JP6585165B2 - 複数の部分的金属膜を有する積層体を備えた基板、グレージングユニット、利用および方法 - Google Patents

Description

本発明は、ガラスのようなとりわけ硬質無機材料製の透明基板に関するものであり、前記基板は、長い波長の太陽放射および／または赤外放射に作用することができる単数または複数の機能膜を含む薄膜積層体で覆われる。

本発明は、より詳細には、単数のまたはそれぞれの機能膜が二つの反射防止コーティングの間に配置されるように、ｎは１以上の整数であって、とりわけ銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースの機能膜である「ｎ層」の金属機能膜と、「（ｎ＋１）層」の反射防止コーティングとを交互に含む薄膜積層体を備えた基板、とりわけ透明ガラス基板に関する。各反射防止コーティングは、少なくとも一層の反射防止膜を有し、また各コーティングは、好ましくは複数層から成り、そのうちの少なくとも一層さらには各層が反射防止膜である。反射防止膜の概念は、ここでは、誘電体膜の概念と同義である。誘電体膜の概念は、とりわけ金属機能膜の概念と対照的に用いられ、金属機能膜は、その金属性により誘電体であり得ない。

本発明は、より詳細には、断熱グレージングユニットおよび／またはサンプロテクショングレージングユニットを製造するためのそのような基板の利用に関する。これらのグレージングユニットは、建物にも車両にも取り付けられることを用途とし得、空気調節のための労力を減少させること、および／または、極端な過熱を防ぐこと（いわゆる「ソーラーコントロール」グレージングユニット）、および／または、建物および車室において増え続ける多量のガラス面によりもたらされる、外方へ消散されるエネルギー量を減少させること（いわゆる「低放射」グレージングユニット）、をとりわけ目的としている。

これらの基板は、電子機器（照明装置、ディスプレイデバイス、太陽電池パネル、エレクトロクロミックグレージングユニット等）内に特に組み込まれ得、そしてそのとき積層体は、電流の伝導のための電極の役目を果たし得、またはこれらの基板は、例えば電熱グレージングユニットのような、特定の機能性を有するグレージングユニット内に組み込まれ得る。

そのような特性を基板に付与することで知られているタイプの膜積層体は、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する金属機能膜、とりわけ銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースまたは完全に銀製の金属機能膜から成る。

このタイプの積層体において、金属機能膜は、したがって二つの誘電体反射防止コーティングの間に配置されており、該二つの誘電体反射防止コーティングは、それぞれが一般に複数の膜を有し、該複数の膜は、それぞれが窒化物タイプまたとりわけ窒化ケイ素または窒化アルミニウム、または酸化物タイプの反射防止材料製である。

ただし、阻止コーティングが、一つのまたはそれぞれの反射防止コーティングと金属機能膜との間に挿入されることが時としてあり、基板の方向にある、機能膜の下に配置される阻止コーティングは、型押しおよび／または急冷タイプの、場合によっては行われ得る高温での熱処理の際に該膜を保護し、また基板とは反対側にある、機能膜の上に配置される阻止コーティングは、上方反射防止コーティングの堆積の際にまた型押しおよび／または急冷タイプの、場合によっては行われ得る高温での熱処理の際に、場合によっては起こり得る損傷からこの膜を保護する。

現在、一般的に、各金属機能膜が、完全な膜であること、すなわち、その表面の全体に渡ってかつその厚さの全体に渡って、考えられる金属材料から成ることが望まれる。

当業者は、所定の材料（例えば銀）について、この材料の堆積の通常条件において、完全な膜は、特定の厚さ以上からしか得られないと考察している。

銀の完全な膜と反射防止膜との間の付着エネルギーは非常に低く、およそ１Ｊ／ｍ²くらいであるが、一方、二つの反射防止膜の間の付着エネルギーは、銀と別の反射防止膜との間の付着エネルギーより５倍から９倍高い。銀製または銀ベースの機能膜を少なくとも一枚有する積層体の付着エネルギーは、したがって、完全な金属機能膜とその他の材料とのこの低い付着エネルギーゆえに、制限される。

発明者らは、単数または複数の金属膜を有する、また複数のおよび好ましくは最大で二つの金属膜について考えられる条件における完全な膜を得るために必要な最小の厚さ未満の厚さを有する、薄膜積層体を堆積させる可能性に興味を持った。

発明者らは、一つの不連続金属膜が、基板と、積層体の単一のまたは第一の連続金属機能膜との間にあり、もう一つの不連続金属膜が、単一のまたは積層体の最後の連続金属機能膜より上にある、二つの不連続金属膜を有する積層体について、高い機械的強度を、またさらにより驚くべきことに、高い耐薬品性までも得ることができることを確認した。

さらに、発明者らは、このように実現される積層体が、透明で、ベール（「霞」）がなく、または虹彩現象がなく、かつ、透過色にせよ反射色にせよ、完全な金属機能膜（単数または複数）を有する積層体を用いて得られる色に類似し得る色を伴うことを確認した。

そのとき、特定波長帯における特有の吸収効果、および特定の色特徴（とりわけ積層体側または基板側の反射色）の中性化効果を得るために、そのような不連続金属膜の一様でない特有の可視吸収帯を利用することが可能である。

また、本発明の範囲内では、不連続金属膜を全く含まないまたは単数または複数の連続吸収膜を含む類似の積層体の場合よりも高い日射透過率を得ることが可能である。

国際公開第２０１１／１２３４０２号の先行技術により、三つの金属機能膜を有する積層体であって、そのうちの二つの金属機能膜の間に位置する金属機能膜が不連続膜であるものが知られている。この不連続膜は、高い可視吸光度を有し、しかも酸化亜鉛よりもむしろスズ酸亜鉛の上にこの不連続金属膜を堆積することにより、積層体すなわち不連続金属膜の可視吸光度が増大することが記されている。ただし、例１から５、９についてならびに反例６についての吸光度値は示されていない。

また、光線透過率の積分値、基板側または積層体側の光線反射率の積分値は、示されておらず、単一基板上の積層体について（表１）、Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系における急冷の熱処理後の、積層体側の反射色、基板側の反射色および透過色のみが示されている。

可視光線透過率（ＶＬＴ）は、例１〜４について示されてはいるが、もっぱら二重グレージングユニットへの組立て後である。可視光線透過率は、平均４０％である。

国際公開第２０１１／１２３４０２号

本発明はこのように、その最も広い意味において、請求項１による基板を目的としている。この基板は、一つの面が、７ｎｍと２０ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅを有する銀ベースまたは銀製の少なくとも一つの金属機能膜および二つの反射防止コーティングを有する薄膜積層体で覆われており、前記反射防止コーティングはそれぞれが、少なくとも一つの反射防止膜を有し、前記機能膜は、二つの反射防止コーティングの間に配置される。前記積層体は、０．５ｎｍと５ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅ’をそれぞれ有する二つの不連続金属膜を有し、下方不連続金属膜は、一方では前記面と他方では単一のまたは前記面を起点として第一の金属機能膜との間に位置し、また、上方不連続金属膜は、単一のまたは前記面を起点として最後の金属機能膜より上に位置する。

好ましい変形例において、前記積層体は、下方の膜と上方の膜である、ただ二つのこれらの不連続金属膜を有し、他の不連続金属膜を含まない。

本発明によると、このように堆積されるそれぞれの不連続金属膜は、自己組織化膜であり、該自己組織化膜は、互いの間で接続する複数の島の形で構造化しており、島間に覆われない領域を伴う。

前記下方不連続金属膜は好ましくは、下方反射防止コーティング内に位置し、各面に反射防止膜を伴い、場合によっては存在し得る上方不連続金属膜は好ましくは、上方反射防止コーティング、つまり基板を起点として積層体の最後の反射防止コーティング内に位置し、各面に反射防止膜を伴う。

前記薄膜積層体が、複数の金属機能膜とりわけ銀ベースまたは銀製の複数の金属機能膜を有する場合、好ましくは、二つの金属機能膜の間に位置する反射防止コーティングのいずれも、０．５ｎｍと５ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さを有する不連続金属膜を有さない。

本発明の趣旨では、それぞれの不連続金属膜は、０．５ｎｍと２ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅ’を有し得る。

好ましくは、それぞれの不連続金属膜は、一方では５５０ｎｍで少なくとも１．９の屈折率を有する反射防止膜の上に直接、また他方では５５０ｎｍで少なくとも１．９の屈折率を有する反射防止膜の下に直接位置する。それぞれの不連続金属膜について、下方に直接位置する前記反射防止膜の屈折率は、好ましくは、上方に直接位置する前記反射防止膜の屈折率と同じである。

また好ましくは、それぞれの不連続金属膜は、一方では５５０ｎｍで１ｎｍと８ｎｍとの間のこれらの値を含む、さらには２ｎｍと６ｎｍとの間のこれらの値を含む光学上の厚さを有する反射防止膜の上に直接、また他方では５５０ｎｍで１ｎｍと８ｎｍとの間のこれらの値を含む、さらには２ｎｍと６ｎｍとの間のこれらの値を含む光学上の厚さを有する反射防止膜の下に直接位置する。

これら不連続金属膜は連続していないことから、それぞれの不連続金属膜を取り囲む反射防止膜間での直接接触が可能になる。これらの領域の付着は強力である。最も弱い境界面で、つまり不連続金属膜と隣接する反射防止膜との間の境界面で、場合によっては拡張し得るクラックは、二つの反射防止膜の間で進行するためにしたがって広がっていくことになり、このことからより高いエネルギーが必要となる。

したがって、こうして、とりわけ連続吸収膜と比べて、この箇所での積層体の付着エネルギーは著しく改善される。

本発明の趣旨での「不連続膜」で、本発明による積層体の表面での任意の寸法の正方形が考えられる際、そのとき、この正方形において、不連続機能膜は、好ましくは、正方形表面の５０％から９８％、さらには正方形表面の５３％から８３％、さらにはそれぞれに６３％から８３％に渡ってしか存在しないことを理解しなければならない。

考えられる正方形は、コーティングの主要部分内に位置し、本発明の範囲内で、最終利用のために隠されるであろう特定の縁または特定の輪郭を実現するものではない。

本発明によると、このタイプの自己組織化不連続金属膜は、連続金属機能膜を超える付着エネルギーを有し、またその光学特性（光線透過率、光線反射率および放射率）は、いくつかの特有の用途について許容される範囲にとどまりながらも低下する。

好ましくは、それぞれの不連続金属膜は、銀ベースであるかまたは銀製である。

好ましくは、それぞれの不連続金属膜は、連続金属膜と、下でも、上でも、直接接触していない。

また以下が可能である：
−各金属機能膜の下に配置される前記反射防止コーティングが、５５０ｎｍで１．８と２．２との間の屈折率を有する材料製の中屈折率の反射防止膜を有し、この中屈折率の反射防止膜が、好ましくは酸化物ベースであり、かつ／またはこの中屈折率の反射防止膜が、好ましくは５と３５ｎｍとの間の物理的な厚さを有すること、
−面と第一のまたは単一の金属機能膜との間に配置される前記反射防止コーティングが、５５０ｎｍで２．３と２．７との間の屈折率を有する材料製の高屈折率の反射防止膜を有し、この高屈折率の反射防止膜が、好ましくは酸化物ベースであり、かつ／またはこの高屈折率の反射防止膜が、好ましくは５と２５ｎｍとの間の物理的な厚さを有すること、
−第一のまたは単一の金属機能膜より上に、つまり面とは反対側に配置される反射防止コーティングが、５５０ｎｍで１．８と２．２との間の屈折率を有する材料製の中屈折率の反射防止膜を有し、この中屈折率の反射防止膜が、好ましくは酸化物ベースであり、かつ／またはこの中屈折率の反射防止膜が、好ましくは５と３５ｎｍとの間の物理的な厚さを有すること、
−第一のまたは単一の金属機能膜の上に、つまり面とは反対側に配置される反射防止コーティングが、５５０ｎｍで２．３と２．７との間の屈折率を有する材料製の高屈折率の反射防止膜を有し、この高屈折率の反射防止膜が、好ましくは酸化物ベースであり、かつ／またはこの高屈折率の反射防止膜が、好ましくは５と２５ｎｍとの間の物理的な厚さを有すること、
−−前記積層体が、それぞれが７ｎｍと２０ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅを有する、銀ベースまたは銀製の二つまたは三つの金属機能膜を有し、また前記積層体が、０．５ｎｍと５ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅ’をそれぞれが有する二つの不連続金属膜をさらに有し、下方不連続金属膜は、一方では前記面と他方では単一のまたは前記面を起点として第一の金属機能膜との間に位置し、また上方不連続金属膜は、単一のまたは前記面を起点として最後の金属機能膜より上に位置すること、
−前記積層体が、それぞれが７ｎｍと２０ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅを有する、銀ベースまたは銀製の二つまたは三つの金属機能膜を有し、また前記積層体が、ただ二つの不連続金属膜をさらに有し、それぞれの膜が、０．５ｎｍと５ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅ’を有し、下方不連続金属膜が、一方では前記面と他方では単一または前記面を起点として第一の金属機能膜との間に位置し、また上方不連続金属膜が、単一のまたは前記面を起点として最後の金属機能膜より上に位置すること。

本発明の趣旨での「コーティング」で、コーティング内にただ一つの膜または異なる材料の複数の膜があり得ることを理解しなければならない。

「積層体」で、薄膜の全体であって、これらの膜の間に無機基板（例えばガラス）または有機基板（例えばプラスチック材料フィルム）の介在なく、互いの上に堆積される薄膜の全体を理解しなければならない。

通例通り、「ある材料ベースの膜」で、膜が主にその材料から成ること、すなわちその材料の化学元素が、または必要があればその安定した化学量論組成における考えられるその材料の生成物が、考えられる膜の原子パーセントで少なくとも５０％に相当することを理解しなければならない。

通例通り、「金属機能膜」は、赤外線を反射しまた連続する膜の堆積物を示す。

やはり通例通り、本発明の趣旨での「反射防止膜」で、その性質の観点から、材料が「非金属」であること、すなわち金属ではないことを理解しなければならない。本発明の文脈において、この用語は、可視の全波長帯（３８０ｎｍから７８０ｎｍ）に渡って５以上であるｎ／ｋ比率を有する材料を示す。

ｎが、所定の波長での材料の実際の屈折率を示すこと、またｋが、所定の波長での屈折率の虚部を示すことが想起され、ｎ／ｋ比率は、所定の波長で計算される。

本明細書において示される屈折率の値は、通例通り５５０ｎｍの波長で測定される値である。

本発明によると、前記単一のまたはそれぞれの不連続金属膜は、以下のような厚さｅ’を有し得る：
−二酸化チタンＴｉＯ₂ベースの膜の上に堆積される、１．０≦ｅ’≦４．５ｎｍさらには１．０≦ｅ’≦４．０ｎｍ、または２．０≦ｅ’≦４．５ｎｍさらには２．０≦ｅ’≦４．０ｎｍ、または
−亜鉛とスズの酸化物ＳｎＺｎＯ_xベースの膜の上に堆積される、１．０≦ｅ’≦４．５ｎｍさらには１．０≦ｅ’≦４．０ｎｍ、または２．０≦ｅ’≦４．５ｎｍさらには２．０≦ｅ’≦４．０ｎｍ、または
−酸化亜鉛ＺｎＯベースの膜の上に堆積される、１．０≦ｅ’≦５．０ｎｍさらには１．０≦ｅ’≦４．５ｎｍ、または２．０≦ｅ’≦５．０ｎｍさらには２．０≦ｅ’≦４．５ｎｍ、または
−窒化ケイ素Ｓｉ₃Ｎ₄ベースの膜の上に堆積される、１．０≦ｅ’≦５．０ｎｍさらには１．０≦ｅ’≦４．０ｎｍ、または２．０≦ｅ’≦５．０ｎｍさらには２．０≦ｅ’≦４．０ｎｍ。

好ましくは、本発明による積層体は、基板の面の上に直接堆積される。

単一の連続金属機能膜を有する本発明による積層体について、この機能膜は、効果的低放射積層体を実現するために、８と１７ｎｍとの間、さらには１０と１５ｎｍとの間、さらには１２と１４ｎｍとの間の厚さを有し得る。

本発明の別の特定のバージョンにおいて、少なくとも一つの金属機能膜は、機能膜と機能膜より下の反射防止コーティングとの間に配置される下方阻止コーティングの上に直接堆積され、かつ／または少なくとも一つの機能膜は、機能膜と機能膜より上の反射防止コーティングとの間に配置される上方阻止コーティングの下に直接堆積され、また下方阻止コーティングおよび／または上方阻止コーティングは、０．２ｎｍと２．５ｎｍとの間のこれらの値を含む物理的な厚さを有するニッケルベースまたはチタンベースの薄い膜を含む。

基板から最も離れた膜である、上の反射防止コーティングの最後の膜は、酸化物ベースであり得、また好ましくはそのとき化学量論のもとに堆積される。該膜は、とりわけ二酸化チタン（ＴｉＯ_x）ベースまたは亜鉛とスズの混合酸化物（Ｓｎ_zＺｎ_yＯ_x）ベースであり得る。

積層体はこのように、好ましくは化学量論のもとに堆積される最後の膜（英語で「ｏｖｅｒｃｏａｔ」）、すなわち保護膜を有し得る。この膜は、堆積後の積層体において、化学量論的に概して酸化された状態である。

本発明は、框構造によってまとめて保持される少なくとも二つの基板を有する複層グレージングユニットにさらに関しており、前記グレージングユニットは、外部空間と内部空間との間の仕切りを実現するものであり、該グレージングユニットの中には、少なくとも一つのガスの中間層が二つの基板の間に配置され、一つの基板は本発明によるものである。

特定変形例において、本発明による積層体は、二重グレージングユニットの面４に、すなわちガスの中間層によって保護されないグレージングユニットの面の上に位置づけされるが、これは、積層体がとりわけ耐久性があるためである。

本発明によるグレージングユニットは、本発明による積層体を備える基板を少なくとも包含するが、該積層体は、場合によっては少なくとも一つの別の基板に結びついている。各基板は、クリアであり得るかまたは着色され得る。少なくとも基板のうちの一つは、とりわけ、全体として着色されたガラス製であり得る。着色タイプの選択は、製造完了後のグレージングユニットのために求められる光線透過レベルおよび／または求められる比色定量によるアスペクトに依るであろう。

本発明によるグレージングユニットは積層構造を有することができ、該積層構造は、少なくとも一つの熱可塑性ポリマーフィルムによって少なくとも二つのガラスタイプの硬質基板をとりわけ結びつけて、ガラス／薄膜積層体／シート（単数または複数）／ガラス／ガラスシートのタイプの構造を示す。ポリマーはとりわけ、ポリビニルブチラールＰＶＢ、エチレン酢酸ビニルＥＶＡ、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴ、ポリ塩化ビニルＰＶＣベースであり得る。

本発明はさらに、７ｎｍと２０ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅを有する銀ベースまたは銀製の少なくとも一つの金属機能膜および二つの反射防止コーティングを有する積層体内の本発明による二つの不連続金属膜の利用に関しており、前記反射防止コーティングは、それぞれ少なくとも一つの反射防止膜を有し、前記機能膜は、二つの反射防止コーティングの間に配置され、前記積層体は、０．５ｎｍと５ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅ’をそれぞれ有する二つの不連続金属膜をさらに有し、下方不連続金属膜は、一方では前記面と他方では単一のまたは前記面を起点として第一の金属機能膜との間に位置し、また、上方不連続金属膜は、単一のまたは前記面を起点として最後の金属機能膜より上に位置する。好ましい変形例において、前記積層体は、下方の膜と上方の膜である、ただ二つのこれらの不連続金属膜を有し、他の不連続金属膜を含まない。

本発明はさらに、７ｎｍと２０ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅを有する銀ベースまたは銀製の少なくとも一つの金属機能膜および二つの反射防止コーティングを有する積層体内の、本発明による二つの不連続金属膜の堆積方法に関しており、前記反射防止コーティングは、それぞれ少なくとも一つの反射防止膜を有し、前記機能膜は、二つの反射防止コーティングの間に配置され、前記積層体は、０．５ｎｍと５ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅ’をそれぞれ有する二つの不連続金属膜を有し、下方不連続金属膜は、一方では前記面と他方では単一のまたは前記面を起点として第一の金属機能膜との間に位置し、また上方不連続金属膜は、単一のまたは前記面を起点として最後の金属機能膜より上に位置する。好ましい変形例において、前記積層体は、下方の膜と上方の膜である、ただ二つのこれらの不連続金属膜を有し、他の不連続金属膜を含まない。

有利には、本発明はこのように、透明基板上に堆積された状態で、基板だけの放射率より低い放射率を有しつつ、比較的中性の透過色および反射色を伴って、可視光線透過率Ｔ_L＞５０％および２０％未満また１０％未満ですらある可視光線反射率Ｒ_C（積層体側）を有する、薄膜積層体を実現することができる。

有利には、本発明はこのように、１層、２層、３層、４層さらにはより多くの銀ベースまたは銀製の金属機能膜（単数または複数）を有し、また積層体が高い機械的強度および／または高い耐薬品性を有するように、二つの、また好ましくはただ二つの、一つが下方でもう一つが上方である不連続機能膜を有する、薄膜積層体を実現することができる。

本発明の詳細および有利な特徴は、以下のような添付の図面を使って説明される、後続の非限定例から明らかになる。

一つの不連続金属膜を有する単層機能膜の積層体であって、不連続金属膜は、金属機能膜より上に堆積されている、 一つの不連続金属膜を有する単層機能膜の積層体であって、不連続金属膜は、金属機能膜より下に堆積されている、 二つの不連続金属膜を有する単層機能膜の積層体であって、一つの不連続金属膜は、金属機能膜より上に堆積されており、一つの不連続金属膜は、金属機能膜より下に堆積されている、 本発明による積層体を組み入れる二重グレージングユニットの一解決案、 ５３％から９８％の面積占有率を有する銀製の不連続金属膜についての、左から右への二値化ＴＥＭ像、 例１から３の波長λに応じた可視光線透過率Ｔ_L（通常は０％から１００％と考えられる値の代わりに０から１の率として表されている）、 例１から３の波長λに応じた吸収スペクトルＡｂ（通常は０％から１００％と考えられる値の代わりに０から１の率として表されている）、 例１から３の波長λに応じた可視光線反射率Ｒ_L（通常は０％から１００％と考えられる値の代わりに０から１の率として表されている）、 基板だけおよび例５、５．０、５．１および５．２における波長λに応じた％表示での可視光線透過率Ｔ_L、 基板だけおよび例５、５．０、５．１および５．２における波長λに応じた％表示での吸収スペクトルＡｂ、 基板だけおよび例５、５．０、５．１および５．２における波長λに応じた積層体と反対側の％表示での可視光線反射率Ｒ_G、 基板だけおよび例５、５．０、５．１および５．２における波長λに応じた積層体側の％表示での可視光線反射率Ｒ_C、 二つの不連続金属膜を有する二層機能膜の積層体であって、一つの不連続金属膜は、第一の金属機能膜より下に堆積されており、また一つの不連続金属膜は、第二の金属機能膜より上に堆積されている、 二つの不連続金属膜を有する三層機能膜の積層体であって、一つの不連続金属膜は、第一の金属機能膜より下に堆積されており、また一つの不連続金属膜は、第三の金属機能膜より上に堆積されている。

図１から図３は、透明なガラス基板３０の上、またより正確にはこの基板３０の面３１の上に堆積される単層機能膜の積層体３４の構造を示しており、該構造において、銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースまた好ましくはもっぱら銀製の単一の機能膜１４０は、二つの反射防止コーティングの間、すなわち機能膜１４０より下つまり基板３０の方向に位置する下の反射防止コーティング１２０と、機能膜１４０より上つまり基板３０とは反対側に配置される上の反射防止コーティング１６０との間に配置される。

これらの二つの反射防止コーティング１２０、１６０はそれぞれが、少なくとも一つの反射防止膜１２８、１６８を有する。

場合によっては、一方では、機能膜１４０は、下の反射防止コーティング１２０と機能膜１４０との間に配置される下方阻止コーティングの上に直接堆積され得、また他方では、機能膜１４０は、機能膜１４０とその上の反射防止コーティング１６０との間に配置される上方阻止コーティング１５０の下に直接堆積され得る。

下方阻止膜および／または上方阻止膜は、金属形状で堆積されまた金属膜のようであるにも拘らず、実際には酸化膜であり、というのは、それらの第一の機能が、機能膜を保護するために積層体が堆積する間に酸化することだからである。

この反射防止コーティング１６０は、とりわけ酸化物ベースの、中でも化学量論のもとでの酸素による、任意の保護膜（非表示）で終わり得る。

図４で示されるように、単層機能膜の積層体が、二重グレージングユニット構造の複層グレージングユニット１００において利用されるとき、このグレージングユニットは、框構造９０によってまとめて保持されまたガスの中間層１５によって互いに離される二つの基板１０、３０を有する。

グレージングユニットは、外部空間ＥＳと内部空間ＩＳとの間の仕切りをこのように実現する。

本発明による積層体は、その高い機械的強度ゆえに、面４（建物内に入り込む太陽光の入射方向を考えて建物の最も内部側のシートの上、かつ内部の方に向けられるその面の上）に位置づけされ得る。

図４は、外部空間ＥＳと接触している基板３０の外側面３１の上に位置づけられる薄膜積層体３４の、面４へのこの位置づけを示しており（建物内に入り込む太陽光の入射方向は、二重矢印で示されている）、基板３０のもう一方の面２９は、ガスの中間層１５と接触している。

しかしながら、二重グレージングユニットのこの構造において、基板のうちの一つが積層構造を有することもまた検討され得るが、そのような構造にはガスの中間層はないから、混同が生じ得ない。

一連の７つの例が実現された：
−例１は、標準試料に相当し、すなわちいかなる不連続金属膜もない単層機能膜の積層体である、
−例２は、例１に基づきかつ単層機能膜の積層体の上方部分（すなわち基板を起点としてこの機能膜より上）に金属製吸収膜１６７’をさらに有する比較例である、
−例３は、例１に基づきかつ単層機能膜の積層体の上方部分に上方不連続金属膜１６７をさらに有する本発明による例である、
−例４は、例１に基づきかつ単層機能膜の積層体の下方部分（すなわちこの機能膜と基板との間）に吸収膜１２３’をさらに有する比較例である、
−例５は、例１に基づきかつ単層機能膜の積層体の下方部分に下方不連続金属膜１２３をさらに有する例である、
−例６は、例１に基づきかつ単層機能膜の積層体の下方部分（すなわちこの機能膜と基板との間）に吸収膜１２３’をさらに有し、かつ単層機能膜の積層体の上方部分（すなわち基板を起点としてこの機能膜より上）に吸収膜１６７’をさらに有する比較例である、
−例７は、例１に基づきかつ単層機能膜の積層体の下方部分に下方不連続金属膜１２３をさらに有し、かつ単層機能膜の積層体の上方部分に上方不連続金属膜１６７をさらに有する例である。

以降の全ての積層体について、膜の堆積条件は以下の通りである。

これらの例のための堆積膜は、このように五つのカテゴリーに分類されることができる：
ｉ−可視光の全波長帯に渡って５以上であるｎ／ｋ比率を有する、誘電性の／反射性の材料製膜、すなわち、Ｓｉ₃Ｎ₄：Ａｌ製またはＴｉＯ₂製またはＺｎＯ製の膜１２１、１２１’、１２８、１６２、１６８、１６９、１６９’、
ｉｉ−赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する材料である、Ａ製の連続金属機能膜、
ｉｉｉ−積層体の堆積の際に機能膜をその性質の変更から守ることを目的とする上方阻止膜１５０、すなわちＮｉ、ＮｉＣｒであり、それらの光学特性およびエネルギー特性への影響は一般に、それらが薄い厚さ（２ｎｍ以下）を呈するときには認められていない、
ｉｖ−例３、５および７について、不連続金属膜１２３および／または１６７、言い換えると英語で「Ｄｉｓｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ Ｍｅｔａｌｌｉｃ Ｌａｙｅｒ」を表す「ＤＭＬ」膜、
ｖ−比較例２、４および６について、チタン製の金属製吸収膜１２３’、１６７’であって、このタイプの膜は連続膜である。

全ての例において、薄膜積層体は、ＳＡＩＮＴ−ＧＯＢＡＩＮ社によって供給される、商標Ｐｌａｎｉｌｕｘの厚さ４ｍｍのクリアなソーダ石灰ガラス製の基板、Ｇ、の上に堆積された。

これらの積層体について、
−Ｔ_Lは、２度視野でのＤ６５光源によって測定される、％表示での可視光線透過率を示す、
−ａ^* _Tおよびｂ^* _Tは、２度視野でのＤ６５光源によって測定されるＬＡＢ表色系における透過色ａ^*およびｂ^*を示す、
−Ｒ_Gは、２度視野でのＤ６５光源によって測定される、ガラス側（積層体が堆積される表面と反対側の、基板の表面）の、％表示での可視光線反射率を示す、
−ａ^* _Gおよびｂ^* _Gは、覆われる側と反対側の基板側（面２９）の、２度視野でのＤ６５光源によって測定されるＬＡＢ表色系における反射色ａ^*およびｂ^*を示す、
−Ｒ_Cは、２度視野でのＤ６５光源によって測定される、薄膜積層体側（基板の表面３１）の、％表示での可視光線反射率を示す、
−ａ^* _Cおよびｂ^* _Cは、覆われる基板側（面３１）の、２度視野でのＤ６５光源によって測定されるＬＡＢ表色系における反射色ａ^*およびｂ^*を示す、
−ｇは、率ｇすなわち日射透過率を示しており、
−例１から３については、１６ｍｍのアルゴンガスの層で隔てられる４ｍｍの二つのガラス製基板を有する二重グレージングユニットの面３に配置される積層体の形状の日射透過率を示し、積層体を備える基板はこのように、入射する太陽光が通過する二番目の基板である、また
−例４から７については、１６ｍｍのアルゴンガスの層で隔てられる４ｍｍの二つのガラス製基板を有する二重グレージングユニットの面２に配置される積層体の形状の日射透過率を示し、積層体を備える基板はこのように、入射する太陽光が通過する最初の基板である。

この率は規格ＥＮ４１０により決定され、またグレージングユニットを通過するエネルギーの直接的な透過と、内部に向かう副次的な熱伝達との和に相当する。

本発明によると、不連続金属膜、ＤＭＬは、５０％と９８％との間の（不連続金属膜の真下に位置しかつ不連続金属膜によって覆われる膜の面積に比例する）面積占有率を好ましくは有する不連続膜である。

本発明によると、不連続金属膜、ＤＭＬは、好ましくは、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｐｔのリストの中から選択される金属のうちの少なくとも一つを主に（少なくとも原子比率で５０％）有する膜である。

本発明によると、不連続金属膜、ＤＭＬは好ましくは、屈折率ｎが好ましくは少なくとも１．９である誘電性の／反射性の材料製膜によって、各面つまりその上およびその下で挟まれる膜である。

図５は、基板／ＺｎＯ／Ａｇ製のＤＭＬ膜／ＺｎＯの構造を有する薄膜積層体Ｚであって、（屈折率ｎ＝１．９の）各ＺｎＯ膜は１０ｎｍの厚みを有するものについて、左から右へ、
−２ｎｍの銀の厚さで得られる５３％の面積占有率、この積層体は放射率ε＝８８．７％を有する、
−３ｎｍの銀の厚さで得られる６３％の面積占有率、この積層体は放射率ε＝４９．３％を有する、
−４ｎｍの銀の厚さで得られる８４％の面積占有率、この積層体は放射率ε＝２３．９％を有する、
−５ｎｍの銀の厚さで得られる９８％の面積占有率、この積層体は放射率ε＝１５．７％を有する、
ものを示している。

理論計算は、５ｎｍ以下のＤＭＬの銀の厚さについて、すなわち５０％と９８％との間の面積占有率について、確認された放射率以上でありながらも、基板だけの放射率よりも低い放射率ε_Zを得ることが、Ｚタイプの積層体を用いて可能であることを示している。

本明細書において、ＤＭＬの厚さｅが言及されるとき、それは、ＤＭＬによって覆われる領域において測定される厚さまたは平均厚さではなく、もし膜が連続しているならば得られるであろう厚さを意味する。

この値は、膜の堆積速度（つまりより正確には、金属機能膜堆積物内への基板の展開速度）、時間単位ごとの噴霧される材料の量、ならびに堆積が行われる面積を考えて得ることが可能である。厚さが連続機能膜との直接比較を可能にするので、この厚さは非常に便利である。

厚さｅ’はこのように、堆積膜が連続であると仮定したときに測定されるであろう厚さである。

実際には、もし通常は、マグネトロンスパッタリング法による同じ堆積条件（非常に弱い圧力、ターゲットの組成、基板の展開速度、陰極での電力）において、機能膜の厚さが１０ｎｍであるならば、半分すなわち５ｎｍの機能膜の厚さを得るために、基板の展開速度を半分に減少させる必要がありまたそれで十分である。

この図５で、これは、二値化モード（黒−白）で示される透過電子顕微鏡ＴＥＭによって観察されたものである。この図の４つの断片で、銀は白色であり、ＺｎＯは黒色である。

このタイプの積層体Ｚについて、付着エネルギーは、５ｎｍより大きい銀の厚さについてほぼ一定であることが確認され、すなわちこのエネルギーは、１．０と１．５Ｊ／ｍ²との間に含まれ、これは十分に低い。

以下の表１は、図１に関連して、例１から３の膜のそれぞれの、ナノメートルでの幾何学的な厚さまたは物理的な厚さ（つまり光学上の厚さではない）を示す。

これらの例１から３について、面３１と単一金属機能膜１４０との間に配置される反射防止コーティング１２０は、５５０ｎｍで２．３と２．７との間の屈折率を有する材料製の高屈折率の反射防止膜１２４を有し、この高屈折率の反射防止膜１２４は、好ましくは、５と２５ｎｍとの間の物理的な厚さを有する。

これらの例１から３について、単一金属機能膜１４０より上に配置される反射防止コーティング１６０は、５５０ｎｍで１．８と２．２との間の屈折率を有する材料製の中屈折率の反射防止膜１６２を有し、この中屈折率の反射防止膜１６２は、好ましくは、５と３５ｎｍとの間の物理的な厚さを有する。

以下の表２は、図２に関連して、例４および５の膜のそれぞれの、ナノメートルでの物理的な厚さを示す。

以下の表３は、図３に関連して、例６および７の膜のそれぞれの、ナノメートルでの物理的な厚さを示す。

例２、４および６はそれぞれ例３、５および７と比較可能であり、というのもそれらはすべて、同じ材料（Ａｇ）製および同じ厚さの単一の金属機能膜を有するからである。これらの例はまた例１とも比較可能であり、というのも該例もまた同じ材料（Ａｇ）製および同じ厚さの単一の金属機能膜を有するからであり、反射防止コーティングは、系統間（例２および３系統、例４および５系統、例６および７系統）で同一ではなく、というのもそれらの組成が、可能な限り優れた性能を得ようと試みて最適化されたからである。

次の表は、ＤＭＬ膜を一つ（例３および５）または二つ（例７）含む例３、５および７の主要な光学特性を示しており、かつこれらの特性を、Ｔｉ製で各ＤＭＬ膜の厚さと同じ厚さの吸収膜を一つ（例２および４）または二つ（例６）含む例２、４および６の特性と、ならびにＤＭＬ膜も吸収膜も有さない例１の特性と、それぞれ比較している。

こうして、以下を実現することが可能であることが確認された：
−ほぼ同一の可視光線透過率について、上方反射防止コーティング内に金属製吸収膜を有する単層金属機能膜の積層体（例２）の日射透過率よりも高い日射透過率ｇを有する、上方反射防止コーティング内に不連続金属膜を有する単層金属機能膜の積層体（例３）、
−ほぼ同一の可視光線透過率について、下方反射防止コーティング内に金属製吸収膜を有する単層金属機能膜の積層体（例４）の日射透過率よりも高い日射透過率ｇを有する、下方反射防止コーティング内に不連続金属膜を有する単層金属機能膜の積層体（例５）、
−ほぼ同一の可視光線透過率について、下方反射防止コーティング内に金属製吸収膜、かつ下方反射防止コーティング内に金属製吸収膜を有する単層金属機能膜の積層体（例６）の日射透過率よりも高い日射透過率ｇを有する、下方反射防止コーティング内に不連続金属膜かつ上方反射防止コーティング内に不連続金属膜を有する単層金属機能膜の積層体（例７）。

さらに、より低いさらにはマイナスのｂ^* _Tを伴う、とりわけ黄色みのより少ない透過色によって、色の中性化の改善が確認された。

図６から図８はそれぞれ、例１から３の波長λ（ｎｍ）に応じた光線透過率Ｔ_L、吸光度Ａｂ、および積層体側の光線反射率Ｒ_Cを示している。

図６は、ＤＭＬ膜を伴う積層体（例３）が、金属製吸収膜を伴う積層体（例２）を用いて得られる可視光線透過率に非常に近い、可視光線透過率を得ることを可能にすることを示しており、ただし吸光度は、高可視においてまた近赤外線（５５０ｎｍから１０００ｎｍ）において、例２を用いるよりも例３を用いる方がより高く、また積層体側の可視光線反射率は、高可視においてまた近赤外線（５５０ｎｍから１０００ｎｍ）において、例２を用いるよりも例３を用いる方がより低く、このことにより最終的に、同程度の可視光線透過率について、より高い日射透過率を得ることが可能となる。

図９から図１２は、基板Ｇのみ、すなわちこれらの面のうちの一つにいかなる膜もない、例５および例５を基準にして実現される例５．０、５．１、５．２の、波長λ（ｎｍ）に応じた光線透過率Ｔ_L、吸光度Ａｂ、基板側の光線反射率Ｒ_G、および積層体側の光線反射率Ｒ_Cをそれぞれ示していており、これらの例５．０、５．１、５．２は、例５とのただ一つの違いとして以下を有する：
−例５．０については、０ｎｍのＤＭＬ膜の厚さ（ＤＭＬ膜の不在）、
−例５．１については、０．９ｎｍのＤＭＬ膜の厚さ、
−例５．２については、１．２ｎｍのＤＭＬ膜の厚さ。

これらの図面は、吸光度が増加するという理由で、ＤＭＬ膜の存在により光線透過率は確かに減少するが、しかし基板側および積層体側の光線反射率は低いことを示している。

ＤＭＬの呼び厚さが増すと、吸光度の全体的なレベルが上がることまた色選択性が高まることが可能となる。

これらの試験は、ガラス側の光線反射率を十分に低く保ちつつ（６〜７％）かつ積層体側の光線反射率を十分に低く保ちつつ（８〜９％）、比較的高い可視光線透過率（６５〜６８％）の獲得のために、不連続金属膜について０．９から１．２ｎｍの厚さｅ’の範囲が特に有利であることをとりわけ示した。

さらに、ｂ^* _Cの低い値（およそ−１５）、ｂ^* _Gの低い値（およそ−１０）およびａ^* _Tの低い値（およそ−１．０から＋０．３）が得られた。

上記全ての例について、単一のおよび／またはそれぞれの不連続金属膜１２３、１６７は、一方では、５５０ｎｍで少なくとも１．９またＴｉＯ₂利用のためこの場合２．３までもの屈折率を有する反射防止膜１２１’、１６９’の上に直接、また他方では、５５０ｎｍで少なくとも１．９またＴｉＯ₂利用のためこの場合２．３までもの屈折率を有する反射防止膜１２１、１６９の下に直接位置し、下方に直接位置する前記反射防止膜１２１’、１６９’の屈折率は、ここでは、上方に直接位置する前記反射防止膜１２１、１６９の屈折率と同一である。

試験は、膜１２１、１２１’、１６９、１６９’について、ＴｉＯ₂の代わりに、５５０ｎｍで２．０の屈折率の窒化ケイ素Ｓｉ₃Ｎ₄：Ａｌを利用することが可能であることを示した。

４８０ｍｍから７８０ｍｍの波長範囲における吸光度と比べて、３８０ｍｍから４８０ｍｍの波長範囲における吸光度が比較的低いような吸収スペクトルを、単一のおよび／またはそれぞれのＤＭＬ膜１２３、１６７が有することが確認された。

また、単一のおよび／またはそれぞれのＤＭＬ膜１２３、１６７が、その下においてでも上においてでも、連続金属膜と直接接触してはならないこと確認されたが、というのはそうなった場合、ＤＭＬ膜の特有の吸収スペクトルが、接触している連続金属膜の比較的一定の可視吸収スペクトル（３８０ｎｍから７８０ｎｍ）とまぜ合わされるからである。

図１３および図１４は、透明なガラス基板３０の上、またより正確にはこの基板３０の面３１の上に堆積される、二層機能膜の積層体３５の構造および三層機能膜の積層体３６の構造をそれぞれ示している。

各機能膜１４０、１８０、２２０は、好ましくは主に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースまたさらに好ましくはもっぱら銀製であり、二つの反射防止コーティングの間に、すなわち各機能膜１４０、１８０、２２０より下つまり基板３０の方向に位置する下の反射防止コーティング１２０、１６０、２００と、各機能膜１４０、１８０、２２０より上つまり基板３０とは反対側に配置される上の反射防止コーティング１６０、２００、２４０との間に配置される。

各反射防止コーティング１２０、１６０、２００、２４０は、少なくとも一つの反射防止膜１２８、１６８、２０８、２４８を有する。

図３は、積層体の単一金属機能膜である、好ましくは主に銀ベースまたは銀製の金属機能膜１４０と、二つの不連続金属膜１２３、１６７とを有する積層体３４を示しており、該不連続金属膜のうちの一つは、一方では前記面３１と他方では前記面３１を起点として金属機能膜１４０との間に位置し、また該不連続金属膜のうちのもう一つは、前記面３１を起点として金属機能膜１４０より上に位置する。

図１３は、二層機能膜の積層体３５についての類似の解決案を示している。この積層体３５は、好ましくは主に銀ベースまたは銀製の二つの金属機能膜１４０、１８０と、二つの不連続金属膜１２３、１６７とを有し、該不連続金属膜のうちの一つは、一方では前記面３１と他方では前記面３１を起点として第一の金属機能膜１４０との間に位置し、また該不連続金属膜のうちのもう一つは、前記面３１を起点として第二の金属機能膜１８０より上に位置する。

図１４は、三層機能膜の積層体３６についての類似の解決案を示している。この積層体３６は、好ましくは主に銀ベースまたは銀製の三つの金属機能膜１４０、１８０、２２０と、二つの不連続金属膜１２３、１６７とを有し、該不連続金属膜のうちの一つは、一方では前記面３１と他方では前記面３１を起点として第一の金属機能膜１４０との間に位置し、また該不連続金属膜のうちのもう一つは、前記面３１を起点として第三の金属機能膜２２０より上に位置する。

二重のＤＭＬを伴うこれらの三つの形状は、低い光線反射率だけでなく、仮に各形状において不連続金属膜が両方とも金属製吸収膜に置き換えられた場合と比べて、より中性の透過色および反射色も有する積層体を実現することを可能にする。

Ａｇ、Ａｕ、ＰＴまたはＣｕタイプの単数（または複数）の貴金属を主に利用すると、マグネトロンスパッタリング法によって簡単で信頼できる仕方でＤＭＬを堆積可能になるが、というのもこの方法は、島の増加を適切に管理することを可能にするからであり、実際、選択的吸収は、島の組織化によって可能になる、金属のプラズモン特性にとりわけ左右される。

本発明は、上記部分において例として記述されている。本発明のさまざまな変形例を当業者が実現することができると理解されるが、だからといって請求項によって定義されるような特許範囲を逸脱してはならない。

３０ 基板
３１ 面
３４ 薄膜積層体
１２０ 反射防止コーティング
１２３ 下方不連続金属膜
１２８ 反射防止膜
１４０ 金属機能膜
１６０ 反射防止コーティング
１６７ 上方不連続金属膜
１６８ 反射防止膜
１６９ 反射防止膜

Claims (11)

1. ７ｎｍと２０ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅを有する銀ベースまたは銀製の少なくとも一つの金属機能膜（１４０、１８０、２２０）および二つの反射防止コーティング（１２０、１６０、２００、２４０）を有する薄膜積層体（３４、３５、３６）で面(３１)が覆われる基板（３０）は、前記反射防止コーティングそれぞれが、少なくとも一つの反射防止膜（１２８、１６８、２０８、２４８）を有し、前記機能膜（１４０）が、二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）の間に配置される基板であって、前記積層体が、０．５ｎｍと５ｎｍとの間のこれらの値を含む厚さｅ’ をそれぞれが有する二つの不連続金属膜（１２３、１６７）を有し、下方不連続金属膜（１２３）が、一方では前記面（３１）と他方では単一のまたは前記面（３１）を起点として第一の金属機能膜（１４０）との間に位置し、また、上方不連続金属膜（１６７）が、単一のまたは前記面（３１）を起点として最後の金属機能膜（１４０、１８０、２２０）より上に位置し、堆積されるそれぞれの不連続金属膜は、自己組織化膜であり、該自己組織化膜は、互いの間で接続する複数の島の形で構造化しており、島間に覆われない領域を伴うことを特徴とする基板。
2. 前記積層体が、ただ二つのこれらの不連続金属膜を有し、他の不連続金属膜を含まないことを特徴とする、請求項１に記載の基板（３０）。
3. それぞれの不連続金属膜（１２３、１６７）が、一方では５５０ｎｍで少なくとも１．９の屈折率を有する反射防止膜（１２１’、１６９’）の上に直接、また他方では５５０ｎｍで少なくとも１．９の屈折率を有する反射防止膜（１２１、１６９）の下に直接位置し、下方に直接位置する前記反射防止膜（１２１’、１６９’）の屈折率が、好ましくは、上方に直接位置する前記反射防止膜（１２１、１６９）の屈折率と同じであることを特徴とする、請求項１または２に記載の基板（３０）。
4. それぞれの不連続金属膜（１２３、１６７）が、一方では５５０ｎｍで１ｎｍと８ｎｍとの間のこれらの値を含む、さらには２ｎｍと６ｎｍとの間のこれらの値を含む光学上の厚さを有する反射防止膜（１２１’、１６９’）の上に直接、また他方では５５０ｎｍで１ｎｍと８ｎｍとの間のこれらの値を含む、さらには２ｎｍと６ｎｍとの間のこれらの値を含む光学上の厚さを有する反射防止膜（１２１、１６９）の下に直接位置することを特徴とする、請求項１から３のいずれか一つに記載の基板（３０）。
5. それぞれの不連続金属膜（１２３、１６７）が、銀ベースであるかまたは銀製であることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一つに記載の基板（３０）。
6. 各金属機能膜（１４０、１８０、２２０）の下に配置される前記反射防止コーティング（１２０、１６０、２００）が、５５０ｎｍで１．８と２．２との間の屈折率を有する材料製の中屈折率の反射防止膜（１２８、１６８、２０８）を有し、この中屈折率の反射防止膜（１２８、１６８、２０８）が、好ましくは酸化物ベースであり、かつ／またはこの中屈折率の反射防止膜（１２８、１６８、２０８）が、好ましくは５と３５ｎｍの間の物理的な厚さを有することを特徴とする、請求項１から５のいずれか一つに記載の基板（３０）。
7. 面（３１）と第一のまたは単一の金属機能膜（１４０）との間に配置される前記反射防止コーティング（１２０）が、５５０ｎｍで２．３と２．７との間の屈折率を有する材料製の高屈折率の反射防止膜（１２４）を有し、この高屈折率の反射防止膜（１２４）が、好ましくは酸化物ベースであり、かつ／またはこの高屈折率の反射防止膜（１２４）が、好ましくは５と２５ｎｍの間の物理的な厚さを有することを特徴とする、請求項１から６のいずれか一つに記載の基板（３０）。
8. 第一のまたは単一の金属機能膜（１４０）より上に、つまり面（３１）とは反対側に配置される反射防止コーティング（１６０）が、５５０ｎｍで１．８と２．２との間の屈折率を有する材料製の中屈折率の反射防止膜（１６２）を有し、この中屈折率の反射防止膜（１６２）が、好ましくは酸化物ベースであり、かつ／またはこの中屈折率の反射防止膜（１６２）が、好ましくは５と３５ｎｍとの間の物理的な厚さを有することを特徴とする、請求項１から７のいずれか一つに記載の基板（３０）。
9. 框構造（９０）によってまとめて保持される少なくとも二つの基板（１０、３０）を有する複層グレージングユニット（１００）であって、前記グレージングユニットが、外部空間（ＥＳ）と内部空間（ＩＳ）との間の仕切りを実現し、該グレージングユニットの中には、少なくとも一つのガスの中間層（１５）が二つの基板の間に配置され、少なくとも一つの基板（３０）が請求項１から８のいずれか一つに記載のものである複層グレージングユニット。
10. 請求項１から８のいずれか一つに記載の基板（３０）の上に配置される薄膜積層体（３４、３５、３６）内の二つの不連続金属膜（１２３、１６７）の利用。
11. 請求項１から８のいずれか一つに記載の基板（３０）の上に配置される薄膜積層体（３４、３５、３６）内の二つの不連続金属膜（１２３、１６７）の堆積方法。

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