JP2014148511A - アリピプラゾールの製造法 - Google Patents
アリピプラゾールの製造法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014148511A JP2014148511A JP2014043786A JP2014043786A JP2014148511A JP 2014148511 A JP2014148511 A JP 2014148511A JP 2014043786 A JP2014043786 A JP 2014043786A JP 2014043786 A JP2014043786 A JP 2014043786A JP 2014148511 A JP2014148511 A JP 2014148511A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbonate
- alkali metal
- aripiprazole
- hydroxide
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 0 *c(c(Cl)ccc1)c1N1CCN(CC*c2ccc(CCC(N3)=O)c3c2)CC1 Chemical compound *c(c(Cl)ccc1)c1N1CCN(CC*c2ccc(CCC(N3)=O)c3c2)CC1 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D215/20—Oxygen atoms
- C07D215/22—Oxygen atoms attached in position 2 or 4
- C07D215/227—Oxygen atoms attached in position 2 or 4 only one oxygen atom which is attached in position 2
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P25/00—Drugs for disorders of the nervous system
- A61P25/18—Antipsychotics, i.e. neuroleptics; Drugs for mania or schizophrenia
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
- C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
- C07D403/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Neurology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Psychiatry (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Neurosurgery (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Quinoline Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
本発明は、アリピプラゾールの製造法に関する。
式
で表される7−{4−[4−(2,3−ジクロロフェニル)−1−ピペラジニル]ブトキシ}−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キノリノンは、アリピプラゾールと呼ばれ、精神分裂病治療剤として有用な化合物である(例えば、特許文献1参照)。
従来、アリピプラゾールは、例えば一般式(2)
[式中、Xは、ハロゲン原子、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基又はアラルキルスルホニルオキシ基を示す。]
で表されるカルボスチリル化合物と式(3)
で表されるカルボスチリル化合物と式(3)
で表されるピペラジン化合物とを無機もしくは有機塩基性化合物の存在下、有機溶媒中又は無溶媒下で反応させることにより製造されている(特許文献1の第3頁参照)。
特許文献1には、「上記反応は、必要に応じ反応促進剤として、沃化カリウム、沃化ナトリウム等の沃化アルカリ金属化合物を添加して行い得る。」という記載があり(特許文献1、第3頁右下欄)、その実施例においても沃化ナトリウムが反応促進剤として使用さ
れている。特許文献1に記載の方法では、反応促進剤を使用した場合でも、目的とするアリピプラゾールの収率は80%程度に止まる(特許文献1、第8頁左上欄〜右上欄)。
れている。特許文献1に記載の方法では、反応促進剤を使用した場合でも、目的とするアリピプラゾールの収率は80%程度に止まる(特許文献1、第8頁左上欄〜右上欄)。
特許文献1では、無溶媒下でもアリピプラゾールを製造しているが、無溶媒下では反応の進行が遅く、また出発原料化合物及び目的とするアリピプラゾールがいずれも固体であることから、攪拌による均一性を維持することが困難であり、それ故、特許文献1に記載の方法は工業的製造には不適である。
更に、特許文献1に記載の方法は、目的とするアリピプラゾールを得るまでの操作が煩雑である。
アリピプラゾールは、医薬の有効成分として使用されるため、より一層高純度でアリピプラゾールを製造することが望まれている。また、製造コストを低く抑えるために、より一層収率よくアリピプラゾールを製造することが要望されている。
本発明は、アリピプラゾールをより一層高純度且つ高収率で製造し得る方法を提供することを課題とする。
本発明者らは、アリピプラゾールをより一層高純度且つ高収率で製造し得る方法の開発を続けてきた。一般に化学反応は反応基質が溶解する反応系において効率よく進行するということが化学常識になっている。この化学常識に従えば、上記一般式(2)で表されるカルボスチリル化合物は、水に全く不溶であるために、該カルボスチリル化合物と式(3)で表されるピペラジン化合物又はその塩との反応媒体として水を使用することなど当業者が到底考えつくことではない。しかも、一般式(2)で表されるカルボスチリル化合物は、分子内のXが水で加水分解されて水酸基に置換される可能性が極めて高く、そのためにアリピプラゾールの純度及び収率が低下することは当業者であれば容易に予想できることである。
本発明者らは、このような状況の下、一般式(2)で表されるカルボスチリル化合物を全く溶解しない水を敢えて反応媒体として使用し、更に塩基性化合物として無機塩基性化合物を用いた場合に、アリピプラゾールをより一層高純度且つ高収率で製造し得ることを見い出した。本発明は、斯かる知見に基づき完成されたものである。
1.本発明は、上記一般式(2)で表されるカルボスチリル化合物と式(3)で表されるピペラジン化合物及び/又はその塩とを、カルボスチリル化合物(2)に対して0.5〜10倍モル量の無機塩基性化合物の存在下に水中で反応させて、式(1)で表されるアリピプラゾールを得ることを特徴とするアリピプラゾールの製造法を提供する。
2.本発明は、無機塩基性化合物を1種単独で使用し、該塩基性化合物がアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸物又はアルカリ金属である上記1に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
3.本発明は、無機塩基性化合物を2種以上混合して使用し、該塩基性化合物がアルカリ金属水酸化物とアルカリ金属炭酸物との混合物である上記1に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
4.本発明は、一般式(2)におけるXがハロゲン原子である上記2又は3に記載のアリ
ピプラゾールの製造法を提供する。
5.本発明は、一般式(2)におけるXが塩素原子であり、無機塩基性化合物がアルカリ金属炭酸物である上記2に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
6.本発明は、一般式(2)におけるXが塩素原子である上記3に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
7.本発明は、アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム又は水酸化リチウムである上記2又は3に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
8.本発明は、アルカリ金属炭酸物が炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウムである上記2、3又は5に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
9.本発明は、アルカリ金属がナトリウム又はカリウムである上記2に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
1.本発明は、上記一般式(2)で表されるカルボスチリル化合物と式(3)で表されるピペラジン化合物及び/又はその塩とを、カルボスチリル化合物(2)に対して0.5〜10倍モル量の無機塩基性化合物の存在下に水中で反応させて、式(1)で表されるアリピプラゾールを得ることを特徴とするアリピプラゾールの製造法を提供する。
2.本発明は、無機塩基性化合物を1種単独で使用し、該塩基性化合物がアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸物又はアルカリ金属である上記1に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
3.本発明は、無機塩基性化合物を2種以上混合して使用し、該塩基性化合物がアルカリ金属水酸化物とアルカリ金属炭酸物との混合物である上記1に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
4.本発明は、一般式(2)におけるXがハロゲン原子である上記2又は3に記載のアリ
ピプラゾールの製造法を提供する。
5.本発明は、一般式(2)におけるXが塩素原子であり、無機塩基性化合物がアルカリ金属炭酸物である上記2に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
6.本発明は、一般式(2)におけるXが塩素原子である上記3に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
7.本発明は、アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム又は水酸化リチウムである上記2又は3に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
8.本発明は、アルカリ金属炭酸物が炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウムである上記2、3又は5に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
9.本発明は、アルカリ金属がナトリウム又はカリウムである上記2に記載のアリピプラゾールの製造法を提供する。
本発明において、出発原料として使用される一般式(2)で表されるカルボスチリル化合物は、公知である。
一般式(2)において、Xで示されるハロゲン原子は、弗素原子、塩素原子、臭素原子及び沃素原子である。
Xで示される低級アルカンスルホニルオキシ基としては、具体的には、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、イソプロパンスルホニルオキシ、n−プロパンスルホニルオキシ、n−ブタンスルホニルオキシ、tert−ブタンスルホニルオキシ、n−ペンタンスルホニルオキシ、n−ヘキサンスルホニルオキシ基等の炭素数が1〜6の直鎖又は分枝鎖状のアルカンスルホニルオキシ基を例示できる。
Xで示されるアリールスルホニルオキシ基としては、例えば、フェニル環上に置換基として炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基、ニトロ基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を1〜3個有することのあるフェニルスルホニルオキシ基、ナフチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。上記置換基を有することのあるフェニルスルホニルオキシ基の具体例としては、フェニルスルホニルオキシ、4−メチルフェニルスルホニルオキシ、2−メチルフェニルスルホニルオキシ、4−ニトロフェニルスルホニルオキシ、4−メトキシフェニルスルホニルオキシ、2−ニトロフェニルスルホニルオキシ、3−クロロフェニルスルホニルオキシ等を例示できる。ナフチルスルホニルオキシ基の具体例としては、α−ナフチルスルホニルオキシ、β−ナフチルスルホニルオキシ基等を例示できる。
Xで示されるアラルキルスルホニルオキシ基としては、例えばフェニル環上に置換基として炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基、ニトロ基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を1〜3個有することのあるフェニル基が置換した炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状のアルキルスルホニルオキシ基、ナフチル基が置換した炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状のアルキルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。上記フェニル基が置換したアルキルスルホニルオキシ基の具体例としては、ベンジルホニルオキシ、2−フェニルエチルスルホニルオキシ、4−フェニルブチルスルホニルオキシ、2−メチルベンジルスルホニルオキシ、4−メトキシベンジルスルホニルオキシ、4−ニトロベンジルスルホニルオキシ、3−クロロベンジルスルホニルオキシ等を例示できる。上記ナフチル基が置換したアルキルスルホニルオキシ基の具体例としては、α−ナフチルメチルスルホニルオキシ、β−ナフチルメチルスルホニルオキシ基等を例示できる。
Xとしては、ハロゲン原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
本発明において、他の一つの出発原料として使用される式(3)で表されるピペラジン化合物及びその塩も、公知である。
塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、燐酸塩、臭化水素酸塩等の無機酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、リンゴ酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、安息香酸塩等の有機酸塩を例示できる。
上記一般式(2)のカルボスチリル化合物と式(3)のピペラジン化合物及び/又はその塩との反応において、両者の使用割合は特に限定されるものではなく、広い範囲内から適宜選択することができる。式(3)のピペラジン化合物及び/又はその塩は、一般式(2)のカルボスチリル化合物1モルに対して、通常少なくとも0.5モル、好ましくは1〜1.5モル使用される。
本発明の反応は、無機塩基性化合物の存在下、水中で行われる。
無機塩基性化合物としては、公知のものを広く使用でき、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸物;ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属等が挙げられる。これらの無機塩基性化合物は、1種単独で又は2種以上混合して使用される。
無機塩基性化合物の1種を単独で使用する場合は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸物等が好ましく、その使用量は、一般式(2)で表されるカルボスチリル化合物に対して、通常0.5〜10倍モル、好ましくは0.5〜6倍モルである。
2種以上の無機塩基性化合物を混合物として使用する場合には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物と炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸物との混合物が好ましい。この混合物を使用する場合、無機塩基性化合物の総使用量は、一般式(2)で表されるカルボスチリル化合物に対して、通常0.5〜10倍モル量、好ましくは0.5〜6倍モル量である。
本発明方法において、水は、一般式(2)で表されるカルボスチリル化合物に対して、通常3〜50倍重量程度、好ましくは5〜15倍重量程度使用する。
本発明の反応は、通常室温〜200℃、好ましくは80〜150℃付近にて行われる。該反応は、通常1〜10時間程度で完了する。
本発明においては、撹拌下で反応を行うことにより、該反応がより有利に進行する。
本発明の方法で得られるアリピプラゾールは、この分野で慣用されている単離及び精製手段により反応混合物から容易に単離、精製することができる。斯かる単離及び精製手段としては、例えば、溶媒抽出法、希釈法、再結晶法、カラムクロマトグラフィー、プレパラテイブ薄層クロマトグラフィー等を挙げることができる。
本発明の方法により、アリピプラゾールを高純度且つ高収率で製造することができる。
本発明の方法は、反応に使用する媒体が水であるため、有機溶媒等の環境衛生上好ましくない物質の使用を回避でき、環境に対して負荷を与えず、安全である。
本発明の方法によれば、簡便な操作でアリピプラゾールを製造することができる。
本発明の方法によれば、煩雑な精製工程を経ることなく、高純度のアリピプラゾールを製造することができる。
本発明の方法は、必要以上の試薬を用いることはないので、アリピプラゾールを安価に製造することができる。
従って、本発明方法は、アリピプラゾールの工業的製造法として極めて有利である。
以下に実施例を掲げて、本発明をより一層明らかにする。
実施例1
炭酸カリウム36.0gを水600ml中に溶解し、この中に7−(4−クロロブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル60.0g及び1−(2,3−ジクロロフェニル)ピペラジン・1塩酸塩69.6gを加え、90〜95℃で約4時間加熱攪拌した。次に、反応液を40℃付近まで冷却し、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を240mlの水で洗浄した後、酢酸エチル900mlに溶解し、還流下に水/酢酸エチルの共沸物(約300ml)を留去した。残った溶液を0〜5℃まで冷却し、析出晶を濾取した。得られた結晶を酢酸エチル120mlで洗浄し、減圧乾燥(50〜60℃、50Torr、3時間)すると、98.4g(収率92.8%、純度99%)のアリピプラゾールが得られた。
mp.140℃。
炭酸カリウム36.0gを水600ml中に溶解し、この中に7−(4−クロロブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル60.0g及び1−(2,3−ジクロロフェニル)ピペラジン・1塩酸塩69.6gを加え、90〜95℃で約4時間加熱攪拌した。次に、反応液を40℃付近まで冷却し、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を240mlの水で洗浄した後、酢酸エチル900mlに溶解し、還流下に水/酢酸エチルの共沸物(約300ml)を留去した。残った溶液を0〜5℃まで冷却し、析出晶を濾取した。得られた結晶を酢酸エチル120mlで洗浄し、減圧乾燥(50〜60℃、50Torr、3時間)すると、98.4g(収率92.8%、純度99%)のアリピプラゾールが得られた。
mp.140℃。
アリピプラゾールの純度は、以下の条件で高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を用いて測定した。
カラム:YMC AM303 ODS(YMC社製)
移動層:0.02M硫酸ナトリウム/アセトニトリル/メタノール/酢酸=56/33/11/1
流速:1ml/分
検出波長:254nm UV
カラム:YMC AM303 ODS(YMC社製)
移動層:0.02M硫酸ナトリウム/アセトニトリル/メタノール/酢酸=56/33/11/1
流速:1ml/分
検出波長:254nm UV
Claims (6)
- アルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属炭酸物を1種単独で使用する請求項1に記載のアリピプラゾールの製造法。
- アルカリ金属水酸化物及び/又はアルカリ金属炭酸物を2種以上混合して使用する請求項1に記載のアリピプラゾールの製造法。
- アルカリ金属水酸化物及び/又はアルカリ金属炭酸物がアルカリ金属炭酸物である請求項2に記載のアリピプラゾールの製造法。
- アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム又は水酸化リチウムである請求項2又は3に記載のアリピプラゾールの製造法。
- アルカリ金属炭酸物が炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウムである請求項2、3又は4に記載のアリピプラゾールの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014043786A JP2014148511A (ja) | 2003-01-09 | 2014-03-06 | アリピプラゾールの製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003002996 | 2003-01-09 | ||
JP2003002996 | 2003-01-09 | ||
JP2014043786A JP2014148511A (ja) | 2003-01-09 | 2014-03-06 | アリピプラゾールの製造法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011241871A Division JP5797090B2 (ja) | 2003-01-09 | 2011-11-04 | アリピプラゾールの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014148511A true JP2014148511A (ja) | 2014-08-21 |
Family
ID=32652780
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011241871A Expired - Lifetime JP5797090B2 (ja) | 2003-01-09 | 2011-11-04 | アリピプラゾールの製造法 |
JP2014043786A Pending JP2014148511A (ja) | 2003-01-09 | 2014-03-06 | アリピプラゾールの製造法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011241871A Expired - Lifetime JP5797090B2 (ja) | 2003-01-09 | 2011-11-04 | アリピプラゾールの製造法 |
Country Status (20)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6995264B2 (ja) |
EP (1) | EP1480953B2 (ja) |
JP (2) | JP5797090B2 (ja) |
KR (1) | KR100583667B1 (ja) |
CN (1) | CN1263742C (ja) |
AR (1) | AR042702A1 (ja) |
AT (1) | ATE308524T1 (ja) |
AU (1) | AU2003288755C1 (ja) |
BR (2) | BRPI0305500B1 (ja) |
CA (2) | CA2458929C (ja) |
DE (1) | DE60302139T3 (ja) |
DK (1) | DK1480953T4 (ja) |
EG (1) | EG23557A (ja) |
ES (1) | ES2250919T5 (ja) |
HK (1) | HK1073110A1 (ja) |
MX (1) | MXPA04002519A (ja) |
MY (1) | MY129831A (ja) |
SI (1) | SI1480953T2 (ja) |
TW (1) | TWI258470B (ja) |
WO (1) | WO2004063162A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2374922T3 (es) * | 2003-12-16 | 2012-02-23 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Procedimientos de preparación de formas cristalinas de aripiprazol. |
US7714129B2 (en) * | 2003-12-16 | 2010-05-11 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Methods of preparing anhydrous aripiprazole form II |
DE202005020539U1 (de) * | 2004-02-05 | 2006-09-28 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Aripiprazol |
US7507823B2 (en) | 2004-05-06 | 2009-03-24 | Bristol-Myers Squibb Company | Process of making aripiprazole particles |
EA012180B1 (ru) * | 2004-10-08 | 2009-08-28 | Сувен Лайф Сайенсиз Лимитед | Способ получения арипипразола и соответствующие промежуточные продукты и их получение |
US20060079689A1 (en) * | 2004-10-12 | 2006-04-13 | Vladimir Naddaka | Processes for preparing and purifying carbostyril compounds such as aripiprazole and 7-(4-halobutoxy)-3,4-dihydro-2(1H)-quinolinones |
WO2006053781A1 (en) * | 2004-11-18 | 2006-05-26 | Synthon B.V. | Process of making crystalline aripiprazole |
CN1303068C (zh) * | 2005-01-11 | 2007-03-07 | 中国人民解放军第二军医大学 | 一种阿立哌唑的制备方法 |
TWI320783B (en) | 2005-04-14 | 2010-02-21 | Otsuka Pharma Co Ltd | Heterocyclic compound |
EP1933814A2 (en) * | 2005-09-15 | 2008-06-25 | Elan Pharma International Limited | Nanoparticulate aripiprazole formulations |
EP1919453A2 (en) * | 2005-12-22 | 2008-05-14 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd | Processes for reducing particle size of aripiprazole |
US20070149782A1 (en) * | 2005-12-23 | 2007-06-28 | Michael Brand | Methods of preparing a crystalline form of 7-(4-chlorobutoxy)-3,4-dihydro-2(1h)-quinolinone and the use thereof in the synthesis of Aripiprazole |
EP1845088B1 (en) * | 2006-04-10 | 2009-07-22 | Ranbaxy Laboratories Limited | An improved process for the preparation of aripipirazole |
NZ582124A (en) | 2007-05-21 | 2012-07-27 | Reviva Pharmaceuticals Inc | Compositions, synthesis, and methods of using quinolinone based atypical antipsychotic agents |
US8207163B2 (en) | 2008-05-27 | 2012-06-26 | Reviva Pharmaceuticals, Inc. | Compositions, synthesis, and methods of using piperazine based antipsychotic agents |
CN101781246B (zh) * | 2009-01-15 | 2012-02-29 | 成都康弘药业集团股份有限公司 | 一种合成阿立哌唑的改进方法 |
EP2400968B1 (en) | 2009-02-26 | 2016-09-28 | Reviva Pharmaceuticals, Inc. | Compositions, synthesis, and methods of utilizing arylpiperazine derivatives |
JOP20200109A1 (ar) | 2012-04-23 | 2017-06-16 | Otsuka Pharma Co Ltd | مستحضر قابل للحقن |
EP3294724A4 (en) * | 2015-05-08 | 2018-11-21 | Davuluri, Ramamohan Rao | Improved process for the preparation of aripiprazole with reduced particle size |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02191256A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-07-27 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | カルボスチリル誘導体及び該誘導体を含有する精神分裂病治療剤 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54130587A (en) * | 1978-03-30 | 1979-10-09 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Carbostyryl derivative |
DE3034237A1 (de) † | 1979-09-18 | 1981-04-16 | Otsuka Pharmaceutical Co. Ltd., Tokyo | Carbostyrilderivate, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltende, antihistaminisch wirkende mittel |
US5006528A (en) * | 1988-10-31 | 1991-04-09 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Carbostyril derivatives |
JP4060523B2 (ja) † | 1999-11-24 | 2008-03-12 | 大塚製薬株式会社 | カルボスチリル誘導体の製造法 |
AR033485A1 (es) † | 2001-09-25 | 2003-12-26 | Otsuka Pharma Co Ltd | Sustancia medicinal de aripiprazol de baja higroscopicidad y proceso para la preparacion de la misma |
-
2003
- 2003-12-18 KR KR1020047003990A patent/KR100583667B1/ko active IP Right Grant
- 2003-12-18 TW TW092135997A patent/TWI258470B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-12-18 DE DE60302139T patent/DE60302139T3/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 CA CA002458929A patent/CA2458929C/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-18 SI SI200330153T patent/SI1480953T2/sl unknown
- 2003-12-18 BR BRPI0305500-0A patent/BRPI0305500B1/pt unknown
- 2003-12-18 EP EP03780889A patent/EP1480953B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 MX MXPA04002519A patent/MXPA04002519A/es active IP Right Grant
- 2003-12-18 AU AU2003288755A patent/AU2003288755C1/en not_active Ceased
- 2003-12-18 WO PCT/JP2003/016256 patent/WO2004063162A1/en active IP Right Grant
- 2003-12-18 ES ES03780889T patent/ES2250919T5/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 CA CA002676216A patent/CA2676216A1/en not_active Abandoned
- 2003-12-18 AT AT03780889T patent/ATE308524T1/de active
- 2003-12-18 BR BR0305500-0A patent/BR0305500A/pt not_active IP Right Cessation
- 2003-12-18 DK DK03780889.6T patent/DK1480953T4/da active
-
2004
- 2004-01-05 EG EG2004010004A patent/EG23557A/xx active
- 2004-01-05 AR ARP040100006A patent/AR042702A1/es not_active Application Discontinuation
- 2004-01-08 MY MYPI20040043A patent/MY129831A/en unknown
- 2004-01-08 US US10/752,490 patent/US6995264B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-01-09 CN CNB2004100020641A patent/CN1263742C/zh not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-07-11 HK HK05105804A patent/HK1073110A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2011
- 2011-11-04 JP JP2011241871A patent/JP5797090B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2014
- 2014-03-06 JP JP2014043786A patent/JP2014148511A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02191256A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-07-27 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | カルボスチリル誘導体及び該誘導体を含有する精神分裂病治療剤 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
TETRAHEDRON, vol. 54, JPN6015009360, 1998, pages 4811 - 4818, ISSN: 0003023638 * |
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5797090B2 (ja) | アリピプラゾールの製造法 | |
JPH02191256A (ja) | カルボスチリル誘導体及び該誘導体を含有する精神分裂病治療剤 | |
HU205094B (en) | New process for producing 2-/2-/4-/(4-chlorophenyl)-phenylmethyl/-1-piperazinyl/-ethoxy/-acetic acid and its salts | |
JP2005350474A (ja) | シロスタゾールの製造方法 | |
AU2012264476B2 (en) | Process for the preparation of paliperidone | |
WO2007118923A1 (en) | A process for the preparation of aripiprazole and intermediates thereof | |
JP4902945B2 (ja) | アリピプラゾールの製造法 | |
JPS6338005B2 (ja) | ||
EP1845088B1 (en) | An improved process for the preparation of aripipirazole | |
WO2008026220A1 (en) | A process for purification of 7-(4-bromobutoxy)-3,4 dihydrocarbostyril, an intermediate for manufacture of aripirazole | |
JP4060523B2 (ja) | カルボスチリル誘導体の製造法 | |
CN1450056A (zh) | 阿立哌唑的制备新方法 | |
JPH068284B2 (ja) | 3−チオキソ−ベンゾチアジン誘導体 | |
JP6263815B2 (ja) | 細胞死抑制剤及びその製造方法 | |
JPS6391366A (ja) | 1,4−ジヒドロピリジン誘導体 | |
JP2935582B2 (ja) | 1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン環を7位置換基として有するキノロンカルボン酸誘導体 | |
JPS62174053A (ja) | ベンゾヘテロ環化合物及び該化合物を含有する抗菌剤 | |
JPS5938234B2 (ja) | ジヒドロベンゾフラン誘導体の製法 | |
JPH0122246B2 (ja) | ||
JP2003055375A (ja) | 光学活性ヒドラジン化合物の製造法 | |
JPS6284081A (ja) | モルホリン誘導体 | |
JP2001220382A (ja) | 選択的o−アルキル化方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150310 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20151020 |