JP2015115602A - 塗布設備及び塗布方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】製造効率が良好で、使い勝手よく、製造コストを低く抑制することができる塗布設備及び塗布方法を提供する。
【解決手段】ベース1は、製造ライン方向51に沿って基材61が通過可能な幅を有し、座体11を貫通した通路12が設けられている。2つの塗布ユニット20はそれぞれ、通路12を通過した基材61にインク60を塗布して被覆層62が形成されるようにインクタンク110の上側に取り付けられており、インク60を穴612に充填させるよう各設置面611に対向して回転可能に設けられている塗布ロール21を有する。成形機構3は、設置面611に形成された被覆層62を掻き取って所定の層厚を有する塗布層63を形成するように塗布ロール21の製造ラインの下流に設けられている。
【選択図】図1

Description

本発明は、例えば可撓性のプリント配線板(フレキシブル配線基板:Flexible Printed Circuit Board)の製造において連続走行している可撓性基材に塗布層を形成する、塗布設備及び塗布方法に関する。
従来、プリント基板は、抵抗器、コンデンサなどの電子部品を固定して配線するためのものとして電気製品に広く用いられている。フレキシブル配線基板の製造において例えばフォトレジストの塗布、パターン露光、現像、エッチング、剥離、インク塗布、ベークなどの多数の工法を経なければならない。その中でも例えばインクを塗布することによって絶縁性を付与すると共に銅線を保護することができ、その一方、電子部品を間違って差し込んで半田付けすることを防止することもできる。
図7には、従来用いられている塗布設備の一例を概略的に示している。この従来の塗布設備91は、インク99を溜めているインクタンク911と、インクタンク911の上方に設置された塗布ロールユニット912と、塗布ロールユニット912付近で互いに反対側の2つの設置面971を有する基材97を製造ラインに沿う方向である製造ライン方向900に沿って移動させる搬送ロール913と、を備えてなり、基材97を製造ライン方向900に沿って塗布設備91に搬送したとき、塗布ロールユニット912によってインク99が基材97の1つの設置面971に塗布されて塗布層98が形成される(例えば特許文献1参照)。
図8には、従来用いられている塗布設備の他の例を概略的に示している。この従来の塗布設備81は、インク89を溜めているインクタンク811と、インクタンク811の上側に一部がインク89に浸漬されるように設置された塗布ロールユニット812と、塗布ロールユニット812とによって互いに反対側の2つの設置面871を有する基材87を製造ラインに沿う方向である製造ライン方向800に沿って移動させる搬送ロール813と、塗布ロールユニット812に隣接して塗布ロールユニット812に付けたインク89を所定の厚みになるように掻き取る掻き取りロール814と、を備えてなり、塗布ロールユニット812によってインク89が基材87の1つの設置面871に塗布されて、塗布層88が形成される。
台湾登録実用新案第418024号公報
上記従来の塗布設備は、連続走行している基材97(87)の1つの設置面971(871)にインク99(89)を塗布することができるが、必要に応じて基材97(87)の他の設置面971(871)にもインクを塗布する場合、1つの設置面971(871)に塗布された基材97(87)を巻き取り再び製造ラインに移動させて他の設置面971(871)にインク99(89)を塗布するため、手間が掛り、製造効率が下がり、使い勝手が悪い。また、プリント配線板に用いられる基材97(87)は、一般的に複数のスルーホール又はブラインドホールが形成されたり配線されたり凹凸状になったものが用いられているため、塗布時、塗布層98(88)がスルーホール又はブラインドホールの付近で破れたりして、連続しない塗布層98(88)ができてしまう。また、塗布には粘度の高いインク99(89)が用いられるため、スルーホール又はブラインドホールを充満することができない場合、形成された塗布層98(88)と設置面971(871)との間に隙間がつくられ、気泡として形成される。このため、電気的な伝達がよく、良好な外観を有する製品を得ることができず、製品の信頼性が下がる問題点もある。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、片面・両面塗布に適用でき、使い勝手がよく、製品の品質を良好に確保することができる、塗布設備及び塗布方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、一の観点によれば、本発明は、互いに反対側の2つの設置面を有し、この設置面にスルーホールとブラインドホールとを含む複数の穴が形成された、製造ラインに沿う方向である製造ライン方向に沿って送られてくる基材にインクを塗布して塗布層が形成されるために用いられるものであって、インクを溜めるように設けられ、製造ライン方向に沿って基材が通過可能な幅を有する通路があけられているベースと、この通路を通過した基材にインクを塗布して被覆層が形成されるように基材を取り挟んで設けられており、設置面に対応してベースの上側に取り付けられている2つの塗布ユニットを有し、2つの塗布ユニットはそれぞれ、インクが付着可能に取り付けられると共に各設置面に対向して回転可能に設けられた塗布ロールを有し、塗布ロールが対応する設置面に向かって回転したとき、この塗布ロールに付着されたインクを対応する設置面に転送して穴に充填させると共に設置面を被覆させるように構成されている塗布機構と、塗布ロールの製造ラインの下流に設けられたものであって、設置面に形成された被覆層を掻き取って所定の層厚を有する塗布層を形成するよう、2つの設置面を挟んで対向するように回転可能に設けられた成形機構と、を備えていることを特徴とする塗布設備を提供する。
他の観点によれば、本発明は、本発明に係る塗布設備を用いて、互いに反対側の2つの設置面を有し、設置面にスルーホールとブラインドホールとを含む複数の穴が形成された、製造ラインに沿う方向である製造ライン方向に沿って送られてくる基材にインクを塗布して塗布層が形成されるために使用される方法であって、塗布設備における塗布ロールの一部をインクに浸しながら回転させると、製造ライン方向に沿って通路を通ってきた基材に対してインクを設置面側に押圧すると共に穴に充満させるようにインクを設置面に被覆させて被覆層が形成される塗布ステップと、被覆層が形成された基材が塗布設備における成形機構に移動されると、成形機構によって形成される塗布層が所定の厚さを有するように設置面に形成された被覆層における余剰なインクを掻き取って塗布層が形成される成形ステップと、を有することを特徴とする塗布方法をも提供する。
本発明に係る塗布設備及び塗布方法によれば、基材の互いに反対側の設置面に塗布層を形成するときに、製造ラインを2回経る必要がなくなる。従って、製造時間が短くなり、製造効率を高めることができる。また、塗布ロールが設置面に対して回転されたとき、塗布ロールによる設置面に対する製造ライン方向と逆の作用力によって、塗布ロールに付着されたインクがインクを穴に充填させて満たすと共に設置面に被覆されることができる。従って、被覆層と設置面との間に気泡が発生することがなくなるので、表面品質が良好な塗布層を形成することができる。
本発明に係る塗布設備の第1の実施形態を概略的に示す側面断面図である。 図1の一部を拡大して示す図である。 第1の実施形態を概略的に示す斜視図である。 成形機構の一部を断面で示す平面図である。 本発明に係る塗布設備の第2の実施形態を概略的に示す斜視図である。 本発明に係る塗布設備の第3の実施形態を概略的に示す側面断面図である。 従来の塗布設備の一例を示す。 従来の塗布設備の他の例を示す。
以下、本発明を好適な実施形態をもとに図面を参照しながら説明する。各図面に示される同一の構成要素、部材には、同一の符号を付するものとし、重複した説明は適宜省略する。また、実施形態は、発明を限定するものではなく例示であって、実施形態に記述されるすべての特徴やその組み合わせは、必ずしも発明の本質的なものであるとは限らない。
(第1の実施形態)
図1には、本発明に係る塗布設備の第1の実施形態の構成を概略的に示している。本発明に係る塗布設備は、例えば可撓性のプリント配線板(FPCB)の製造に適用されるものである。プリント配線板の基材61が本発明に係る塗布設備に向かって基材61の長手方向と平行に延伸されてなった製造ラインの延伸される方向である製造ライン方向51に沿って搬送されてくると、本発明に係る塗布設備において基材61にインク60を塗布して基材61に塗布層63が形成される。なお、製造ライン方向51とは、図面上の上下方向である。また、インク60は、所定の粘度を有する。
本実施形態では、基材61はロールツーロール(Roll to Roll、R to R)法で、製造ライン方向51に沿って下から上に送るように本発明に係る塗布設備に送り込まれて連続塗布される。なお、この形態では、基材61は R to R法で連続塗布されるが、シートバイシート法で製造ライン方向51に沿って上から下に送るように基材61を塗布設備に送り込んでから、基材61を製造ライン方向51に沿って下から上に移動しながら塗布してもよい。
基材61は、通常長尺状に成形されており、互いに反対側の2つの設置面611を有するものであり、設置面611はスルーホールやブラインドホールなどの穴(孔)612を複数形成している所定の回路パターンが設けられて凹凸状に形成されている。なお、スルーホールやブラインドホールは回路パターンによって形成されたものであり、図示のものに限定されない。
本発明に使用される基材61としては、可撓性を有し、ポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)などの公知の高分子フィルム、ガラス繊維の布材、又は、アルミニウムや銅などの金属フィルムを用いることができるが、これらに限定されない。また、基材61がポリイミドなどの多孔性材料でつくられた場合、穴612とは多孔性材料自身の空隙である。なお、基材61がポリエチレンテレフタレートといった材料で平らにつくられた場合、穴612とは、基材61の表面を粗面化することにより生成された窪みである。
本発明に使用されるインク60としては、具体的には、感光性ポリイミド(Photosensitive polyimide;PSPI)が使用されている。なお、場合によっては、ポリイミド(PI)、エポキシ樹脂、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリウレタン(PU)、フェノールホルムアルデヒド(PF)、シリコーン樹脂、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリアミド(PA)などが使用されてもよく、上記に限定されない。
また、インク60の製造材料は、単一であってもよく、2種以上混ぜてもよく、上記で挙げられた樹脂に所定機能を果たす例えば銀粉、銅粉、水酸化アルミニウム又は染色粉末を混ぜてもよい。
本実施形態に係る塗布設備は、図1に示されているように、下から順にベース1と塗布機構2と成形機構3とを備えている。ベース1は、所定の間隔をあけて並ぶようにインクを溜めるインクタンク110を画成した2つの座体11と、基材61を通らせて塗布機構2側に送り込むことができる幅を有する通路12とが設けられている。各座体11は、基材61の厚さに沿う方向である厚さ方向の両側に設けられた底壁111と底壁111の周りから直立して設けられた周壁112とにより上方開放のトレイ状に形成されたインクタンク110を画成し、周壁112は、インクタンク110に収容されたインク60の液面よりも高くなっている。この形態では、通路12は2つの座体11の間に連通するように貫通して設けられている。なお、ベース1は、インク60を収容するように構成されればよく、必要に応じてその形状やサイズを変更可能である。
塗布機構2は、通路12を通過した基材61にインク60を塗布して被覆層が形成されるように基材61を取り挟んで設けられており、それぞれ設置面611に対応してベース1の上側に取り付けられている2つの塗布ユニット20を有する。2つの塗布ユニット20はそれぞれ、インク60が付着可能に設けられると共に各設置面611に対向して回転可能に設けられた塗布ロール21を有し、塗布ロール21が対応する設置面611に向かって回転したとき、塗布ロール21に付着されたインク60を対応する設置面611に転送して穴612に充填させると共に設置面611を被覆させるように構成されている。この実施形態では、塗布ロール21はその一部がインク60に浸すことができるように設けられている。なお、各塗布ロール21は、ほぼ平らに形成されたロール面211を有するが、必要に応じて変更することも可能である。塗布ロール21が回転すると、インク60がロール面211に付着されたまま引き上げられながら、通路12を通過した基材61の設置面611に当てられ、ロール面211に付着されたインク60が設置面611に移される。これによって、インク60が対応する設置面611に移されて設置面611にインク60が覆われて被覆層62が形成される。
成形機構3は、塗布機構2の製造ライン方向51沿いの下流側に取り付けられており、この形態では、基材61を取り挟むと共に各設置面611に対応して対向すると共に摺接するように設けられた複数の成形部材31と、複数の成形部材31の設置面611に対する距離を調節するように設けられた調節ユニット32と、を有する。
成形部材31は、この形態では、自身の軸心を取り囲む筒体状に形成され、自身の軸心をもって設置面611に対して回転可能になっている。各成形部材31は、設置面611に塗布されたインク60の余剰分を掻き取って所定の厚さを有する塗布層63を形成するように形成された掻き取り面311と、掻き取られた余剰のインク60を導いて流出させるように掻き取り面311より窪んで延伸されて例えばらせん状に形成されたガイド溝312と、を有する。
調節ユニット32は、形成される塗布層63の厚さを調節するように設置面611に対向した成形部材31同士の軸心間の距離d1を調節可能に成形部材31と連結されて設けられており、図4に示されているように、設置面611に対向して設けられた成形部材31同士における一方が定位置で回転可能に保持されるように設けられた固定フレーム321と、設置面611に対向して設けられた成形部材31同士における他方が回転可能に保持されるように設けられたものであって、固定フレーム321に対して塗布層63の厚さを調節する方向である調節方向52に沿って移動可能に設けられている可動フレーム322と、可動フレーム322を調節方向52沿いに移動駆動させるように設けられた送り部材323と、を有し、固定フレーム321と可動フレーム322とはそれぞれ成形部材31の調節方向52沿いの互いに反対側に配置されている。なお、調節方向52は、基材61の厚さに沿う方向である厚さ方向と平行な向きである。
ここで、この形態に使用される送り部材323は空気圧シリンダーであるが、油圧シリンダー又は空油圧シリンダーでもよいことに注意されたい。また、この形態ではこの明細書に特に説明されていないが、例えばサーボモータなどの複数の駆動部材を使用して塗布ロール21や、成形部材31を回転可能に駆動する。
次に、上記のように構成された本発明に係る塗布設備を用いた塗布方法について説明する。
塗布ステップ(一)では、塗布ロール21の一部をインク60に浸しながら回転させると、インクタンク110のインク60をロール面211に付着させ、インク60が付着された塗布ロール21が製造ライン方向51に沿って通路12を通ってきた基材61の設置面611にあてられる。ロール面211に付着されたインク60が穴612を充満するように設置面611に移り、設置面611がインク60に覆われる。これによって基材61の設置面611に被覆層62が形成される。より詳しく説明すると、基材61が製造ライン方向51に沿って座体11間の通路12を通りながら2つの塗布ユニット20の間に移動される。塗布ロール21の一部がインク60に浸されており、塗布ロール21が回転されると、インク60が引き上げられながらロール面211に付着する。また、塗布ロール21が回転しながら設置面611をインク60で覆うとき、塗布ロール21による設置面611に対してインク60を被覆させる製造ライン方向51と逆の作用力によって、インク60が設置面611の穴612を充填して満たす。このようにすると、被覆層62と設置面611との間に気泡が発生することがなくなるので、外観が良好な製品が得られる。これによって、製品の品質と信頼性を高めることができる。
塗布ロール21のロール面211に付着されたインク60の厚さd2は、インク60の粘度と高い相関を持っており、インク60の粘度が高いと、厚さd2が大になるが、粘度が低いと、厚さd2が小になる。また、塗布ロール21のロール面211と設置面611の突出した部分との距離d3が小であると、塗布ロール21の設置面611に被覆されたインク60に対する作用力が強いが、インク60を設置面611に均一に被覆させるためには、d3がd2以下でなければならない。なお、d2とd3は、必要に応じて変更可能である。
成形ステップ(二)では、設置面611に被覆層62が形成された基材61が製造ライン方向51に沿って成形機構3に移動されると、成形部材31の掻き取り面311によって設置面611に形成された被覆層62の余剰なインク60が掻き取られて所定の厚さを有する塗布層63が形成され、掻き取られた余剰なインク60はガイド溝312に沿ってインクタンク110に流入される。より詳しく言うと、基材61が製造ライン方向51に沿って成形機構3に移動されると、成形部材31による被覆層62に当てられた製造ライン方向51と逆の作用力によって、被覆層62の余剰なインク60が掻き取られる。そして、インク60が基材61の製造ライン方向51沿いの移動と共に流れることによって、インク60が設置面611の掻き取られた際にできた窪みを満たす。これによって、塗布面が平らに整えられた塗布層63が形成される。
そして、送り部材323によって可動フレーム322を調節方向52に沿って動かすと、可動フレーム322に連結されて設けられた成形部材31が連動して、設置面611に対向する成形部材31同士の一方が連動して他方の成形部材31に対して接近したり離反したりするように移動する。そして、成形部材31同士が接近すると、距離d1が小さくなり、塗布層63が薄くなり、離反すると、d1が大きくなり、塗布層63が厚くなる。このように、調節方向52沿いに対向する成形部材31同士の軸心間の距離d1を調整することができるので、形成された塗布層63の層厚を調節することができる。
なお、本実施形態では、他の駆動部材(図示せず)によって成形部材31による余剰なインク60を掻き取る速度を増減するように制御することで、塗布層63の厚さを調節することもできる。より詳しく言うと、成形部材31を早く回転させると、余剰なインク60が多く掻き取られ、塗布層63が薄く形成される。一方、成形部材31を遅く回転させると、塗布層63が厚く形成される。このように、塗布層63の厚さの調整は上記の方法に限定されないことは言うまでもない。
また、使用されるインク60としては、その粘度が、1〜200Pa・s(1,000〜200,000cPs)であることが好ましい。200Pa・s(200,000cPs)以下の粘度を有するインク60を使用すると、穴径が1mm以下の穴612を充填可能で、本形態に係る塗布設備による層厚制御精度を±3μmの範囲内に抑えることができる。また、インク60の粘度は、1〜100Pa・s(1,000〜100,000cPs)であることがより好ましい。100Pa・s(100,000cPs)以下の粘度を有するインク60を使用すると、穴径が0.05mm以下の穴612を充填可能で、本形態に係る塗布設備による層厚制御精度を±1μmの範囲内に抑えることができる。
使用されるインク60の粘度が1Pa・s(1,000cPs)以下であると、塗布ロール21のロール面211に付着されたインク60の厚さd2が小さくなり、設置面611に被覆されたインク60が少なくなり、穴612に充填されたインク60が足りなくなるので、被覆層62が破れたりする。これによって、連続しない塗布層63が形成されるため、後工程が続かなくなる。また、ロール面211と設置面611に付着されたインク60の接着性も悪くなり、インク60が重力により下側に落ちて通路12を通ったりして使い勝手が良くない。
使用されるインク60の粘度が200Pa・s(200,000cPs)以上であると、インク60の流動性が悪く、塗布ロール21のロール面211に付着し難い上、穴径が1mm以下の穴612にも入り難いため、設置面611と被覆層62との間に気泡が発生し、製品とすることができない。また、成形部材31の掻き取り面311によって被覆層62の余分なインク60を削り所定の厚さを有する塗布層63を形成するときは、インク60自身の流れによって掻き取りの際にインク60で形成された窪みを満たすことができなくなるため、形成された塗布層63の表面を平らに整えることができない。
以上のように構成された本発明に係る塗布設備によれば、一回の塗布ステップでインク60が付着された塗布ロール21によって基材61の互いに反対側の2つの設置面611に所定の厚さを有する塗布層63を形成することができるので、基材61の両面を塗布するのに製造ラインを2回経る必要がなくなる。従って、製造時間が短くなり、製造効率を高めることができる。また、基材61の片面に塗布層63を形成するときは、1つのインクタンク110だけにインク60を充填すればよい。このように、本発明に係る塗布設備及び塗布方法は、一回で基材61の両面又は片面に塗布層63を形成することができるので、使い勝手がよく、また、所定の厚さを有し、表面も均一になる塗布層63を製造することができる。
また、塗布ロール21の回転による設置面611に対する押圧力によってインク60を設置面611の穴612に充満して設置面611に被覆層62を形成することによって、被覆層62と設置面611の間に気泡が発生しなくなり、そして、成形機構3における成形部材31によって設置面611に被覆された被覆層62におけるインク60の余剰分が掻き取られ、調節ユニット32によって成形部材31の軸心間の距離d1を調節することができるので、所定の厚さを有する塗布層63が形成される。従って所望な状態に保たれた塗布層63が品質よく形成されるので、製造コストを上げずに、製造精度及びスループットを高めることができる。
また、掻き取られたインク60の余剰分がガイド溝312によってインクタンク110に流入されることによって、インク60を無駄に使用することがない。
(第2の実施形態)
図5には、本発明に係る塗布設備の第2の実施形態の構成を概略的に示している。この実施形態は、第1の実施形態と類似しているが、ベース1Aが、第1の実施形態における2つの座体11、11を一体状にして構成された座体11Aを有する点で異なっている。座体11Aは、底壁111と、基材61を取り囲むように底壁111の周りから直立して設けられた外周壁112Aと、底壁111を貫通して基材61を取り囲んで基材61が通過可能なスリット溝を画成し、且つ外周壁112Aによって取り囲まれるように底壁111から直立して設けられた内周壁113とにより上方開放のトレイ状に構成されているインクタンク110Aを画成している。外周壁112A及び内周壁113は、インクタンク110Aに収容されたインク60の液面よりも高くなるように構成されている。通路12Aは、底壁111を貫通して内周壁113によって形成されたスリット溝に連通して形成されている。
上記のように構成されたインクタンク110Aは、基材61の設置面611両側のインク60が流通するようインク60を収容するようになっているので、基材61の2つの設置面611、611にインク60を同時に塗布するように適用される。
以上のように構成された塗布設備は、通路12Aを通過した基材61の設置面611にインク60を塗布して所定の厚さを有する塗布層63を形成することができ、第1の実施形態と同様な効果を得ることができる。
(第3の実施形態)
図6には、本発明に係る塗布設備の第3の実施形態の構成を概略的に示している。この実施形態は、第1の実施形態と類似しているが、塗布機構が異なっている。
この形態では、塗布機構2Aは、基材61の互いに反対側の設置面611に対応して設けられた2つの塗布ユニット20Aを有し、各塗布ユニット20Aは、塗布ロール21とインク供給ロール22とを含んで構成されている。各インク供給ロール22は、その一部が対応するインクタンク110に浸漬されるようにインクタンク110上に取り付けられている。塗布ロール21は、基材61とインク供給ロール22とに接触して基材61とインク供給ロール22との間に介設されている。インク供給ロール22が回転すると、インクタンク110に収容されたインク60が引き上げられてインク供給ロール22のロール面に付着する。塗布ロール21がインク供給ロール22の回転に連動して逆向きに回転すると、インク供給ロール22に付着されたインク60が転送されながら基材61の設置面611に被覆される。
この形態では、塗布ロール21とインク供給ロール22とのそれぞれの軸心間の距離d4を調節することによって、塗布ロール21に転送・付着されたインク60の厚さd2を調節することができる。塗布ロール21に付着されたインク60の厚さd2を調節・制御することによって、基材61側に所定量のインク60を押圧しながらインク60を穴612に充満させることができる。これによって、所望な状態に保たれた塗布層63が品質よく形成されるので、製造コストを上げずに、製造精度及びスループットを高めることができる。
また、塗布ロール21は長く使用されると、塗布位置がずれ、塗布ロール21のロール面に付着されたインク60が凹凸状になり易いため、基材61に被覆層62を均一に形成することができなくなる。この形態では、インク供給ロール22によって塗布ロール21が支持・定位されることができるので、塗布ロール21のインク60への押圧による反作用力を均一に確保することができる。したがって、塗布ロール21を長く使用することができ、長く使用しても塗布精度を良好に保つことができる。
なお、この形態におけるベースは、第1と第2の実施形態におけるベースを使用可能であることはいうまでもない。
本発明に係る塗布設備及び塗布方法は、可撓性のプリント配線板の製造に適用される。
1、1A ベース
11、11A 座体
110 インクタンク
111 底壁
112 周壁
112A 外周壁
113 内周壁
12 通路
2、2A 塗布機構
20、20A 塗布ユニット
21 塗布ロール
211 ロール面
22 インク供給ロール
3 成形機構
31 成形部材
311 掻き取り面
312 ガイド溝
32 調節ユニット
321 固定フレーム
322 可動フレーム
323 送り部材
51 製造ライン方向
52 調節方向
60 インク
61 基材
611 設置面
612 穴
62 被覆層
63 塗布層
d1、d3、d4 距離
d2 厚さ

Claims (10)

  1. 互いに反対側の2つの設置面を有し、前記設置面にスルーホールとブラインドホールとを含む複数の穴が形成された、製造ラインに沿う方向である製造ライン方向に沿って送られてくる基材にインクを塗布して塗布層が形成されるために用いられるものであって、
    前記インクを溜めるように設けられ、前記製造ライン方向に沿って前記基材が通過可能な幅を有する通路があけられている、ベースと、
    前記通路を通過した前記基材に前記インクを塗布して被覆層が形成されるように前記基材を取り挟んで設けられており、前記設置面に対応して前記ベースの上側に取り付けられている2つの塗布ユニットを有し、2つの前記塗布ユニットはそれぞれ、前記インクが付着可能に取り付けられると共に各前記設置面に対向して回転可能に設けられた塗布ロールを有し、前記塗布ロールが対応する前記設置面に向かって回転したとき、前記塗布ロールに付着された前記インクを対応する前記設置面に転送して前記穴に充填させると共に前記設置面を被覆させるように構成されている、塗布機構と、
    前記塗布ロールの前記製造ラインの下流に設けられたものであって、前記設置面に形成された前記被覆層を掻き取って所定の層厚を有する前記塗布層を形成するよう、2つの前記設置面を挟んで対向するように回転可能に設けられた、成形機構と、
    を備えていることを特徴とする、塗布設備。
  2. 前記ベースは、所定の間隔をあけて並ぶように前記インクを溜める上方が開放されたインクタンクを画成した座体を2つ有し、
    前記通路は、2つの前記座体の間に連通するように前記製造ライン沿いに設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の塗布設備。
  3. 前記ベースは、底壁と、前記基材を取り囲むように前記底壁の周りから直立して設けられた外周壁と、前記基材を取り囲むように前記底壁を貫通して前記基材が通過可能なスリット溝を画成し、且つ前記外周壁によって取り囲まれるように前記底壁から直立して設けられた内周壁と、により前記インクを溜める上方が開放されたインクタンクを画成した座体を有し、
    前記通路は、前記スリット溝に連通して形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の塗布設備。
  4. 前記塗布ロールはその一部が前記インクに浸すことができるように設けられていることを特徴とする、請求項2又は3に記載の塗布設備。
  5. 前記塗布ユニットは更にインク供給ロールを有し、各前記インク供給ロールはその一部が前記インクに浸すように前記インクタンク上に取り付けられ、
    前記塗布ロールは、前記基材と前記インク供給ロールとに接触するように前記基材と前記インク供給ロールとの間に設けられていることを特徴とする、請求項2又は3に記載の塗布設備。
  6. 前記成形機構は、前記基材を取り挟むと共に各前記設置面に対向して摺接するように設けられた複数の成形部材を有し、
    前記成形部材のそれぞれは、前記設置面に形成された前記被覆層における前記インクの余剰分を掻き取って前記塗布層を形成するように形成された掻き取り面と、掻き取られた余剰の前記インクを導いて流出させるように前記掻き取り面より窪んで延伸するように形成されたガイド溝と、
    を有することを特徴とする、請求項1に記載の塗布設備。
  7. 前記成形機構は更に、前記塗布層の厚さを調節するように前記設置面に対向した前記成形部材間の距離を調節可能に設けられた調節ユニットを有し、
    前記調節ユニットは、前記設置面に対向して設けられた前記成形部材同士における一方が定位置で回転可能に保持されるように設けられた固定フレームと、前記設置面に対向して設けられた前記成形部材同士における他方が回転可能に保持されるように設けられたものであって前記固定フレームに対して前記塗布層の厚さを調節する方向である調節方向に沿って移動可能に設けられている可動フレームと、前記可動フレームを移動駆動させるように設けられた送り部材と、を有し、
    前記固定フレームと前記可動フレームとはそれぞれ前記成形部材の前記調節方向沿いの互いに反対側に配置されていることを特徴とする、請求項6に記載の塗布設備。
  8. 請求項1〜7のいずれかの一項に記載された塗布設備を用いて、互いに反対側の2つの設置面を有し、前記設置面にスルーホールとブラインドホールとを含む複数の穴が形成された、製造ラインに沿う方向である製造ライン方向に沿って送られてくる基材にインクを塗布して塗布層が形成されるために使用される、方法であって、
    前記塗布設備における前記塗布ロールの一部を前記インクに浸しながら回転させると、前記製造ライン方向に沿って前記通路を通ってきた前記基材に対して前記インクを前記設置面側に押圧すると共に前記穴に充満させるように前記インクを前記設置面に被覆させて前記被覆層が形成される、塗布ステップと、
    前記被覆層が形成された前記基材が前記塗布設備における前記成形機構に移動されると、前記成形機構によって形成される前記塗布層が所定の厚さを有するように前記設置面に形成された前記被覆層における余剰な前記インクを掻き取って前記塗布層が形成される、成形ステップと、
    を有することを特徴とする、塗布方法。
  9. 前記インクの粘度は、1〜200Pa・s(1,000〜200,000cPs)であることを特徴とする、請求項8に記載の塗布方法。
  10. 前記インクの粘度は、1〜100Pa・s(1,000〜100,000cPs)であることを特徴とする、請求項9に記載の塗布方法。
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