JP6510491B2 - 熱的特性を有する積層体を備えた基材 - Google Patents

Description

本発明は、日射及び／又は長い波長の赤外線に影響し得るいくつかの機能層を含む薄層の積層体で被覆された透明基材に関する。本発明はまた、これらの基材を含むグレージングと、そのような基材を使用して、断熱性及び／又は日射防護グレージングを製造することとに関する。

これらのグレージングは、建物と車両の両方に装備することが意図されたものでよく、その目的は特に、建物や車両部品のグレージング構造の面の重要性がますます大きくなっていることに後押しされて、空調の負担を低減させ及び／又は過熱を防止すること、及び／又は外部へのエネルギー散逸量を低減させることにあり、前者のグレージングは「日射制御」グレージングと呼ばれ、後者のグレージングは「低放射（Ｌｏｗ−ｅ）」グレージングと呼ばれるものである。

少なくとも三つの金属性機能層を含む薄層の積層体で被覆された透明基材を含むグレージングが知られている。これらの積層体は概して、真空を使用する技術、例えば陰極スパッタリングを用い、随意に磁界で補助して実行される一連の被着により得られる。

少なくとも三つの金属層を含む積層体を基にした基材の使用により、それらを組み込んだグレージングの日射防護を最適化することが可能であり、これを日射係数（ｇ）の減少及び選択性（ｓ）の増加に反映させることができる。本発明によれば、
・日射係数（ｇ）は、グレージングを通して建物内に入ってくる総エネルギーの入射太陽エネルギーに対する比を意味すると理解され、
・選択性（ｓ）は、光透過率の日射係数に対する比ＬＴ／ｇを意味すると理解される。

このタイプの積層体では、各機能層が二つの反射防止被膜の間に位置しており、各反射防止被膜は一般に、それぞれが窒化物、特にケイ素又はアルミニウムの窒化物タイプの材料、及び／又は酸化物タイプの材料から作製されたいくつかの反射防止層又は誘電体層を含んでいる。光学的観点からは、機能層を挟み込むこれらの被膜の目的は、この機能層を「反射防止性」にすることである。

三つの金属層を含む積層体を使用することを選択すると、基材の及び／又は当該積層体を組み込んだグレージングの光透過率に影響が生じる。これらのグレージングを組み込む必要のある国々の気候に応じて、光透過率と日射係数の観点で得なければならない性能は特定の範囲内で変動する可能性がある。光透過率は、まぶしさをなくすように充分低い必要があり、且つ、当該グレージングにより区切られた空間の内側に入る光の量が減少して人工光の使用が必要とならないように充分高い必要がある。例えば、およそ２という高い選択性を示す断熱グレージングは、日光を強く浴びることが意図されるグレージングとして有利に使用される。

しかしながら、三つの金属性機能層と５０％程度の光透過率を有する積層体を含む基材又はグレージングは、完全に満足のいくものではなく、特に以下の欠点、すなわち、
・美的外観があまり満足のいくものでなく、特に、内部反射、外部反射及び透過の色が美しくない、及び／又は、
・特に、照明のレベルが異なる二つの空間、例えば夜間に照明される部屋などを区切るために基材を使用する場合に、観察者にとって不快な高いレベルの反射率、及び／又は、
・相対的に不十分な日射制御性能、例えば低い選択性、
という欠点を有する。

外部の、それよりも特に内部の反射が多いことは、建物の窓用のグレージングとして基材を使用する場合に、あらわな反射光を鏡のように送り返してグレージングを通した視認性を低下させるという欠点をもたらす。

従って、光学的性能と熱的性能との間、透明度と美的外観との間で、妥協点を見いだす必要がある。

熱い気候の国々では、空調のエネルギー消費が顕著であり、ｇが低い必要がある。従って、本発明の目的は、日射係数を最小にし選択性を高め、それと同時に良好な断熱性と良好な視界を可能にするのに好適な光透過率を維持することである。

欧州特許出願公開第０６４５３５２号明細書には、例えば、特に誘電体材料の層により切り離された少なくとも三つの銀層を含む、薄層の積層体を含む透明基材が開示されている。

銀層の厚さは、基材からの距離に応じて増加する。これらの基材を含むグレージングは、心地よい美的外観を示すものの、２より大きい選択性は示さない。実際、特に内側から見える中間色のグレージングの外観とともに良好な選択性と反射及び透過の審美的に許容できる色との両方を維持することは極めて難しい。

従って、本発明の目的は、基材を一体式のグレージングとして使用するにせよ、二層グレージングタイプの複層断熱グレージングに組み込むにせよ、又はさらに積層グレージングに組み込むにせよ、赤外領域における反射特性を有する少なくとも三つの層、特に金属層を含む積層体を含み、高い選択性、すなわち所定のＬＴ値に対して可能な限り高いＬＴ／ｇ比を示し、その一方で目に心地良い、特に外部反射の、内部反射の、そして透過の外観を保証する基材を開発することにより、これらの欠点を克服することである。これらの特性は、好ましくは、曲げ加工及び／又は焼入れ及び／又は焼戻しタイプの高温での一つ（又はそれ以上）の熱処理の後に得られる。目に心地よい外観は、外側及び内側の両方からの反射の色に反映され、これらは青緑色の範囲で得られるさらに中間的な色であり、加えて観測の角度によってほとんど変化しないものである。

本発明の対象は、請求項１に記載したとおりの薄層の積層体を含む透明基材１０である。それは、基材から出発して、三つの金属性機能層４０、８０、１２０、特に銀に基づく又は銀を含む金属合金に基づく機能層と、おのおのが少なくとも一つの誘電体層を含む四つの反射防止被膜２０、６０、１００、１４０とを交互に、連続して含み、その結果各金属性機能層４０、８０、１２０が反射防止被膜２０、６０、１００、１４０の二つの間に位置するようになっている。

金属性機能層４０、８０、１２０の厚さは、基材から出発して、基材からの距離の関数として増加する。第２の金属性機能層８０は、それぞれ第２のブロッキング下層及び第２のブロッキング上層と称されるブロッキング下層及びブロッキング上層から選択されて、第２のブロッキング層と称される、ブロッキング層に直接接触している。第２のブロッキング下層及び／又は第２のブロッキング上層は、厚さが１ｎｍよりも大きい。

赤外領域に反射特性を有する金属性機能層の厚さが増加するように配分することと、第２の機能層に接触してブロッキング層を集中させることとの組み合わせにより、特に２よりも大きいＬＴ／ｇ比、好ましくは２．２よりも大きいＬＴ／ｇ比を示す非常に高い選択性を有するグレージングを得ることが可能になる。機能層とブロッキング層の厚さを変動させることにより、グレージングの透明度を５０％程度のＬＴ値が得られるように制御することができ、この範囲は、日光を強く浴びる地域で使用することが意図されるグレージング用にとりわけ非常に好適である。しかしながら、本発明の主要な利点は、日射防護に関して満足のいく性能のせいで基材の視覚的な外観が損なわれることはないということであり、この外観は、鏡面反射を制限するのに充分低い内部反射率値を示すだけでなく、特に美的に許容できる透過の、外部反射の、及び内部反射の色を示す。

具体的には、一体式のグレージングとして使用される、又は二層グレージングタイプの複層グレージングに組み込まれる、本発明による積層体で被覆された基材は、青色又は青緑色（主波長について４７０〜５００ナノメートル程度の値）の範囲内の、内部反射、外部反射及び透過の心地よくそして抑制された色合いを示す。「青緑の色」というのは、本発明の意味の範囲内では、Ｌ^*ａ^*ｂ^*測色系において、ａ^*が−１２と−２の間、好ましくは−１０と−４の間、そしてｂ^*が−１２と２の間、好ましくは−１０と１の間であることを意味すると理解されるものとする。

さらに、この視覚的な外観は、グレージングを観測する際の入射角がどんなであれ（垂直入射及び所定の角度での入射）、実際上変化しない。このことは、見る人が外観に又は色に均一性が有意に欠けているという印象を持たないことを意味する。

本書全体を通して、本発明による基材は水平に位置するものと見なされる。薄層の積層体は、その基材上に被着される。「上」及び「下」、並びに「上層」及び「下層」という表現の意味は、この配置に関してのものと見なされる。特に明記していない限り、「上」及び「下」という表現は、二つの層及び／又は被膜が互いに接触して位置していることを必ずしも意味するものではない。層が別の層又は被膜と「接触して」被着されると規定される場合、これはこれらの二つの層の間（又は層と被膜との間）に挿入された一つ（又はそれ以上）の層が存在し得ないことを意味する。

本発明の意味の範囲内で、機能層又は反射防止被膜に関する「第１」、「第２」、「第３」及び「第４」という表示は、積層体を支持する基材から出発して、同一機能を有する層又は被膜に関連して定義される。例えば、基材に最も近い機能層が第１の機能層であり、基材から次に離れているのが第２の機能層、といった具合である。

金属性機能層４０、８０、１２０の厚さが基材から出発して増加するという特徴は、第３の金属性機能層１２０の厚さが第２の金属性機能層８０のものより大きく、そして第２の金属性機能層の厚さが第１の金属性機能層４０のものより大きいことを意味している。連続的な二つの機能層の間での厚さの増加は、好ましさの増す順に、２ｎｍより大きく、３ｎｍより大きく、又は４ｎｍより大きい。

別途指示しない限り、本書において言及する厚さは物理的な、すなわち実際の厚さである（光学的厚さではない）。

本発明の有利な実施形態によると、金属性機能層は、以下の条件、すなわち、
・三つの金属性機能層は、基材から出発して定義される第１、第２、及び第３の金属性機能層に相当すること、
・金属性機能層の厚さの先行するものの厚さに対する比は１．１０以上であること、
・第２の金属層８０の厚さの第１の金属性機能層４０の厚さに対する比は１．５０と２．２０の間、好ましくは１．８０と２．２０の間であって、これらの値を含むものであること、
・第３の金属層１２０の厚さの第２の金属性機能層８０の厚さに対する比は１．１０と１．６０の間、好ましくは１．１０と１．５５の間であって、これらの値を含むものであること、
・各機能層の厚さは６ｎｍと２６ｎｍの間、好ましくは６ｎｍと２４ｎｍの間であって、これらの値を含むものであること、
・第１の金属性機能層４０の厚さは、好ましさの増す順に、７〜１２ｎｍ、８〜１０ｎｍであること、
・第２の金属性機能層８０の厚さは、好ましさの増す順に、１４〜１８ｎｍ、１５〜１７ｎｍであること、
・第３の金属性機能層１２０の厚さは、好ましさの増す順に、１８〜２４ｎｍ、１９〜２３ｎｍであること、
・金属性機能層４０、８０、１２０の合計の厚さは３０ｎｍと６０ｎｍの間であって、これらの値を含み、好ましくは４０ｎｍと５０ｎｍの間であること、
という条件の一つ以上を満足する。

第２及び第３の金属性機能層の厚さの平均の第１の金属性機能層の厚さに対する比は１．５０と２．５０の間であって、これらの値を含む。これらの比を守ることは、青緑色の外部反射の色を得るのに寄与する。

金属性機能層に関する厚さのこれらの範囲は、二層グレージングにおいておよそ５０％という光透過率に関して最良の結果が得られる範囲であり、低い光反射率とより小さい日射係数が、高い選択性を、さらには青緑色の範囲の、外部及び内部の両方からの反射の色、そしてまた中間的な透過の色とともに得るのを可能にする。

本発明によれば、ブロッキング層を、各反射防止被膜と隣接機能層との間に挿入することができる。基材方向において機能層の下に位置するブロッキング層は、ブロッキング下層「ＵＢ」と称される。基材から反対側にある機能層の上に位置するブロッキング層は、ブロッキング上層「ＯＢ」として知られる。ブロッキング層は慣例的に、上層反射防止被膜の被着の際に、及び焼戻し、曲げ加工及び／又は焼入れタイプの任意選択的な高温度熱処理の際に生じる可能性のある劣化から、機能層を保護する役割を有する。

機能層に接触して位置するブロッキング層について、「第１」、「第２」及び「第３」という表示は、積層体を支持する基材から出発して、そしてブロッキング層が接触していることが見いだされる機能層の「第１」、「第２」及び「第３」という表示に準拠して定義される。例えば、第２の機能層は、第２のブロッキング下層及び第２のブロッキング上層から選択される一つ又は二つの第２のブロッキング層を含むことができる。

出願人は、意外なことに、本発明の基材の有利な結果は、特に基材から出発して機能層について厚さを増加させることと第２の機能層の周囲にブロッキング層の厚さを集中させることの組み合わせにより、得られることを見いだした。

本発明によれば、第１のブロッキング層の厚さは、第１のブロッキング上層と第１のブロッキング下層の厚さの総和を意味すると理解されるが、これは両方のブロッキング層が第１の機能層に接触している場合である。同様に、第２のブロッキング層の厚さは、第２のブロッキング上層と第２のブロッキング下層の厚さの総和を意味すると理解されるが、これは両方のブロッキング層が第２の機能層に接触している場合である。最後に、第３のブロッキング層の厚さは、第３のブロッキング上層と第３のブロッキング下層の厚さの総和を意味すると理解されるが、これは両方のブロッキング層が第３の機能層に接触している場合である。

本発明による基材は、第２の金属性機能層８０に接触して位置する少なくとも一つの第２のブロッキング層、及び任意選択的に、
・第１の金属性機能層４０に接触して位置する第１のブロッキング層、
・第３の金属性機能層１２０に接触して位置する第３のブロッキング層、
から選択される少なくとも一つのブロッキング層を含み、第１の、第２の及び／又は第３のブロッキング層はそれぞれ厚さＣＢ１、ＣＢ２及びＣＢ３を有し、これらは次の式、すなわちＣＢ１＋ＣＢ３＜１．１０ＣＢ２を満足し、少なくとも厚さＣＢ２はゼロでない。

本発明による基材は、
・第１の金属性機能層４０の下にこれに接触して位置する第１のブロッキング下層ＵＢ１、
・第１の金属性機能層４０の上にこれに接触して位置する第１のブロッキング上層ＯＢ１、
・第２の金属性機能層８０の下にこれに接触して位置する第２のブロッキング下層ＵＢ２、
・第２の金属性機能層８０の上にこれに接触して位置する第２のブロッキング上層ＯＢ２、
・第３の金属性機能層１２０の下にこれに接触して位置する第３のブロッキング下層ＵＢ３、
・第３の金属性機能層１２０の上にこれに接触して位置する第３のブロッキング上層ＯＢ３、
から選択される少なくとも一つのブロッキング層を含み、これらはそれぞれＵＢ１、ＯＢ１、ＵＢ２、ＯＢ２、ＵＢ３及びＯＢ３の厚さを有し、次の式、すなわち（ＵＢ１＋ＯＢ１）＋（ＵＢ３＋ＯＢ３）＜１．１０（ＵＢ２＋ＯＢ２）を満足し、少なくとも厚さＵＢ２又はＯＢ２はゼロでない。

本発明の定義から、厚さＣＢ１、ＵＢ１、ＯＢ１、ＣＢ３、ＵＢ３、ＯＢ３、ＣＢ２、ＵＢ２及びＯＢ２は、以下の式、すなわち、
・ＣＢ１はＵＢ１＋ＯＢ１に等しい、
・ＣＢ３はＵＢ３＋ＯＢ３に等しい、及び、
・ＣＢ２はＵＢ２＋ＯＢ２に等しい、
を満足する。

本発明の有利な実施形態よると、ブロッキング層は以下の条件の一つ以上を満足する。
・各金属性機能層４０、８０、１２０が少なくとも一つのブロッキング層に接触していること。
・各金属性機能層４０、８０、１２０が単一のブロッキング層に接触していること、
・ブロッキング層が金属性機能層の上にこれに接触して位置し、ブロッキング上層「ＯＢ」に相当していること。
・各金属性機能層４０、８０、１２０が、基材に関する位置に応じて規定されて第１のブロッキング上層、第２のブロッキング上層及び第３のブロッキング上層と称される、ブロッキング上層に接触していること。
・ブロッキング層が金属性機能層の下にこれに接触して位置し、ブロッキング下層「ＵＢ」に相当していること。
・各金属性機能層４０、８０、１２０が、基材に関する位置に応じて規定されて第１の、第２の及び第３のブロッキング下層と称される、ブロッキング下層に接触していること。
・第１の、第２の及び第３のブロッキング上層がそれぞれ、厚さＯＢ１、ＯＢ２及びＯＢ３を有し、次の式、すなわちＯＢ１＋ＯＢ３＜１．１０ＯＢ２を満足すること。
・第１の、第２の及び第３のブロッキング下層がそれぞれ、厚さＵＢ１、ＵＢ２及びＵＢ３を有し、次の式、すなわちＵＢ１＋ＵＢ３＜１．１０ＵＢ２を満足すること。
・第２のブロッキング層の厚さＣＢ２の第１のブロッキング層の厚さＣＢ１に対する比が１．１０よりも大きく、好ましくは１．１０と１０の間、そしてさらに有利には１．１０と２．００の間、好ましくは１．４０と１．７０の間であって、これらの値を含むこと。
・第２のブロッキング層の厚さＣＢ２の第３のブロッキング層の厚さＣＢ３に対する比が１．１０よりも大きく、好ましくは２．００と１０の間、好ましくは２．９０と３．２０の間であって、これらの値を含むこと。
・第２のブロッキング上層の厚さＯＢ２の第１のブロッキング上層の厚さＯＢ１に対する比が１．１０よりも大きく、好ましくは１．１０と１０．００の間、そしてさらに有利には１．１０と２．００の間、好ましくは１．４０と１．７０の間であって、これらの値を含むこと。
・第２のブロッキング上層の厚さ０Ｂ２の第３のブロッキング上層の厚さＯＢ３に対する比が１．１０よりも大きく、好ましくは２．００と１０．００の間、好ましくは２．９０と３．２０の間であって、これらの値を含むこと。
・第２のブロッキング下層の厚さＵＢ２の第１のブロッキング下層の厚さＵＢ１に対する比が１．１０よりも大きく、好ましくは１．１０と１０．００の間、そしてさらに有利には１．１０と２．００の間、好ましくは１．４０と１．７０の間であって、これらの値を含むこと。
・第２のブロッキング下層の厚さＵＢ２の第３のブロッキング下層の厚さＵＢ３に対する比が１．１０よりも大きく、好ましくは２．００と１０の間、好ましくは２．９０と３．２０の間であって、これらの値を含むこと。
・それぞれのブロッキング下層及び上層の厚さが少なくとも０．５ｎｍ、好ましくは少なくとも０．８ｎｍであること。
・第１のブロッキング層の厚さＣＢ１が、好ましさの増す順に、１〜２．５ｎｍ、１．５〜２ｎｍであること。
・第１のブロッキング上層５０の厚さ０Ｂ１が、好ましさの増す順に、１〜２．５ｎｍ、１．５〜２ｎｍであること。
・第１のブロッキング下層の厚さＵＢ１が、好ましさの増す順に、１〜２．５ｎｍ、１．５〜２ｎｍであること。
・第２のブロッキング層の厚さＣＢ２が、好ましさの増す順に、１．５〜３．５ｎｍ、２〜３ｎｍであること。
・第２のブロッキング上層９０の厚さＯＢ２が、好ましさの増す順に、１．５〜３．５ｎｍ、２〜３ｎｍであること。
・第２のブロッキング下層の厚さＵＢ２が、好ましさの増す順に、１．５〜３．５ｎｍ、２〜３ｎｍであること。
・第３のブロッキング層の厚さＣＢ３が、好ましさの増す順に、０．５〜１．５ｎｍ、０．５〜１ｎｍであること。
・第３のブロッキング上層１３０の厚さＯＢ３が、好ましさの増す順に、０．５〜１．５ｎｍ、０．５〜１ｎｍであること。
・第３のブロッキング下層の厚さＵＢ３が、好ましさの増す順に、０．５〜１．５ｎｍ、０．５〜１ｎｍであること。
・ブロッキング層５０、９０、１３０の合計の厚さが３ｎｍと７ｎｍの間であって、これらの値を含み、好ましくは３．５ｎｍと５ｎｍの間、そしてさらに有利には４ｎｍと５ｎｍの間であること。

本発明の有利な実施形態によると、ブロッキング層は、金属、金属合金、窒化物及び酸窒化物から選択される。ブロッキング層はこのように、好ましくはチタン、ニッケル、クロム及びニオブから選択される１種以上の元素の金属又は金属合金を基にした金属層、金属窒化物層及び金属酸窒化物層から選択され、例えばＴｉ、ＴｉＮ、Ｎｂ、ＮｂＮ、Ｎｉ、ＮｉＮ、Ｃｒ、ＣｒＮ、ＮｉＣｒ又はＮｉＣｒＮなどである。

これらのブロッキング層は金属、窒化物又は酸窒化物の形態で被着されるものの、これらの層が、例えば次の層の被着時に、それらの厚さに応じて部分的に又は完全に酸化されてもよいことは明らかである。

本発明の有利な実施形態によると、反射防止被膜は以下の条件の一つ以上を満足する。
・基材から出発して定義される第１、第２及び第３の反射防止被膜に相当する反射防止被膜は、厚さが実質的に同一であること。
・基材から出発して定義される第１、第２及び第３の反射防止被膜に相当し、好ましくは焼入れした積層体中の、反射防止被膜の、被膜の厚さの先行する被膜の厚さに対する比が０．９０と１．２０の間であって、これらの値を含むこと。
・第１の反射防止被膜２０の厚さが、好ましさの増す順に、３０〜７５ｎｍ、４０〜７０ｎｍ、５０〜６０ｎｍであること。
・第２の反射防止被膜６０の厚さが、好ましさの増す順に、４０〜８０ｎｍ、５０〜７０ｎｍ、６０〜６５ｎｍであること。
・第３の誘電体被膜１００の厚さが、好ましさの増す順に、４０〜８０ｎｍ、５０〜７０ｎｍ、６０〜６５ｎｍであること。
・第４の反射防止被膜１４０の厚さが、好ましさの増す順に、１５〜４０ｎｍ、２０〜３０ｎｍであること。
・反射防止被膜が、ケイ素、アルミニウム、スズ又は亜鉛から選択される１種以上の元素の酸化物又は窒化物を基にした少なくとも一つの誘電体層を含むこと。
・少なくとも一つの反射防止被膜が、バリア機能を有する少なくとも一つの誘電体層を含むこと。
・各反射防止被膜が、バリア機能を有する少なくとも一つの誘電体層を含むこと。
・バリア機能を有する誘電体層が、好ましくはケイ素化合物を基にしており、該ケイ素化合物は、酸化物、例えばＳｉＯ₂など、ケイ素窒化物Ｓｉ₃Ｎ₄及びケイ素酸窒化物ＳｉＯ_xＮ_yから選択され、任意選択的に少なくとも１種の他の元素、例えばアルミニウムなどを使用してドープされていること。
・少なくとも一つの反射防止被膜が、安定化機能を有する少なくとも一つの誘電体層を含むこと。
・各反射防止被膜が、安定化機能を有する少なくとも一つの誘電体層を含むこと。
・安定化機能を有する誘電体層が、好ましくは結晶性酸化物を基にしており、特に酸化亜鉛を基にしており、任意選択的に少なくとも１種の他の元素、例えばアルミニウムなどを用いてドープされていること。
・各機能層が反射防止被膜の上にあり、その上層が安定化機能を有し好ましくは酸化亜鉛を基にしている誘電体層であること、及び／又は反射防止被膜の下にあり、その下層が安定化機能を有する誘電体層であること。

二つの金属性機能層の間にそれぞれが位置する反射防止被膜、すなわち第２の反射防止被膜と第３の反射防止被膜は、ほとんど類似の光学的厚さを有する。二つの金属性機能層の間に位置する各反射防止被膜は、一つ以上の誘電体層を含む。

好ましくは、各反射防止被膜は一つ以上の誘電体層のみから構成されている。それゆえ、光透過率を低下させないために、好ましくは、反射防止被膜中に吸収性の層は存在しない。

本発明の積層体は、バリア機能を有する誘電体層を含むことができる。

「バリア機能を有する誘電体層」という用語は、周囲雰囲気又は透明基材に由来する酸素及び水が高温で機能層に向かって拡散するのに対するバリアを形成することができる材料から作られた層を意味すると理解される。よって、バリア機能を有する誘電体層の構成材料は、それらの光学的性質を変化させることになる高温での化学的又は構造的な変化を受けてはならない。このバリア機能を有する層も、機能層の構成材料に対するバリアを形成することができる材料の中から好ましく選択される。従って、バリア機能を有する誘電体層によって、過大な光学的変化なしに、積層体に焼戻し、焼入れ又は曲げ加工タイプの熱処理を施すことが可能になる。

バリア機能を有する誘電体層は、好ましくはケイ素化合物を基にしており、該ケイ素化合物は、酸化物、例えばＳｉＯ₂など、ケイ素窒化物Ｓｉ₃Ｎ₄及びケイ素酸窒化物ＳｉＯ_xＮ_yから選択され、任意選択的に少なくとも１種の他の元素、例えばアルミニウムなどを使用してドープされている。バリア機能を有する誘電体層は、アルミニウム窒化物ＡｌＮを基にすることもできる。バリア機能を有する誘電体層の存在は、薄層の積層体を曲げ加工／焼入れするのに特に有利である。

本発明の積層体は、安定化機能を有する誘電体層を含むことができる。本発明の意味の範囲内で、「安定化」とは、層の性質が、機能層とこの層との界面を安定化させるように選択されることを意味している。この安定化の結果、機能層のそれを取り囲む層への密着性が強化され、よってその構成材料のマイグレーションが防止される。

安定化機能を有する誘電体層は、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、又はそれらのうちの少なくとも二つの混合物から選択される酸化物を基にするのが好ましい。安定化機能を有する誘電体層は、好ましくは酸化亜鉛の層である。

機能層４０、８０、１２０の下にある各反射防止被膜の最後の層は、安定化機能を有する誘電体層２８、６８、１０８である。その理由は、安定化機能を有する層、例えば酸化亜鉛を基にしたものが、銀を基にした機能層の密着及び結晶化を促進し、その品質及び高温での安定性を高めるので、それを機能層の下に有するのが有利だからである。

安定化機能を有する層、例えば酸化亜鉛を基にしたものを、機能層の上に有することもまた、その密着性を高め基材と反対側の積層体側からの拡散を最適に防止するのに有利である。

安定化機能を有する誘電体層はこのように、少なくとも一つの機能層又は各機能層の上及び／又は下で、直接それに接触しているか又はブロッキング層により分離されていることができる。好ましくは、各機能層は被膜の上にあって、その上層は安定化機能を有し、好ましくは酸化亜鉛を基にしている誘電体層であり、及び／又は被膜の下にあって、その下層は安定化機能を有する誘電体層であり、好ましくは酸化亜鉛を基にしている。

有利には、バリア機能を有する各誘電体層は、安定化機能を有する少なくとも一つの誘電体層により機能層から分離されている。

安定化機能を有するこの誘電体層は、厚さが少なくとも５ｎｍでよく、特に５ｎｍと２５ｎｍの間、そしてさらに有利には８〜１５ｎｍの厚さでよい。

特に有利な実施形態は、透明基材から出発して次のものを含む積層体、すなわち、
・バリア機能を有する少なくとも一つの誘電体層と安定化機能を有する少なくとも一つの誘電体層とを含む第１の反射防止被膜、
・第１の機能層、
・第１のブロッキング層、
・安定化機能を有する少なくとも一つの下層誘電体層と、バリア機能を有する誘電体層と、安定化機能を有する少なくとも一つの上層誘電体層とを含む第２の反射防止被膜、
・第２の機能層、
・第２のブロッキング層、
・安定化機能を有する少なくとも一つの下層誘電体層と、バリア機能を有する誘電体層と、安定化機能を有する少なくとも一つの上層誘電体層とを含む第３の反射防止被膜、
・第３の機能層、
・第３のブロッキング層、
・安定化機能を有する少なくとも一つの誘電体層とバリア機能を有する少なくとも一つの誘電体層とを含む第４の反射防止被膜、
を含む積層体を含む基材に関する。

本発明はまた、上に定義したとおりの透明基材を含むグレージングにも関する。当該グレージングは、積層グレージング、非対称グレージング、又は二層グレージングタイプの複層グレージングの形態であることができる。

有利な実施形態によると、本発明によるグレージングは、４５％〜５５％の光透過率ＬＴ及び／又は少なくとも２．１、好ましくは少なくとも２．２の選択性を示す。

本発明による透明基材は、剛性無機材料、例えばガラスで製作されるのが好ましく、又はポリマー基材、例えばポリエチレンテレフタレートＰＥＴ、ポリエチレンナフタレートＰＥＮ、及びポリカーボネート製の基材など、から選択される。

本発明によるグレージングは、積層した構造を有することができる。この場合には、基材は、ガラス／薄層の積層体／シート／ガラスタイプの構造をとらせるために、熱可塑性ポリマーの少なくとも一つのシートにより組み立てられる少なくとも二つのガラスタイプの剛性基材を含む。ポリマーは、具体的には、ポリビニルブチラールＰＶＢ、エチレン／酢酸ビニルＥＶＡ、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴ、又はポリ塩化ビニルＰＶＣを基礎材料とすることができる。この場合、グレージングは、ガラス／薄層の積層体／ポリマーのシート／ガラスタイプの構造をとることができる。積層体構造では、積層体を支持する基材がポリマーシートに接触していてもよい。

グレージングはまた、複層グレージング、特に二層グレージングであってもよい。二層グレージング構造では、日光の入射方向がそれらの面をそれらの番号が増える順序で通過すると見なした場合に、積層体は面２上にあることができる。複層グレージングの構成では、挿入されガスで満たされた空間に面するように積層体を配置するのが好ましい。

グレージングはまた、ガスで満たされた一対の空間により分離された三枚のガラスシートから構成される三層グレージングであってもよい。三層グレージング構造では、積層体を支持する基材は、日光の入射方向がそれらの面をそれらの番号が増える順序で通過すると見なした場合に、面２上及び／又は面５上にあることができる。

本発明はさらに、
・高いエネルギー反射率を有するグレージングを製造するために、及び／又は、
・非常に低い放射率を有するグレージングを製造するために、及び／又は、
・ジュール効果により加熱する透明被膜を有する加熱グレージングを製造するために、
・エレクトロクロミックグレージング、又は照明装置、又はディスプレイ装置の、又は光起電性パネルの透明電極を製造するために、
本発明による基材を使用することに関する。

本発明による積層体は、積層体で被覆された基材であって、二層グレージングに装着されると、
・およそ５０％の光透過率、
・小さい外部光反射率、
・小さい日射係数と大きい、特に２．２よりも大きい、選択性、
・それほど目立つものでなく（Ｌａｂ系におけるａ^*とｂ^*値が−１２と２の間）、さらに観測の角度に応じてほとんど変わらない外部反射の色、
・少なくて青緑色の内部反射、
を示す、焼入れされているかまたは焼入れされていない基材を得るのを可能にする。

グレージングは、積層体を備え単一の基材から構成されている一方で、曲げ加工及び／又は焼入れすることができる。この場合、それは「一体式の」グレージングとなる。それらが、特に車両用のグレージングを作る目的で、曲げ加工される場合には、薄層の積層体は好ましくは、少なくとも一部平坦でない面上に見出される。

グレージングはまた、複層グレージング、特に二層グレージングであってもよく、少なくとも積層体を支持する基材を、曲げ加工及び／又は焼入れすることが可能である。複層グレージングの構成においては、積層体を、挿入されガスで満たされた空間に面するように配置するのが好ましい。積層構造では、積層体を支持する基材はポリマーシートに接触することができる。

本発明の有利な特徴と詳細は、添付図面を使用して説明される以下の非制限的な例から明らかとなる。

本発明による三つの金属性機能層を有する積層体の構造の例を説明する図である。 透過（２．ａ）、外部反射（２．ｂ）、そして内部反射（２．ｃ）の測色分析値の変化を、ブロッキング上層の厚さの変動の関数として例示する図である。 透過（３．ａ）、外部反射（３．ｂ）、そして内部反射（３．ｃ）の測色分析値の変化を、ブロッキング下層の厚さの変動の関数として例示する図である。

図を読みとりやすくすることを目的としているため、各種構成要素間の比率は守られていない。

図１は、三つの金属性機能層４０、８０、１２０を有する積層構造体を例示しており、この構造体は透明ガラス基材１０上に被着されている。各機能層４０、８０、１２０は、
・前記基材から出発して、第１の機能層４０が反射防止被膜２０、６０の間に位置し、
・第２の機能層８０が反射防止被膜６０、１００の間に位置し、そして、
・第３の機能層１２０が反射防止被膜１００、１４０の間に位置するように、
反射防止被膜２０、６０、１００、１４０の二つの間に位置している。

これらの反射防止被膜２０、６０、１００、１４０はそれぞれ、少なくとも一つの誘電体反射防止層２４、２８；６２、６４、６８；１０２、１０４、１０６、１０８；１４２、１４４を含む。

各機能層４０、８０、１２０は、機能層の下にある反射防止被膜と機能層との間に位置するブロッキング被膜又はブロッキング下層被膜上に被着させることができる。

各機能層４０、８０、１２０、１６０は、機能層と、この層の上にある反射防止被膜との間に位置する、ブロッキング被膜又はブロッキング上層被膜５０、９０、１３０の下に直接被着させることができる。

Ｉ．基材の準備： 積層体、被着条件、及び熱処理
下に明記する薄層の積層体を、サン−ゴバン社から供給される厚さ６ｍｍの透明なソーダ石灰ガラス製の基材上に被着させる。

これらの例について、スパッタリング（「マグネトロン陰極」スパッタリング）により被着させた層の被着条件を表１に要約して示す。

表２に、積層体を構成する各層又は被膜について、材料と（別途指示しない限り）ナノメートル単位の物理的厚さを、積層体を支持する基材（表の最下方の最終行）に対するそれらの位置に則して列挙する。「符号」の番号は、図１の参照符号に対応している。

基材Ｃ．１、Ｃ．２、Ｃ．３、Ｃ．４、及びＩｎｖ．ＡＴには、６００℃と７５０℃の間の温度で５〜１０分間の熱処理という条件下で、焼入れを施した。

基材Ｉｎｖ．ＢＴには、熱処理を施さなかった。

機能層４０、８０、１２０の下にある各反射防止被膜２０、６０、１００は、結晶性の酸化亜鉛を基にした最後の安定化層２８、６８、１０８を含み、この安定化層は、直上に被着させた機能層４０、８０、１２０に接触している。

各反射防止被膜２０、６０、１００、１４０は、アルミニウムをドープした窒化ケイ素を基にしたバリア機能を有する誘電体層２４、６４、１０４、１４４を含んでおり、この窒化物をここでは簡単のためにＳｉ₃Ｎ₄と称するが、とは言えこの層の真の性質は、上で説明したように、実際はＳｉ₃Ｎ₄：Ａｌである。

窒化ケイ素を基にしたこれらの層は、酸素に対するバリア効果を得るために重要である。

次の表３に、機能層、反射防止被膜、及びブロッキング層の厚さに関連する特性を要約して示す。

ＩＩ．「日射制御」及び測色性能
表４に、二層グレージングに組み込んだ基材に関して測定された主要な光学的特性を列挙してあり、この二層グレージングの有する構造は、６ｍｍのガラス／９０％アルゴンを充填した１６ｍｍの挿入空間／４ｍｍのガラス、というものであり、面２（通常、グレージングの面１がグレージングの最外面である）の上に積層体が位置している。

これらの二層グレージングについて、
・ＬＴは、０°視野でＤ６５光源により測定した可視領域における光透過率を％で示しており、
・ａ^*Ｔ及びｂ^*Ｔは、１０°視野でＤ６５光源により測定した及びグレージングに対して垂直に測定した、ＬＡＢ系での透過のａ^*色とｂ^*色を示しており、
・ＬＲｅｘｔは、最外面側の面１で１０°視野でＤ６５光源により測定した、可視領域における光反射率を％で示しており、
・ａ^*Ｒｅｘｔ及びｂ^*Ｒｅｘｔは、最外面側で１０°視野でＤ６５光源により測定した及びグレージングに対して垂直に測定した、ＬＡＢ系での反射のａ^*色とｂ^*色を示しており、
・ＬＲｉｎｔは、最内面側の面４で１０°視野でＤ６５光源により測定した、可視領域における光反射率を％で示しており、
・ａ^*Ｒｉｎｔ及びｂ^*Ｒｉｎｔは、最内面側で１０°視野でＤ６５光源により測定した及びグレージングに対して垂直に測定した、ＬＡＢ系での反射のａ^*色とｂ^*色を示している。

本発明によれば、三つの金属性機能層を有する積層体を含み、低い光反射率、２．２程度という非常に有利な選択性（ＬＴ／ｇ比）を示し、そしてまた、すべてのａ^*及びｂ^*値が−９と１の間にある限りにおいて、内部反射、外部反射、及び透過の色について非常に満足のいく妥協点をも示すグレージングを製造することが可能である。

内部反射に関連する有利な特性により、本発明のグレージングを装備し照明された建物の外が暗いときに、これらの着色したグレージングを心地よく見ることができ、そして鏡面効果を防止することができる。

本発明によるグレージングはこのように、日光を強く浴びる建物に装備するのに特に好適な光透過率の広範な範囲内で良好な日射防護を提供する。

金属性機能層を増やすことと、第２の金属性機能層を取り囲む一つ以上の厚いブロッキング層を使用することとの組み合わせが、中間色であり青緑色の範囲にある外部及び内部の両方からの反射の色とともに高い選択性を得ることができるように、これらのより良好な結果、すなわち低い光反射率とより小さい日射係数を得るのに寄与する。

ＩＩＩ．第２の機能層の周囲に集中させたブロッキング層の存在と厚さの作用
図２．ａ、２．ｂ、及び２．ｃは、それぞれ透過、外部反射及び内部反射の測色値がブロッキング上層の厚さ変動により変化する傾向を例示している。

図３．ａ、３．ｂ、及び３．ｃは、それぞれ透過、外部反射及び内部反射の測色値がブロッキング下層の厚さ変動により変化する傾向を例示している。

矢印は、ブロッキング上層と下層の厚さが増える方向を表している。

三つの機能層のそれぞれの上に位置する三つのブロッキング上層（ＯＢ１、ＯＢ２、ＯＢ３）を含む基準となる基材から出発して、以下のものを変動させた。
・第１の機能層の上に位置する第１のブロッキング上層の厚さＯＢ１（ＯＢ２とＯＢ３を含め、積層体のその他すべての厚さは変えず）。
・第２の機能層の上に位置する第２のブロッキング上層の厚さＯＢ２（ＯＢ１とＯＢ３を含め、積層体のその他すべての厚さは変えず）。
・第３の機能層の上に位置する第３のブロッキング層の厚さＯＢ３（ＯＢ１とＯＢ２を含め、積層体のその他すべての厚さは変えず）。

三つの機能層のそれぞれの下に位置する三つのブロッキング下層（ＵＢ１、ＵＢ２、ＵＢ３）を含む基準となる基材から出発して、以下のものを変動させた。
・第１の機能層の上に位置する第１のブロッキング下層の厚さＵＢ１（ＵＢ２とＵＢ３を含め、積層体のその他すべての厚さは変えず）。
・第２の機能層の上に位置する第２のブロッキング下層の厚さＵＢ２（ＵＢ１とＵＢ３を含め、積層体のその他すべての厚さは変えず）。
・第３の機能層の上に位置する第３のブロッキング下層の厚さＵＢ３（ＵＢ１とＵＢ２を含め、積層体のその他すべての厚さは変えず）。

比較例Ｃ．１〜Ｃ．４は、低すぎて特に−１０より低い内部反射のａ^*値を示す（表４参照）。

実際、測色曲線の分析、より詳細には曲線２．ｃと３．ｃの分析から、第２の機能層の上方に又は上に位置する第２のブロッキング層の厚さを増加させることによってのみａ^*値を増加させ得ることが示される。

結果として、第２の機能層に接触してブロッキング層を集中させることにより、測色測定の点で有利な内部反射特性を得ることが可能になる。

さらには、意外なことに、さらに低い内部光反射率ＬＲも得られる。

最後に、内部反射の満足のいく色が、透過及び外部反射の色に悪影響を及ぼすことなく得られるが、これはまったく予見できないものである。具体的には、ａ^*及びｂ^*値はすべて、−９と１との間である。

実際、透過及び外部反射におけるブロッキング下層と上層の厚さ変動による測色値の変化の傾向を例示するものである図２．ａ、２．ｂ、そして３．ａ、３．ｂは、透過、内部反射及び外部反射の色の観点において、本発明に従って得られる光反射と日射制御性能の非常に満足のいく妥協点をまったく示唆していない。
本発明の代表的な態様としては、以下を挙げることができる：
《態様１》
透明基材（１０）であり、当該基材から出発して、三つの金属性機能層（４０、８０、１２０）、特に銀又は銀を含む金属合金を基にした機能層と、四つの反射防止被膜（２０、６０、１００、１４０）とを、各金属性機能層（４０、８０、１２０）が二つの反射防止被膜（２０、６０、１００、１４０）の間に位置するように、交互に連続して含む薄層の積層体を含み、各反射防止被膜が少なくとも一つの誘電体層を含んでいる、透明基材（１０）であって、
・前記金属性機能層（４０、８０、１２０）の厚さが、当該基材から出発して、当該基材からの距離の関数として増加すること、
・第２の金属性機能層（８０）が、それぞれ第２のブロッキング下層及び第２のブロッキング上層と称されるブロッキング下層及びブロッキング上層から選択されて第２のブロッキング層と称される少なくとも一つのブロッキング層に、直接接触していること、
・第２のブロッキング下層及び／又は第２のブロッキング上層が１ｎｍより大きい厚さを示すこと、
・前記積層体が任意選択的に、第１の金属性機能層（４０）に接触して位置する第１のブロッキング層と、第３の金属性機能層（１２０）に接触して位置する第３のブロッキング層とから選択される少なくとも一つのブロッキング層を含むこと、
・第１、第２及び／又は第３のブロッキング層のそれぞれの厚さＣＢ１、ＣＢ２、ＣＢ３がＣＢ１＋ＣＢ３＜１．１ＣＢ２なる式を満足し、少なくとも厚さＣＢ２がゼロでないこと、
を特徴とする透明基材（１０）。
《態様２》
各金属性機能層（４０、８０、１２０）が少なくとも一つのブロッキング層に接触していることを特徴とする、態様１に記載の基材。
《態様３》
各金属性機能層（４０、８０、１２０）が、当該基材に対する位置に応じて規定される第１、第２及び第３のブロッキング上層と称されるブロッキング上層に接触していることを特徴とする、態様１又は２に記載の基材。
《態様４》
当該基材から出発して規定される第１、第２及び第３のブロッキング層に相当する前記ブロッキング層が以下の特性、すなわち、
・前記第２のブロッキング層の厚さＣＢ２の前記第１のブロッキング層の厚さＣＢ１に対する比が１．１０より大きく、好ましくは１．１０と１０の間であり、そしてさらに有利には１．１０と２．００の間、好ましくは１．４０と１．７０の間であって、これらの値を含むこと、
・前記第２のブロッキング層の厚さＣＢ２の前記第３のブロッキング層の厚さＣＢ３に対する比が１．１０より大きく、好ましくは２．００と１０の間、好ましくは２．９０と３．２０の間であって、これらの値を含むこと、
を満足することを特徴とする、態様１〜３の一つに記載の基材。
《態様５》
前記ブロッキング層が、好ましくはチタン、ニッケル、クロム及びニオブから選択される１種以上の元素の、金属又は金属合金を基にした金属層、金属窒化物層及び金属酸窒化物層から選択されることを特徴とする、態様１〜４の一つに記載の基材。
《態様６》
前記ブロッキング層が、Ｔｉ、ＴｉＮ、Ｎｂ、ＮｂＮ、Ｎｉ、ＮｉＮ、Ｃｒ、ＣｒＮ、ＮｉＣｒ又はＮｉＣｒＮ層から選択されることを特徴とする、態様１〜５の一つに記載の基材。
《態様７》
前記第２のブロッキング層の厚さＣＢ２が１．５〜３．５ｎｍであることを特徴とする、態様１〜６の一つに記載の基材。
《態様８》
前記ブロッキング層の合計の厚さが、３ｎｍと７ｎｍの間であって、これらの値を含み、好ましくは３．５ｎｍと５ｎｍの間、さらに好ましくは４ｎｍと５ｎｍの間であることを特徴とする、態様１〜７の一つに記載の基材。
《態様９》
当該基材から出発して規定される第１、第２及び第３の金属性機能層に相当する前記三つの金属性機能層が、以下の特性、すなわち、
・前記第２の金属層（８０）の厚さの前記第１の金属性機能層（４０）の厚さに対する比が１．５０と２．２０の間、好ましくは１．８０と２．２０の間であって、これらの値を含むこと、
・前記第３の金属性層（１２０）の厚さの前記第２の金属性機能層（８０）の厚さに対する比が１．１０と１．６０の間、好ましくは１．１０と１．５５の間であって、これらの値を含むこと、
を満足することを特徴とする、態様１〜８の一つに記載の基材。
《態様１０》
当該基材から出発して規定される第１、第２及び第３の反射防止被膜に相当する前記反射防止被膜が、先行する被膜の厚さに対する被膜の厚さの比として０．９０と１．２０の間の値を示し、これらの値を含むことを特徴とする、態様１〜９の一つに記載の基材。
《態様１１》
前記反射防止被膜が、ケイ素、アルミニウム、スズ又は亜鉛から選択される１種以上の元素の酸化物又は窒化物を基にする少なくとも一つの誘電体層を含むことを特徴とする、態様１〜１０の一つに記載の基材。
《態様１２》
前記反射防止被膜のそれぞれが、少なくとも１種の他の元素、例えばアルミニウムを使用して任意選択的にドープされた、ケイ素酸化物、例えばＳｉＯ ₂ など、ケイ素窒化物Ｓｉ ₃ Ｎ ₄ 及びケイ素酸窒化物ＳｉＯ _x Ｎ _y 、から選択されるケイ素化合物を基にした、バリア機能を有する少なくとも一つの誘電体層を含むことを特徴とする、態様１〜１１のいずれか一つに記載の基材。
《態様１３》
前記反射防止被膜のそれぞれが、少なくとも１種の他の元素、例えばアルミニウムを使用して任意選択的にドープされた、結晶性酸化物を基にした、特に酸化亜鉛を基にした、安定化機能を有する少なくとも一つの誘電体層を含むことを特徴とする、態様１〜１２のいずれか一つに記載の基材。
《態様１４》
当該透明基材から出発して規定される積層体であって、
・バリア機能を有する少なくとも一つの誘電体層と安定化機能を有する少なくとも一つの誘電体層とを含む第１の反射防止被膜、
・第１の機能層、
・第１のブロッキング層、
・安定化機能を有する少なくとも一つの下層誘電体層と、バリア機能を有する誘電体層と、安定化機能を有する少なくとも一つの上層誘電体層とを含む、第２の反射防止被膜、
・第２の機能層、
・第２のブロッキング層、
・安定化機能を有する少なくとも一つの下層誘電体層と、バリア機能を有する誘電体層と、安定化機能を有する少なくとも一つの上層誘電体層とを含む、第３の反射防止被膜、
・第３の機能層、
・第３のブロッキング層、
・安定化機能を有する少なくとも一つの誘電体層とバリア機能を有する少なくとも一つの誘電体層とを含む第４の反射防止被膜、
を含む積層体を含むことを特徴とする、態様１〜１３のいずれか一つに記載の基材。
《態様１５》
積層グレージング、非対称グレージング、又は二層グレージングタイプの複層グレージングの形態をとることを特徴とする、態様１〜１４のいずれか一つに記載の透明基材を含むグレージング。

Claims (20)

1. 透明基材（１０）であり、当該基材から出発して、三つの金属性機能層（４０、８０、１２０）と四つの反射防止被膜（２０、６０、１００、１４０）とを、各金属性機能層（４０、８０、１２０）が二つの反射防止被膜（２０、６０、１００、１４０）の間に位置するように、交互に連続して含む薄層の積層体を含み、各反射防止被膜が少なくとも一つの誘電体層を含んでいる、透明基材（１０）であって、
   ・前記金属性機能層（４０、８０、１２０）の厚さが、当該基材から出発して、当該基材からの距離の関数として増加すること、
   ・第２の金属性機能層（８０）が、それぞれ第２のブロッキング下層及び第２のブロッキング上層と称されるブロッキング下層及びブロッキング上層から選択されて第２のブロッキング層と称される少なくとも一つのブロッキング層に、直接接触していて、前記第２のブロッキング層の厚さＣＢ２が１．５〜３．５ｎｍであること、
   ・第２のブロッキング下層及び／又は第２のブロッキング上層が１ｎｍより大きい厚さを示すこと、
   ・第１、第２及び／又は第３のブロッキング層のそれぞれの厚さＣＢ１、ＣＢ２、ＣＢ３がＣＢ１＋ＣＢ３＜１．１ＣＢ２なる式を満足し、少なくとも厚さＣＢ２がゼロでないこと、
   ・前記ブロッキング層が、ＮｉＣｒの層であること、
   ・前記ブロッキング層の合計の厚さが３ｎｍと７ｎｍの間であって、これらの値を含むこと、
   を特徴とする透明基材（１０）。
2. 前記金属性機能層（４０、８０、１２０）が銀又は銀を含む金属合金を基にしていることを特徴とする、請求項１に記載の基材。
3. 前記積層体が、第１の金属性機能層（４０）に接触して位置する第１のブロッキング層と、第３の金属性機能層（１２０）に接触して位置する第３のブロッキング層とから選択される少なくとも一つのブロッキング層を含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載の基材。
4. 各金属性機能層（４０、８０、１２０）が少なくとも一つのブロッキング層に接触していることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材。
5. 各金属性機能層（４０、８０、１２０）が、当該基材に対する位置に応じて規定される第１、第２及び第３のブロッキング上層と称されるブロッキング上層に接触していることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基材。
6. 当該基材から出発して規定される第１、第２及び第３のブロッキング層に相当する前記ブロッキング層が以下の特性、すなわち、
   ・前記第２のブロッキング層の厚さＣＢ２の前記第１のブロッキング層の厚さＣＢ１に対する比が１．１０より大きいこと、
   ・前記第２のブロッキング層の厚さＣＢ２の前記第３のブロッキング層の厚さＣＢ３に対する比が１．１０より大きいこと、
   を満足することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基材。
7. ・前記第２のブロッキング層の厚さＣＢ２の前記第１のブロッキング層の厚さＣＢ１に対する比が１．１０と１０の間であり、これらの値を含むこと、
   ・前記第２のブロッキング層の厚さＣＢ２の前記第３のブロッキング層の厚さＣＢ３に対する比が２．００と１０の間であって、これらの値を含むこと、
   を特徴とする、請求項６に記載の基材。
8. 当該基材から出発して規定される第１、第２及び第３の金属性機能層に相当する前記三つの金属性機能層が、以下の特性、すなわち、
   ・前記第２の金属層（８０）の厚さの前記第１の金属性機能層（４０）の厚さに対する比が１．５０と２．２０の間であって、これらの値を含むこと、
   ・前記第３の金属性層（１２０）の厚さの前記第２の金属性機能層（８０）の厚さに対する比が１．１０と１．６０の間であって、これらの値を含むこと、
   を満足することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基材。
9. 当該基材から出発して規定される第１、第２及び第３の反射防止被膜に相当する前記反射防止被膜が、先行する被膜の厚さに対する被膜の厚さの比として０．９０と１．２０の間の値を示し、これらの値を含むことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基材。
10. 前記反射防止被膜が、ケイ素、アルミニウム、スズ又は亜鉛から選択される１種以上の元素の酸化物又は窒化物を基にする少なくとも一つの誘電体層を含むことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の基材。
11. 前記反射防止被膜のそれぞれが、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物Ｓｉ₃Ｎ₄及びケイ素酸窒化物ＳｉＯ_xＮ_yから選択されるケイ素化合物を基にした、バリア機能を有する少なくとも一つの誘電体層を含むことを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基材。
12. 前記ケイ素酸化物がＳｉＯ₂であることを特徴とする、請求項１１に記載の基材。
13. 前記ケイ素酸化物が少なくとも１種の他の元素を使用してドープされていることを特徴とする、請求項１１又は１２に記載の基材。
14. 前記少なくとも１種の他の元素がアルミニウムであることを特徴とする、請求項１３に記載の基材。
15. 前記反射防止被膜のそれぞれが、結晶性酸化物を基にした、安定化機能を有する少なくとも一つの誘電体層を含むことを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の基材。
16. 前記誘電体層が酸化亜鉛を基にしていることを特徴とする、請求項１５に記載の基材。
17. 前記結晶性酸化物が少なくとも１種の他の元素を使用してドープされていることを特徴とする、請求項１５又は１６に記載の基材。
18. 前記少なくとも１種の他の元素がアルミニウムであることを特徴とする、請求項１７に記載の基材。
19. 当該透明基材から出発して規定される積層体であって、
    ・バリア機能を有する少なくとも一つの誘電体層と安定化機能を有する少なくとも一つの誘電体層とを含む第１の反射防止被膜、
    ・第１の機能層、
    ・第１のブロッキング層、
    ・安定化機能を有する少なくとも一つの下層誘電体層と、バリア機能を有する誘電体層と、安定化機能を有する少なくとも一つの上層誘電体層とを含む、第２の反射防止被膜、
    ・第２の機能層、
    ・第２のブロッキング層、
    ・安定化機能を有する少なくとも一つの下層誘電体層と、バリア機能を有する誘電体層と、安定化機能を有する少なくとも一つの上層誘電体層とを含む、第３の反射防止被膜、
    ・第３の機能層、
    ・第３のブロッキング層、
    ・安定化機能を有する少なくとも一つの誘電体層とバリア機能を有する少なくとも一つの誘電体層とを含む第４の反射防止被膜、
    を含む積層体を含むことを特徴とする、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の基材。
20. 積層グレージング、非対称グレージング、又は二層グレージングタイプの複層グレージングの形態をとることを特徴とする、請求項１〜の１９いずれか一項に記載の透明基材を含むグレージング。

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