JP2014531435A5 - - Google Patents

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本教示は、半導体材料、ならびに、本明細書に開示されている化合物および半導体材料を組み込んだ種々の組成物、複合体およびデバイスを製造する方法も提供する。
本発明の実施形態において、例えば以下の項目が提供される。
(項目1)
式I:


[式中:
Xは、S、O、およびCH=CHから選択され;
Yは、S、O、およびCH=CHから選択され;
Zは、HまたはCHR ’であり;
、R ’、R 、およびR ’は独立に、直鎖C 1〜40 アルキル基、直鎖C 2〜40 アルケニル基、および直鎖C 1〜40 ハロアルキル基から選択され;
mは、各存在において、独立に、0、1、2、3、および4から選択される]
を有する化合物。
(項目2)
式II:


[式中、Z、R 、R ’、およびmは項目1に記載の通りである]
を有する、項目1に記載の化合物。
(項目3)
式III:


[式中、Z、R 、R ’、およびmは項目1に記載の通りである]
を有する、項目1に記載の化合物。
(項目4)
式IV:


[式中、Z、R 、R ’、およびmは項目1に記載の通りである]
を有する、項目1に記載の化合物。
(項目5)
ZがCHR ’であり、それぞれのmが独立に1、2、および3から選択される、項目2〜4のいずれか一項に記載の化合物。
(項目6)
およびR が独立に、直鎖C 3−40 アルキル基、直鎖C 3−40 アルケニル基、および直鎖C 3−40 ハロアルキル基から選択され;R ’およびR ’が独立に、CH 、CF 、C 、CH CF 、CF CH 、およびC から選択される、項目5に記載の化合物。
(項目7)
式IIa、IIIa、またはIVa:


[式中、R およびR は独立に、C 、n−C 、n−C 、n−C 11 、n−C 13 、n−C 15 、n−C 17 、n−C 19 、n−C 10 21 、n−C 11 23 、およびn−C 12 25 から選択され;m およびm は独立に、0、1、および2から選択される]
を有する、項目1に記載の化合物。
(項目8)
式IIb、IIIb、IVb、IIc、IIIc、またはIVc:


[式中、R およびR は独立に、C 、n−C 、n−C 、n−C 11 、n−C 13 、n−C 15 、n−C 17 、n−C 19 、n−C 10 21 、n−C 11 23 、およびn−C 12 25 から選択され;m およびm は独立に、0、1、および2から選択される]
を有する、項目1に記載の化合物。
(項目7)
式V、VI、またはVII:


[式中、R は、直鎖C 3〜40 アルキル基、直鎖C 3〜40 アルケニル基、および直鎖C 3−40 ハロアルキル基から選択され;R ’は、CH 、CF 、C 、CH CF 、CF CH 、およびC から選択され;m およびm は独立に、0、1、および2から選択される]
を有する、項目1に記載の化合物。
(項目8)
式Va、VIa、VIIa、Vb、VIb、またはVIIb:


[式中、R は、直鎖C 3〜40 アルキル基、直鎖C 3〜40 アルケニル基、および直鎖C 3〜40 ハロアルキル基から選択され;R ’は、CH 、CF 、C 、CH CF 、CF CH 、およびC から選択され;m およびm は独立に、0、1、および2から選択される]
を有する、項目1に記載の化合物。
(項目9)
項目1〜8のいずれか一項に記載の化合物を含む、薄膜半導体。
(項目10)
基板と、前記基板上に堆積された項目9に記載の薄膜半導体とを含む、複合材料。
(項目11)
項目9に記載の薄膜半導体を含む、電子デバイス、光学デバイス、または光電子デバ
イス。
(項目12)
項目10に記載の複合材料を含む、電子デバイス、光学デバイス、または光電子デバ
イス。
(項目13)
ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート電極と、誘電体材料に接触する項目9に記載の薄膜半導体とを含む、電界効果トランジスターデバイス。
(項目14)
前記電界効果トランジスターが、トップゲートボトムコンタクト構造、ボトムゲートトップコンタクト構造、トップゲートトップコンタクト構造、およびボトムゲートボトムコンタクト構造から選択される構造を有する、項目13に記載の電界効果トランジスター
デバイス。
(項目15)
前記誘電体材料が有機誘電体材料を含む、項目13または14に記載の電界効果トランジスターデバイス。
(項目16)
前記誘電体材料が、無機誘電体材料またはハイブリッド有機/無機誘電体材料を含む、項目13または14に記載の電界効果トランジスターデバイス。
(項目17)
ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート電極と、誘電体材料と、項目1〜8のいずれか一項に記載の化合物を含む光活性成分とを含み、前記光活性成分が前記誘電体材料に接触している、発光トランジスターデバイス。
(項目18)
前記光活性成分が2層以上の積層体を含む、項目17に記載の発光トランジスターデバイス。
(項目19)
前記積層体が、発光層と1つまたは複数の有機電荷輸送層とを含む、項目19に記載の発光トランジスターデバイス。
(項目20)
項目1〜8のいずれか一項に記載の化合物がブレンド材料中に存在する、項目19に記載の発光トランジスターデバイス。
(項目21)
電界効果トランジスターデバイスの製造方法であって、基板を、項目1〜8のいずれか一項に記載の化合物を含む流体媒体と、約50℃未満の温度で接触させて、前記基板上に薄膜半導体を形成するステップを含む、方法。
(項目22)
前記温度が約40℃未満である、項目17に記載の方法。
(項目23)
前記流体が非塩素化溶媒を含む、項目17に記載の方法。
(項目24)
前記流体媒体が非ハロゲン化溶媒を含む、項目17に記載の方法。

Claims (19)

  1. 式(IIa):

    [式中、R およびR は独立に、直鎖C 4〜40 アルキル基であり、m およびm は1である
    を有する化合物。
  2. 式(IIb)または(IIc):

    を有する、請求項1に記載の化合物。
  3. およびR が独立に、n−C 、n−C 11 、n−C 13 、n−C 15 、n−C 17 、n−C 19 、n−C 10 21 、n−C 11 23 、およびn−C 12 25 から選択される、請求項1または請求項2に記載の化合物。
  4. 請求項1〜のいずれか一項に記載の化合物を含む、薄膜半導体。
  5. 基板と、前記基板上に堆積された請求項に記載の薄膜半導体とを含む、複合材料。
  6. 請求項に記載の薄膜半導体を含む、電子デバイス、光学デバイス、または光電子デバ
    イス。
  7. 請求項に記載の複合材料を含む、電子デバイス、光学デバイス、または光電子デバ
    イス。
  8. ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート電極と、誘電体材料に接触する請求項に記載
    の薄膜半導体とを含む、電界効果トランジスターデバイス。
  9. 前記電界効果トランジスターが、トップゲートボトムコンタクト構造、ボトムゲートト
    ップコンタクト構造、トップゲートトップコンタクト構造、およびボトムゲートボトムコ
    ンタクト構造から選択される構造を有する、請求項に記載の電界効果トランジスター
    デバイス。
  10. 前記誘電体材料が有機誘電体材料を含む、請求項またはに記載の電界効果トラ
    ンジスターデバイス。
  11. 前記誘電体材料が、無機誘電体材料またはハイブリッド有機/無機誘電体材料を含む、
    請求項またはに記載の電界効果トランジスターデバイス。
  12. ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート電極と、誘電体材料と、請求項1〜のいずれ
    か一項に記載の化合物を含む光活性成分とを含み、前記光活性成分が前記誘電体材料に接
    触している、発光トランジスターデバイス。
  13. 前記光活性成分が2層以上の積層体を含む、請求項12に記載の発光トランジスターデ
    バイス。
  14. 前記積層体が、発光層と1つまたは複数の有機電荷輸送層とを含む、請求項13に記載
    の発光トランジスターデバイス。
  15. 請求項1〜のいずれか一項に記載の化合物がブレンド材料中に存在する、請求項14に記載の発光トランジスターデバイス。
  16. 電界効果トランジスターデバイスの製造方法であって、基板を、請求項1〜のいずれか一項に記載の化合物を含む流体媒体と、50℃未満の温度で接触させて、前記基板上に薄膜半導体を形成するステップを含む、方法。
  17. 前記温度が40℃未満である、請求項16に記載の方法。
  18. 前記流体が非塩素化溶媒を含む、請求項16に記載の方法。
  19. 前記流体媒体が非ハロゲン化溶媒を含む、請求項16に記載の方法。
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