JP2014504583A - 特に加熱ガラスを製造するための、熱特性を有する積重体を備えた基材 - Google Patents
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Abstract
Description
この文献では、少なくとも2つの膜が「誘電吸収体」膜と呼ばれ、これらは更に「中立的な」吸収体であり、このうち一方の「誘電吸収体」膜が少なくとも2つの金属機能膜を備えた多層体の、基材からみて1番目の金属機能膜の下に配置されており、他方の「誘電吸収体」膜は基材からみて最後の、前記多層体の金属機能膜の上に配置されている。
・Si:45%ないし75%(これらの値を含む)
・Zr:20%ないし50%(これらの値を含む)
・Al:1%ないし10%(これらの値を含む)
・アルミニウムをドープした窒化ケイ素を基礎材料とする中屈折率反射防止膜であって、ここでは簡単にするためSiAlと呼ぶが膜の真の性質は実際には先に説明したようにSi3N4:Alである中屈折率反射防止膜24、64、104、144か、あるいは、
・ジルコニウムをドープした窒化ケイ素を基礎材料とする高屈折率反射防止コーティングであって、ここでは簡単にするためSiZrNと呼ぶが膜の真の性質は実際には先に説明したようにSi3N4:Zrである高屈折率反射防止コーティング25、65、105、145、
のいずれかを備えている。
・TLは10°の観測器でA光源下で測定された%単位での可視範囲の光透過率を示し、
・RLは10°の観測器でA光源下で測定された%単位での可視範囲の光反射率を示し、
・R□は加熱処理(曲げ加工)後のΩ/□単位での多層のシート抵抗を示し、
・aR0 *及びbR0 *は10°の観測器を用いてD65光源下で測定され、従ってグレージングユニットに対して実質的に垂直に測定された、反射色のLab座標a*及びb*を示し、
・aR60 *及びbR60 *は10°の観測器を用いてD65光源下で、グレージングユニットに対して垂直方向に60°の角度で測定された、反射色のLab座標a*及びb*を示す。
・xは基材10から見た機能膜の列番号であり、
・x−1は基材10の方向において前に位置する機能膜の列番号であり、
・αは0.5≦α<1、好ましくは0.55≦α≦0.95、又は0.6≦α≦0.95であるような数であり、
・基材から見て1番目の金属機能膜40の厚さは10nm≦e1≦18nm、好ましくは11nm≦e1≦15nmであるようなものである。
・アルミニウムをドープした窒化ケイ素を基礎材料とする中屈折率反射防止膜であって、ここでは簡単にするためSiAlNと呼ぶが膜の真の性質は実際には先に説明したようにSi3N4:Alである中屈折率反射防止膜24、64、104、144、184か、あるいは、
・ジルコニウムをドープした窒化ケイ素を基礎材料とする高屈折率反射防止コーティングであって、ここでは簡単にするためSiZrNと呼ぶが膜の真の性質は実際には先に説明したようにSi3N4:Zrである高屈折率反射防止コーティング25、65、105、145、185、
のいずれかを備えている。
Claims (11)
- 基材(10)、特に透明ガラス基材であり、「n個」の金属機能膜(40、80、120)、特に銀又は銀を含有する金属合金を基礎材料とする金属機能膜と、「(n+1)個」の反射防止コーティング(20、60、100、140)とを、各機能膜(40、80、120)が2つの反射防止コーティング(20、60、100、140)の間に配置されるように交互に含み、nが3以上の整数であり、各反射防止コーティングが少なくとも1つの反射防止膜を含んでいる薄膜多層体が備えられた基材であって、前記基材から見て1番目の機能膜(40)の下に配置された前記反射防止コーティング(20)と、前記基材から見て最後の機能膜の上に配置された前記反射防止コーティングとが、それぞれ少なくとも1つの高屈折率反射防止膜(25、145)を含み、且つ、2つの機能膜の間に配置された各反射防止コーティング(60、100)が高屈折率膜を含まないように、前記多層体が、それぞれが2.15以上の屈折率を有する少なくとも2つの高屈折率反射防止膜(25、145)を含むことを特徴とする基材(10)。
- 前記基材から見て1番目の機能膜(40)の下に配置された前記反射防止コーティング(20)が、前記基材から見て順に、1以上の高屈折率反射防止膜(25)と、これに続く、1.60と2.15の間であってこれらの値を除く屈折率を有し、任意選択的にアルミニウムなどの少なくとも1種の他の元素をドープされている結晶性酸化物、特に酸化亜鉛、を基礎材料とする中屈折率湿潤反射防止膜(28)とからなることを特徴とする、請求項1に記載の基材(10)。
- 前記基材から見て最後の機能膜の上に配置された前記反射防止コーティングが、1以上の高屈折率反射防止膜のみからなることを特徴とする、請求項1又は2に記載の基材(10)。
- 少なくとも1つの又は各高屈折率反射防止膜(25、145)が窒化ジルコニウムケイ素を基礎材料としていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の基材(10)。
- 各機能膜(80、120)の厚さexが、当該基材(10)の方向において先行する機能膜の厚さよりも小さく、そしてex=αex-1
(式中、
・xは前記基材(10)から見た機能膜の列番号であり、
・x−1は前記基材(10)の方向において先行する機能膜の列番号であり、
・αは0.5≦α<1、好ましくは0.55≦α≦0.95、又は0.6≦α≦0.95であるような数である)
であるような、そして、
・前記基材から見て1番目の金属機能膜の厚さが10nm≦e1≦18nm、好ましくは11nm≦e1≦15nmであるような、
厚さであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の基材(10)。 - 前記αの値が第2列以降の全ての機能膜で異なることを特徴とする、請求項5に記載の基材(10)。
- 前記金属機能膜の総厚さが好ましくは30nmより大きく、特に30nmと60nmの間であってこれらの値を含むものであり、あるいはこの総厚さは、3つの機能膜を備えた薄膜多層体では35nmと50nmの間にあり、あるいはこの総厚さは、4つの機能膜を備えた薄膜多層体では40nmと60nmの間にあることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の基材(10)。
- 高屈折率反射防止膜を含まない2つの機能膜の間に配置された前記反射防止コーティング(60、100)のそれぞれが、アルミニウムなどの少なくとも1種の他の元素を任意選択的にドープした窒化ケイ素を基礎材料とする、少なくとも1つの反射防止膜(64、104)を含むことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の基材(10)。
- 機能膜(40、80、120)の下にある各反射防止コーティングの最後の膜が、アルミニウムなどの少なくとも1種の他の元素を任意選択的にドープされている結晶性酸化物、特に酸化亜鉛、を基礎材料とする湿潤反射防止膜(28、68、108)であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の基材(10)。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の少なくとも1つの基材(10)が組み込まれ、任意選択的に少なくとも1つの他の基材が付随しているグレージングユニット、特に、二重もしくは三重グレージングユニットなどの複合グレージングユニット又は積層グレージングユニット、そして特に、加熱積層グレージングユニットの生産を可能にするために前記薄膜多層体に電気的に接続する手段を備えた積層グレージングユニット、であって、前記多層体を支持している前記基材が場合により曲げ加工及び/又は強化を施されているグレージングユニット。
- 加熱グレージングユニット用の加熱透明コーティングを製造すること、又はエレクトロクロミックグレージングユニット、照明装置、ディスプレイ装置もしくは光起電力パネル用の透明電極を製造することへの、請求項1〜9のいずれか1項に記載の基材の利用。
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