JP4872448B2 - 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体。 - Google Patents
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Description
この液浸露光を行う露光装置について図14を用いて簡単に述べておく。先ず、図示しない保持機構により水平姿勢に保持されたウエハWの表面と対向するように露光手段1を配置する。この露光手段1の先端部にはレンズ10が設けられており、図示しない例えばArF、KrFなどの光源から発せられパターンマスクを通過した光は当該レンズ10を通過してウエハWの表面に塗布されたレジストに照射され、これによりレジストの回路パターンを転写させる。また先端部には光を通過させる溶液例えば超純水の供給口11及び吸引口12が夫々設けられており、供給口11を介してレンズ10とウエハWの表面との間に水が供給され、更に当該水を吸引口を介して吸引回収する。これによりレンズ10とウエハWの表面との間の隙間に光を透過させる水膜が形成され、レンズ10から出た光は当該水膜を通過してレジストに照射されることとなる。そしてウエハWの表面に所定のパターンが転写されると、ウエハWとの間に水膜を張った状態でウエハWを横方向に移動させて、露光手段1を次の転写領域に対応する位置に対向させて光を照射していくことでパターンを順次転写していく。
さらに他の発明の塗布、現像装置は、 基板の表面にレジストを塗布し、その表面に液層を形成して液浸露光された後の基板を加熱処理した後に現像液を供給して現像する塗布、現像方法であって、液浸露光後、前記加熱処理前の基板を塗布、現像装置内に設けられる搬送手段により搬送する工程と、基板の裏面に付着した前記液層を形成した液を、前記搬送手段に基板が保持された状態で検知する液検知部により前記基板の搬送途中にて検知する工程と、この工程における検知結果に基づいて、基板を加熱ユニットへ搬送するか否かを判定する工程と、を含むことを特徴とする。
B1 キャリアブロック
B2 処理ブロック
B3 インターフェイスブロック
B4 露光装置
27 塗布ユニット
2A 現像ユニット
31 加熱ユニット
34 基板搬送手段
35,36 搬送部
4 洗浄ユニット
51 距離検出センサ
6 ノズル部
7 制御部
Claims (16)
- 基板の表面にレジストを塗布する塗布ユニットと、その表面に液層を形成して液浸露光された後の基板に現像液を供給して現像する現像ユニットと、露光処理後、現像処理前に加熱処理を行う加熱ユニットと、を備えた塗布、現像装置において、
液浸露光後、前記加熱処理前の基板を搬送する搬送手段と、
前記基板の裏面に付着した、前記液層を形成した液を、前記基板が搬送手段に保持されている状態で検知する液検知部と、
この液検知部の検知結果に基づいて基板の裏面の液除去処理を行うか否か判定する制御部と、
液除去処理を行うと判定した基板の裏面の液を除去するための液除去手段と、
を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。 - 塗布ユニット及び現像ユニットが割り当てられた処理部と、
この処理部に隣接して設けられ、基板を液浸露光する露光部と接続されるインターフェイス部と、を備え、
液検知部及び液除去手段は当該インターフェイス部に設けられたことを特徴とする請求項1記載の塗布、現像装置。 - 基板の表面にレジストを塗布する塗布ユニットと、その表面に液層を形成して液浸露光された後の基板に現像液を供給して現像する現像ユニットと、露光処理後、現像処理前に基板を加熱処理する加熱ユニットと、を備えた塗布、現像装置において、
液浸露光後、前記加熱処理前の基板を搬送する搬送手段と、
前記搬送手段により保持された基板の裏面に対し、前記液層を形成した液を除去する液除去手段と、
を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。 - 塗布ユニット及び現像ユニットが割り当てられた処理部と、
この処理部に隣接して設けられ、基板を液浸露光する露光部と接続されるインターフェイス部と、を備え、
液除去手段は当該インターフェイス部に設けられることを特徴とする請求項3記載の塗布、現像装置。 - 基板の裏面を吸引保持する基板載置部を備え、前記加熱処理を行う前に基板表面を洗浄して前記液層を形成した液を除去するための洗浄ユニットが設けられ、
前記液除去手段による液除去処理は、当該洗浄ユニットによる洗浄処理よりも前に行われることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一に記載の塗布、現像装置。 - 液除去手段は、基板の裏面に気体を供給する気体供給ノズルと、供給された気体及び基板の裏面の液を吸引する吸引用ノズルと、を備えていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 液除去手段は、基板が搬送手段に保持されている状態で基板の裏面の液除去処理を行うことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 基板の表面にレジストを塗布する塗布ユニットと、その表面に液層を形成して液浸露光された後の基板に現像液を供給して現像する現像ユニットと、露光処理後、現像処理前に基板を加熱処理する加熱ユニットと、を備えた塗布、現像装置において、
液浸露光後、前記加熱処理前の基板を搬送する搬送手段と、
前記基板の裏面に付着した、前記液層を形成した液を、前記基板が搬送手段に保持されている状態で検知する液検知部と、
この液検知部の検知結果に基づいて処理ユニットへの基板の搬送を行うか否か判定する制御部と、
を備えることを特徴とする塗布、現像装置。 - 基板の裏面を吸引保持する基板載置部を備え、前記加熱処理を行う前に基板表面を洗浄して前記液層を形成した液を除去するための洗浄ユニットが設けられ、
加熱ユニットへ搬送を行わないと判定された基板は、洗浄ユニットに搬送されないことを特徴とする請求項8記載の塗布、現像装置。 - 塗布ユニット及び現像ユニットが割り当てられた処理部と、
この処理部に隣接して設けられ、基板を液浸露光する露光部と接続されるインターフェイス部と、を備え、
前記液検知部は当該インターフェイス部に設けられることを特徴とする請求項1、2、8または9記載の塗布、現像装置。 - 前記搬送手段に液検知部が設けられていることを特徴とする請求項1、2、8、9または10に記載の塗布、現像装置。
- 基板の表面にレジストを塗布し、その表面に液層を形成して液浸露光された後の基板を加熱処理した後に現像液を供給して現像する塗布、現像方法であって、
液浸露光後、前記加熱処理前の基板を塗布、現像装置内に設けられる搬送手段により搬送する工程と、
基板の裏面に付着した前記液層を形成した液を、前記搬送手段に基板が保持された状態で検知する液検知部により前記基板の搬送途中にて検知する工程と、
この工程における検知結果に基づいて、基板に対して液除去処理するか否かを判定する工程と、
液除去処理すると判定した基板の裏面に対して液除去を行う工程と、を含むことを特徴とする塗布、現像方法。 - 基板の表面にレジストを塗布し、その表面に液層を形成して液浸露光された後の基板を加熱処理した後に現像液を供給して現像する塗布、現像方法であって、
液浸露光後、前記加熱処理前の基板を搬送手段により搬送する工程と、
基板の裏面の前記液層を形成した液を除去する液除去手段により、前記搬送手段により保持され、搬送途中の基板の裏面に対して液除去を行う工程と、
を含むことを特徴とする塗布、現像方法。 - 液除去された後の基板を、基板の裏面を吸引保持する基板載置部を備え、前記加熱処理を行う前に基板表面を洗浄して前記液層を形成した液を除去するための洗浄ユニットに搬送する工程を含むことを特徴とする請求項12または13記載の塗布、現像方法。
- 基板の表面にレジストを塗布し、その表面に液層を形成して液浸露光された後の基板を加熱処理した後に現像液を供給して現像する塗布、現像方法であって、
液浸露光後、前記加熱処理前の基板を塗布、現像装置内に設けられる搬送手段により搬送する工程と、
基板の裏面に付着した前記液層を形成した液を、前記搬送手段に基板が保持された状態で検知する液検知部により前記基板の搬送途中にて検知する工程と、
この工程における検知結果に基づいて、基板を加熱ユニットへ搬送するか否かを判定する工程と、
を含むことを特徴とする塗布、現像方法。 - 基板の表面にレジストを塗布し、その表面に液層を形成して液浸露光された後の当該基板を加熱処理ユニットに搬送して加熱処理した後に現像液を供給して現像する塗布、現像装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項12ないし15のいずれか一に記載の塗布、現像方法を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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