JP2007258564A - 基板処理装置及びその方法 - Google Patents

基板処理装置及びその方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007258564A
JP2007258564A JP2006083140A JP2006083140A JP2007258564A JP 2007258564 A JP2007258564 A JP 2007258564A JP 2006083140 A JP2006083140 A JP 2006083140A JP 2006083140 A JP2006083140 A JP 2006083140A JP 2007258564 A JP2007258564 A JP 2007258564A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow rate
value
processing
substrate
instantaneous
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006083140A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiko Honda
康彦 本田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2006083140A priority Critical patent/JP2007258564A/ja
Publication of JP2007258564A publication Critical patent/JP2007258564A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Weting (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

【課題】流量の瞬時値が短時間で変動することの影響を回避することにより、流量の適否を正確に判断することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】供給配管17を流れる処理液の流量を瞬時値で捉えるのではなく、移動平均値算出部45により平均流量値AVを求め、この平均流量値AVにより判断部51が処理液の供給の適否について判断する。したがって、処理液の流量が短時間で変動しても均されるので、流量の適否を正確に判断することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板(以下、単に基板と称する)等の基板に対して処理液によって洗浄、エッチング、塗布等の処理をする基板処理装置及びその方法に関する。
従来、この種の装置として、基板を収容する処理槽と、処理槽に処理液を供給する配管と、配管を流通する処理液の流量を検出する検出手段と、検出手段から出力される流量の瞬時値により処理液の供給について適否を判断する制御部とを備えたものが挙げられる(例えば、特許文献1参照)。
特開2002−93773号公報(段落番号「0029」、「0030」、図1)
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、処理液を流し始めてから流量が安定するまでの間、流量が短時間の間に上下に振れて、供給が不適切な状況であったとしても検出できないことがあったり、処理的に問題がないにもかかわらず、流量変化のグラフを処理後に見返すと処理に問題があったように誤解されたりするという問題がある。換言すると、処理液の供給の適否を正確に判断することができないという問題がある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、流量の瞬時値が短時間で変動することの影響を回避することにより、流量の適否を正確に判断することができる基板処理装置及びその方法を提供することを目的とする。
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、処理部に処理液を供給して基板に対する処理を行う基板処理装置において、処理部に処理液を供給する供給配管と、前記供給配管に設けられ、処理液の流量を流量瞬時値として検出する流量検出手段と、流量瞬時値について順次に移動平均値を求めて平均流量値を求める移動平均値算出手段と、前記平均流量値に基づき処理液の供給について適否を判断する判断手段と、を備えていることを特徴とするものである。
[作用・効果]請求項1に記載の発明によれば、供給配管を流れる処理液の流量を瞬時値で捉えるのではなく、移動平均値算出手段により平均流量値を求め、この平均流量値により判断手段が処理液の供給の適否について判断する。したがって、流量が短時間で変動しても均されるので、流量の適否を正確に判断することができる。
また、本発明において、前記移動平均値の平均化個数を設定する設定手段と、前記平均化個数を記憶する記憶手段とをさらに備え、前記移動平均値算出手段は、前記平均化個数に応じて算出を行うことが好ましい(請求項2)。処理液の流量瞬時値の変動範囲に応じて適切な平均化個数を設定手段で設定し、それを記憶手段に記憶させておくことにより、処理液の供給の適否を適切に判断することができる。
また、本発明において、前記記憶手段は、さらに移動平均値を求めるか否かを規定する開始個数を記憶し、前記判断手段は、前記開始個数に達した後、処理液の供給の適否について判断することが好ましい(請求項3)。開始個数に達するまで判断しないことにより、充分に均されていない値に基づく誤判断を防止できる。
また、請求項4に記載の発明は、処理部に処理液を供給して基板に対する処理を行う基板処理装置において、処理部に処理液を供給する供給配管と、前記供給配管に設けられ、処理液の流量を流量瞬時値として出力する流量検出手段と、流量瞬時値について順次に積算を行って、所定時間内における積算流量値を求める積算流量値算出手段と、前記積算流量値に基づき処理液の供給について適否を判断する判断手段と、を備えていることを特徴とするものである。
[作用・効果]請求項4に記載の発明によれば、供給配管を流れる処理液の流量を瞬時値で捉えるのではなく、積算流量値算出手段により積算流量値を求め、この積算流量値により判断手段が処理液の供給の適否について判断する。したがって、処理中における全体の総流量で判断するので、流量が短時間で変動することの影響がなくなり、流量の適否を正確に判断することができる。
また、請求項5に記載の発明は、処理部に処理液を供給して基板に対する処理を行う基板処理方法において、供給配管を流通する処理液について、処理液の流量を流量瞬時値として検出する過程と、流量瞬時値について順次に移動平均値を求めて平均流量値を求める過程と、前記平均流量値に基づき処理液の供給について適否を判断する過程と、を有することを特徴とするものである。
[作用・効果]請求項5に記載の発明によれば、供給配管を流れる処理液の流量を瞬時値で捉えるのではなく、流量を瞬時値で検出した後、その移動平均を算出する。そして、この平均流量値により処理液の供給の適否について判断する。したがって、流量が短時間で変動しても均されるので、流量の適否を正確に判断することができる。
また、請求項6に記載の発明は、処理部に処理液を供給して基板に対する処理を行う基板処理方法において、供給配管を流通する処理液について、処理液の流量を流量瞬時値として検出する過程と、流量瞬時値について順次に積算を行って、所定時間内における積算流量値を求める過程と、前記積算流量値に基づき処理液の供給について適否を判断する過程と、を有することを特徴とするものである。
[作用・効果]請求項6に記載の発明によれば、供給配管を流れる処理液の流量を瞬時値で捉えるのではなく、流量を瞬時値で検出した後、積算流量値を求める。そして、この積算流量値により判断手段が処理液の供給の適否について判断する。したがって、処理中における全体の総流量で判断するので、流量が短時間で変動することの影響がなくなり、流量の適否を正確に判断することができる。
本発明に係る基板処理装置によれば、供給配管を流れる処理液の流量を瞬時値で捉えるのではなく、移動平均値算出手段により平均流量値を求め、この平均流量値により判断手段が処理液の供給の適否について判断する。したがって、流量が短時間で変動しても均されるので、流量の適否を正確に判断できる。
以下、図面を参照して本発明の実施例1について説明する。
図1は、実施例1に係る基板処理装置の概略構成図であり、図2は、平均流量値の説明に供するタイムチャートである。
この基板処理装置は処理部としての処理槽1を備え、処理槽1は、内槽3と、内槽3から溢れた処理液を回収する外槽5とを備えている。内槽3には、基板Wを内槽1内の処理位置と、内槽1の上方にあたる待機位置とにわたって昇降可能な保持アーム7が付設されている。保持アーム7は、鉛直姿勢のアーム9と、このアーム9の下部に備えられ、基板Wを起立姿勢で当接支持する支持部材11とを備えている。
内槽3は、底部に処理液を供給するための噴出管13を備えている。また、外槽5は、回収した処理液を排出するための排出口15を備えている。噴出管13と排出口15とは、供給配管17で連通接続されている。この供給配管17には、排出口15側から順に、ポンプ19と、インラインヒータ21と、フィルタ23と、流量計25とが配設されている。インラインヒータ21は、流通する処理液を加熱する機能を備え、フィルタ23は、処理液中のパーティクル等を除去する機能を備えている。また、流量計25は、リアルタイム値である流量の瞬時値を検出し、流量瞬時値RVとして出力する。
なお、上記の処理槽1が本発明における処理部に相当し、上記の流量計25が本発明における流量検出手段に相当する。
排出口15とポンプ19との間には、処理液供給源27が連通接続されている。処理液としては、例えば、燐酸(H3PO4)が挙げられる。ここから供給配管17へ供給された処理液は、インラインヒータ21により、例えば、160℃や170℃の高温に加熱された上で内槽3へ供給される。処理液供給源27と排出口15との間における供給配管17の一部位には、分岐管29が連通接続されている。分岐管29には、開閉弁31が取り付けられている。開閉弁31は、供給配管17や外槽5に貯留している処理液を排出する際に開放される。
内槽3の底部中央付近には、排液口33が形成されている。この排液口33には、排出管35が連通接続されている。排出管35は、内槽3に処理液を貯留する際に閉止され、貯留している処理液を排出する際に開放される開閉弁37を備えている。
制御部39は、上述した保持アーム7の昇降、ポンプ19の駆動、インラインヒータ21の温調、開閉弁31,37の開閉などを制御する。制御部39は、ポンプ19を制御して、供給配管17における処理液の流量を制御したり、ポンプ19の異常発生を検出し、異常発生信号を出力端子41に出力したりする。出力端子41には、アラーム43が接続されている。アラーム43は、例えば、装置のオペレータに対して異常が発生したことを報知するものであり、例えば、ブザーやランプなどが挙げられる。また、制御部39は、異常を検出した場合に装置による処理を停止させる。
また、制御部39は、移動平均値算出部45と、設定値メモリ47と、ログメモリ49と、判断部51と、アラーム値メモリ53とを備えている。移動平均値算出部45は、流量計25からの流量瞬時値RVを順次に取り込み、所定の移動平均個数による移動平均値を求め、順次に平均流量値AVとして順次に判断部51へ出力する。流量瞬時値RVや平均流量値AVは、ログメモリ49に順次に記憶され、適宜に参照可能になっている。移動平均個数Nは、設定部55を介して設定値メモリ47に予め設定されている。移動平均個数Nは、例えば、5や10などが設定されるが、流量瞬時値RVの変動傾向に応じて適宜に設定するのが好ましい。また、設定値メモリ47には、何回目の移動平均値を求めてから判断部51が判断を開始するかを規定する開始個数Sも予め設定されている。これにより、ポンプ19の作動開始時における流量の不安定さに起因するアラームの誤作動を防止できる。
なお、上記の移動平均値算出部45が本発明における移動平均算出手段に相当し、設定部55が本発明における設定手段に相当し、設定値メモリ47が本発明における記憶手段に相当する。
判断部51は、平均流量値AVに基づき、処理液の供給について適否を判断する。具体的には、平均流量値AVと、アラーム値メモリ53に記憶されているパラメータ値(上限値ULと下限値LL)とを比較して、その範囲外であるか否かを順次に比較する。範囲外である場合には、上述したアラーム43を作動させる。なお、その判断は、平均流量値AVが上述した開始個数S以降である場合において行われる。
なお、上記の判断部51が本発明における判断手段に相当する。
ここで図2を参照する。図2は、詳細には、ポンプ19を作動させ始めた時点から、流量瞬時値RVと、各流量瞬時値RVについて移動平均個数N=5により求めた平均流量値AVとをプロットしてグラフ化したものである。また、図2中には、流量目標値TVと、上限値ULと、下限値LLとの一例も同時に示してある。このタイムチャートから明らかなように、流量瞬時値RVは、処理液の供給開始から急激に上昇するものの、目標流量値TVを大きく越えてオーバーシュートした後、目標流量値TVより下回ってアンダーシュートし、その後、目標流量値TVを中心にして上下にある程度振れることがわかる。その一方、移動平均値をとった平均流量値AVは、それらが均されている関係上、流量瞬時値RVよりも滑らかに変動していることが分かる。そして、例えば、上限値ULと下限値LLを図2に示すように設定すると、流量瞬時値RV(n)がn=1,23では下限値LLを下回り、n=3〜5,40,81では上限値ULを上回っていることがわかる。一方、平均流量値AV(n)では、n=1〜3において下限値ULを下回るものの、その他は全て上限値ULと下限値LLの範囲内に収まっていることがわかる。なお、流量が瞬時値的に範囲外となっても、それが瞬間的なものである限り、一般的には基板の処理に悪影響を与えるものではない。
次に、図3を参照して、上述した装置の動作について説明する。なお、図3は、動作を示すフローチャートである。なお、このフローチャートは、ポンプ19が作動開始し、流量計25から瞬時流量値RVが出力された時点からの動作を示し、その値が出力される度に以下の処理が繰り返し実行される。
ステップS1〜S3
移動平均値算出部45は、流量計25からの流量瞬時値RVを受け取るとともに、それに番号を付してゆく。例えば、流量瞬時値RV(1)、流量瞬時値RV(2)、……、流量瞬時値(n)である。そして、その番号nと開始個数Sとを比較し、開始個数Sより小さければステップS2へ移行して、その1〜nまでの通常の平均値を平均流量値AV(n)とする。一方、その番号nが開始個数S以上となった場合には、n−(N−1)からnまでの流量瞬時値RV(n)について平均流量値AV(n)を求める。つまり、N=5であれば、n=1〜5までの流量瞬時値RV(n)から平均流量値AV(5)を求める。次に、n=2〜6までの流量瞬時値RV(n)から平均流量値AV(6)を求める。
ステップS4
流量瞬時値RV(n)と流量平均値AV(n)をログメモリ39に記憶する。これらは、処理後にユーザが念のために確認する際などに利用される。
ステップS5〜S7
番号nと開始個数Sを比較し、処理を分岐する。
すなわち、番号nが開始個数S以上であれば、ステップS6においてパラメータ値との比較を行い、その範囲外ならばステップS7においてアラーム動作を行う。また、同時に処理を停止させる等の処理を行わせるようにしてもよい。一方、範囲内ならば処理を終了する。
上述したように、供給配管17を流れる処理液の流量を瞬時値で捉えるのではなく、移動平均値算出部45により平均流量値AVを求め、この平均流量値AVにより判断部51が処理液の供給の適否について判断する。したがって、処理液の流量が短時間で変動しても均されるので、流量の適否を正確に判断することができる。つまり、図2における一時的な変動である流量瞬時値RV(5)、RV(23)、RV(40)、RV(81)についてはアラーム43が動作しないようにできる。
また、開始個数Sに達するまで異常について判断しないことにより、充分に均されていない、処理開始時の値に基づく誤判断を防止できる。つまり、図2における立ち上がり時の流量瞬時値RV(1)〜RV(4)に基づく平均流量値AV(1)〜AV(4)については異常判断の対象外にできる。
さらに、移動平均個数Nを設定部55を介して設定値メモリ47に予め設定可能に構成されているので、処理液の流量瞬時値の変動範囲に応じて適切な平均化個数Nを適宜に設定することで、処理液の供給の適否を適切に判断することができる。
次に、図面を参照して本発明の実施例2について説明する。
図4は、実施例2に係る基板処理装置の概略構成図である。なお、実施例1と共通する構成については同符号を付すことにより、詳細な説明については省略する。
制御部39Aは、積算流量値算出部61と、ログメモリ49Aと、判断部51Aと、アラーム値メモリ53Aとを備えている。積算流量値算出部61は、流量計25からの流量瞬時値RVを順次に取り込み、順次に積算を行って所定時間内における積算流量値IVを求め、これを所定時間の経過後に判断部51Aへ出力する。流量瞬時値RVや積算流量値IVは、ログメモリ49Aに順次に記憶され、適宜に参照可能になっている。アラーム値メモリ53Aには、積算流量値IVの上下限を示すパラメータ値(上限値ULと下限値LL)が予め記憶されている。判断部51Aは、積算流量値IVと、パラメータ値(上限値ULと下限値LL)とを比較して、その範囲外であるか否かを処理後に比較する。積算流量値IVがその範囲外である場合には、アラーム43を作動させる。
なお、上記の判断部51Aが本発明における判断手段に相当し、上記の積算流量値算出部61が本発明における積算流量値算出手段に相当する。
次に、図5を参照して、上述した装置の動作について説明する。なお、図5は、動作を示すフローチャートである。なお、このフローチャートは、ポンプ19が作動開始し、流量計25から瞬時流量値RVが出力された時点からの動作を示す。
ステップS10
積算流量値IVを初期化する。処理の開始時に積算流量値IVをゼロにしておく。
ステップS11〜S13
処理が開始された場合には、処理が終了するまでの間、積算流量値IVに流量瞬時値RV(n)を加算して新たな積算流量値IVとし、流量瞬時値RV(n)をログメモリ49Aに記憶する。
ステップS14
処理が終了すると、積算流量値IVをログメモリ49Aに記憶する。
ステップS15,S16
アラーム値メモリ53Aに記憶されている上限値UL及び下限値LLを、積算流量値IVと比較し、範囲外であればステップS16においてアラーム43を作動させ、範囲内であれば処理をそのまま終了する。
上述したように、供給配管17を流れる処理液の流量を瞬時値で捉えるのではなく、積算流量値算出部61により積算流量値IVを求め、この積算流量値IVにより判断部51Aが処理液の供給の適否について判断する。したがって、処理中における全体の総流量で判断するので、流量が短時間で変動することの影響がなくなり、流量の適否を正確に判断することができる。
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
(1)上述した各実施例1,2では、内槽3と外槽5を備えた処理槽1に処理液を循環供給させる装置を例に採って説明したが、非循環式の装置であっても本発明を適用することができる。
(2)上述した各実施例1,2が備えているアラーム43は本発明の必須要件ではなく、必ずしも備える必要はない。平均流量値AVや積算流量値IVが範囲外であれば、処理を停止することによりアラーム動作に代えることができるからである。
(3)上述した各実施例1,2では、基板Wを処理液に浸漬させて処理する、いわゆるバッチ式の基板処理装置を例示しているが、例えば、基板Wを一枚ずつ処理する、いわゆる枚葉式の基板処理装置にも本発明を適用することができる。
実施例1に係る基板処理装置の概略構成図である。 平均流量値の説明に供するタイムチャートである。 動作を示すフローチャートである。 実施例2に係る基板処理装置の概略構成図である。 動作を示すフローチャートである。
符号の説明
1 … 処理槽
7 … 保持アーム
17 … 供給配管
19 … ポンプ
25 … 流量計
45 … 移動平均算出部
47 … 設定値メモリ
51 … 判断部
53 … アラーム値メモリ
55 … 設定部
RV … 流量瞬時値
AV … 平均流量値
N … 移動平均個数
S … 開始個数
TV … 流量目標値
UL … 上限値
LL … 下限値


Claims (6)

  1. 処理部に処理液を供給して基板に対する処理を行う基板処理装置において、
    処理部に処理液を供給する供給配管と、
    前記供給配管に設けられ、処理液の流量を流量瞬時値として検出する流量検出手段と、
    流量瞬時値について順次に移動平均値を求めて平均流量値を求める移動平均値算出手段と、
    前記平均流量値に基づき処理液の供給について適否を判断する判断手段と、
    を備えていることを特徴とする基板処理装置。
  2. 請求項1に記載の基板処理装置において、
    前記移動平均値の平均化個数を設定する設定手段と、
    前記平均化個数を記憶する記憶手段とをさらに備え、
    前記移動平均値算出手段は、前記平均化個数に応じて算出を行うことを特徴とする基板処理装置。
  3. 請求項2に記載の基板処理装置において、
    前記記憶手段は、さらに移動平均値を求めるか否かを規定する開始個数を記憶し、
    前記判断手段は、前記開始個数に達した後、処理液の供給の適否について判断することを特徴とする基板処理装置。
  4. 処理部に処理液を供給して基板に対する処理を行う基板処理装置において、
    処理部に処理液を供給する供給配管と、
    前記供給配管に設けられ、処理液の流量を流量瞬時値として出力する流量検出手段と、
    流量瞬時値について順次に積算を行って、所定時間内における積算流量値を求める積算流量値算出手段と、
    前記積算流量値に基づき処理液の供給について適否を判断する判断手段と、
    を備えていることを特徴とする基板処理装置。
  5. 処理部に処理液を供給して基板に対する処理を行う基板処理方法において、
    供給配管を流通する処理液について、処理液の流量を流量瞬時値として検出する過程と、
    流量瞬時値について順次に移動平均値を求めて平均流量値を求める過程と、
    前記平均流量値に基づき処理液の供給について適否を判断する過程と、
    を有することを特徴とする基板処理方法。
  6. 処理部に処理液を供給して基板に対する処理を行う基板処理方法において、
    供給配管を流通する処理液について、処理液の流量を流量瞬時値として検出する過程と、
    流量瞬時値について順次に積算を行って、所定時間内における積算流量値を求める過程と、
    前記積算流量値に基づき処理液の供給について適否を判断する過程と、
    を有することを特徴とする基板処理方法。

JP2006083140A 2006-03-24 2006-03-24 基板処理装置及びその方法 Pending JP2007258564A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006083140A JP2007258564A (ja) 2006-03-24 2006-03-24 基板処理装置及びその方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006083140A JP2007258564A (ja) 2006-03-24 2006-03-24 基板処理装置及びその方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007258564A true JP2007258564A (ja) 2007-10-04

Family

ID=38632484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006083140A Pending JP2007258564A (ja) 2006-03-24 2006-03-24 基板処理装置及びその方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007258564A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018164095A (ja) * 2018-05-30 2018-10-18 東京エレクトロン株式会社 処理装置、処理方法および記憶媒体
JP2019165241A (ja) * 2019-05-16 2019-09-26 東京エレクトロン株式会社 処理装置、処理方法および記憶媒体

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018164095A (ja) * 2018-05-30 2018-10-18 東京エレクトロン株式会社 処理装置、処理方法および記憶媒体
JP2019165241A (ja) * 2019-05-16 2019-09-26 東京エレクトロン株式会社 処理装置、処理方法および記憶媒体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8372299B2 (en) Substrate treating apparatus and substrate treating method
US8038798B2 (en) Method of and apparatus for cleaning substrate
JP6417999B2 (ja) 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体
KR20160014535A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP2005510054A (ja) 浸漬処理用の改良されたプロセス制御
KR20230121027A (ko) 처리 장치, 처리 방법 및 기억 매체
KR20200023220A (ko) 기판 반송 모듈 및 기판 반송 방법
KR102288808B1 (ko) 웨이퍼 표면온도를 이용한 반도체 공정 상태 관리 장치
JP2008235812A (ja) 基板処理装置の供給異常検知方法及びそれを用いた基板処理装置
JP5786417B2 (ja) 洗浄装置
JP2007258564A (ja) 基板処理装置及びその方法
JP5095570B2 (ja) 濃度制御系の故障検知方法及びそれを用いた基板処理装置
CN114270490B (zh) 基板处理装置、半导体器件的制造方法以及记录介质
JP2007123393A (ja) 基板処理装置
US20110174336A1 (en) Substrate processing apparatus
JPH1076153A (ja) 液体自動供給装置及びその異常検出装置
JP2015117156A (ja) 基板処理装置及びオゾンガス濃度の異常検出方法
JP2014120644A (ja) 基板処理装置及びその自己診断方法
JP2009049108A (ja) 基板処理装置および処理液成分補充方法
JP6407764B2 (ja) 基板処理システム、基板処理システムの制御方法、及び記憶媒体
JP2004146489A (ja) 基板処理装置
JP6727377B2 (ja) 処理装置、処理方法および記憶媒体
JP2009231527A (ja) 基板処理方法および基板処理装置
KR100425962B1 (ko) 웨이퍼 세정장비의 화학약품 유량제어 장치 및 방법
US12412756B2 (en) Processing liquid supply device, substrate processing apparatus, and method for inspecting processing liquid supply device