JP5892756B2 - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents
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前記ノズルの位置変化量が、前記許容変化量の範囲外である場合には、再度、前記ノズルを洗浄し、その後、前記塗布対象物に、前記塗布材料を供給することを特徴とする。
ここでは、事前に測定した温度とノズル4の伸びのデータテーブルを制御部10に記憶しておき、このデータテーブルからノズルの予測熱伸び量ΔLaを算出する。例えば、予測の熱伸び量ΔLa=線膨張係数α(計測温度T1−基準温度T0)・ノズル長L…(式1)となる。例えば、線膨張係数αはノズル4の材質により決定される。本実施形態では、ノズル4は、例えば、PEEKで構成されているので、その線膨張係数α=4.76×10-6/℃である。ノズル長L=50mmとする。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
(1)
測定により、基準となるノズルの位置情報である基準情報を検出し、
前記基準情報測定の後に、前記ノズルを洗浄し、
前記洗浄後に、測定により、前記ノズルの位置情報である実測情報を検出し、
前記実測情報、及び前記基準情報の変化量から、ノズルの位置変化量を検出し、
前記ノズルの位置変化量が、予め設定されたノズルの許容変化量の範囲内である場合には、前記実測情報を対象情報とし、この対象情報に基づいて前記ノズルの位置調整を行って、塗布対象物に塗布材料を供給し、
前記ノズルの位置変化量が、前記許容変化量の範囲外である場合には、再度、前記ノズルを洗浄し、その後、前記塗布対象物に、前記塗布材料を供給することを特徴とする塗布方法。
(2)
前記基準情報の測定の後に、前記基準情報測定時の経過時間、及び前記ノズルの温度変化量を検出し、前記経過時間及び前記温度変化量が、各々、予め設定された時間の変化範囲外、及び温度変化範囲外である場合には、エラー状態であるとして、再検出を行うものであって、
前記変化量による判定によりエラー状態であると判定された場合には、前記再検出において、前記塗布ノズルを再洗浄し、前記再洗浄後に、前記ノズルの位置情報を再測定し、前記再測定により検出したノズル位置情報を前記基準情報として、実測情報の再検出、及び前記変化量による判定を再び行うことを特徴とする(1)記載の塗布方法。
(3)
ノズル面の位置情報を検出する際には、ノズル位置測定用の基準面と前記塗布ノズルとを対向配置させた状態で、前記塗布ノズルと一体に設けられた変位センサにより、前記センサと前記基準面との距離であるセンサ離間距離を検出し、
前記塗布ノズルの側部に設けられた測定部により、前記塗布ノズルと前記基準面までのノズル離間距離を検出し、
前記センサ離間距離と前記ノズル離間距離との差分に基づいて、前記ノズル面の位置情報を検出するとともに、
位置調整の際には前記塗布ノズルを移動させて塗布対象物が設置されるステージ上に対向配置させた状態で、前記変位センサにより前記塗布対象物と前記センサとの離間距離である対象ギャップを測定し、
前記対象ギャップと、前記対象情報に基づいて、前記塗布対象物と前記塗布ノズルとの位置調整を行う、ことを特徴とする(2)記載の塗布方法。
(4)
前記基準情報測定時と前記実測時の温度変化に基づいて、前記ノズル長の予測伸び量を検出し、前記予測伸び量に基づいて、前記所定のノズル変化範囲を決定することを特徴とする(3)記載の塗布方法。
(5)
前記ノズルの洗浄、及び前記ノズルの再洗浄は、前記ノズルにおいて、前記塗布材料を前記塗布対象物に吐出する先端口の部分を洗浄することであり、かつ前記塗布材料は感光性の材料であることを特徴とする(1)乃至(4)の何れか一項に記載の塗布方法。
(6)
塗布対象物が載置される載置面を有するステージと、
前記ステージを前記載置面に沿う回転方向に回転可能とする回転機構と、
前記ステージ上の前記塗布対象物に材料を吐出して塗布するノズルと、
前記ステージと前記ノズルとを前記回転方向に交わる交差方向に前記載置面に沿って相対移動させる移動機構と、
温度を検出する温度検出部と、
前記ノズルを洗浄する洗浄部と、
前記ノズルの位置情報を検出するノズル位置検出部と、
前記ノズル位置検出部により、前記ノズルのノズル面の位置情報である基準情報を検出し、前記基準情報の測定の後に、前記洗浄部で前記ノズルを洗浄し、前記洗浄後に前記ノズル位置検出部により、前記ノズルの位置情報である実測情報を検出し、前記実測情報と前記基準情報との変化であるノズル変化量が予め設定されたノズル変化範囲内である場合には前記実測情報を対象情報として前記対象情報に基づいて前記ノズルの位置調整を行うとともに、前記変化量が前記ノズル変化範囲外である場合には、エラーとし、再検出を行うように制御するとともに、前記位置調整後に、前記塗布対象物が載置された前記ステージを回転機構により回転させながら、移動機構により前記ステージと前記塗布ノズルとを前記交差方向に前記載置面に沿って相対移動させ、前記塗布ノズルにより前記ステージ上の塗布対象物に材料を塗布させる制御部と、を備えたことを特徴とする塗布装置。
(7)
前記ノズルの洗浄、及び前記ノズルの再洗浄は、前記ノズルにおいて、前記塗布材料を前記塗布対象物に吐出する先端口の部分を洗浄することであり、かつ前記塗布材料は感光性の材料であることを特徴とする請求項6に記載の塗布装置。
Claims (10)
- 測定により、基準となるノズルの位置情報である基準情報を検出し、
前記基準情報測定の後に、前記ノズルを洗浄し、
前記洗浄後に、測定により、前記ノズルの位置情報である実測情報を検出し、
前記実測情報、及び前記基準情報の変化量から、ノズルの位置変化量を検出し、
前記ノズルの位置変化量が、予め設定されたノズルの許容変化量の範囲内である場合には、前記実測情報を対象情報とし、この対象情報に基づいて前記ノズルの位置調整を行って、塗布対象物に塗布材料を供給し、
前記ノズルの位置変化量が、前記許容変化量の範囲外である場合には、再度、前記ノズルを洗浄し、その後、前記塗布対象物に、前記塗布材料を供給することを特徴とする塗布方法。 - 前記基準情報の測定の後に、前記基準情報測定時の経過時間、及び前記ノズルの温度変化量を検出し、前記経過時間及び前記温度変化量の少なくとも何れかが、予め設定された範囲外である場合には、エラー状態であるとして、再検出を行うものであって、
前記変化量による判定によりエラー状態であると判定された場合には、前記再検出において、前記ノズルを再洗浄し、前記再洗浄後に、前記ノズルの位置情報を再測定し、前記再測定により検出したノズル位置情報を前記基準情報として、前記ノズルの位置情報である実測情報の再検出、及び前記変化量による判定を再び行うことを特徴とする請求項1記載の塗布方法。 - ノズル面の位置情報を検出する際には、ノズル位置測定用の基準面と前記ノズルとを対向配置させた状態で、前記ノズルと一体に設けられた変位センサにより、前記センサと前記基準面との距離であるセンサ離間距離を検出し、
前記ノズルの側部に設けられた測定部により、前記ノズルと前記基準面までのノズル離間距離を検出し、
前記センサ離間距離と前記ノズル離間距離との差分に基づいて、前記ノズル面の位置情報を検出するとともに、
位置調整の際には前記ノズルを移動させて塗布対象物が設置されるステージ上に対向配置させた状態で、前記変位センサにより前記塗布対象物と前記センサとの離間距離である対象ギャップを測定し、
前記対象ギャップと、前記対象情報に基づいて、前記塗布対象物と前記ノズルとの位置調整を行う、ことを特徴とする請求項2記載の塗布方法。 - 前記基準情報測定時と前記実測時の温度変化に基づいて、前記ノズル長の予測伸び量を検出し、前記予測伸び量に基づいて、前記所定のノズル変化範囲を決定することを特徴とする請求項3記載の塗布方法。
- 前記ノズルの洗浄、及び前記ノズルの再洗浄は、前記ノズルにおいて、前記塗布材料を前記塗布対象物に吐出する先端口の部分を洗浄することであり、かつ前記塗布材料は感光性の材料であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の塗布方法。
- 塗布対象物が載置される載置面を有するステージと、
前記ステージを前記載置面に沿う回転方向に回転可能とする回転機構と、
前記ステージ上の前記塗布対象物に材料を吐出して塗布するノズルと、
前記ステージと前記ノズルとを前記回転方向に交わる交差方向に前記載置面に沿って相対移動させる移動機構と、
前記ノズルの温度を検出する温度検出部と、
前記ノズルを洗浄する洗浄部と、
前記ノズルの位置情報を検出するノズル位置検出部と、
前記ノズル位置検出部により、前記ノズルのノズル面の位置情報である基準情報を検出し、前記基準情報の測定の後に、前記洗浄部で前記ノズルを洗浄し、前記洗浄後に前記ノズル位置検出部により、前記ノズルの位置情報である実測情報を検出し、前記実測情報と前記基準情報との変化であるノズル変化量が予め設定されたノズル変化範囲内である場合には前記実測情報を対象情報として前記対象情報に基づいて前記ノズルの位置調整を行うとともに、前記変化量が前記ノズル変化範囲外である場合にはエラーとし、再検出を行うように制御するとともに、前記位置調整後に、前記塗布対象物が載置された前記ステージを回転機構により回転させながら、移動機構により前記ステージと前記ノズルとを前記交差方向に前記載置面に沿って相対移動させ、前記ノズルにより前記ステージ上の塗布対象物に材料を塗布させる制御部と、を備えたことを特徴とする塗布装置。 - 前記基準情報の測定の後に、前記基準情報測定時の経過時間を検出し、かつ前記温度検出部によって前記ノズルの温度変化量を検出して、前記経過時間及び前記温度変化量の少なくとも何れかが、予め設定された範囲外である場合には、エラー状態であるとして、再検出を行うものであって、
前記変化量による判定によりエラー状態であると判定された場合には、前記再検出において、前記ノズルを再洗浄し、前記再洗浄後に、前記ノズルの位置情報を再測定し、前記再測定により検出したノズル位置情報を前記基準情報として、前記ノズルの位置情報である実測情報の再検出、及び前記変化量による判定を再び行うことを特徴とする請求項6記載の塗布装置。 - ノズル面の位置情報を検出する際には、ノズル位置測定用の基準面と前記ノズルとを対向配置させた状態で、前記ノズルと一体に設けられた変位センサにより、前記センサと前記基準面との距離であるセンサ離間距離を検出し、
前記ノズルの側部に設けられた測定部により、前記ノズルと前記基準面までのノズル離間距離を検出し、
前記センサ離間距離と前記ノズル離間距離との差分に基づいて、前記ノズル面の位置情報を検出するとともに、
位置調整の際には前記ノズルを移動させて塗布対象物が設置されるステージ上に対向配置させた状態で、前記変位センサにより前記塗布対象物と前記センサとの離間距離である対象ギャップを測定し、
前記対象ギャップと、前記対象情報に基づいて、前記塗布対象物と前記ノズルとの位置調整を行う、ことを特徴とする請求項7記載の塗布装置。
- 前記基準情報測定時と前記実測時の温度変化に基づいて、前記ノズル長の予測伸び量を検出し、前記予測伸び量に基づいて、前記所定のノズル変化範囲を決定することを特徴とする請求項8記載の塗布装置。
- 前記ノズルの洗浄、及び前記ノズルの再洗浄は、前記ノズルにおいて、前記塗布材料を前記塗布対象物に吐出する先端口の部分を洗浄することであり、かつ前記塗布材料は感光性の材料であることを特徴とする請求項6乃至9のいずれかに記載の塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011209718A JP5892756B2 (ja) | 2011-09-26 | 2011-09-26 | 塗布方法及び塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011209718A JP5892756B2 (ja) | 2011-09-26 | 2011-09-26 | 塗布方法及び塗布装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013071027A JP2013071027A (ja) | 2013-04-22 |
JP5892756B2 true JP5892756B2 (ja) | 2016-03-23 |
Family
ID=48475966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011209718A Active JP5892756B2 (ja) | 2011-09-26 | 2011-09-26 | 塗布方法及び塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5892756B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113059794A (zh) * | 2019-12-30 | 2021-07-02 | 四川蓝光英诺生物科技股份有限公司 | 生物打印机和生物打印机的喷口余料刮除方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2657087B2 (ja) * | 1989-01-27 | 1997-09-24 | 三洋電機株式会社 | 塗布装置 |
JPH05185003A (ja) * | 1992-01-09 | 1993-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 塗布装置 |
JPH07246708A (ja) * | 1994-03-10 | 1995-09-26 | Canon Inc | インクジェット記録装置 |
JPH1027750A (ja) * | 1996-07-09 | 1998-01-27 | Ishikawa Seisakusho Ltd | レジスト塗布装置 |
US6017585A (en) * | 1998-02-24 | 2000-01-25 | National Semiconductor Corporation | High efficiency semiconductor wafer coating apparatus and method |
JP3893241B2 (ja) * | 2000-12-14 | 2007-03-14 | 富士通株式会社 | レジスト塗布装置およびレジスト塗布工程の管理方法 |
JP2002269860A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-20 | Ricoh Co Ltd | 光学的情報記録ディスクの製造方法及び製造装置 |
JP2004130517A (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-30 | Hitachi Advanced Digital Inc | インクジェットプリンタ |
JP2007186312A (ja) * | 2006-01-16 | 2007-07-26 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | ベルトコンベアの異常検出装置 |
JP4872448B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2012-02-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体。 |
JP4967446B2 (ja) * | 2006-05-12 | 2012-07-04 | 凸版印刷株式会社 | スリットノズルによる塗膜形成時に付着した異物の検出方法及びガラス基板の板厚監視方法 |
JP2008012880A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-24 | Ricoh Co Ltd | 液滴吐出装置、画像形成装置、及び画像形成システム |
JP2010052393A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Seiko Epson Corp | 液体吐出装置の制御方法、液体吐出装置及び記録装置 |
JP4982527B2 (ja) * | 2009-06-08 | 2012-07-25 | 株式会社東芝 | 成膜装置及び成膜方法 |
JP5398785B2 (ja) * | 2011-06-20 | 2014-01-29 | 株式会社東芝 | スパイラル塗布装置及びスパイラル塗布方法 |
-
2011
- 2011-09-26 JP JP2011209718A patent/JP5892756B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013071027A (ja) | 2013-04-22 |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150318 |
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A521 | Written amendment |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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