JP2015115602A - 塗布設備及び塗布方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ベース1は、製造ライン方向51に沿って基材61が通過可能な幅を有し、座体11を貫通した通路12が設けられている。2つの塗布ユニット20はそれぞれ、通路12を通過した基材61にインク60を塗布して被覆層62が形成されるようにインクタンク110の上側に取り付けられており、インク60を穴612に充填させるよう各設置面611に対向して回転可能に設けられている塗布ロール21を有する。成形機構3は、設置面611に形成された被覆層62を掻き取って所定の層厚を有する塗布層63を形成するように塗布ロール21の製造ラインの下流に設けられている。
【選択図】図1
Description
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、片面・両面塗布に適用でき、使い勝手がよく、製品の品質を良好に確保することができる、塗布設備及び塗布方法を提供することを目的とする。
図1には、本発明に係る塗布設備の第1の実施形態の構成を概略的に示している。本発明に係る塗布設備は、例えば可撓性のプリント配線板(FPCB)の製造に適用されるものである。プリント配線板の基材61が本発明に係る塗布設備に向かって基材61の長手方向と平行に延伸されてなった製造ラインの延伸される方向である製造ライン方向51に沿って搬送されてくると、本発明に係る塗布設備において基材61にインク60を塗布して基材61に塗布層63が形成される。なお、製造ライン方向51とは、図面上の上下方向である。また、インク60は、所定の粘度を有する。
なお、本実施形態では、他の駆動部材(図示せず)によって成形部材31による余剰なインク60を掻き取る速度を増減するように制御することで、塗布層63の厚さを調節することもできる。より詳しく言うと、成形部材31を早く回転させると、余剰なインク60が多く掻き取られ、塗布層63が薄く形成される。一方、成形部材31を遅く回転させると、塗布層63が厚く形成される。このように、塗布層63の厚さの調整は上記の方法に限定されないことは言うまでもない。
使用されるインク60の粘度が1Pa・s(1,000cPs)以下であると、塗布ロール21のロール面211に付着されたインク60の厚さd2が小さくなり、設置面611に被覆されたインク60が少なくなり、穴612に充填されたインク60が足りなくなるので、被覆層62が破れたりする。これによって、連続しない塗布層63が形成されるため、後工程が続かなくなる。また、ロール面211と設置面611に付着されたインク60の接着性も悪くなり、インク60が重力により下側に落ちて通路12を通ったりして使い勝手が良くない。
図5には、本発明に係る塗布設備の第2の実施形態の構成を概略的に示している。この実施形態は、第1の実施形態と類似しているが、ベース1Aが、第1の実施形態における2つの座体11、11を一体状にして構成された座体11Aを有する点で異なっている。座体11Aは、底壁111と、基材61を取り囲むように底壁111の周りから直立して設けられた外周壁112Aと、底壁111を貫通して基材61を取り囲んで基材61が通過可能なスリット溝を画成し、且つ外周壁112Aによって取り囲まれるように底壁111から直立して設けられた内周壁113とにより上方開放のトレイ状に構成されているインクタンク110Aを画成している。外周壁112A及び内周壁113は、インクタンク110Aに収容されたインク60の液面よりも高くなるように構成されている。通路12Aは、底壁111を貫通して内周壁113によって形成されたスリット溝に連通して形成されている。
図6には、本発明に係る塗布設備の第3の実施形態の構成を概略的に示している。この実施形態は、第1の実施形態と類似しているが、塗布機構が異なっている。
この形態では、塗布機構2Aは、基材61の互いに反対側の設置面611に対応して設けられた2つの塗布ユニット20Aを有し、各塗布ユニット20Aは、塗布ロール21とインク供給ロール22とを含んで構成されている。各インク供給ロール22は、その一部が対応するインクタンク110に浸漬されるようにインクタンク110上に取り付けられている。塗布ロール21は、基材61とインク供給ロール22とに接触して基材61とインク供給ロール22との間に介設されている。インク供給ロール22が回転すると、インクタンク110に収容されたインク60が引き上げられてインク供給ロール22のロール面に付着する。塗布ロール21がインク供給ロール22の回転に連動して逆向きに回転すると、インク供給ロール22に付着されたインク60が転送されながら基材61の設置面611に被覆される。
11、11A 座体
110 インクタンク
111 底壁
112 周壁
112A 外周壁
113 内周壁
12 通路
2、2A 塗布機構
20、20A 塗布ユニット
21 塗布ロール
211 ロール面
22 インク供給ロール
3 成形機構
31 成形部材
311 掻き取り面
312 ガイド溝
32 調節ユニット
321 固定フレーム
322 可動フレーム
323 送り部材
51 製造ライン方向
52 調節方向
60 インク
61 基材
611 設置面
612 穴
62 被覆層
63 塗布層
d1、d3、d4 距離
d2 厚さ
Claims (10)
- 互いに反対側の2つの設置面を有し、前記設置面にスルーホールとブラインドホールとを含む複数の穴が形成された、製造ラインに沿う方向である製造ライン方向に沿って送られてくる基材にインクを塗布して塗布層が形成されるために用いられるものであって、
前記インクを溜めるように設けられ、前記製造ライン方向に沿って前記基材が通過可能な幅を有する通路があけられている、ベースと、
前記通路を通過した前記基材に前記インクを塗布して被覆層が形成されるように前記基材を取り挟んで設けられており、前記設置面に対応して前記ベースの上側に取り付けられている2つの塗布ユニットを有し、2つの前記塗布ユニットはそれぞれ、前記インクが付着可能に取り付けられると共に各前記設置面に対向して回転可能に設けられた塗布ロールを有し、前記塗布ロールが対応する前記設置面に向かって回転したとき、前記塗布ロールに付着された前記インクを対応する前記設置面に転送して前記穴に充填させると共に前記設置面を被覆させるように構成されている、塗布機構と、
前記塗布ロールの前記製造ラインの下流に設けられたものであって、前記設置面に形成された前記被覆層を掻き取って所定の層厚を有する前記塗布層を形成するよう、2つの前記設置面を挟んで対向するように回転可能に設けられた、成形機構と、
を備えていることを特徴とする、塗布設備。 - 前記ベースは、所定の間隔をあけて並ぶように前記インクを溜める上方が開放されたインクタンクを画成した座体を2つ有し、
前記通路は、2つの前記座体の間に連通するように前記製造ライン沿いに設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の塗布設備。 - 前記ベースは、底壁と、前記基材を取り囲むように前記底壁の周りから直立して設けられた外周壁と、前記基材を取り囲むように前記底壁を貫通して前記基材が通過可能なスリット溝を画成し、且つ前記外周壁によって取り囲まれるように前記底壁から直立して設けられた内周壁と、により前記インクを溜める上方が開放されたインクタンクを画成した座体を有し、
前記通路は、前記スリット溝に連通して形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の塗布設備。 - 前記塗布ロールはその一部が前記インクに浸すことができるように設けられていることを特徴とする、請求項2又は3に記載の塗布設備。
- 前記塗布ユニットは更にインク供給ロールを有し、各前記インク供給ロールはその一部が前記インクに浸すように前記インクタンク上に取り付けられ、
前記塗布ロールは、前記基材と前記インク供給ロールとに接触するように前記基材と前記インク供給ロールとの間に設けられていることを特徴とする、請求項2又は3に記載の塗布設備。 - 前記成形機構は、前記基材を取り挟むと共に各前記設置面に対向して摺接するように設けられた複数の成形部材を有し、
前記成形部材のそれぞれは、前記設置面に形成された前記被覆層における前記インクの余剰分を掻き取って前記塗布層を形成するように形成された掻き取り面と、掻き取られた余剰の前記インクを導いて流出させるように前記掻き取り面より窪んで延伸するように形成されたガイド溝と、
を有することを特徴とする、請求項1に記載の塗布設備。 - 前記成形機構は更に、前記塗布層の厚さを調節するように前記設置面に対向した前記成形部材間の距離を調節可能に設けられた調節ユニットを有し、
前記調節ユニットは、前記設置面に対向して設けられた前記成形部材同士における一方が定位置で回転可能に保持されるように設けられた固定フレームと、前記設置面に対向して設けられた前記成形部材同士における他方が回転可能に保持されるように設けられたものであって前記固定フレームに対して前記塗布層の厚さを調節する方向である調節方向に沿って移動可能に設けられている可動フレームと、前記可動フレームを移動駆動させるように設けられた送り部材と、を有し、
前記固定フレームと前記可動フレームとはそれぞれ前記成形部材の前記調節方向沿いの互いに反対側に配置されていることを特徴とする、請求項6に記載の塗布設備。 - 請求項1〜7のいずれかの一項に記載された塗布設備を用いて、互いに反対側の2つの設置面を有し、前記設置面にスルーホールとブラインドホールとを含む複数の穴が形成された、製造ラインに沿う方向である製造ライン方向に沿って送られてくる基材にインクを塗布して塗布層が形成されるために使用される、方法であって、
前記塗布設備における前記塗布ロールの一部を前記インクに浸しながら回転させると、前記製造ライン方向に沿って前記通路を通ってきた前記基材に対して前記インクを前記設置面側に押圧すると共に前記穴に充満させるように前記インクを前記設置面に被覆させて前記被覆層が形成される、塗布ステップと、
前記被覆層が形成された前記基材が前記塗布設備における前記成形機構に移動されると、前記成形機構によって形成される前記塗布層が所定の厚さを有するように前記設置面に形成された前記被覆層における余剰な前記インクを掻き取って前記塗布層が形成される、成形ステップと、
を有することを特徴とする、塗布方法。 - 前記インクの粘度は、1〜200Pa・s(1,000〜200,000cPs)であることを特徴とする、請求項8に記載の塗布方法。
- 前記インクの粘度は、1〜100Pa・s(1,000〜100,000cPs)であることを特徴とする、請求項9に記載の塗布方法。
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