると判断した場合には、ステップS101に処理を戻す。一方、次に検査装置200に搬入される基板110がないと判断した場合には、第1待機処理(サブルーチン)を終了する。
次に、図7および図11を参照して、図9に示した第2待機処理(サブルーチン)について説明する。なお、第2待機処理におけるステップS201、ステップS202、ステップS204、ステップS206およびステップS207の処理は、それぞれ、第1待機処理におけるステップS101、ステップS102、ステップS104、ステップS106およびステップS107の処理と実質的に同様の処理が第2待機位置で行われる。このため、ステップS201、ステップS202、ステップS204、ステップS206およびステップS207の処理については、詳細な説明を省略する。
ステップS201では、CPU60は、ストッパ12bを下降位置から上昇させた後、第2待機位置に基板110を搬送させる。ステップS202において第2待機位置に基板110が搬送されたとCPU60が判断すると、CPU60は、ステップS203において、第2待機位置に配置されるファンの電源をオンにし、送風(吸引および排気)を開始させる。具体的には、CPU60は、送風ファン252bと、フラックス吸引ファン253bとの電源をオンにする。
次に、ステップS204において、CPU60は、第2待機位置に基板110が搬送されてから所定時間が経過したか否かを判断する。CPU60は、第2待機位置に基板110が搬送されてから所定時間が経過するまでこの判断を繰り返し、第2待機位置に基板110が搬送されてから所定時間が経過すると、ステップS205に処理を進める。
次に、ステップS205において、CPU60は、検査位置に基板110があるか否かを判断する。すなわち、CPU60は、検査位置から基板110が搬送されたか否かを判断する。具体的には、CPU60は、検出センサ11cにより基板110が検出されなくなったこと基づいて、基板110が検査位置から搬送されたと判断する。また、CPU60は、検査位置から基板110が搬送されるまでこの判断を繰り返し、検査位置から基板110が搬送されると、ステップS206に処理を進める。
このステップS204およびステップS205の処理により、CPU60は、基板110を第2待機位置に待機させる予め設定された待機時間よりも検査位置における基板110の検査時間の方が長い場合には、待機時間経過後も基板110を第2待機位置に待機させて送風ファン252bおよびフラックス吸引ファン253bの動作を継続させる制御を行う。また、CPU60は、ステップS204およびステップS205の処理により、検査時間が待機時間以下の場合(所定時間が経過した際に検査が終了している場合)には、予め設定された待機時間、基板110を第2待機位置に待機させてから、ステップS206に処理を進める。ステップS206では、CPU60は、ストッパ12bを上昇位置から下降させた後、第2待機位置から基板110を搬送させる。
また、ステップS207において第2待機位置から基板110が搬送されたとCPU60が判断すると、CPU60は、ステップS208において、第2待機位置に配置されるファンの電源をオフにする。具体的には、CPU60は、送風ファン252bと、フラックス吸引ファン253bとの電源をオフにする。
次に、ステップS209において、CPU60は、次の基板110があるか否かを判断する。CPU60は、次に第2待機位置に搬入される基板110がある場合には、ステップS201に処理を戻す。一方、次に第2待機位置に搬入される基板110がないと判断した場合には、第2待機処理(サブルーチン)を終了する。
次に、図7および図12を参照して、図9に示した検査処理(サブルーチン)について説明する。なお、図9に示した検査処理において、上記第1実施形態の検査処理における処理番号が付された処理は、第1実施形態と同様の処理であるためその説明を省略する。
ステップS1において、CPU60は、ストッパ12cを下降位置から上昇させた後、検査位置に基板110を搬送させる。この際、CPU60は、検査ヘッド40を退避位置から検査位置に移動させるとともに、検査処理が終了するまで検査位置に配置(停留)させる。また、第2実施形態では、第1待機位置および第2待機位置でフラックスを吸収することが可能である。これにより、基板110が搬送される度に検査ヘッド40を退避位置と検査位置の上方とを交互に移動させることなく、検査ヘッド40を検査位置の上方に停留させたままでも、検査ヘッド40(撮像部41および照明部42)がフラックスにより汚れるのを抑制しながら検査を行うことが可能である。
ステップS2において検査位置に基板110が搬送されたと判断すると、ステップS301において、CPU60は、検査位置に配置されるファンの電源をオンにする。具体的には、CPU60は、送風ファン52と、フラックス吸引ファン53aとの電源をオンにする。
ステップS5〜ステップS8の処理により検査が終了した基板110が検査位置から搬送されると、ステップS302において、CPU60は、検査位置に配置されるファンの電源をオフにする。具体的には、CPU60は、送風ファン52と、フラックス吸引ファン53aとの電源をオフにする。
次に、ステップS303において、CPU60は、次の基板110があるか否かを判断する。CPU60は、次に検査位置に搬入される基板110がある場合には、ステップS1に処理を戻す。一方、次に検査位置に搬入される基板110がないと判断した場合には、ステップS304に処理を進める。
次に、ステップS304において、CPU60は、全てのファンを停止する。具体的には、CPU60は、外部空気吸引ファン51a〜51cと、フラックス吸引ファン53bとの電源をオフにする。その後、CPU60は、検査処理(サブルーチン)を終了する。以上のステップS100〜ステップS300により、基板110の検査が実施される。
第2実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
第2実施形態では、上記のように、基板110上の半田から発生するフラックスを吸引するためのフラックス吸引ファン53a、53b、253aおよび253bを設ける。これにより、基板110上の半田から発生(気化)したフラックスを積極的に取り除くことができるので、撮像部41が気化したフラックスに曝されるのを抑制することができる。その結果、撮像部41がフラックスにより汚れてしまうのを抑制することができるので、フラックスに起因する検査精度の低下を抑制することができる。また、基板110上の半田からフラックスが発生するのを抑制するために、検査装置100の基板110の搬送方向における上流側に、基板110を冷却する冷却装置を設ける構成と異なり、省スペース化を図ることができる。また、撮像部41が気化したフラックスに曝されるのを抑制するために、ケースにより撮像部41を覆う構成と比べて、撮像部41に熱がこもるのを抑制することができる。
また、第2実施形態では、上記のように、送風ファン252bとの間に第1待機位置に搬送された基板110を挟み、送風ファン252bと対向するように配置されたフラックス吸引ファン253bを設ける。これにより、第1待機位置においても、送風ファン252bにより基板110上の半田から発生(気化)したフラックスをフラックス吸引ファン253bに積極的に送り込むことができるので、気化したフラックスに撮像部41が曝されるのをさらに抑制することができる。また、送風ファン252bにより、第1待機位置に搬送された基板110の上方に空気の流れが形成されるので、その空気の流れにより基板110を冷却することができる。これにより、基板110が検査位置に搬送される前に基板110から発生するフラックスの量を低減することができる。
また、第2実施形態では、上記のように、基板110を第1待機位置に待機させる予め設定された待機時間よりも検査位置における基板110の検査時間の方が長い場合には、待機時間経過後も基板110を第1待機位置に待機させるように第2コンベアCPU260を構成し、送風ファン252bおよびフラックス吸引ファン253bの動作を継続させるようにCPU60を構成する。これにより、検査待ちの時間を利用して、より長時間、気化したフラックスをフラックス吸引ファン253bに積極的に送り込むことができるとともに第1待機位置に搬送された基板110を冷却することができる。
また、第2実施形態では、上記のように、第1待機位置において、CPU60は、検出センサ11aにより第1待機位置から基板110が下流側に搬出されたと判断した場合に、送風ファン252a、およびフラックス吸引ファン253aを停止させるように構成されている。これにより、省電力化を図ることができるとともに、送風ファン252a、およびフラックス吸引ファン253aに起因する騒音を低減することができる。
同様、CPU60は、検出センサ11bにより第2待機位置から基板110が下流側に搬出されたと判断した場合に、送風ファン252b、およびフラックス吸引ファン253bを停止し、検出センサ11cにより検査位置から基板110が下流側に搬出されたと判断した場合に、送風ファン52、およびフラックス吸引ファン53aを停止させるように構成されている。これにより、省電力化を図ることができるとともに、ファンに起因する騒音を低減することができる。
(第3実施形態)
以下、図13を参照して、本発明の第3実施形態による検査装置300の構成について説明する。
この第3実施形態では、外部空気吸引ファン51aを筺体100aの上面に設けた第1実施形態と異なり、外部空気吸引ファン51aを筺体100aの側面に設けた検査装置300について説明する。なお、以下の説明において、上記第1実施形態における参照符号と同じ参照符号が付された部材は、上記第1実施形態と同様の構成であるためその説明を省略する。
ここで、第3実施形態では、外部空気吸引ファン51aは、図13に示すように、筺体100aのY1方向側の側面に設けられている。具体的には、外部空気吸引ファン51aは、送風ファン52と対向(正対)するように配置されている。また、外部空気吸引ファン51aと送風ファン52は、互いに、ダクト310を介して連結されている。これにより、基板110の上方およびフラックス吸引ファン53aに向けて、空気を効率的に空気を送ることができる。
第3実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
第3実施形態では、上記のように、基板110上の半田から発生するフラックスを吸引するためのフラックス吸引ファン53aおよび53bを設ける。これにより、基板110上の半田から発生(気化)したフラックスを積極的に取り除くことができるので、撮像部41が気化したフラックスに曝されるのを抑制することができる。その結果、撮像部41がフラックスにより汚れてしまうのを抑制することができるので、フラックスに起因する検査精度の低下を抑制することができる。また、基板110上の半田からフラックスが発生するのを抑制するために、検査装置100の基板110の搬送方向における上流側に、基板110を冷却する冷却装置を設ける構成と異なり、省スペース化を図ることができる。また、撮像部41が気化したフラックスに曝されるのを抑制するために、ケースにより撮像部41を覆う構成と比べて、撮像部41に熱がこもるのを抑制することができる。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
たとえば、上記第1および第2実施形態では、外部空気吸引ファンと、送風ファン(第1送風ファン、第2送風ファン)と、フラックス吸引ファンとを設けたが、本発明はこれに限られない。本発明では、少なくともフラックス吸引ファンを設ければ、他のファンは設けなくてもよい。
また、上記第1実施形態では、検査位置に基板が搬送されたことに基づいて、外部空気吸引ファンと、送風ファン(第1送風ファン)と、フラックス吸引ファンの電源をオンにする例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、外部空気吸引ファンと、第1送風ファンと、フラックス吸引ファンとの電源を常時オンにしていてもよい。
また、上記第1〜第3実施形態では、検査ヘッドを退避位置に移動させる例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、検査ヘッドを退避位置に移動させなくてもよい。
また、上記第2実施形態では、基板待機位置を2つ(第1待機位置および第2待機位置)を設けた例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、基板待機位置を、1つ、または、3つ以上設けてもよい。
また、上記第1〜第3実施形態では、フラックス吸引ファンをコンベアのレールに設けた例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、図14に示すように、フラックス吸引ファンの前方(コンベア側、Y1方向側)に空気をガイドするガイド板500を介して、フラックス吸引ファンをコンベアのレールに設けてもよい。これにより、基板上の半田から発生するフラックスを効率的にフラックス吸引ファンに吸引させることができる。なお、ガイド板500は、たとえば、図14に示すように、フラックス吸引ファンのX方向の両側部に設けたり、フラックス吸引ファンの上部および下部に設けたりすることができる。
また、上記第1〜第3実施形態では、照明部により照射された光を用いて基板を撮像する検査装置に本発明を適用する例を示したが、本発明はこれに限られない。X線源を設け、X線を用いて基板を撮像する検査装置に本発明を適用してもよい。また、照明部により照射された光、および、X線を用いて基板を撮像することが可能なハイブリッド型の検査装置に本発明を適用してもよい。
また、上記第1および第3実施形態では、基板のサイズに基づいてファン装置50の回転数を制御し、上記第2実施形態では、検査される基板のサイズに基づいてファン装置250の回転数を制御する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、基板のサイズ以外の情報(基板に塗布された半田の量などの情報)に基づいてファン装置の回転数を制御してもよい。
また、上記第1〜第3実施形態では、説明の便宜上、制御部の処理を処理フローに沿って順番に処理を行うフロー駆動型のフローを用いて説明したが、たとえば、制御部の処理動作を、イベント単位で処理を実行するイベント駆動型(イベントドリブン型)の処理により行ってもよい。この場合、完全なイベント駆動型で行ってもよいし、イベント駆動およびフロー駆動を組み合わせて行ってもよい。
10、210 コンベア(第1コンベア)
11、11c 検出センサ(基板搬出検出センサ)
40 検査ヘッド
41 撮像部
42 照明部
51a〜51c 外部空気吸引ファン
52 送風ファン(第1送風ファン)
53a フラックス吸引ファン(第1フラックス吸引ファン)
53b フラックス吸引ファン
60 CPU(制御部)
100、200、300 検査装置
100a 筺体
110 基板
215 第2コンベア
252b 送風ファン(第2送風ファン)
253a フラックス吸引ファン
253b フラックス吸引ファン(第2ラックス吸引ファン)

Claims (9)

  1. リフロー後の基板を所定の検査位置で撮像して画像を取得する撮像部と、
    撮像された画像に基づいて、前記基板の検査を行う制御部と、
    前記基板上の半田から発生するフラックスを吸引するためのフラックス吸引ファンとを備える、検査装置。
  2. 前記検査位置に前記基板を搬送する第1コンベアと、
    前記検査位置に搬送された前記基板の上方に向けて送風する第1送風ファンとをさらに備え、
    前記フラックス吸引ファンは、前記第1送風ファンとの間に前記検査位置に搬送された前記基板を挟み、前記第1送風ファンと対向するように配置された第1フラックス吸引ファンを含む、請求項1に記載の検査装置。
  3. 前記基板が前記検査位置に搬送されたことを検出する検出センサをさらに備え、
    前記制御部は、前記検出センサにより前記基板が検出されたと判断した場合に、前記フラックス吸引ファンを動作させるように構成されている、請求項1または2に記載の検査装置。
  4. 前記撮像部と前記撮像部により撮像が行われる際に光を照射する照明部とを含む検査ヘッドをさらに備え、
    前記検査ヘッドは、前記検査位置の上方と、前記基板の上方とは異なる退避位置とに移動可能に構成され、
    前記制御部は、前記基板が前記検査位置に搬送されたと判断した場合に、前記フラックス吸引ファンを動作させた後、前記検査ヘッドを前記退避位置から前記検査位置の上方に移動させ、前記撮像部に前記基板を撮像させるように構成されている、請求項3に記載の検査装置。
  5. 前記撮像部を取り囲むように設けられた筺体と、
    前記筺体に設けられ、前記筺体の外部から内部に空気を吸引する外部空気吸引ファンとをさらに備える、請求項1〜4のいずれか1項に記載の検査装置。
  6. 前記検査位置よりも前記基板の搬送方向の上流側の基板待機位置に前記基板を搬送する第2コンベアと、
    前記基板待機位置に搬送された前記基板の上方に向けて送風する第2送風ファンとをさらに備え、
    前記フラックス吸引ファンは、前記第2送風ファンとの間に前記基板待機位置に搬送された前記基板を挟み、前記第2送風ファンと対向するように配置された第2フラックス吸引ファンを含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の検査装置。
  7. 前記制御部は、前記基板を前記基板待機位置に待機させる予め設定された待機時間よりも前記検査位置における前記基板の検査時間の方が長い場合には、前記待機時間経過後も前記基板を前記基板待機位置に待機させて前記第2送風ファンおよび前記第2フラックス吸引ファンの動作を継続させるように構成されている、請求項6に記載の検査装置。
  8. 前記制御部は、検査される前記基板の情報に基づいて、前記フラックス吸引ファンの回転数を制御するように構成されている、請求項1〜7のいずれか1項に記載の検査装置。
  9. 前記基板が前記検査位置から下流側に搬送されたことを検出する基板搬出検出センサをさらに備え、
    前記制御部は、前記基板搬出検出センサにより前記基板が搬出されたと判断した場合に、前記フラックス吸引ファンの動作を停止させるように構成されている、請求項3または4に記載の検査装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116197484A (zh) * 2023-03-07 2023-06-02 江苏泰盟科技有限公司 一种pcb主板的焊接装置及方法

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05138343A (ja) * 1991-11-21 1993-06-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd フラツクス塗布装置
JPH07212020A (ja) * 1994-01-24 1995-08-11 Tamura Seisakusho Co Ltd フラックス塗布装置
JPH10200251A (ja) * 1997-01-09 1998-07-31 Taiyo Yuden Co Ltd 回路モジュールの製造方法
JPH11261209A (ja) * 1998-03-10 1999-09-24 Aisan Ind Co Ltd 噴流はんだ付け装置
JP2000014752A (ja) * 1998-06-29 2000-01-18 Kawai Musical Instr Mfg Co Ltd 洗浄装置
JP2001244700A (ja) * 2000-03-02 2001-09-07 Toyo Commun Equip Co Ltd 部品実装状態検査装置及び部品実装・検査装置
JP2002022412A (ja) * 2000-07-03 2002-01-23 Anritsu Corp 印刷半田検査装置
JP2007184497A (ja) * 2006-01-10 2007-07-19 Yamaha Motor Co Ltd 印刷検査方法
JP2010122228A (ja) * 2009-12-25 2010-06-03 Suzuka Fuji Xerox Co Ltd 外観検査装置
JP3166557U (ja) * 2010-12-27 2011-03-10 修 寺田 加熱調理器用排煙装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4319646B2 (ja) * 2005-06-30 2009-08-26 株式会社タムラ古河マシナリー リフロー炉
KR100838656B1 (ko) * 2006-04-03 2008-06-16 (주)쎄미시스코 유리기판의 품질 검사장치
JP2012021852A (ja) * 2010-07-13 2012-02-02 Olympus Corp 基板検査装置および基板検査方法
JP5365644B2 (ja) * 2011-01-13 2013-12-11 オムロン株式会社 はんだ付け検査方法、およびはんだ付け検査機ならびに基板検査システム

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05138343A (ja) * 1991-11-21 1993-06-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd フラツクス塗布装置
JPH07212020A (ja) * 1994-01-24 1995-08-11 Tamura Seisakusho Co Ltd フラックス塗布装置
JPH10200251A (ja) * 1997-01-09 1998-07-31 Taiyo Yuden Co Ltd 回路モジュールの製造方法
JPH11261209A (ja) * 1998-03-10 1999-09-24 Aisan Ind Co Ltd 噴流はんだ付け装置
JP2000014752A (ja) * 1998-06-29 2000-01-18 Kawai Musical Instr Mfg Co Ltd 洗浄装置
JP2001244700A (ja) * 2000-03-02 2001-09-07 Toyo Commun Equip Co Ltd 部品実装状態検査装置及び部品実装・検査装置
JP2002022412A (ja) * 2000-07-03 2002-01-23 Anritsu Corp 印刷半田検査装置
JP2007184497A (ja) * 2006-01-10 2007-07-19 Yamaha Motor Co Ltd 印刷検査方法
JP2010122228A (ja) * 2009-12-25 2010-06-03 Suzuka Fuji Xerox Co Ltd 外観検査装置
JP3166557U (ja) * 2010-12-27 2011-03-10 修 寺田 加熱調理器用排煙装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116197484A (zh) * 2023-03-07 2023-06-02 江苏泰盟科技有限公司 一种pcb主板的焊接装置及方法
CN116197484B (zh) * 2023-03-07 2024-01-05 深圳市鸿宇顺软件有限公司 一种pcb主板的焊接方法

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