JP2018520982A - 熱特性を有する積層体を備えている材料 - Google Patents

Abstract

本発明は、薄層の積層体で被覆された透明基材を含む材料であって、薄層の積層体が、基材から出発して、厚みが増加してゆく３層の銀に基づく機能性金属層、及び４層の誘電体被覆が交互になったものを逐次的に有しており、４層の誘電体被覆が、基材から出発してそれぞれＭ１，Ｍ２，Ｍ３及びＭ４と表される材料にあって、誘電体被覆それぞれが、少なくとも１層の高屈折率誘電体層を有しており、高屈折率誘電体層の屈折率が少なくとも２．１５であり、かつ高屈折率誘電体層の光学的厚みが２０ｎｍを超えることを特徴とする、材料に関する。【選択図】なし

Description

本発明は、太陽放射及び／又は赤外線放射に影響を及ぼすことができる複数の機能性層を有する薄層の積層体で被覆された透明な基材を有している材料に関する。本発明はまた、これらの材料を有しているグレージングにも関し、また、そのような材料を、断熱及び／又は太陽光防護グレージングの製造のために用いることにも関する。

これらのグレージングを、建物及び車両の両方に備え付けることが意図されてよい。建物及び車両乗客室においてグレージングを有している表面の普及が拡大する一方であることを原動力として、特には、空調負荷の低減及び／若しくは過度の過熱の防止を目的として、これらのグレージングを、建物及び車両の両方に備え付けることが意図されてよく、そのようなグレージングは、「太陽光制御」グレージングとして知られており、かつ／又は外部に向かって散逸するエネルギー量を低減することを目的として、これらのグレージングを、建物及び車両の両方に備え付けることが意図されてよく、そのようなグレージングは、「Ｌｏｗ−ｅ」グレージングとして知られている。

３層の機能性金属層を有しており、機能性金属層が、それぞれ２層の誘電体被覆の間に配置されている薄層の積層体で被覆された透明な基材を有するグレージングが提供されており、それによって、高い光透過率を保持しつつ、太陽光防護が改善される。これらの積層体は、一般に、随意に磁場によってアシストされる、カソードスパッタリングによって行われる一連の堆積によって得られる。これらのグレージングは、以下のことを可能にするため、選択的であると表現される：
− 低ソーラーファクター（ＳＦ，ｇ）を示しつつ、建物内部に透過してくる太陽光エネルギーの量を低減すること、
− 高い光透過率を保証すること。

本発明によると：
− ソーラーファクター「ｇ」は、入射太陽エネルギーに対する、グレージングを通って屋内に進入する総エネルギーのパーセントとしての比を意味するものと理解される。
− 選択性「ｓ」は、ソーラーファクターに対する、光透過率の比ＬＴ／ｇを意味するものと理解される。

欧州特許出願公開第００６４５３５２号明細書は、例えば、銀に基づく少なくとも３層の機能性金属層（以下では銀層）を有している薄層の積層体を有している透明な基材を開示している。銀層の厚みが、基材からの距離に応じて増加する。これらの基材を有しているグレージングは、好ましい美的外観を示すものの、約７０％の光透過率について、２．０を超える選択率及び／又は３５％未満のソーラーファクターを示さない。事実として、良好な選択性と、特には内部から見たグレージングの外観がニュートラル色であるような透過及び反射において美的に許容可能な色との両方を保持することは、きわめて困難である。

本発明の目的は、改善された太陽光制御特性を示す材料を開発すること、特には、少なくとも６５％の光透過率について３４％以下のソーラーファクター値を示す材料を開発することである。したがって、本発明によれば、高い光透過率を保持しつつ、ソーラーファクターを最小化すること及び選択性を増加することが目的であり、それによって、良好な絶縁性及び良好な視界を可能にする。

３層の機能性層を有する積層体は複雑であるため、積層体の他の特性に悪影響を及ぼさずに、これらの熱性能の成績及び透過における特性を向上させることは困難である。

本発明の目的は、したがって、これらの不利な点を克服することであり、それは、少なくとも３層の銀層を有している積層体を有している基材であって、特には、外部反射、内部反射及び透過において、視覚的に好ましい外観を保証しつつ、高選択性、すなわち所与のＬＴ値に関して可能な限り高いＬＴ／ｇ比を示す基材を開発することによって行われる。視覚的な外観の好ましさは、外部及び内部の両方から得られる色によって表現され、それは、よりニュートラルであり、青〜緑の範囲にあり、かつ、さらには、観察する角度に従って変化することがほとんどない。

我々が驚きをもって発見したことは、厚みが増加する３層の銀層の使用と、各誘電体被覆における高い割合での高屈折率誘電体材料の使用とを組み合わせることによって、既存の解決策と比較したときに、積層体に関してニュートラル色が保持されつつ、選択性が大幅に増加することである。

本発明の一の主題は、請求項１に記載の材料である。この材料は、薄層の積層体で被覆された透明基材を有する材料であって、基材から出発して、銀に基づく３層の機能性金属層及び４層の誘電体被覆が交互になっているものを逐次的に有しており、銀に基づく３層の機能性金属層が、基材から出発して、第１、第２及び第３機能性層と表され、機能性金属層の厚みが、基材から出発して、基材からの距離に応じて増加し、４層の誘電体被覆が、基材から出発して、Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３及びＭ４と表され、各誘電体被覆が、少なくとも１層の誘電体層を含んでおり、各機能性金属層が、２層の誘電体被覆の間に配置されるようになっている、以下を特徴とする材料である：
− 誘電体被覆Ｍ１，Ｍ２、Ｍ３及びＭ４それぞれが、光学的厚みＴｏ１，Ｔｏ２，Ｔｏ３及びＴｏ４を有しており，
− 各誘電体被覆が、少なくとも１層の高屈折率誘電体層を含んでおり、その屈折率が、少なくとも２．１５であり、かつ、その光学的厚みが、２０ｎｍを超え、
− １層の同一の誘電体被覆のすべての高屈折率誘電体層の光学的厚みの合計が、関係する誘電体被覆に従って、Ｔｏｈｉ１，Ｔｏｈｉ２，Ｔｏｈｉ３及びＴｏｈｉ４と表され、
− 各誘電体被覆が、以下の関係を満たしている：
Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＞０．３０；
Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＞０．３０；
Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＞０．３０；
Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＞０．３０。

本発明の解決策は、光学的及び熱性能の成績、透明度、並びに美的外観の間の優れた折衷となる。

本発明は、以下にも関する：
− 本発明に係る材料を得るための方法、
− 本発明に係る少なくとも１個の材料を有しているグレージング、
− 本発明に係るグレージングの、建物のための太陽光制御グレージングとしての使用、
− 本発明に係るグレージングを有している建物。

機能性層の厚み及び誘電体被覆の厚みを調整することによって、グレージングの透明度を制御することができ、それによって、およそ６５％のＬＴ値が得られる。しかしながら、本発明の主な有利な点は、外部反射において特には特定の色を有するとともに、外部反射値が十分に低い、満足のいく視覚的外観が、太陽光防護性能の成績を損なって得られるわけではないということである。積層体の他のパラメーター、例えば積層体に含まれている層の性質、厚み、及び順序等の実質的な変更を必要とすることなく、優れたエネルギー性能の成績が得られる。

３層の機能性金属層を有している積層体構造を、図解している。 種々の例において得られる、性能の成績をまとめている。

本記載の続きの部分で示される好ましい特徴は、本発明に係る方法に適用することができ、かつ、必要に応じて、生産物にも、すなわち本材料又は本材料を有しているグレージングにも適用することができる。

本記載において現れるすべての光特性は、建築産業用ガラスにおいて使用されるグレージングの光及び太陽光特性の決定に関する、欧州規格ＥＮ４１０で記述されている原理及び方法に従って取得される。

慣用的に、屈折率は、５５０ｎｍの波長で計測される。光透過率ＬＴ及び光反射ＬＲ要素は、視野２°で、Ｄ６５光源下で計測される。

別段の指示がない限り、光学的特徴及び熱的特徴に関するすべての値及び値の範囲は、薄層の積層体を保持している通常のソーダ石灰ガラスタイプの６ｍｍの基材、９０％の割合のアルゴン及び１０％の割合の空気で充填された１６ｍｍの層間空間、並びに４ｍｍの厚みの被覆されていない別のソーダ石灰ガラスタイプの基材、からなる二重グレージングに関して、与えられる。被覆された基材は、薄層の積層体がグレージングの第２面上にあるように配置される。外部反射Ｒｅｘｔ．は、積層体を有している基材の側から観察され、一方で、積層体を有していない基材の側から観察される反射は、内部反射として表現される。積層体を有していない、通常のソーダ石灰ガラスタイプの基材の光透過率（ＬＴ）は、８９％よりも大きく、好ましくは９０％よりも大きい。

別段の指示がない限り、本文書で触れられていて他の情報がない厚みは、現実の、又は幾何学的な、物理的厚みであり、Ｔｐと表現され、かつ、ナノメートルで表現される（かつ、光学的厚みではない）。光学的厚みＴｏは、対象となっている層の物理的厚みと、５５０ｎｍの波長におけるその屈折率との積として定義される：Ｔｏ＝ｎ＊Ｔｐ。屈折率は無次元の値なので、光学的厚みの単位は、物理的厚みに関して選択される単位であるとみなすことができる。

誘電体被覆が複数の誘電体層を含む場合には、誘電体被覆の光学的厚みは、誘電体被覆に含まれている異なる誘電体層の光学的厚みの合計に対応する。

本記載を通じて、本発明に係る基材は、水平に配置されているとみなされる。薄層の積層体は、基材の上に積層される。用語「上」及び「下」並びに「下方」及び「上方」の意味は、この方向との関連で考えられることとなる。特に明記されないかぎり、「上」及び「下」という表現は、２層の層及び／又は２層の被覆が、互いに接触して配置されていることを必ずしも意味しない。ある層が別の層又は被覆と「接触して」堆積されると特定される場合には、これは、これら２層の層の間（又は層と被覆の間）には、１層又は複数の層が挿入されえない、ということを意味する。

本発明の意味の範囲内で、機能性層又は誘電体被覆についての「第１」、「第２」、「第３」及び「第４」という表示は、積層体を保持している基材から出発して定義され、かつ、同じ機能を有する層又は被覆に関して定義される。例えば、基材に最も近い機能性層が、第１機能性層であり、基材から遠ざかって移動して次の層が、第２機能性層、などとなる。

本発明は、また、本発明に係る材料を有しているグレージングにも関する。慣用的には、グレージングの面は、建物の外側から出発して表現され、かつ、基材が備え付けられた客室又は屋内の外部から内部に向かって、基材の面に番号をふることによって表される。これが意味することは、入射太陽光は、番号が増加する順番で、複数の面を通過するということである。

好ましくは、積層体は、磁場アシストカソードスパッタリング（マグネトロン法）によって積層される。この有利な実施態様によると、積層体のすべての層が、磁場アシストカソードスパッタリングによって積層される。

本発明は、また、本発明に係る材料を得るための方法にも関し、この方法では、積層体の層が、マグネトロンカソードスパッタリングによって積層される。

銀に基づく機能性金属層は、機能性層の重量に対して、少なくとも９５．０重量％の、好ましくは少なくとも９６．５重量％の、さらには少なくとも９８．０重量％の銀を含有している。好ましくは、銀に基づく機能性金属層は、銀に基づく機能性金属層の重量に対して、１．０重量％未満の銀以外の金属を含有している。

基材から出発して機能性金属層の厚みが増加するという特徴は、第３機能性金属層の厚みが、第２機能性金属層の厚みよりも大きいということを意味し、かつ、第２機能性金属層の厚みが、第１機能性金属層の厚みよりも大きいということを意味する。連続する２層の機能性層の間での厚みの増加は、より好ましくなる順番で、２ｎｍよりも大きく、３ｎｍよりも大きく、４ｎｍよりも大きい。

本発明の有利な実施態様によると、機能性金属層が、以下の条件のうちの１又は複数を満たす：
− ３層の機能性金属層が、基材から出発して定義される第１、第２及び第３機能性金属層に対応する、
− 第１機能性金属層の厚みに対する、第２金属層の厚みの比が、より好ましくなる順番で、１．１０と２．００の間、１．２０と１．８０の間、１．４０と１．６０の間であり、これらの値を含む、かつ／又は、
− 第２機能性金属層の厚みに対する、第３金属層の厚みの比が、より好ましくなる順番で、１．１０と１．８０の間、１．１５と１．６０の間、１．２０と１．４０の間であり、これらの値を含む、かつ／又は、
− 第１機能性金属層の厚みが、より好ましくなる順番で、６ｎｍと１２ｎｍの間、７ｎｍと１１ｎｍの間、８ｎｍと１０ｎｍの間であり、かつ／又は、
− 第２機能性金属層の厚みが、より好ましくなる順番で、１１ｎｍと２０ｎｍの間、１２ｎｍと１８ｎｍの間、１３ｎｍと１５ｎｍの間であり、かつ／又は、
− 第３機能性金属層の厚みが、より好ましくなる順番で、１５ｎｍと２２ｎｍの間、１６ｎｍと２０ｎｍの間、１７ｎｍと１９ｎｍの間であり、かつ／又は、
− 機能性金属層の厚みの合計が、３０ｎｍと５０ｎｍの間であり、これらの値を含んでおり、好ましくは、３５ｎｍと４５ｎｍの間である。

機能性金属層に関するこれらの厚みの範囲は、二重グレージングでの少なくとも６５％の光透過率、低光反射及び低ソーラーファクターに関して、最も良好な結果が得られる範囲である。このようにして、高い選択性、及びニュートラル色が得られる。

積層体は、追加的に、機能性層と接触して配置される、少なくとも１層のブロッキング層を有していることができる。

ブロッキング層の役割は、慣用的に、上方反射防止被覆の堆積の間における、かつ、アニーリング、曲げ加工及び／又は強化タイプの可能的な高温加熱処理の間における、起こり得る損傷から機能性層を保護することである。

ブロッキング層は、チタン、ニッケル、クロム及びニオブから選ばれる１又は複数の元素の、金属に基づく又は金属合金に基づく金属層、金属窒化物層、金属酸化物層、及び金属酸窒化物層から選ばれ、例えばＴｉ，ＴｉＮ，ＴｉＯｘ，Ｎｂ，ＮｂＮ，Ｎｉ，ＮｉＮ，Ｃｒ，ＣｒＮ，ＮｉＣｒ又はＮｉＣｒＮである。これらのブロッキング層が金属、窒化物、若しくは酸窒化物の形態で堆積される場合には、これらの層は、それらの厚み及びそれらを囲む層の性質に応じて、例えば、次に続く層を堆積する時に、又は下方に存在する層との接触における酸化によって、部分的又は完全な酸化を受けることができる。

本発明の有利な実施態様によると、１又は複数のブロッキング層が、以下の条件のうちの１又は複数を満たす：
− 各機能性金属層が、ブロッキング下方層及びブロッキング上方層から選択される少なくとも１層のブロッキング層と接触している、かつ／又は
− 各機能性金属層が、ブロッキング上方層と接触している、かつ／又は
− 各ブロッキング層の厚みが、少なくとも０．１ｎｍであり、好ましくは０．５ｎｍと２．０ｎｍの間である、かつ／又は
− 機能性層と接触しているすべてのブロッキング層の合計の厚みが、０．５ｎｍと５ｎｍの間であり、これらの値を含んでおり、好ましくは、１ｎｍと３ｎｍの間であり、又はさらには１ｎｍと２ｎｍの間である。

本発明によると、誘電体被覆は、それぞれ、少なくとも１層の高屈折率誘電体層を有している。高屈折率層は、屈折率が少なくとも２．１５であるような層を意味するものと理解される。

本発明に係る高屈折率層は、以下から選ばれてよい：
− 酸化チタンＴｉＯ_２の層（５００での屈折率が、２．４５）、
− 酸化マグネシウムＭｎＯの層（５５０ｎｍでの屈折率が、２．１６）、
− 酸化タングステンＷＯ_３の層（５５０ｎｍでの屈折率が、２．１５）、
− 酸化ニオブＮｂ_２Ｏ_５の層（５５０ｎｍでの屈折率が、２．３０）、
− 酸化ビスマスＢｉ_２Ｏ_３の層（５５０ｎｍでの屈折率が、２．６０）、
− 窒化ジルコニウムＺｒ_３Ｎ_４の層（５５０ｎｍでの屈折率が、２．５５）
− 窒化ケイ素ジルコニウムの層（５５０ｎｍでの屈折率が、２．２０と２．２５の間）。

本発明に係る高屈折率層が示す屈折率は、より好ましくなる順番で、２．６０以下、２．５０以下、２．４０以下、２．３５以下、２．３０以下である。

誘電体被覆は、性質が異なる又は同一の、１又は複数の高屈折率層を有していることができる。好ましくは、高屈折率層は、窒化ケイ素ジルコニウム（ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｓｉｌｉｃｏｎ ｎｉｔｒｉｄｅ）の層である。

一の実施態様によると、少なくとも１層の誘電体被覆が、２０ｎｍを超える光学的厚みを有する酸化チタンに基づく高屈折率誘電体層を有していない。一の実施態様によれば、いずれの誘電体被覆も、２０ｎｍを超える光学的厚みを有する、酸化チタンに基づく高屈折率誘電体層を有していない。

本発明の有利な実施態様によれば、誘電体被覆の高屈折率誘電体層が、厚みの観点において、以下の条件のうちの１又は複数を満たす：
− １層の同じ誘電体被覆のすべての高屈折率誘電体層の光学的厚みの合計が、関係する誘電体被覆に応じて、Ｔｏｈｉ１、Ｔｏｈｉ２，Ｔｏｈｉ３又はＴｏｈｉ４と表される、
− 第１誘電体被覆のすべての高屈折率誘電体層の光学的厚みの合計が、より好ましくなる順番で、以下の関係、Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＞０．３０、Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＞０．４０、Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＞０．５０、Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＞０．６０、Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＞０．７０、Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＞０．８０、Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＞０．８５を満たす、かつ／又は、
− 第１誘電体被覆のすべての高屈折率誘電体層の光学的厚みの合計が、より好ましくなる順番で、以下の関係、Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＜０．９５，Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＜０．９０を満たす、かつ／又は、
− 第２誘電体被覆のすべての高屈折率誘電体層の光学的厚みの合計が、より好ましくなる順番で、以下の関係、Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＞０．３０，Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＞０．４０，Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＞０．５０，Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＞０．６０，Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＞０．７０，Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＞０．８０，Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＞０．８５、を満たす、かつ／又は、
− 第２誘電体被覆のすべての高屈折率誘電体層の光学的厚みの合計が、より好ましくなる順番で、以下の関係、Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＜０．９５，Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＜０．９０、を満たす、
− 第３誘電体被覆のすべての高屈折率誘電体層の光学的厚みの合計が、より好ましくなる順番で、以下の関係、Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＞０．３０，Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＞０．４０，Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＞０．５０，Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＞０．６０，Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＞０．７０，Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＞０．８０，Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＞０．８５、を満たす、かつ／又は、
− 第３誘電体被覆のすべての高屈折率誘電体層の光学的厚みの合計が、より好ましくなる順番で、以下の関係、Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＜０．９５，Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＜０．９０、を満たす、
− 第４誘電体被覆のすべての高屈折率誘電体層の光学的厚みの合計が、より好ましくなる順番で、以下の関係、Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＞０．３０，Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＞０．４０，Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＞０．５０，Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＞０．６０，Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＞０．７０，Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＞０．８０，Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＞０．８５、を満たす、かつ／又は、
− 第４誘電体被覆のすべての高屈折率誘電体層の光学的厚みの合計が、より好ましくなる順番で、以下の関係、Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＜０．９５，Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＜０．９０、を満たす。

本発明の有利な実施態様によれば、誘電体被覆の高屈折率誘電体層が、以下の条件のうちの１又は複数を満たす：
− 少なくとも１層の誘電体被覆が、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく高屈折率誘電体層を有している、
− 少なくとも２層の誘電体被覆が、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく高屈折率誘電体層を有している、
− 少なくとも３層の誘電体被覆が、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく高屈折率誘電体層を有している、
− 誘電体被覆それぞれが、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく高屈折率誘電体層を有している。

高屈折率誘電体層が窒化ケイ素ジルコニウムに基づいている場合には、それは、より好ましくなる順番で、以下を含有している：
− 高屈折率層中のケイ素及びジルコニウムの総重量に対して、３０重量％と７０重量％の間、４０重量％と６０重量％の間、４５重量％と５５重量％の間のケイ素、
− 高屈折率層中のケイ素及びジルコニウムの総重量に対して、３０重量％と７０重量％の間、４０重量％と６０重量％の間、４５重量％と５５重量％の間のジルコニウム。

高屈折率誘電体層が窒化ケイ素ジルコニウムに基づいている場合には、より好ましくなる順番で、以下を含有している：
− 高屈折率層中のケイ素及びジルコニウムに対して、５０ａｔ％と９５ａｔ％の間、６０ａｔ％と９０ａｔ％の間、７５ａｔ％と８５ａｔ％の間のケイ素、
− 高屈折率層中のケイ素及びジルコニウムに対して、５ａｔ％と５０ａｔ％の間、１０ａｔ％と４０ａｔ％の間、１５ａｔ％と２５ａｔ％の間のジルコニウム。

ケイ素及びジルコニウム層は、ケイ素及びジルコニウム金属ターゲットから堆積されうる。

例えば、ケイ素及びジルコニウムに基づくターゲットの伝導率を増加させるために、例えばアルミニウムなどの、別の元素を提供することもできる。したがって、金属ターゲットは、追加的に、アルミニウムを含むことができ、その場合には、アルミニウムが、高屈折率層内に存在することとなる。

高屈折率誘電体層が追加的にアルミニウムを含有する場合には、高屈折率誘電体層は、高屈折率層中におけるアルミニウム、ケイ素及びジルコニウムの総重量に対して、より好ましくなる順番で、１重量％と１０重量％の間の、２重量％と８重量％の間の、３重量％と６重量％の間のアルミニウムを含有している。

この場合には、所望の屈折率を得るためには、高屈折率層中のケイ素、ジルコニウム及びアルミニウムの総重量に対して、重量での割合を、以下の範囲内で選択することが好ましい：
− ４０％と６０％の間であって、これらの値が含まれる範囲の、ケイ素、
− ４０％と６０％の間であって、これらの値が含まれる範囲の、ジルコニウム、
− １％と１０％の間であって、これらの値が含まれる範囲の、アルミニウム。

本発明の有利な実施態様によると、誘電体被覆が、厚みの観点で、以下の条件のうちの１又は複数を満たす：
− 誘電体被覆それぞれが、少なくとも１層の高屈折率誘電体層を有しており、その屈折率は、２．１５よりも大きく、かつ、その光学的厚みは、２０ｎｍよりも大きい、
− 誘電体被覆Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３及びＭ４が、それぞれ、光学的厚みＴｏ１，Ｔｏ２，Ｔｏ３及びＴｏ４を有しており、以下の関係を満たしている：Ｔｏ４＜Ｔｏ１＜Ｔｏ２＜Ｔｏ３、
− 第１誘電体被覆Ｍ１の光学的厚みが、より好ましくなる順で、６０ｎｍ〜１４０ｎｍ、８０ｎｍ〜１２０ｎｍ、９０ｎｍ〜１００ｎｍである、かつ／又は
− 第１誘電体被覆Ｍ１の物理的厚みが、より好ましくなる順で、３０ｎｍ〜６０ｎｍ、３５ｎｍ〜５５ｎｍ、３５ｎｍ〜４５ｎｍである、かつ／又は
− 第２誘電体被覆Ｍ２の光学的厚みが、より好ましくなる順で、１２０ｎｍ〜１８０ｎｍ、１３０ｎｍ〜１７０ｎｍ、１４０ｎｍ〜１６０ｎｍである、かつ／又は
− 第２誘電体被覆Ｍ２の物理的厚みが、より好ましくなる順で、５０ｎｍ〜１００ｎｍ、６０ｎｍ〜８０ｎｍ、６５ｎｍ〜７５ｎｍ、である、かつ／又は
− 第３誘電体被覆Ｍ３の光学的厚みが、より好ましくなる順で、１４０ｎｍ〜２００ｎｍ、１５０ｎｍ〜１８０ｎｍ、１６０ｎｍ〜１７０ｎｍである、かつ／又は
− 第３誘電体被覆Ｍ３の物理的厚みが、より好ましくなる順で、５０ｎｍ〜１００ｎｍ、６５ｎｍ〜９５ｎｍ、７０ｎｍ〜８０ｎｍである、かつ／又は
− 第４誘電体被覆Ｍ４の光学的厚みが、より好ましくなる順で、５０ｎｍ〜１２０ｎｍ、６０ｎｍ〜１００ｎｍ、７０ｎｍ〜９０ｎｍである、かつ／又は
− 第４誘電体被覆Ｍ４の物理的厚みが、より好ましくなる順で、２０ｎｍ〜５０ｎｍ、２５ｎｍ〜４５ｎｍ、３０ｎｍ〜４０ｎｍである。

本発明の有利な実施態様によると、誘電体被覆は、以下の条件のうちの１又は複数を満たす：
− 少なくとも１層の誘電体被覆が、追加的に、少なくとも一層の誘電体層を有しており、誘電体層の屈折率が、２．１５未満である、
− 少なくとも２層の誘電体被覆が、追加的に、少なくとも一層の誘電体層を有しており、誘電体層の屈折率が、２．１５未満である、
− 少なくとも３層の誘電体被覆が、追加的に、少なくとも一層の誘電体層を有しており、誘電体層の屈折率が、２．１５未満である、
− 誘電体被覆が、それぞれ、追加的に、少なくとも一層の誘電体層を有しており、誘電体層の屈折率が、２．１５未満である、
− 屈折率が２．１５未満である誘電体層は、ケイ素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、スズ、若しくは亜鉛から選択される１若しくは複数の元素の酸化物若しくは窒化物に基づいていてよい、かつ／又は
− 少なくとも１層の誘電体被覆が、バリア機能を有する少なくとも１層の誘電体層を有している、かつ／又は
− 各誘電体被覆が、バリア機能を有する少なくとも１層の誘電体層を有している、かつ／又は
− バリア機能を有する誘電体層が、好ましくは、２．１５未満の屈折率を有している、かつ／又は、
− バリア機能を有する誘電体層が、ＳｉＯ_２及びＡｌ_２Ｏ_３などの酸化物、窒化ケイ素Ｓｉ_３Ｎ_４及びＡｌＮ、並びに酸窒化物ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ及びＡｌＯ_ｘＮ_ｙから選択される、ケイ素及び／若しくはアルミニウムの化合物に基づいている、かつ／又は
− バリア機能を有する誘電体層が、例えばアルミニウム、ハフニウム及びジルコニウムなどの少なくとも１種の他の元素を随意に含有している、ケイ素及び／若しくはアルミニウムの化合物に基づいている、かつ／又は
− 少なくとも１層の誘電体被覆が、安定化機能を有する少なくとも１層の誘電体層を有している、かつ／又は
− 誘電体被覆それぞれが、安定化機能を有する少なくとも１層の誘電体層を有している、かつ／又は
− 安定化機能を有する誘電体層が、好ましくは、２．１５未満の屈折率を有している、かつ／又は
− 安定化機能を有する誘電体層が、好ましくは、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム若しくはこれらのうちの少なくとも２種の混合物から選ばれる酸化物に基づいている、
− 安定化機能を有する誘電体層が、随意にアルミニウムなどの少なくとも１種の他の元素を用いてドープされている、結晶性酸化物に好ましくは基づいており、特には酸化亜鉛に基づいており、かつ／又は
− 各機能性層が、誘電体被覆の上にあり、誘電体被覆の上方層が、好ましくは酸化亜鉛に基づく、安定化機能を有する誘電体層であり、かつ／若しくは、各機能性層が、誘電体被覆の下にあり、誘電体被覆の下方層が、好ましくは酸化亜鉛に基づく、安定化機能を有する誘電体層である、
− 機能性金属層の下に位置する少なくとも１層の誘電体被覆が、平滑化機能を有する少なくとも１層の誘電体層を含んでいる、かつ／又は、
− 機能性金属層の下に位置する各誘電体被覆が、平滑化機能を有する少なくとも１層の誘電体層を含んでいる、かつ／又は、
− 平滑化機能を有する誘電体層が、好ましくは、Ｓｎ，Ｚｎ，Ｉｎ，及びＧａから選択される少なくとも２種の金属の混合酸化物に基づいている、
− 平滑化機能を有する誘電体層が、好ましくは、随意にドープされる、亜鉛及びスズの混合酸化物である、
− 平滑化層を有している誘電体層が、好ましくは、２．１５未満の屈折率を有している。

好ましくは、各誘電体被覆は、１又は複数の誘電体層のみからなる。したがって、好ましくは、吸収層は、誘電体被覆には存在せず、それによって、光透過率を減少させない。

本発明の積層体は、バリア機能を有する誘電体層を有してよい。バリア機能を有する誘電体層は、周囲大気又は透明基材に由来する酸素及び水が、高温で機能性層の方向へ拡散することに対するバリアを形成することができる材料でできている層、を意味するものと理解される。バリア機能を有する誘電体層の構成材料は、したがって、それらの光学的な特性の変更を引き起こしうる、高温での化学的な又は構造的な改変を受けてはならない。バリア機能を有する層又は複数の層は、好ましくは、また、それらが、機能性層の構成材料に対するバリアを形成することができる材料でできているように選択される。このようにして、バリア機能を有する誘電体層があることによって、積層体は、過剰に大きな光学的変化なく、アニーリング、強化又は曲げ加工タイプの加熱処理を受けることができる。

本発明の積層体は、安定化機能を有する誘電体層を含んでよい。本発明の意味の範囲内で、「安定化」は、層の性質が選択され、それによって、機能性層とこの層との間の接触面が安定化することを意味する。この安定化によって、機能性層を取り囲む層への機能性層の接着を強化する結果となり、実際に、機能性層の構成材料が移動することに対抗することとなる。

安定化機能を有する誘電体層又は複数の誘電体層は、機能性層と直接接触してよく、又はブロッキング層によって離されていてよい。

好ましくは、機能性層の下に位置する各誘電体被覆の最後の誘電体層が、安定化機能を有する誘電体層である。これはなぜならば、例えば酸化亜鉛に基づく、安定化機能を有する層が機能性層の下にあることが有利だからあり、この層によって、銀に基づく機能性層の接着及び結晶化が促進され、かつ高温でのその質及びその安定性が向上するからである。

機能性層の上に、例えば酸化亜鉛に基づく、安定化機能を有する層が存在することもまた、有利であり、そうすることによって、機能性層の接着が増強され、かつ、基材とは反対側の積層体の側における拡散に対して、最適に対抗する。

したがって、安定化機能を有する誘電体層又は複数の誘電体層が、少なくとも１層の機能性層若しくは各機能性層の上及び／又は下に、それらと直接接触して、又はブロッキング層によって離されて、存在してよい。

有利には、バリア機能を有する各誘電体層は、安定化機能を有する少なくとも１層の誘電体層によって、機能性層から離されている。

安定化機能を有するこの誘電体層は、少なくとも４ｎｍの厚みを有してよく、特には、４ｎｍと１０ｎｍの間、さらには８〜１０ｎｍの厚みを有してよい。

薄層の積層体は、随意の、平滑化層を含んでいてよい。平滑化層は、好ましい結晶方位に沿って安定化層の成長を促進し、それによって、エピタキシャル現象によって銀層の結晶化を促進する機能を有する層、を意味するものと理解される。平滑化層は、安定化層の下に、好ましくは接触して、存在する。

混合酸化物に基づく平滑化層は、「非結晶性」として記述されうるが、これの意味は、平滑化層は、完全にアモルファスであってよく又は部分的にアモルファスであってよく、したがって部分的に結晶性であってよいが、しかしながら、その全厚みにわたって完全に結晶性であることはあり得ない、ということである。平滑化層は、混合酸化物（混合酸化物は、少なくとも２種の元素の酸化物である）に基づいているので、金属の性質を有することはあり得ない。

平滑化層の屈折率は、好ましくは２．１５未満である。さらには、平滑化層は、好ましくは、０．１ｎｍと３０ｎｍとの間の厚みを示し、より好ましくは０．２ｎｍと１０ｎｍの間の厚みを示す。

薄層の積層体は、随意の、保護層を有してよい。保護層は、好ましくは、積層体の最後の層であり、すなわち、積層体で被覆された基材から最も離れたところにある層である。これらの上方保護層は、第４誘電体被覆に含まれていると考えることができる。一般に、これらの層は、２ｎｍと１０ｎｍの間の厚みを有し、好ましくは２ｎｍと５ｎｍの間の厚みを有する。この保護層は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、亜鉛及び／又はスズの層から選択されてよく、この又はこれらの金属は、金属、酸化物又は窒化物の形態である。

保護層は、例えば、酸化チタンの層、スズ亜鉛酸化物の層、又はチタンジルコニウム酸化物の層から選ぶことができる。

特に有利な実施態様は、積層体で被覆された基材に関しており、積層体が、透明基材から出発して定義され、以下を含んでいる：
− 少なくとも１層の高屈折率層、随意の、バリア機能を有する層、安定化機能を有する誘電体層、を有している第１誘電体被覆、
− 随意の、ブロッキング層、
− 第１機能性層、
− 随意の、ブロッキング層、
− 安定化機能を有する少なくとも１層の下方誘電体層、随意の、バリア機能を有する誘電体層、高屈折率誘電体層、随意の、平滑化機能を有する層、安定化機能を有する上方誘電体層、を有している第２誘電体被覆、
− 随意の、ブロッキング層、
− 第２機能性層、
− 随意の、ブロッキング層、
− 安定化機能を有する少なくとも１層の下方誘電体層、随意の、バリア機能を有する誘電体層、高屈折率誘電体層、随意の、平滑化機能を有する層、安定化機能を有する上方誘電体層、を有している第３誘電体被覆、
− 随意の、ブロッキング層、
− 第３機能性層、
− 随意の、ブロッキング層、
− 安定化機能を有する少なくとも１層の誘電体層、随意の、バリア機能を有する層、高屈折率誘電体層、及び随意の保護層、を有している第４誘電体被覆。

本発明に係る透明基材は、好ましくは、剛性無機材料製であり、例えばガラス製であり、又は、ポリマーに基づいている（若しくはポリマー製の）有機材料製である。

本発明に係る透明有機基材は、剛性若しくは可撓性であって、ポリマー製であってもよい。本発明によれば適しているポリマーの例としては、特には以下が挙げられる：
− ポリエチレン
− ポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）；
− ポリアクリレート、例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）；
− ポリカーボネート；
− ポリウレタン；
− ポリアミド；
− ポリイミド；
− フルオロポリマー、例えば、エチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオリド（ＰＶＤＦ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、エチレンクロロトリフルオロエチレン（ＥＣＴＦＥ）又はフッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）コポリマーなどの、フルオロエステル；
− 光架橋性及び／又は光重合性樹脂、例えば、チオレン（ｔｈｉｏｌｅｎｅ）、ポリウレタン、ウレタンアクリレート、又はポリエステルアクリレート樹脂；並びに
− ポリチオウレタン。

基材は、好ましくは、ガラス板又はガラスセラミック板である。

基材は、好ましくは透明であり、無色であり（その場合には、基材は、透明ガラス若しくは超透明ガラスである）又は着色されており、例えば青色、灰色若しくはブロンズ色に着色されている。ガラスは、好ましくは、ソーダ石灰シリカタイプであるが、しかしながら、ホウケイ酸又はアルミノホウケイ酸タイプのガラスであってもよい。

基材は、有利には、１以上の寸法が、１ｍ以上、特にはさらには２ｍ以上、さらには３ｍ以上である。基材の厚みは、一般には、０．５ｍｍと１９ｍｍの間で変化し、好ましくは、０．７ｍｍと９ｍｍの間で変化し、特には２ｍｍと８ｍｍの間で変化し、特にはさらには４ｍｍと６ｍｍの間で変化する。基材は、平坦であってよく、又は曲げられていてよく、特にはさらには可撓性であってよい。

材料は、すなわち積層体で被覆された基材は、高温加熱処理を受けてよく、例えばレーザー若しくはフレームアニーリング（火炎アニーリング）などのフラッシュアニーリングによるものなどのアニーリング、強化及び／又は曲げ加工などを受けてよい。加熱処理の温度は４００℃よりも大きく、好ましくは４５０℃よりも大きく、さらには５００℃よりも大きい。積層体で被覆された基材は、したがって、曲げられていてよく、かつ／又は強化されていてよい。

積層体は、好ましくは、外部から来る入射光が、第１誘電体被覆を通過して、その後に、第１機能性金属層を通過するように、グレージング内に配置される。積層体は、グレージングの外側壁を規定する基材の面上ではなく、この基材の内側面上に堆積される。積層体は、したがって、有利には、第２面上に配置され、通常のように、グレージングの第１面が、グレージングの最外面である。

本発明のグレージングは、単層グレージング、積層グレージング、又は複層のグレージングの形態であってよく、特には二重グレージング又は三重グレージングであってよい。本発明のグレージングは、好ましくは、複層グレージングである。複層グレージングは、少なくとも１個の透明基材、及び少なくとも１個の第２透明基材を有しており、これらは、平行であって、かつ、ガスで充填された空洞によって分離されており、これらのうちの少なくとも１個の基材が、薄層の積層体で被覆されている。本発明に係る材料は、強化断熱（ｅｎｈａｎｃｅｄ ｔｈｅｒｍａｌ ｉｎｓｕｌａｔｉｏｎ、ＥＴＩ）を有する二重グレージングにおいて用いられる場合に、非常に特に適している。

単層グレージング又は複層グレージングの場合には、積層体は、好ましくは、第２面上に堆積される。すなわち、積層体は、グレージングの外側壁を規定する基材上にあり、より特定的には、この基材の内側面上にある。

単層グレージングは、２つの面を有している；第１面は、建物の外側にあり、したがって、グレージングの外側壁を構成しており、かつ、第２面は、建物の内側にあり、したがって、グレージングの内側壁を構成している。

二重グレージングは、４つの面を有している；第１面は、建物の外側にあり、したがって、グレージングの外側壁を構成しており、かつ、第４面は、建物の内側にあり、したがって、グレージングの内側壁を構成しており、第２面及び第３面は、二重グレージングの内部にある。

同様に、三重グレージングは、６つの面を有している；第１面は、建物の外側にあり（グレージングの外側壁であり）、第６面は、建物の内側にあり（グレージングの内側壁であり）、かつ第２面〜第５面は、三重グレージングの内側にある。

積層グレージングは、第１基材／１又は複数のシート／第２基材タイプの構造を１以上有している。薄層の積層体は、基材のうちの１個の、少なくとも１つの面の面上に配置される。積層体は、好ましくはポリマーのシートであるシートとは接触せずに、第２基材の面上にあってもよい。この実施態様は、積層グレージングが、第３基材を有する二重グレージングに備え付けられる場合に、有利である。

単層グレージングとして使用され、又は二重グレージングタイプの複層グレージングにおいて使用される、本発明に係るグレージングは、外部反射で、青色若しくは青〜緑（主要な波長の値がおよそ４７０〜５００ナノメートルである）の範囲内の、ニュートラルで、好ましく、かつ落ち着いた色を呈している。さらには、この視覚的外観は、グレージングが観察される（垂直入射の及び角度のある）入射角に係わらず、実際的に不変を保つ。このことが意味するのは、色又は外観における均一性が実質的に欠如しているとの印象を、観察者が抱くことはないということである。

「青〜緑の範囲の色」は、本発明の意味の範囲内で、Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色計測系において、ａ^＊が−１０．０と０．０の間であり、好ましくは−５．０と０．０の間であり、かつ、ｂ^＊が−１０．０と０．０の間であり、好ましくは−５．０と０．０の間であることを意味するものと理解されるべきである。

有利な実施態様によると、第２面上に配置された積層体を有している二重グレージングの形態での、本発明のグレージングによって、特には、以下の性能の成績を達成することが可能である：
− ３４．０％以下の、好ましくは３３．５％以下の、特にはさらには３３．０％以下の、ソーラーファクターｇ、及び／又は、
− より好ましくなる順で、６５％を超える、６７％を超える、６８％を超える、６９％を超える、好ましくは６５％と７５％の間の、特にはさらには６７％と７１％の間の光透過率、及び／又は、
− より好ましくなる順で、少なくとも２．０の、少なくとも２．０５の、少なくとも２．１の高選択性、及び／又は、
− ２０％以下の、好ましくは１５％以下の、外側面での光反射、及び／又は、
− ２０％以下の、好ましくは１５％以下の、内側面上での光反射、及び／又は、
− 外部反射におけるニュートラル色。

本発明の有利な詳細及び特徴は、添付の図面を用いて説明される、以下の非制限的な例示によって表されるであろう。

様々な構成要素間での比率は、順守されてはおらず、これによって、図の理解を容易にしている。

図１は、３層の機能性金属層４０、８０、１２０を有する積層体構造を図解しており、この構造は、透明ガラス基材１０の上に堆積されている。各機能性層４０，８０，１２０は、以下のようにして、２層の誘電体被覆２０，６０，１００、１４０の間に配置されている：
− 第１機能性層４０は、基材から出発して、誘電体被覆２０、６０の間に配置されている、
− 第２機能性層８０は、誘電体被覆６０、１００の間に配置されている、
− 第３機能性層１２０は、誘電体被覆１００、１４０の間に配置されている。

これらの誘電体被覆２０，６０，１００，１４０は、それぞれ、少なくとも１層の誘電体層２４，２５，２６、２８；６２，６３、６４，６６、６８；１０２，１０３、１０４，１０６，１０８；１４２，１４４を有している。

積層体は、また、以下を有していてよい：
− 機能性層と接触して配置される、ブロッキング下方層３０，７０及び１１０（図示されていない）、５０，９０及び１３０、
− 機能性層と接触して配置される、ブロッキング上方層５０，９０及び１３０、
− 保護層（図示されていない）。

［Ｉ．基材の調製：積層体、積層条件及び加熱処理］
以下で定義される、薄層の積層体は、６ｍｍの厚みを有する透明なソーダ石灰ガラス製の基材上に堆積される。

本発明に係る材料及び比較材料は、以下の「カラーボックス」基準において定義される基準を満たす色を有している。光学的特徴は、以下において計測される：
− 積層体が第２面上に配置されている（グレージングの第１面は、通常の通り、グレージングの最外面である）、６／１６／４構造：６ｍｍガラス／９０％アルゴンで充填された１６ｍｍの層間空間／４ｍｍのガラス、の二重グレージングの形態の材料上、
− ６ｍｍ基材を有しており、かつ、積層体が第２面上に配置されている、単一のグレージングの形態の材料上。

二重グレージングに関して：
− ａ^＊Ｔ及びｂ^＊Ｔは、２°観察者でＤ６５光源に従って計測され、かつグレージングに垂直方向で計測される、Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊系での、透過の色ａ^＊及びｂ^＊を示している；
− Ｒｅｘｔは、以下を示している：最外面である第１面の側で、２°観察者でＤ６５光源に従って計測される、％での、可視領域での、光反射；
− ａ^＊Ｒｅｘｔ及びｂ＊Ｒｅｘｔは、最外面の側で、２°観察者でＤ６５光源に従って計測され、かつグレージングに垂直な方向でそのように計測される、Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊系での、反射の色ａ^＊及びｂ^＊を示している；
− Ｒｉｎｔは、内側面である第４面の側で、２°観察者でＤ６５光源に従って計測される、％での、可視領域での、光反射を示している；
− ａ^＊Ｒｉｎｔ及びｂ^＊Ｒｉｎｔは、内側面の側で、２°観察者でＤ６５光源に従って計測され、グレージングに垂直な方向でそのように計測される、Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊系での、反射の色ａ^＊及びｂ^＊を示している。

斜めでの測色値ａ^＊ｇ６０°及びｂ^＊ｇ６０°を、単一のグレージングにおいて、６０°の入射下で計測する。これによって、斜めでの色のニュートラル性が説明される。

本発明の例においては：
− 機能性層は、銀（Ａｇ）層であり、
− ブロッキング層は、酸化チタン層であり、
− 高屈折率層は、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく層及び酸化チタン層から選択され、
− バリア層は、アルミニウムでドープされた窒化ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４：Ａｌ）に基づいており、
− 安定化層は、酸化亜鉛（ＺｎＯ）製であり、
− 平滑化層は、亜鉛及びスズの混合酸化物（ＳｎＺｎＯｘ）に基づいている。

窒化ケイ素ジルコニウム層は、ケイ素、ジルコニウム及びアルミニウムを含有している金属ターゲットから堆積される。

スパッタリング（「マグネトロンカソード」スパッタリング）によって堆積された層の、堆積のための条件を、表２にまとめる。

表３では、積層体に含まれている各層又は各被覆の、材料及び（別段の指示がない限り）ナノメートルでの物理的厚みを、積層体を保持している基材（表の底にある最後の行）に対するそれらの位置に応じて一覧表にしている。「参照」番号は、図１の符号に対応する。

機能性層４０，８０，１２０の下の誘電体被覆２０，６０，１００それぞれは、結晶性酸化亜鉛に基づく最終安定化層２８，６８，１０８を有しており、これら安定化層は、そのすぐ上に堆積される機能性層４０，８０，１２０と接触している。

機能性層４０，８０，１２０の上の誘電体被覆６０，１００，１４０それぞれは、結晶性酸化亜鉛に基づく一次安定化層６２，１０２、１４２を有しており、これら安定化層は、そのすぐ上に堆積される機能性層４０，８０，１２０と接触している。

誘電体被覆２０，６０，１００，１４０それぞれは、窒化ケイ素ジルコニウム又は酸化チタンに基づく、高屈折率誘電体層２４，６４，１０４，１４４を有している。

誘電体被覆２０，６０，１００，１４０は、ここではＳｉ_３Ｎ_４として知られる、アルミニウムでドープされた窒化ケイ素に基づく、バリア機能を有する誘電体層２５，６３，１０３，１４３を有していてよい。

誘電体被覆２０，６０、１００は、追加的に、亜鉛及びスズの混合酸化物に基づく平滑化層２６，６６、１０６を有していてよい。

機能性金属層４０，８０，１２０それぞれは、ブロッキング層５０，９０及び１３０の下で接触して存在している。

機能性層及び誘電体被覆の厚みに関する特徴を、表４にまとめる。

［ＩＩ．「太陽光制御」性能の成績］
上述する通りにグレージングが二重グレージングの一部を形成している場合に得られる、エネルギー性能の成績を、表５において一覧表にする。

第１実施態様（実施例１）では、各誘電体被覆Ｍ１〜Ｍ４が、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく高屈折率層を有している。

第２実施態様（実施例２）では、各誘電体被覆Ｍ１〜Ｍ４が、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく高屈折率層を有しており、かつ、この高屈折率層を含んでいる誘電体被覆の光学的厚みに対する、この高屈折率層の光学的厚みの比は、０．５よりも大きく、好ましくは０．８よりも大きい。最良の性能の成績が、この例において得られる。

第３実施態様（実施例３）では、誘電体被覆Ｍ１及びＭ４が、ＴｉＯ_２に基づく高屈折率層を有しており、かつ、誘電体被覆Ｍ２及びＭ３が、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく高屈折率層を有している。性能の成績は、すべての誘電体被覆がＳｉＺｒＮに基づく場合よりは不利であるが、比較例１及び２に関して得られる性能の成績よりは、良好である。

比較例１では、誘電体被覆Ｍ１〜Ｍ４のいずれも、２０ｎｍを超える光学的厚みを有する高屈折率層を有していない。

比較例２では、誘電体被覆Ｍ１及びＭ４が、２０ｎｍを超える光学的厚みを有する高屈折率層を有しておらず、かつ、誘電体被覆Ｍ２及びＭ３が、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく高屈折率層を有していない。性能の成績は、誘電体被覆それぞれが高屈折率層を有している、本発明の材料に関して得られる性能の成績よりも劣っている。

種々の例で得られる性能の成績を、図２にまとめる。点の散らばりが示されており、それによって、基準カラーボックスにおける色を保持しつつ、実施例１及び実施例２のタイプの材料で到達可能な性能の成績の範囲が示されている。すなわち、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく高屈折率層を各誘電体被覆に有している材料で到達可能な性能の成績の範囲が示されている。

本発明によれば、約７０％の光透過率、高選択性、低光反射率、及び低ソーラーファクターを示す、３層の機能性金属層を有する積層体を有しているグレージングを作り出すことが可能となる。本発明に係るグレージングは、３４％以下のソーラーファクター及び２．００を超える選択性を、同時に示す。これらのグレージングは、追加的に、少なくとも１５％未満の外部反射を示す。

本発明に係る例は、すべて、透過において、好ましくかつ落ち着いた着色を有しており、好ましくは、青又は青〜緑の範囲の着色を有している。

したがって、提供される解決策によって、以下の性能の成績を達成することが可能となる：
− 約７０％の光透過率、
− 約３３％のソーラーファクター、
− 外側面における低反射率、及び
− ニュートラルな美的品質。

Claims (15)

1. 薄層の積層体で被覆されている透明基材を有している材料であって、前記積層体が、前記基材から出発して、銀に基づく３層の機能性金属層、及び４層の誘電体被覆が交互になったものを逐次的に有しており、銀に基づく前記３層の機能性金属層が、前記基材から出発して、第１、第２及び第３機能性層として表され、前記機能性金属層の厚みが、前記基材から出発して、前記基材からの距離に応じて増加し、前記４層の誘電体被覆が、前記基材から出発して、Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３及びＭ４として表され、前記誘電体被覆が、それぞれ、少なくとも１層の誘電体層を有しており、そのようにして、前記機能性金属層が、それぞれ、２層の誘電体被覆の間に配置されるようになっており、下記であることを特徴とする、材料：
   − 前記誘電体被覆Ｍ１，Ｍ２、Ｍ３及びＭ４が、それぞれ、光学的厚みＴｏ１，Ｔｏ２，Ｔｏ３及びＴｏ４を有しており，
   − 前記誘電体被覆が、それぞれ、少なくとも１層の高屈折率誘電体層を含んでおり、その屈折率が、少なくとも２．１５であり、かつ、その光学的厚みが、２０ｎｍよりも大きく、
   − １層の同一の誘電体被覆のすべての高屈折率誘電体層の光学的厚みの合計が、関係する誘電体被覆に従って、Ｔｏｈｉ１，Ｔｏｈｉ２，Ｔｏｈｉ３又はＴｏｈｉ４と表され、
   − 前記誘電体被覆が、それぞれ、以下の関係を満たしている：
   Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＞０．３０、
   Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＞０．３０、
   Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＞０．３０、
   Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＞０．３０。
2. 前記３層の機能性金属層が、下記の特徴を満たすことを特徴とする、請求項１に記載の材料：
   − 前記第１機能性金属層の厚みに対する前記第２金属層の厚みの比が、１．１０と２．００の間であり、これらの値を含んでおり、かつ／又は、
   − 前記第２機能性金属層の厚みに対する前記第３金属層の厚みの比が、１．１０と１．８０の間であり、これらの値を含んでいる。
3. 機能性層に接触して配置され、チタン、ニッケル、クロム及びニオブから選ばれる１又は複数の元素の、金属層、金属窒化物層、金属酸化物層、及び金属酸窒化物層から選ばれ、例えばＴｉ，ＴｉＮ，ＴｉＯ_２，Ｎｂ，ＮｂＮ，Ｎｉ，ＮｉＮ，Ｃｒ，ＣｒＮ，ＮｉＣｒ又はＮｉＣｒＮ層であるブロッキング層を、前記積層体が、追加的に、少なくとも１層有していることを特徴とする、請求項１又は２に記載の材料。
4. 前記誘電体被覆Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３及びＭ４が、それぞれ、光学的厚みＴｏ１，Ｔｏ２，Ｔｏ３及びＴｏ４を有しており、以下の関係：Ｔｏ４＜Ｔｏ１＜Ｔｏ２＜Ｔｏ３を満たしていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の材料。
5. 前記高屈折率層が、２．３５以下の屈折率を示すことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の材料。
6. 前記誘電体被覆それぞれが、以下の関係を満たすことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の材料：
   Ｔｏｈｉ１／Ｔｏ１＞０．８０、
   Ｔｏｈｉ２／Ｔｏ２＞０．８０、
   Ｔｏｈｉ３／Ｔｏ３＞０．８０、
   Ｔｏｈｉ４／Ｔｏ４＞０．８０。
7. 少なくとも２層の前記誘電体被覆が、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく高屈折率誘電体層を有していることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の材料。
8. 前記誘電体被覆が、それぞれ、窒化ケイ素ジルコニウムに基づく高屈折率誘電体層を有していることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の材料。
9. 前記誘電体被覆が、以下の特徴を満たすことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の材料：
   − 前記第１誘電体被覆Ｍ１の前記光学的厚みが、６０ｎｍ〜１４０ｎｍ、
   − 前記第２誘電体被覆Ｍ２の前記光学的厚みが、１２０ｎｍ〜１８０ｎｍ、
   − 前記第３誘電体被覆Ｍ３の前記光学的厚みが、１４０ｎｍ〜２００ｎｍ、
   − 前記第４誘電体被覆Ｍ４の前記光学的厚みが、５０ｎｍ〜１２０ｎｍ。
10. 前記誘電体被覆が、それぞれ、追加的に、２．１５未満の屈折率を有している少なくとも１層の誘電体層を有していることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の材料。
11. 前記材料が、積層体を有しており、積層体が、前記透明基材から出発して規定され、以下を有していることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の材料：
    − 少なくとも１層の高屈折率層、随意の、バリア機能を有する層、安定化機能を有する誘電体層、を有している第１誘電体被覆、
    − 随意の、ブロッキング層、
    − 第１機能性層、
    − 随意の、ブロッキング層、
    − 安定化機能を有する少なくとも１層の下方誘電体層、随意の、バリア機能を有する１層の誘電体層、高屈折率誘電体層、随意の、平滑化機能を有する層、安定化機能を有する上方誘電体層、を有している第２誘電体被覆
    − 随意の、ブロッキング層、
    − 第２機能性層、
    − 随意の、ブロッキング層、
    − 安定化機能を有する少なくとも１層の下方誘電体層、随意の、バリア機能を有する誘電体層、高屈折率誘電体層、随意の、平滑化機能を有する層、安定化機能を有する上方誘電体層、を有している第３誘電体被覆、
    − 随意の、ブロッキング層、
    − 第３機能性層、
    − 随意の、ブロッキング層、
    − 安定化機能を有する少なくとも１層の誘電体層、随意の、バリア機能を有する層、高屈折率誘電体層、及び随意の保護層、を有している第４誘電体被覆。
12. 前記積層体の前記層が、マグネトロンカソードスパッタリングによって堆積される、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の材料を取得するための方法。
13. 請求項１〜１１のいずれか一項に記載の材料を少なくとも１個有しているグレージング。
14. 外部から来る入射光が、前記第１誘電体被覆を通過し、その後に、前記第１機能性金属層を通過するように、前記積層体が、前記グレージングにおいて配置されていることを特徴とする、請求項１３に記載のグレージング。
15. 複層グレージングの形態であり、特には、二重グレージング又は三重グレージングの形態であることを特徴とする、請求項１３又は１４に記載のグレージング。