JP2015117156A - 基板処理装置及びオゾンガス濃度の異常検出方法 - Google Patents

Abstract

【課題】安定して正確なオゾンガス濃度を検知する。
【解決手段】オゾンガスを発生するオゾン発生器とオゾンガス濃度を検知するオゾンセンサとを備え、該オゾン発生器から供給されるオゾンガスを用いて基板を処理する基板処理装置であって、前記オゾンセンサが検知するオゾンガス濃度と、前記オゾン発生器の放電パワーとをモニタするモニタ部と、前記モニタしたオゾンガス濃度と放電パワーとに基づき、前記オゾンガス濃度の異常を検出する制御部と、を有する基板処理装置が提供される。
【選択図】図２

Description

基板処理装置及びオゾンガス濃度の異常検出方法に関する。

オゾンセンサが検知するオゾンガス濃度を用いて、オゾンガスを発生する機器やオゾンガスを分解する機器の状態を判定する技術が知られている（例えば、特許文献１を参照。）。特許文献１では、オゾンセンサにより機器に供給されたオゾンガス濃度を検知し、適切なオゾンガスの量が機器に供給されているかを判定することにより、オゾンガスを分解する機器が寿命に達したかを判断する。

特開２０１１−５３６０号公報

しかしながら、特許文献１では、オゾンセンサが正常に動作せず、検出されたオゾンガス濃度が正常値でないと前記判断に誤りが生じ、トラブルの要因となる。特に、オゾンセンサの定期的なメンテナンスは、例えば、一日一回と頻度が高く、実際に実行することが難しいことが少なくない。

上記課題に対して、一側面では、オゾンガス濃度の異常を検出することで安定してオゾンガスを供給することが可能な、基板処理装置及びオゾンガス濃度の異常検出方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、一の態様によれば、
オゾンガスを発生するオゾン発生器とオゾンガス濃度を検知するオゾンセンサとを備え、該オゾン発生器から供給されるオゾンガスを用いて基板を処理する基板処理装置であって、
前記オゾンセンサが検知するオゾンガス濃度と、前記オゾン発生器の放電パワーとをモニタするモニタ部と、
前記モニタしたオゾンガス濃度と放電パワーとに基づき、前記オゾンガス濃度の異常を検出する制御部と、
を有する、基板処理装置が提供される。

また、上記課題を解決するために、他の態様によれば、
オゾンガスを発生するオゾン発生器を用いて基板を処理する基板処理装置に用いられるオゾンガス濃度の異常検出方法であって、
オゾンセンサによって検知された、基板処理装置に供給されるオゾンガス濃度をモニタし、
前記オゾン発生器の放電パワーをモニタし、
前記モニタしたオゾンガス濃度と放電パワーとに基づき、前記オゾンガス濃度の異常を検出する、
ステップを含む、オゾンガス濃度の異常検出方法が提供される。

一の態様によれば、オゾンガス濃度の異常を検出することで、安定してオゾンガスを供給することができる。

一実施形態に係るＢＳＰ除去装置の全体構成の一例を示した図。 一実施形態に係るオゾンガス濃度の異常検出処理の一例を示したフローチャート。 一実施形態に係るオゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示すグラフの一例を示した図。 一実施形態に係る相関情報の選択処理の一例を示したフローチャート。 一実施形態に係るオゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示すグラフの一例を示した図。

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の構成については、同一の符号を付することにより重複した説明を省く。

（はじめに）
半導体集積回路の製造においては、半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という、）等の基板に対してプラズマエッチングが行われると、プラズマ中で発生するラジカルやイオンがウェハのベベル面や裏面に回り込み、ポリマーがベベル面および裏面上に付着する。この付着物は、ベベル／バックサイドポリマー（Ｂｅｖｅｌ／Ｂａｃｋｓｉｄｅ Ｐｏｌｙｍｅｒ、以下、「ＢＳＰ」という）といわれる。ＢＳＰは、半導体集積回路に対して悪影響を与えるおそれがある。そこで、レーザーとオゾンガスを用いた熱処理によってＢＳＰを除去するＢＳＰ除去装置が知られている。

ＢＳＰ除去装置では、適切なオゾンガスの量が装置内に供給されていない場合、ＢＳＰ除去時のエッチングレートが低下する。そこで、オゾンセンサにより装置内に供給されるオゾンガス濃度を検知し、適切なオゾンガスの量が装置内に供給されているかを判定することが行われている。

このとき、オゾンセンサが正常に動作しないと、間違ったオゾンガス濃度が検出されることになる。ところが、オゾンセンサの使用に当たっては、定期的に（例えば、一日一回）０点を補正するオフセット作業が必要になる。この定期メンテナンスは頻度が高く、マニュアルどおりにオゾンセンサの保守を行うことは困難な場合が少なくない。

また、オゾンセンサは、石英管にガスを流して石英管の上下に配置されたＵＶランプからのＵＶ光の減衰率を検知する。オゾンセンサは、石英管にオゾンガスが流れているとＵＶランプからのＵＶ光の透過が低下することを利用してオゾンガス濃度を測定する。よって、石英管自体が曇るとオゾンセンサで検知されたオゾンガス濃度に誤差が生じる。

オゾンガス濃度の検出値が、実際にＢＳＰ除去装置内に供給されるオゾンガス濃度から乖離していると前述したようにＢＳＰ除去時の性能が低下する。そこで、以下では、安定して正確なオゾンガス濃度を検知することが可能な、基板処理装置及びオゾンガス濃度の異常検出方法の一実施形態を提供する。

本実施形態にかかる基板処理装置は、オゾンガスを発生するオゾン発生器を用いて基板を処理する装置全般を含む。以下では、まず、本実施形態にかかる基板処理装置の一例として、ウェハの裏面やベベル面に付着したＢＳＰをオゾンにより除去するＢＳＰ除去装置について説明する。その後、本実施形態にかかるオゾンガス濃度の異常検出方法について説明する。

［ＢＳＰ除去装置の全体構成］
まず、本実施形態に係るＢＳＰ除去装置の全体構成について、図１を参照しながら説明する。図１は、一実施形態に係るＢＳＰ除去装置１の全体構成の一例を示す。

ＢＳＰ除去装置１は、ＢＳＰ２が付着したウェハＷを収容する容器であるチャンバ１１を備えている。チャンバ１１の内部には、ウェハＷを回転可能にかつ水平に保持するスピンチャック１２が設けられている。スピンチャック１２は、チャンバ１１の下方に設けられた回転モータ１３に接続されている。スピンチャック１２は、例えば真空吸着によりウェハＷを保持した状態で回転することにより、スピンチャック１２に吸着保持されたウェハＷを回転させるようになっている。

チャンバ１１の内部には、ウェハＷの周縁部に対応する位置にＢＳＰ除去部１４が設けられている。ＢＳＰ除去部１４を構成する本体１５には、ウェハＷの周縁部が回転しながら通過するように切り欠き部１６が設けられている。切り欠き部１６の下方部分１５ａには、ウェハＷに付着したＢＳＰ２にレーザーを照射するレーザー照射ヘッド１８が設けられている。レーザー照射ヘッド１８は、本体１５の下方部分１５ａに沿ってウェハＷの径方向に移動可能となっており、また、レーザー照射ヘッド１８は角度可変となっている。これにより、ＢＳＰ２の付着状況に応じてレーザー照射位置を調節可能となっている。また、本体１５には、ＢＳＰ２にオゾンガスを吐出するオゾンガス吐出ノズル２０と、オゾンガスをほぼ１００％吸引するオゾンガス吸引ノズル１９とが設けられている。オゾンガス吐出ノズル２０はオゾンガスを供給する供給ライン（配管）２１を介してオゾンガス発生器２２に接続されている。オゾンガスは、オゾンガス発生器２２から出力され、供給ライン２１を介してチャンバ１１内に導入され、オゾンガス吐出ノズル２０から吐出される。オゾンガス吸引ノズル１９には、主にオゾンガスを排気する排気流路を構成する排気配管３１が接続されている。排気配管３１は、工場酸排気配管（図示せず）に接続されている。排気配管３１には、オゾンガスを分解するオゾンキラー４１が接続されている。

チャンバ１１の上部には大気を吸引してチャンバ１１の内部に取り入れるためのファン３２と、ファン３２により吸引された大気のパーティクルを除去するフィルタ３３とが設けられている。一方、チャンバ１１の底部には排気口３４が設けられている。そして、ファン３２によりフィルタ３３を介してチャンバ１１内に大気が取り込まれ、排気口３４から排気されることによりチャンバ１１内に清浄空気のダウンフローが形成されるようになっている。排気口３４には排気配管３５が接続されており、排気配管３５は工場酸排気配管（図示せず）に接続されている。

チャンバ１１の側壁には、ウェハ搬入出口１１ａが設けられており、ウェハ搬入出口１１ａはゲートバルブ２３により開閉可能となっている。ゲートバルブ２３は、弁体２４と弁体２４を開閉するエアシリンダ２６とを有している。弁体２４を閉じた際、弁体２４とチャンバ１１との間はシールリング２５によりシールされるようになっている。

オゾンセンサ４３は、供給ライン２１とオゾンガス吐出ノズル２０との間のいずれかの位置に接続され、チャンバ１１に供給されるオゾンガス濃度Ｄを検知する。ただし、オゾンセンサ４３は、排気配管３１に接続されてもよい。その場合、オゾンセンサ４３は、チャンバ１１から排気されるオゾンガス濃度を検知する。

オゾンセンサ４３としては、高精度でオゾン濃度を検出することができればその方式は問わない。オゾンセンサ４３の一例としては、中性ヨウ化カリウム溶液からオキシダントによって遊離したヨウ素イオンの吸光度を測定して定量する方式、オゾンの紫外線領域での吸光度を測定して定量する方式等のＪＩＳに規定されている方式を用いたものを好適に用いることができる。

ＢＳＰ除去装置１は、制御装置５０を有している。制御装置５０は、主にＢＳＰ除去装置１の各構成部を制御する。制御装置５０は、モニタ部５１、制御部５２、記憶部５３、入出力Ｉ／Ｆ（インターフェース）部５４及びタイマ５５を有する。

モニタ部５１は、オゾンセンサ４３が検知したオゾンガス濃度Ｄをモニタする。具体的には、モニタ部５１は、オゾンセンサ４３からオゾンガス濃度Ｄを定期的または不定期に入力し、制御部５２に出力する。

モニタ部５１は、同様に、オゾン発生器２２の放電パワーＰをモニタする。オゾン発生器２２は、平行平板の電極２２ａの空間にＯ_２ガスを供給し、オゾンガスＯ_３に変換して出力する。その際、電極２２ａに２５ｋＨｚ程度の低周波電力を印加する。モニタ部５１は、オゾン発生器２２内の電源２２ｂから出力される電力のパワーＰを定期的または不定期に入力し、制御部５２に出力する。

制御部５２は、マイクロプロセッサを有する。制御部５２は、入出力Ｉ／Ｆ部５４に接続され、入出力Ｉ／Ｆ部５４を介してオペレータがＢＳＰ除去装置１を管理するためのコマンド等の入力操作を行うキーボード６２、情報を出力するディスプレイ６０及びスピーカ６１等と接続される。制御部５２には、所定の制御を行うための制御プログラムや、処理レシピが格納された記憶部５３が接続されている。処理レシピは記憶部５３の中の記憶媒体に記憶されている。制御部５２は、必要に応じて、入出力Ｉ／Ｆ部５４からの指示等に応じて任意の処理レシピを記憶部５３から呼び出して実行させることで、ＢＳＰの除去処理を制御する。

記憶部５３には、オゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示す情報（以下、単に「相関情報」ともいう。）が予め記憶されている。オゾンガス濃度と放電パワーには比例関係がある。よって、記憶部５３は、その比例式を予め記憶している。制御部５２は、モニタしたオゾンガス濃度Ｄと放電パワーＰとに基づき、相関情報に応じてオゾンセンサ４３が検出するオゾンガス濃度に異常があるかを検出する。タイマ５５は、オゾン発生器２２の稼働時間を計時する。

図３は、記憶部５３によって記憶される、オゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示す相関情報の一例をグラフに示す。直線ＮＬは、オゾンセンサ４３が正常の場合のオゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係（理想値）の比例式をグラフ化したものである。閾値Ｔｈ１及び閾値Ｔｈ２の直線は、オゾンセンサ４３が正常と判断してもよい許容範囲を示す。つまり、モニタされたオゾンガス濃度Ｄに対して、モニタされた放電パワーＰは、直線ＮＬ上の値であることが理想であるが、閾値Ｔｈ１及び閾値Ｔｈ２の直線の範囲の値であれば許容される。これにより、オゾンガス濃度の異常を検出する処理が、厳密になり過ぎないように制御される。

従って、モニタされたオゾン濃度Ｄが「Ｄ１」のとき、モニタされた放電パワーがＰ１の場合だけでなく、検出された放電パワーがＰＬ〜ＰＨの範囲内（許容値の範囲内）のいずれかの値を有していれば、オゾンセンサ４３により検知されたオゾンガス濃度は正常であると判断される。一方、オゾンセンサ４３が検出したオゾン濃度Ｄが「Ｄ１」のとき、検出された放電パワーがＰＬ〜ＰＨの範囲外であれば、オゾンセンサ４３により検知されたオゾンガス濃度は異常であると判断される。例えば、検出された放電パワーがＰ２のとき、検知されたオゾンガス濃度は異常であると判断される。

なお、閾値Ｔｈ１及び閾値Ｔｈ２の直線を示す比例式は、直線ＮＬを示す比例式とともに記憶部５３に予め記憶されている。ＢＳＰ除去装置１で実行されるエッチングでは、オゾンガス濃度の変化によってエッチングレートが急に低下するポイントがある。そこで、閾値Ｔｈ１及び閾値Ｔｈ２は、オゾンガス濃度の変化によってエッチングレートが急に低下する前のオゾンガスの濃度と放電パワーとの相関関係を示す相関情報であって、許容される最大限の相関情報を示す値に予め定められている。

制御部５２は、記憶部５３に記憶された相関情報に応じて、モニタ部５１がモニタしたオゾンガス濃度Ｄと放電パワーＰに基づき、オゾンガス濃度の異常を検出する。より詳しくは、制御部５２は、記憶部５３に記憶された相関情報に基づき、モニタされたオゾンガス濃度Ｄに対してモニタされた放電パワーＰが予め定められた閾値Ｔｈ１から閾値Ｔｈ２の範囲外のとき、オゾンガス濃度の異常を検出する。

制御部５２は、オゾンガス濃度の異常を検出した場合、入出力Ｉ／Ｆ部５４を介してディスプレイ６０に警告を表示してもよい。また、制御部５２は、オゾンガス濃度の異常を検出した場合、入出力Ｉ／Ｆ部５４を介してスピーカ６１に警告音を発生してもよい。

図１に戻り、かかる構成のＢＳＰ除去装置１においては、まず、ゲートバルブ２３の弁体２４を開にして、図示しない搬送アームによりウェハＷを搬入出口１１ａを介してチャンバ１１内に搬入し、スピンチャック１２に真空吸着させる。そして、ゲートバルブ２３の弁体２４を閉じ、チャンバ１１を気密にシールする。

次いで、回転モータ１３によりスピンチャック１２を回転させ、これによりスピンチャック１２に吸着保持されているウェハＷを回転させる。そして、このようにウェハＷを回転させつつ、ＢＳＰ除去部１４のレーザー照射ヘッド１８からウェハＷに付着したＢＳＰ２にレーザーを照射するとともに、オゾンガス吐出ノズル２０からオゾンガスを吹き付け、オゾンガス吸引ノズル１９でオゾンガスを吸引する。これにより、レーザー照射による熱とオゾンガスによる酸化によって、ＢＳＰ２が除去される。このとき、レーザーが所望の位置に当たるように、照射ヘッド１８をウェハＷの径方向に移動させるとともに、レーザー照射ヘッド１８の角度調節を行う。このＢＳＰ除去処理の際には、オゾンガス吐出ノズル２０からオゾンガスが供給され、オゾンガス吸引ノズル１９から排気流路としての排気配管３１を経て排気される。

本実施形態では、オゾンガスを供給する供給ライン２１からサンプリングしたオゾンガス濃度Ｄをオゾンセンサ４３で検出し、そのオゾンガス濃度Ｄをモニタ部５１でモニタする。また、本実施形態では、オゾン発生器２２の放電パワーＰを検出し、モニタ部５１でモニタする。

制御部５２は、モニタ部５１でモニタしたオゾンガス濃度Ｄ及び放電パワーＰと、記憶部５３に記憶された相関情報とを比較する。制御部５２は、モニタされたオゾンガス濃度Ｄに対してモニタされた放電パワーＰが予め定められた閾値Ｔｈ１〜閾値Ｔｈ２の範囲から外れる場合、モニタしたオゾンガス濃度が異常であることを検出し、警告を出力する。警告を確認したオペレータは、ＢＳＰ除去装置１を停止し、オゾンセンサ４３の０点補正（オフセット）等のメンテナンスを実行する。

制御装置５０は、図示しないＣＰＵ（Central Processing Unit），ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等を有する。制御部５２の機能は、ＣＰＵによって実現される。記憶部５３の機能は、ＲＯＭ又はＲＡＭによって実現される。ＣＰＵは、ＲＯＭ等の記憶領域に格納されたレシピに従って、低周波電力の印加、オゾンガスの供給、レーザ光の入射等を制御し、ＢＳＰの除去処理を実行する。また、ＣＰＵは、ＲＯＭ等の記憶領域に格納された相関情報に応じて、モニタされたオゾンガス濃度の異常を検出する。

なお、制御部５２の機能は、ソフトウエアを用いて動作することにより実現されてもよく、ハードウエアを用いて動作することにより実現されてもよい。

以上、本実施形態に係るＢＳＰ除去装置１の全体構成の一例について説明した。次に、ＢＳＰ除去装置１の制御装置５０により実行される、オゾンガス濃度の異常検出処理の一例を、図２を参照しながら説明する。

[オゾンガス濃度の異常検出処理]
図２のオゾンガス濃度の異常検出処理が開始されると、制御部５２は、モニタ部５１からオゾンガス濃度Ｄを取得する（ステップＳ１０）。次に、制御部５２は、モニタ部５１から放電パワーＰを取得する（ステップＳ１２）。なお、ステップＳ１０，Ｓ１２の取得タイミングや取得の順番はこれに限られない。

次に、制御部５２は、ＮＬの比例式を示す相関情報及び閾値Ｔｈ１、Ｔｈ２の比例式を示す相関情報を記憶部５３から取得する（ステップＳ１４）。次に、制御部５２は、取得したオゾンガス濃度Ｄに対して取得した放電パワーＰが閾値Ｔｈ１〜Ｔｈ２の範囲内かを判定する（ステップＳ１６）。例えば、図３において、取得したオゾンガス濃度Ｄ１に対して取得した放電パワーＰ１がＰＬ〜ＰＨの範囲内かが判定される。

オゾンガス濃度Ｄに対する放電パワーＰが閾値Ｔｈ１〜Ｔｈ２の範囲内の場合、制御部５２は、モニタしたオゾンガス濃度が正常であることを検出する。例えば、図３において、取得したオゾンガス濃度Ｄ１に対して取得した放電パワーＰが「Ｐ１」のとき、制御部５２は、モニタしたオゾンガス濃度が正常であることを検出する。この場合、オゾンセンサ４３は正常に稼働していると判断され、ＢＳＰ除去処理時のオゾンガスのモニタは継続可能と判定される。よって、所定時間経過した後（ステップＳ１８）、制御部５２は、ステップＳ１０に戻り、新たなオゾンガス濃度Ｄと放電パワーＰとのモニタ値に基づく次の異常検出処理（ステップＳ１０〜Ｓ１６）を実行する。

一方、ステップＳ１６において、オゾンガス濃度Ｄに対する放電パワーＰが閾値Ｔｈ１〜Ｔｈ２の範囲外の場合、制御部５２は、モニタしたオゾンガス濃度が異常であることを検出する（ステップＳ２０）。例えば、図３において、取得したオゾンガス濃度Ｄ１に対して取得した放電パワーＰが「Ｐ２」のとき、制御部５２は、モニタしたオゾンガス濃度が異常であることを検出する。異常が検出された場合、制御部５２は、警告を出力するように制御し（ステップＳ２２）、本オゾンガス濃度の異常検出処理を終了する。出力する警告の一例としては、「オゾンセンサ４３のメンテナンス（０点補正）が必要です」とディスプレイ６０に表示したり、警告音をスピーカ６１から出力したりすることが挙げられる。

以上、本実施形態に係るＢＳＰ除去装置１の制御装置５０により実行される、オゾンガス濃度の異常検出処理の一例を説明した。

オゾンセンサ４３が正常に動作しないと、実際にＢＳＰ除去装置１に供給されるオゾンガス濃度と異なるオゾンガス濃度が検出される。特に、オゾンセンサの定期的なメンテナンスは、例えば、一日一回と頻度が高く、実際に実行することが難しいことが少なくない。

そこで、本実施形態に係るオゾンガス濃度の異常検出処理は、オゾンガス濃度の異常の有無を、オゾンセンサ４３の検出値とオゾン発生器２２の放電パワーとからモニタする。そして、モニタしたオゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係が、予め定められたオゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係の許容範囲内であるかに基づき、オゾンセンサ４３がオゾンガス濃度を正確に測定できているかを判定する。このようにして、オゾンセンサ４３により検出されたオゾンガス濃度の検出値が異常であるかを判定することができる。

これにより、オゾンセンサ４３の異常を早期に発見し、オペレータにオゾンセンサ４３のメンテナンス（０点補正）を促し、オゾンセンサ４３の故障や０点のズレを迅速に保守させることができる。このようなオペレータの迅速な対応により、安定したオゾンガスの供給を実現し、ＢＳＰ処理装置１によるＢＳＰ除去の処理性能の低下を防ぎ、ロット不良を回避することができる。

[変形例]
オゾン発生器２２の経時変化に応じてオゾンガス濃度と放電パワーとの比例式の傾きが変わる場合がある。例えば、オゾン発生器２２の経時変化に応じてオゾンガス濃度と放電パワーとの比例式の傾きは小さくなる傾向が考えられる。

そこで、以下に説明する本実施形態の変形例では、記憶部５３は、オゾン発生器２２の稼働時間に応じて変化するオゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示す複数の相関情報を予め記憶する。具体的には、記憶部５３は、オゾンガス濃度と放電パワーとの比例関係を示す複数の比例式を予め記憶する。そして、制御部５２は、記憶部５３に記憶された複数の相関情報から、オゾン発生器２２の稼働時間に応じて最適なオゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示した相関情報を選択する。

具体的には、オゾン発生器２２の稼働時間は、タイマ５５によって計時されている。制御部５２は、計時されたオゾン発生器２２の稼働時間に基づき、記憶部５３に記憶された複数の相関情報のうちから最も適した相関情報を選択し、選択した相関情報に基づき、オゾンガス濃度の異常を検出する。以下、オゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示す複数の相関情報から相関情報を選択する処理について、図４を参照しながら説明する。

[相関情報の選択処理]
図４は、一実施形態に係る相関情報の選択処理の一例を示したフローチャートである。

図４の相関情報の選択処理が開始されると、制御部５２は、タイマ５５が計時しているオゾン発生器２２の稼働時間を取得する（ステップＳ３０）。制御部５２は、オゾン発生器２２の稼働時間が予め定められた時間ｔ１を経過したかを判定する（ステップＳ３２）。

オゾン発生器２２の稼働時間が時間ｔ１を経過していない場合、制御部５２は、記憶部５３から相関情報１を選択する（ステップＳ３４）。これにより、図５に示されるように、オゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示す直線ＮＬ１〜ＮＬ４のうち、傾きが最も大きい直線ＮＬ１で示される相関情報１が選択される。選択後、本相関情報選択処理は終了する。

一方、オゾン発生器２２の稼働時間が時間ｔ１を経過した場合、制御部５２は、オゾン発生器２２の稼働時間が予め定められた時間ｔ２を経過したかを判定する（ステップＳ３６）。

オゾン発生器２２の稼働時間が時間ｔ２を経過していない場合、制御部５２は、記憶部５３から相関情報２を選択する（ステップＳ３８）。これにより、図５に示されるように、傾きが二番目に大きい直線ＮＬ２で示される相関情報２が選択される。選択後、本相関情報選択処理は終了する。

一方、オゾン発生器２２の稼働時間が時間ｔ２を経過した場合、制御部５２は、オゾン発生器２２の稼働時間が予め定められた時間ｔ３を経過したかを判定する（ステップＳ４０）。

オゾン発生器２２の稼働時間が時間ｔ３を経過していない場合、制御部５２は、記憶部５３から相関情報３を選択する（ステップＳ４２）。これにより、図５に示されるように、傾きが三番目に大きい直線ＮＬ３で示される相関情報３が選択される。選択後、本相関情報選択処理は終了する。

一方、オゾン発生器２２の稼働時間が時間ｔ３を経過した場合、制御部５２は、記憶部５３から相関情報４を選択する（ステップＳ４４）。これにより、図５に示されるように、傾きが最も小さい直線ＮＬ４で示される相関情報４が選択される。選択後、本相関情報選択処理は終了する。

以上、本実施形態の変形例について説明した。これによれば、オゾン発生器２２の経時変化に応じて、最も適切なオゾンガス濃度と放電パワーとの相関情報が選択される。これにより、オゾン発生器２２の稼働時間に応じて選択されたオゾンガス濃度と放電パワーとの相関情報に基づき、オゾンガス濃度が正確に測定できているかをより精度良く判定することができる。

例えば、オゾン発生器２２の稼働時間が時間ｔ１を経過し、時間ｔ２を経過していない場合、オゾン発生器２２の稼働時間を考慮しないと、相関情報１、つまり、図５の直線ＮＬ１に基づき、オゾンガス濃度の検出値の異常の有無が判定される。この結果、例えば、モニタされたオゾン濃度ＤがＤ１、放電パワーがＰ１のとき、放電パワーＰ１はＮＬ１上の値であり、オゾンセンサ４３により検知されたオゾンガス濃度の検出値は正常であると判断される。

一方、本変形例では、オゾン発生器２２の稼働時間に応じて、相関情報２、つまり、図５の直線ＮＬ２に基づき、オゾンガス濃度の検出値の異常の有無が判定される。この場合、例えば、モニタされたオゾン濃度ＤがＤ１、放電パワーがＰ３の場合、本変形例では、相関情報２に基づき、検出された放電パワーＰ３はＮＬ２上の値であり、オゾンガス濃度は正常であると判断される。

これに対して、モニタされたオゾン濃度ＤがＤ１、放電パワーがＰ１の場合、本変形例では、相関情報２に基づき、検出された放電パワーＰ１はＰＬ〜ＰＨ（図５では図示せず）の範囲外であるため、オゾンガス濃度の検出値は異常であると判断される。

このようにして、本実施形態の変形例では、オゾン発生器２２の稼働時間に応じて選択されたオゾンガス濃度と放電パワーとの相関情報に基づき、オゾンガス濃度が正確に測定されているかをより精度良く判定することができる。

以上、基板処理装置及びオゾンガス濃度の異常検出方法を上記実施形態により説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能である。また、上記実施形態及び変形例を矛盾しない範囲で組み合わせることができる。

例えば、本発明に係るオゾンガス濃度の異常検出方法は、オゾンガスの供給を監視するあらゆるシステムに適用可能である。また、本発明に係るオゾンガス濃度の異常検出方法は、オゾンガスの排出を監視するあらゆるシステムに適用可能である。

例えば、図１には図示していないが、オゾンセンサ４３をオゾンキラー４１に繋がる排気配管３１に接続し、オゾンセンサを用いて排気配管３１を介してサンプリングした排ガス中のオゾンガス濃度を検出してもよい。この場合、本発明に係るオゾンガス濃度の異常検出方法は、排ガス中のオゾンガス濃度と放電パワーとをモニタ部５１でモニタし、オゾンガス濃度と放電パワーとに基づき、オゾンガス濃度の検出値が異常かを判定してもよい。

なお、本発明において処理を施される基板は、上記実施形態にて説明に使用したウェハに限られず、例えば、フラットパネルディスプレイ（Flat Panel Display)用の大型基板、ＥＬ素子又は太陽電池用の基板であってもよい。

１：ＢＳＰ除去装置
２：ＢＳＰ
１１：チャンバ
２１：供給ライン
２２：オゾンガス発生器
４３：オゾンセンサ
５０：制御装置
５１：モニタ部
５２：制御部
５３：記憶部
５４：入出力Ｉ／Ｆ部
５５：タイマ
Ｄ：オゾン濃度
Ｐ：放電パワー

Claims (6)

1. オゾンガスを発生するオゾン発生器とオゾンガス濃度を検知するオゾンセンサとを備え、該オゾン発生器から供給されるオゾンガスを用いて基板を処理する基板処理装置であって、
   前記オゾンセンサが検知するオゾンガス濃度と、前記オゾン発生器の放電パワーとをモニタするモニタ部と、
   前記モニタしたオゾンガス濃度と放電パワーとに基づき、前記オゾンガス濃度の異常を検出する制御部と、
   を有する、基板処理装置。
2. オゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示す相関情報を予め記憶した記憶部を有し、
   前記制御部は、
   前記モニタしたオゾンガス濃度と放電パワーとに基づき、前記記憶部に記憶されたオゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示す相関情報に応じて、前記モニタしたオゾンガス濃度の異常を検出する、
   請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記制御部は、
   前記記憶部に記憶されたオゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示す相関情報に応じて、前記モニタしたオゾンガス濃度に対して前記モニタされた放電パワーが予め定められた許容値の範囲外の場合、前記モニタしたオゾンガス濃度が異常であることを検出する、
   請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記記憶部は、前記オゾン発生器の稼働時間に応じて変化するオゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示す複数の相関情報を予め記憶し、
   前記オゾン発生器の稼働時間を計時するタイマを有し、
   前記制御部は、
   前記計時されたオゾン発生器の稼働時間に基づき、前記記憶部に記憶されたオゾンガス濃度と放電パワーとの相関関係を示す複数の相関情報のうちからいずれかの相関情報を選択し、選択した相関情報に応じて、前記モニタしたオゾンガス濃度の異常を検出する、
   請求項２又は３に記載の基板処理装置。
5. 前記オゾンセンサは、前記オゾン発生器から前記基板処理装置にオゾンガスを供給する供給ラインに接続される、
   請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
6. オゾンガスを発生するオゾン発生器を用いて基板を処理する基板処理装置に用いられるオゾンガス濃度の異常検出方法であって、
   オゾンセンサによって検知された、基板処理装置に供給されるオゾンガス濃度をモニタし、
   前記オゾン発生器の放電パワーをモニタし、
   前記モニタしたオゾンガス濃度と放電パワーとに基づき、前記オゾンガス濃度の異常を検出する、
   ステップを含む、オゾンガス濃度の異常検出方法。

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