JP2003055375A - 光学活性ヒドラジン化合物の製造法 - Google Patents
光学活性ヒドラジン化合物の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学活性ヒドラジン化合物の製造法を提供す
る。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ） ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子または低級ハロアルキル
基を示し、Ｒ3は低級アルキル基を示す。］で表される
光学活性プロピオン酸誘導体と下記一般式（ＩＩ） ［式中、Ｒ2は低級アルキル基を示す。］で表されるチ
オカルバジン酸誘導体とを、塩基の存在下反応させるこ
とを特徴とする下記一般式（ＩＩＩ） ［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同義である。］で表される
光学活性ヒドラジン化合物の製造法。
る。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ） ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子または低級ハロアルキル
基を示し、Ｒ3は低級アルキル基を示す。］で表される
光学活性プロピオン酸誘導体と下記一般式（ＩＩ） ［式中、Ｒ2は低級アルキル基を示す。］で表されるチ
オカルバジン酸誘導体とを、塩基の存在下反応させるこ
とを特徴とする下記一般式（ＩＩＩ） ［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同義である。］で表される
光学活性ヒドラジン化合物の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、不斉炭素の絶対配
置がＲ配置である光学活性ヒドラジン化合物およびそれ
から誘導される殺ダニ剤として有用な光学活性チアジア
ゾール化合物の製造法に関する。
置がＲ配置である光学活性ヒドラジン化合物およびそれ
から誘導される殺ダニ剤として有用な光学活性チアジア
ゾール化合物の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来よりハダニ類の防除を目的とする殺
虫・殺ダニ剤の開発にあたっては、ハダニ類が既存薬剤
に対しては抵抗性を発達させやすいことから、常に新規
薬剤の出現が望まれている。一方、特公平７―１１６１
８３号公報にはある種の置換基を有するチアジアゾール
誘導体が殺ダニ活性を有することが開示されており、本
発明者らが、前記特公平７−１１６１８３号公報記載の
チアジアゾール誘導体について検討を行った結果、その
中の特定構造を有する化合物であって、その不斉炭素の
絶対配置がＲ配置であるエナンチオマーが対応するラセ
ミ体より高い殺ダニ活性を示すことを見出した。
虫・殺ダニ剤の開発にあたっては、ハダニ類が既存薬剤
に対しては抵抗性を発達させやすいことから、常に新規
薬剤の出現が望まれている。一方、特公平７―１１６１
８３号公報にはある種の置換基を有するチアジアゾール
誘導体が殺ダニ活性を有することが開示されており、本
発明者らが、前記特公平７−１１６１８３号公報記載の
チアジアゾール誘導体について検討を行った結果、その
中の特定構造を有する化合物であって、その不斉炭素の
絶対配置がＲ配置であるエナンチオマーが対応するラセ
ミ体より高い殺ダニ活性を示すことを見出した。
【０００３】しかしながら、該公報には、ラセミ体のチ
アジアゾール誘導体の製造法についてのみ言及されてい
るだけであり、光学活性体について全く具体的な記載は
ない。また、特許第２５０４４３８号公報にも、チアジ
アゾール類の製造方法が記載されているが、該公報にも
光学活性体の製造についての言及がなされていない。加
えて、該チアジアゾール類の重要な製造中間体であるチ
オカルボニルヒドラジン化合物の製造に当たっては、特
定のヒドラジン誘導体に縮合させる化合物として、反応
性の高い酸クロライドを使用する方法のみが開示されて
いるだけである。
アジアゾール誘導体の製造法についてのみ言及されてい
るだけであり、光学活性体について全く具体的な記載は
ない。また、特許第２５０４４３８号公報にも、チアジ
アゾール類の製造方法が記載されているが、該公報にも
光学活性体の製造についての言及がなされていない。加
えて、該チアジアゾール類の重要な製造中間体であるチ
オカルボニルヒドラジン化合物の製造に当たっては、特
定のヒドラジン誘導体に縮合させる化合物として、反応
性の高い酸クロライドを使用する方法のみが開示されて
いるだけである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、光学活性な
チアジアゾール誘導体およびその前駆体である光学活性
ヒドラジン化合物の製造法を提供することにある。
チアジアゾール誘導体およびその前駆体である光学活性
ヒドラジン化合物の製造法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、酸クロライドを使
用しなくても工業的に極めて有利に光学活性ヒドラジン
化合物が得られること、および該化合物から光学純度を
損なうことなく光学活性なチアジアゾール誘導体を製造
できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、酸クロライドを使
用しなくても工業的に極めて有利に光学活性ヒドラジン
化合物が得られること、および該化合物から光学純度を
損なうことなく光学活性なチアジアゾール誘導体を製造
できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００６】すなわち本発明の要旨は、下記一般式
（Ｉ）
（Ｉ）
【０００７】
【化６】
【０００８】［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子または低級
ハロアルキル基を示し、Ｒ3は低級アルキル基を示
す。］で表される光学活性プロピオン酸誘導体と下記一
般式（ＩＩ）
ハロアルキル基を示し、Ｒ3は低級アルキル基を示
す。］で表される光学活性プロピオン酸誘導体と下記一
般式（ＩＩ）
【０００９】
【化７】
【００１０】［式中、Ｒ2は低級アルキル基を示す。］
で表されるチオカルバジン酸誘導体とを、塩基の存在下
反応させることを特徴とする下記一般式（ＩＩＩ）
で表されるチオカルバジン酸誘導体とを、塩基の存在下
反応させることを特徴とする下記一般式（ＩＩＩ）
【００１１】
【化８】
【００１２】［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同義であ
る。］で表される光学活性ヒドラジン化合物の製造に関
する。以下、本発明を詳細に説明する。
る。］で表される光学活性ヒドラジン化合物の製造に関
する。以下、本発明を詳細に説明する。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明は、前記一般式（Ｉ）で表
される絶対立体配置がＲ配置である光学活性プロピオン
酸誘導体と前記一般式（ＩＩ）で表されるチオカルバジ
ン酸誘導体とを、塩基の存在下反応させることにより、
前記一般式（ＩＩＩ）で表される絶対立体配置がＲ配置
である光学活性ヒドラジン化合物を製造する方法に関す
るものである。
される絶対立体配置がＲ配置である光学活性プロピオン
酸誘導体と前記一般式（ＩＩ）で表されるチオカルバジ
ン酸誘導体とを、塩基の存在下反応させることにより、
前記一般式（ＩＩＩ）で表される絶対立体配置がＲ配置
である光学活性ヒドラジン化合物を製造する方法に関す
るものである。
【００１４】一般式（Ｉ）において、Ｒ1は、フッ素原
子、塩素原子または臭素原子等のハロゲン原子；フルオ
ロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル
基、フルオロエチル基等のＣ1〜Ｃ4のハロアルキル基で
あり、このうち塩素原子またはトリフルオロメチル基が
好ましく、特にトリフルオロメチル基が好ましい。ま
た、その置換位置は５位であることが好ましい。
子、塩素原子または臭素原子等のハロゲン原子；フルオ
ロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル
基、フルオロエチル基等のＣ1〜Ｃ4のハロアルキル基で
あり、このうち塩素原子またはトリフルオロメチル基が
好ましく、特にトリフルオロメチル基が好ましい。ま
た、その置換位置は５位であることが好ましい。
【００１５】Ｒ3はＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示し、この
うちＣ1〜Ｃ2のアルキル基が好ましい。上記式（Ｉ）で
表される化合物のうち、好ましいものとしては、上述の
好ましい置換基を組み合わせたものが挙げられる。尚、
本反応の原料である式（Ｉ）で表される化合物は、例え
ば下記反応で得ることができる。
うちＣ1〜Ｃ2のアルキル基が好ましい。上記式（Ｉ）で
表される化合物のうち、好ましいものとしては、上述の
好ましい置換基を組み合わせたものが挙げられる。尚、
本反応の原料である式（Ｉ）で表される化合物は、例え
ば下記反応で得ることができる。
【００１６】
【化９】
【００１７】［式中、Ｒ1及びＲ3は前記と同義を示し、
Ｚはハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基、また
はアリールスルホニルオキシ基を示す。］ 一般式（ＩＩ）において、Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル
基を示し、このうちＣ1〜Ｃ2のアルキル基が好ましく、
エチル基が特に好ましい。本反応で使用する塩基として
は、アルカリ金属の低級アルコキシドが好ましく、この
アルコキシドの炭素数は通常１〜４であり、また金属と
しては、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。このう
ち特に好ましくは、ナトリウムメトキシドまたはナトリ
ウムエトキシドが挙げられる。該反応は通常溶媒中で行
われ、溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド等のアミド類またはエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノ
ール等のアルコール類等あるいはそれらの混合物が挙げ
られるが、このうち芳香族炭化水素系溶媒とアルコール
系溶媒との混合溶媒が好ましく、トルエンとメタノール
またはエタノールとの混合溶媒が特に好ましい。溶媒の
使用量は式（Ｉ）で表される化合物１重量部に対し２〜
２０重量部、好ましくは４〜１０重量部が用いられる。
Ｚはハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基、また
はアリールスルホニルオキシ基を示す。］ 一般式（ＩＩ）において、Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル
基を示し、このうちＣ1〜Ｃ2のアルキル基が好ましく、
エチル基が特に好ましい。本反応で使用する塩基として
は、アルカリ金属の低級アルコキシドが好ましく、この
アルコキシドの炭素数は通常１〜４であり、また金属と
しては、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。このう
ち特に好ましくは、ナトリウムメトキシドまたはナトリ
ウムエトキシドが挙げられる。該反応は通常溶媒中で行
われ、溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド等のアミド類またはエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノ
ール等のアルコール類等あるいはそれらの混合物が挙げ
られるが、このうち芳香族炭化水素系溶媒とアルコール
系溶媒との混合溶媒が好ましく、トルエンとメタノール
またはエタノールとの混合溶媒が特に好ましい。溶媒の
使用量は式（Ｉ）で表される化合物１重量部に対し２〜
２０重量部、好ましくは４〜１０重量部が用いられる。
【００１８】反応に供される試剤の量は、式（Ｉ）で表
される化合物１モルに対し、一般式（ＩＩ）で表される
チオカルバジン酸誘導体は１〜３モル、好ましくは１〜
１．５モルであり、塩基は１〜３モル、好ましくは１〜
２モルである。反応温度は通常−２０〜１００℃、好ま
しくは０〜４０℃である。反応終了後、反応液に水及び
有機溶媒を混合して抽出処理することにより、反応生成
物である一般式（III）で表される化合物を有機層に抽
出することができる。従って該有機層を分液し、これを
濃縮・乾燥することにより、目的物を回収できる。更に
これをカラムクロマトグラフィーや再結晶操作等の通常
用いられるような精製操作を用いて、精製することによ
り、前記一般式（ＩＩＩ）で表される光学活性ヒドラジ
ン化合物を高純度で単離することができるが、ここで再
結晶を行うと、特に光学分割用の試薬を用いなくても、
化学純度のみならず、光学純度も上昇させることができ
好ましい。再結晶操作は常法に従い、溶媒に一般式（I
I）で表される化合物を完全溶解した後、これに貧溶媒
を加える及び／または冷却することにより行なうことが
でき、析出した結晶はろ過等により分取した後乾燥し、
回収される。
される化合物１モルに対し、一般式（ＩＩ）で表される
チオカルバジン酸誘導体は１〜３モル、好ましくは１〜
１．５モルであり、塩基は１〜３モル、好ましくは１〜
２モルである。反応温度は通常−２０〜１００℃、好ま
しくは０〜４０℃である。反応終了後、反応液に水及び
有機溶媒を混合して抽出処理することにより、反応生成
物である一般式（III）で表される化合物を有機層に抽
出することができる。従って該有機層を分液し、これを
濃縮・乾燥することにより、目的物を回収できる。更に
これをカラムクロマトグラフィーや再結晶操作等の通常
用いられるような精製操作を用いて、精製することによ
り、前記一般式（ＩＩＩ）で表される光学活性ヒドラジ
ン化合物を高純度で単離することができるが、ここで再
結晶を行うと、特に光学分割用の試薬を用いなくても、
化学純度のみならず、光学純度も上昇させることができ
好ましい。再結晶操作は常法に従い、溶媒に一般式（I
I）で表される化合物を完全溶解した後、これに貧溶媒
を加える及び／または冷却することにより行なうことが
でき、析出した結晶はろ過等により分取した後乾燥し、
回収される。
【００１９】再結晶溶媒としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素、塩化メチレン、クロ
ロホルム、１，１，２，２，−テトラクロルエタン等の
ハロゲン化炭化水素類またはエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノ
ール等のアルコール類、ギ酸エチル、酢酸エチル等エス
テル類等の不活性溶媒あるいはそれらの混合物が挙げら
れる。このうち、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭
化水素系溶媒、およびエステル系溶媒から選ばれる溶媒
と脂肪族炭化水素系溶媒との組み合わせが好ましく、ト
ルエン、クロロホルムおよび酢酸エチルから選ばれる可
溶性溶媒とヘキサンまたはヘプタン等の貧溶媒との組み
合わせがより好ましく、工業的な観点からは酢酸エチル
とヘキサンまたはヘプタンとの組み合わせが特に好まし
い。溶媒の使用量は光学活性ヒドラジン化合物１重量部
に対し、可溶性溶媒を０．５〜２０重量部、好ましくは
１〜１０重量部、貧溶媒を０．５〜４０重量部、好まし
くは１〜２０重量部である。例えば、上記好ましい組み
合わせである酢酸エチルと貧溶媒との場合、使用量の比
としては、酢酸エチル：貧溶媒＝２：１〜１：５が好ま
しい。
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素、塩化メチレン、クロ
ロホルム、１，１，２，２，−テトラクロルエタン等の
ハロゲン化炭化水素類またはエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノ
ール等のアルコール類、ギ酸エチル、酢酸エチル等エス
テル類等の不活性溶媒あるいはそれらの混合物が挙げら
れる。このうち、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭
化水素系溶媒、およびエステル系溶媒から選ばれる溶媒
と脂肪族炭化水素系溶媒との組み合わせが好ましく、ト
ルエン、クロロホルムおよび酢酸エチルから選ばれる可
溶性溶媒とヘキサンまたはヘプタン等の貧溶媒との組み
合わせがより好ましく、工業的な観点からは酢酸エチル
とヘキサンまたはヘプタンとの組み合わせが特に好まし
い。溶媒の使用量は光学活性ヒドラジン化合物１重量部
に対し、可溶性溶媒を０．５〜２０重量部、好ましくは
１〜１０重量部、貧溶媒を０．５〜４０重量部、好まし
くは１〜２０重量部である。例えば、上記好ましい組み
合わせである酢酸エチルと貧溶媒との場合、使用量の比
としては、酢酸エチル：貧溶媒＝２：１〜１：５が好ま
しい。
【００２０】本反応により得られる前記一般式（ＩＩ
Ｉ）で表される絶対立体配置がＲ配置である光学活性ヒ
ドラジン化合物は、通常、エナンチオマー過剰率が７０
％以上であり、好ましくは８０％以上のものである。上
記方法により得られる前記一般式（ＩＩＩ）で表される
ヒドラジン化合物は、さらに脱水剤の存在下環化縮合さ
せることにより、不斉炭素の立体配置を維持したまま、
前記一般式（ＩＶ）で示される絶対立体配置がＲ配置で
ある光学活性チアジアゾール化合物に誘導化することが
できる。ここで用いる脱水剤の例としては、濃硫酸、五
酸化リン、五硫化リン、ポリリン酸、無水酢酸、メタン
スルホン酸等があげられるが、濃硫酸が特に好ましい。
反応に供される脱水剤の量は、式（ＩＩＩ）で表される
化合物１モルに対し、１〜１００モル、好ましくは１．
５〜４０モルである。
Ｉ）で表される絶対立体配置がＲ配置である光学活性ヒ
ドラジン化合物は、通常、エナンチオマー過剰率が７０
％以上であり、好ましくは８０％以上のものである。上
記方法により得られる前記一般式（ＩＩＩ）で表される
ヒドラジン化合物は、さらに脱水剤の存在下環化縮合さ
せることにより、不斉炭素の立体配置を維持したまま、
前記一般式（ＩＶ）で示される絶対立体配置がＲ配置で
ある光学活性チアジアゾール化合物に誘導化することが
できる。ここで用いる脱水剤の例としては、濃硫酸、五
酸化リン、五硫化リン、ポリリン酸、無水酢酸、メタン
スルホン酸等があげられるが、濃硫酸が特に好ましい。
反応に供される脱水剤の量は、式（ＩＩＩ）で表される
化合物１モルに対し、１〜１００モル、好ましくは１．
５〜４０モルである。
【００２１】本反応は通常無溶媒で行われるが、場合に
よってはベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素、塩化メチレン、クロロホルム、１，１，２，２−
テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素類またはエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
類等の不活性溶媒中でも行うことができる。溶媒の使用
量は式（ＩＩＩ）で表される化合物１重量部に対し２〜
４０重量部、好ましくは４〜１０重量部が用いられる。
よってはベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素、塩化メチレン、クロロホルム、１，１，２，２−
テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素類またはエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
類等の不活性溶媒中でも行うことができる。溶媒の使用
量は式（ＩＩＩ）で表される化合物１重量部に対し２〜
４０重量部、好ましくは４〜１０重量部が用いられる。
【００２２】反応温度は脱水剤の種類により異なるが通
常−１０〜２００℃程度である。反応終了後は、反応液
を水に注加しこれを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾
燥、濃縮、乾固することにより、前記一般式（ＩＶ）で
表される光学活性チアジアゾール化合物を得ることがで
きる。上記方法により得られる一般式（ＩＶ）で示され
る光学活性チアジアゾール化合物は、ナミハダニ、カン
ザワハダニ、ミカンハダニ等のハダニ類、トマトサビダ
ニ、ミカンサビダニ等のサビダニ類等、ダニ類に対し広
く効果を示し、また、それらの成虫だけでなく、殺卵効
果にも優れた化合物である。
常−１０〜２００℃程度である。反応終了後は、反応液
を水に注加しこれを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾
燥、濃縮、乾固することにより、前記一般式（ＩＶ）で
表される光学活性チアジアゾール化合物を得ることがで
きる。上記方法により得られる一般式（ＩＶ）で示され
る光学活性チアジアゾール化合物は、ナミハダニ、カン
ザワハダニ、ミカンハダニ等のハダニ類、トマトサビダ
ニ、ミカンサビダニ等のサビダニ類等、ダニ類に対し広
く効果を示し、また、それらの成虫だけでなく、殺卵効
果にも優れた化合物である。
【００２３】
【実施例】次に本発明化合物の製造例、製剤例および試
験例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発
明はその要旨を越えない限り以下の例に限定されるもの
ではない。 製造例１ エチル （Ｓ）−２−（４−メチルフェニル
スルホニルオキシ)プロピオナートの合成 １０００ｍｌ フラスコ中に、（Ｓ）-乳酸エチル７１．
５ｇ、p-トルエンスルホン酸クロリド１０４．９ｇおよ
びトルエン３３０ｍｌを仕込み、この中へトリエチルア
ミン６６．８ｇを滴下した。反応初期やや発熱するので
反応温度を２５〜３０℃に保つよう水冷した。そのまま
室温で72時間撹拌して反応を行った。注水し析出物を溶
解した後分液した。有機相を希塩酸、水(２回）、飽和
食塩水の順に洗浄した。減圧濃縮して１４１．５ｇのエ
チル （Ｓ）−２−（４−メチルフェニルスルホニルオ
キシ)プロピオナートを得た。収率９５．０％。純度９
７．４％（ガスクロマトグラフィーによる）。
験例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発
明はその要旨を越えない限り以下の例に限定されるもの
ではない。 製造例１ エチル （Ｓ）−２−（４−メチルフェニル
スルホニルオキシ)プロピオナートの合成 １０００ｍｌ フラスコ中に、（Ｓ）-乳酸エチル７１．
５ｇ、p-トルエンスルホン酸クロリド１０４．９ｇおよ
びトルエン３３０ｍｌを仕込み、この中へトリエチルア
ミン６６．８ｇを滴下した。反応初期やや発熱するので
反応温度を２５〜３０℃に保つよう水冷した。そのまま
室温で72時間撹拌して反応を行った。注水し析出物を溶
解した後分液した。有機相を希塩酸、水(２回）、飽和
食塩水の順に洗浄した。減圧濃縮して１４１．５ｇのエ
チル （Ｓ）−２−（４−メチルフェニルスルホニルオ
キシ)プロピオナートを得た。収率９５．０％。純度９
７．４％（ガスクロマトグラフィーによる）。
【００２４】製造例２ エチル （Ｒ）−２−［４−
（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)
フェノキシ］プロピオナートの合成 ３０００ｍｌフラスコ中に、４−（５−トリフルオロメ
チルピリジン−２−イルオキシ)フェノール１２９．５
ｇ、炭酸カリウム８３．９ｇ、エチル （Ｓ）−２−
（４−メチルフェニルスルホニルオキシ)プロピオナー
ト１４１．５ｇおよびアセトニトリル１２６５ｍｌを仕
込み、９５℃の油浴上加熱還流しつつ、１０時間反応を
行った。冷却後、析出物を濾過、洗浄し、母液洗液を合
わせ減圧濃縮した。残渣を１０００ｍｌの酢酸エチルに
溶解し、水、飽和食塩水（×2）各４００ｍｌの順に洗
浄した。減圧下濃縮して１７９．８ｇのエチル （Ｒ）
−２−［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−
イルオキシ)フェノキシ］プロピオナートを得た。収率
１００％。純度９６．１％（ガスクロマトグラフィーに
よる）。光学純度８３．６％ｅｅ（光学活性液体クロマ
トグラフィーによる）。
（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)
フェノキシ］プロピオナートの合成 ３０００ｍｌフラスコ中に、４−（５−トリフルオロメ
チルピリジン−２−イルオキシ)フェノール１２９．５
ｇ、炭酸カリウム８３．９ｇ、エチル （Ｓ）−２−
（４−メチルフェニルスルホニルオキシ)プロピオナー
ト１４１．５ｇおよびアセトニトリル１２６５ｍｌを仕
込み、９５℃の油浴上加熱還流しつつ、１０時間反応を
行った。冷却後、析出物を濾過、洗浄し、母液洗液を合
わせ減圧濃縮した。残渣を１０００ｍｌの酢酸エチルに
溶解し、水、飽和食塩水（×2）各４００ｍｌの順に洗
浄した。減圧下濃縮して１７９．８ｇのエチル （Ｒ）
−２−［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−
イルオキシ)フェノキシ］プロピオナートを得た。収率
１００％。純度９６．１％（ガスクロマトグラフィーに
よる）。光学純度８３．６％ｅｅ（光学活性液体クロマ
トグラフィーによる）。
【００２５】実施例１ （Ｒ）−３−［２−［４−（５
−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェ
ノキシ］プロピオニル］−チオカルバジン酸−Ｏ−エチ
ルエステルの合成 ３０００ｍｌフラスコ中に、製造例２で得たエチル
（Ｒ）−２−［４−（５−トリフルオロメチルピリジン
−２−イルオキシ)フェノキシ］プロピオナート１７
９．８ｇ、チオカルバジン酸−Ｏ−エチルエステル６
６．９ｇおよびトルエン１０００ｍｌを仕込み、この中
へナトリウムメトキドの３０％メタノール溶液１３３．
７ｇを５分間で滴下した。滴下後そのまま室温で２．５
時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反応液を濃塩
酸８０ｍｌと水２００ｍｌを混合して調製した希塩酸で
中和した。酢酸エチル５００ｍｌを添加し、よく攪拌
し、抽出処理した後、分液した。ここで回収した油相を
水、飽和食塩水の順に洗浄し、減圧濃縮して粗製物を得
た。このものの光学純度は７９．５％であった。これを
酢酸エチル４００ｍｌに加え、加熱・溶解した後、激し
く撹拌しながら、ここへ室温のヘキサン１２００ｍｌを
添加した。これを撹拌しながら室温まで冷却した後、析
出した結晶を濾過、洗浄、乾燥し、１８５．０ｇの
（Ｒ）−３−［２−［４−（５−トリフルオロメチルピ
リジン−２−イルオキシ)フェノキシ］プロピオニル］
−チオカルバジン酸−Ｏ−エチルエステルを得た。収率
８５％。融点１２０．７〜１２３．４℃。純度９９．０
％（液体クロマトグラフィーによる。２５４ｎｍ）。光
学純度８６．５％ｅｅ（光学活性液体クロマトグラフィ
ーによる）。
−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェ
ノキシ］プロピオニル］−チオカルバジン酸−Ｏ−エチ
ルエステルの合成 ３０００ｍｌフラスコ中に、製造例２で得たエチル
（Ｒ）−２−［４−（５−トリフルオロメチルピリジン
−２−イルオキシ)フェノキシ］プロピオナート１７
９．８ｇ、チオカルバジン酸−Ｏ−エチルエステル６
６．９ｇおよびトルエン１０００ｍｌを仕込み、この中
へナトリウムメトキドの３０％メタノール溶液１３３．
７ｇを５分間で滴下した。滴下後そのまま室温で２．５
時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反応液を濃塩
酸８０ｍｌと水２００ｍｌを混合して調製した希塩酸で
中和した。酢酸エチル５００ｍｌを添加し、よく攪拌
し、抽出処理した後、分液した。ここで回収した油相を
水、飽和食塩水の順に洗浄し、減圧濃縮して粗製物を得
た。このものの光学純度は７９．５％であった。これを
酢酸エチル４００ｍｌに加え、加熱・溶解した後、激し
く撹拌しながら、ここへ室温のヘキサン１２００ｍｌを
添加した。これを撹拌しながら室温まで冷却した後、析
出した結晶を濾過、洗浄、乾燥し、１８５．０ｇの
（Ｒ）−３−［２−［４−（５−トリフルオロメチルピ
リジン−２−イルオキシ)フェノキシ］プロピオニル］
−チオカルバジン酸−Ｏ−エチルエステルを得た。収率
８５％。融点１２０．７〜１２３．４℃。純度９９．０
％（液体クロマトグラフィーによる。２５４ｎｍ）。光
学純度８６．５％ｅｅ（光学活性液体クロマトグラフィ
ーによる）。
【００２６】実施例２ （Ｒ）−２−エトキシ−５−
［１−［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−
イルオキシ)フェノキシ］エチル］−１，３，３−チア
ジアゾールの合成 ２０００ｍｌフラスコ中に、濃硫酸７４０ｇを仕込み、
氷冷下反応温度を５〜１０℃に保ちつつ、実施例１で得
た１８５．０ｇの（Ｒ）−３−［２−［４−（５−トリ
フルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェノキ
シ］プロピオニル］−チオカルバジン酸−Ｏ−エチルエ
ステルを少量づつ添加した。そのまま３時間攪拌して環
化反応を完結させた。反応液を氷１２００ｇ＋水１２０
０ｇからなる氷水中に注ぎ、次いで酢酸エチル１０００
ｍｌを混合し、抽出処理した後、油層を回収するととも
に、水相を更に酢酸エチル５００ｍｌで同様に抽出し
た。これら油相を合わせて、水１０００ｍｌで２回、飽
和重曹水５００ｍｌ、飽和食塩水５００ｍｌの順で洗浄
した後、洗浄後の油層を減圧濃縮し、残渣を結晶化させ
粉砕後、減圧乾燥して１６５．９ｇの式（ＩＩＩ）で示
される（Ｒ）−２−エトキシ−５−［１−［４−（５−
トリフルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェノ
キシ］エチル］−１，３，３−チアジアゾールを得た。
収率９４％。融点６６．４〜６８．６℃。純度 ９９．
２％（液体クロマトグラフィーによる。２５４ｎｍ）。
光学純度８５．７％ｅｅ（光学活性液体クロマトグラフ
ィーによる）。
［１−［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−
イルオキシ)フェノキシ］エチル］−１，３，３−チア
ジアゾールの合成 ２０００ｍｌフラスコ中に、濃硫酸７４０ｇを仕込み、
氷冷下反応温度を５〜１０℃に保ちつつ、実施例１で得
た１８５．０ｇの（Ｒ）−３−［２−［４−（５−トリ
フルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェノキ
シ］プロピオニル］−チオカルバジン酸−Ｏ−エチルエ
ステルを少量づつ添加した。そのまま３時間攪拌して環
化反応を完結させた。反応液を氷１２００ｇ＋水１２０
０ｇからなる氷水中に注ぎ、次いで酢酸エチル１０００
ｍｌを混合し、抽出処理した後、油層を回収するととも
に、水相を更に酢酸エチル５００ｍｌで同様に抽出し
た。これら油相を合わせて、水１０００ｍｌで２回、飽
和重曹水５００ｍｌ、飽和食塩水５００ｍｌの順で洗浄
した後、洗浄後の油層を減圧濃縮し、残渣を結晶化させ
粉砕後、減圧乾燥して１６５．９ｇの式（ＩＩＩ）で示
される（Ｒ）−２−エトキシ−５−［１−［４−（５−
トリフルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェノ
キシ］エチル］−１，３，３−チアジアゾールを得た。
収率９４％。融点６６．４〜６８．６℃。純度 ９９．
２％（液体クロマトグラフィーによる。２５４ｎｍ）。
光学純度８５．７％ｅｅ（光学活性液体クロマトグラフ
ィーによる）。
【００２７】実施例３ （Ｒ）−３−［２−［４−（５
−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェ
ノキシ］プロピオニル］−チオカルバジン酸−Ｏ−エチ
ルエステルの合成 実施例１と同様の反応により得た（Ｒ）−３−［２−
［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオ
キシ)フェノキシ］プロピオニル］−チオカルバジン酸
−Ｏ−エチルエステルの粗製物１７．３ｇを酢酸エチル
６０ｍｌ／ヘキサン１２０ｍｌを用い、実施例１と同様
の再結晶操作により、１４．９ｇの（Ｒ）−３−［２−
［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオ
キシ)フェノキシ］プロピオニル］−チオカルバジン酸
−Ｏ−エチルエステルを得た。純度９９．９％（液体ク
ロマトグラフィーによる。２５４ｎｍ）。光学純度９
１．２％ｅｅ（光学活性液体クロマトグラフィーによ
る）。これをさらに、酢酸エチル４０ｍｌ／ヘキサン８
０ｍｌを用い、実施例１と同様の再結晶操作により、１
３．１ｇの（Ｒ）−３−［２−［４−（５−トリフルオ
ロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェノキシ］プロ
ピオニル］−チオカルバジン酸−Ｏ−エチルエステルを
得た。融点１３２．７〜１３３．５℃。純度９９．９％
（液体クロマトグラフィーによる。２５４ｎｍ）。光学
純度９８．１％ｅｅ（光学活性液体クロマトグラフィー
による）。
−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェ
ノキシ］プロピオニル］−チオカルバジン酸−Ｏ−エチ
ルエステルの合成 実施例１と同様の反応により得た（Ｒ）−３−［２−
［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオ
キシ)フェノキシ］プロピオニル］−チオカルバジン酸
−Ｏ−エチルエステルの粗製物１７．３ｇを酢酸エチル
６０ｍｌ／ヘキサン１２０ｍｌを用い、実施例１と同様
の再結晶操作により、１４．９ｇの（Ｒ）−３−［２−
［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオ
キシ)フェノキシ］プロピオニル］−チオカルバジン酸
−Ｏ−エチルエステルを得た。純度９９．９％（液体ク
ロマトグラフィーによる。２５４ｎｍ）。光学純度９
１．２％ｅｅ（光学活性液体クロマトグラフィーによ
る）。これをさらに、酢酸エチル４０ｍｌ／ヘキサン８
０ｍｌを用い、実施例１と同様の再結晶操作により、１
３．１ｇの（Ｒ）−３−［２−［４−（５−トリフルオ
ロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェノキシ］プロ
ピオニル］−チオカルバジン酸−Ｏ−エチルエステルを
得た。融点１３２．７〜１３３．５℃。純度９９．９％
（液体クロマトグラフィーによる。２５４ｎｍ）。光学
純度９８．１％ｅｅ（光学活性液体クロマトグラフィー
による）。
【００２８】実施例４ （Ｒ）−２−エトキシ−５−
［１−［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−
イルオキシ)フェノキシ］エチル］−１，３，４−チア
ジアゾールの合成 実施例３で得た（Ｒ）−３−［２−［４−（５−トリフ
ルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェノキシ］
プロピオニル］−チオカルバジン酸−Ｏ−エチルエステ
ル８．６ｇを用い、実施例２と同様にして反応、後処理
を行って７．６ｇの（Ｒ）−２−エトキシ−５−［１−
［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオ
キシ)フェノキシ］エチル］−１，３，４−チアジアゾ
ールを得た。収率９２％。融点６８．５〜７０．０℃。
純度 ９９．９％（液体クロマトグラフィーによる。２
５４ｎｍ）。光学純度９８．０％ｅｅ（光学活性液体ク
ロマトグラフィーによる）。
［１−［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−
イルオキシ)フェノキシ］エチル］−１，３，４−チア
ジアゾールの合成 実施例３で得た（Ｒ）−３−［２−［４−（５−トリフ
ルオロメチルピリジン−２−イルオキシ)フェノキシ］
プロピオニル］−チオカルバジン酸−Ｏ−エチルエステ
ル８．６ｇを用い、実施例２と同様にして反応、後処理
を行って７．６ｇの（Ｒ）−２−エトキシ−５−［１−
［４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオ
キシ)フェノキシ］エチル］−１，３，４−チアジアゾ
ールを得た。収率９２％。融点６８．５〜７０．０℃。
純度 ９９．９％（液体クロマトグラフィーによる。２
５４ｎｍ）。光学純度９８．０％ｅｅ（光学活性液体ク
ロマトグラフィーによる）。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば、光学活性なヒドラジン
化合物および該化合物から誘導される光学活性なチアジ
アゾール化合物が工業的に効率よく製造できる。
化合物および該化合物から誘導される光学活性なチアジ
アゾール化合物が工業的に効率よく製造できる。
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子または低級ハロアルキル
基を示し、Ｒ3は低級アルキル基を示す。］で表される
光学活性プロピオン酸誘導体と下記一般式（ＩＩ） 【化２】 ［式中、Ｒ2は低級アルキル基を示す。］で表されるチ
オカルバジン酸誘導体とを、塩基の存在下反応させるこ
とを特徴とする下記一般式（ＩＩＩ） 【化３】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同義である。］で表される
光学活性ヒドラジン化合物の製造法。 - 【請求項２】 反応後に再結晶操作を行うことにより、
さらに光学純度を向上させることを特徴とする請求項１
に記載の製造法。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の方法で得られ
る下記一般式（ＩＩＩ） 【化４】 ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子または低級ハロアルキル
基を示し、Ｒ2は低級アルキル基。］で表されるヒドラ
ジン化合物を、さらに脱水剤の存在下で環化縮合させる
ことを特徴とする下記一般式（ＩＶ） 【化５】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同義である。］で表される
光学活性チアジアゾール化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001248550A JP2003055375A (ja) | 2001-08-20 | 2001-08-20 | 光学活性ヒドラジン化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001248550A JP2003055375A (ja) | 2001-08-20 | 2001-08-20 | 光学活性ヒドラジン化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003055375A true JP2003055375A (ja) | 2003-02-26 |
Family
ID=19077694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001248550A Pending JP2003055375A (ja) | 2001-08-20 | 2001-08-20 | 光学活性ヒドラジン化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003055375A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009096039A1 (ja) * | 2008-02-01 | 2009-08-06 | Agro Kanesho Co., Ltd. | {2-(4-ヒドロキシフェノキシ)プロピオニル}チオカルバジン酸エステル及びその製造方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57200344A (en) * | 1981-05-26 | 1982-12-08 | Hoffmann La Roche | Propionic acid amide derivative |
| JPS63246373A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-13 | Mitsubishi Kasei Corp | チアジアゾ−ル誘導体及びこれを有効成分とする殺虫殺ダニ剤 |
| JP2003026515A (ja) * | 2001-07-12 | 2003-01-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | フシダニ類用殺ダニ剤 |
| JP2003026516A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | 農園芸用殺菌剤 |
| JP2003026517A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | 殺ダニ剤 |
-
2001
- 2001-08-20 JP JP2001248550A patent/JP2003055375A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57200344A (en) * | 1981-05-26 | 1982-12-08 | Hoffmann La Roche | Propionic acid amide derivative |
| JPS63246373A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-13 | Mitsubishi Kasei Corp | チアジアゾ−ル誘導体及びこれを有効成分とする殺虫殺ダニ剤 |
| JP2003026516A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | 農園芸用殺菌剤 |
| JP2003026515A (ja) * | 2001-07-12 | 2003-01-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | フシダニ類用殺ダニ剤 |
| JP2003026517A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | 殺ダニ剤 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009096039A1 (ja) * | 2008-02-01 | 2009-08-06 | Agro Kanesho Co., Ltd. | {2-(4-ヒドロキシフェノキシ)プロピオニル}チオカルバジン酸エステル及びその製造方法 |
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