TWI258470B - Process for preparing aripiprazole - Google Patents
Process for preparing aripiprazole Download PDFInfo
- Publication number
- TWI258470B TWI258470B TW092135997A TW92135997A TWI258470B TW I258470 B TWI258470 B TW I258470B TW 092135997 A TW092135997 A TW 092135997A TW 92135997 A TW92135997 A TW 92135997A TW I258470 B TWI258470 B TW I258470B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- group
- alkali metal
- hydroxide
- inorganic basic
- producing
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D215/20—Oxygen atoms
- C07D215/22—Oxygen atoms attached in position 2 or 4
- C07D215/227—Oxygen atoms attached in position 2 or 4 only one oxygen atom which is attached in position 2
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P25/00—Drugs for disorders of the nervous system
- A61P25/18—Antipsychotics, i.e. neuroleptics; Drugs for mania or schizophrenia
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
- C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
- C07D403/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Neurology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Psychiatry (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Neurosurgery (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Quinoline Compounds (AREA)
Description
1258470 政、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於艾瑞哌唑之製法。 【先前技術】 將以下式代表的7-丨4_〔 4- ( 2,3-二氯苯基）·】-哌哄 基〕丁氧基丨-3，4 -二氫-2 ( 1 H )· D|啉酮稱爲艾瑞哌唑：
其係用作治療精神分裂症之試劑的化合物。例如，以 在E P - A - 3 6 7 1 4 1所述含有艾瑞哌d坐之醫藥組成物作爲治療 精神分裂症之試劑，以及在第4 1冊j . M e d · C h e m .的第 6 5 8 - 6 6 7頁（1 9 9 8 )述及作爲抗精神病藥有用的艾瑞哌唑 〇 迄今已以以下通式（2 )代表之喹諾酮化合物：
(其中X係鹵素原子、低碳鏈烷磺醯氧基、芳基磺 -5- (2) 1258470 醯氧基或芳烷基磺醯氧基）與以下式（3 )代表之哌啡化 合物
C] C] HN
在無機或有機鹼性化合物的存在下及在有機溶劑或沒 有溶劑的存在下反應，以製備艾瑞哌唑。例如，在£?-八-3 6 7 1 4 1述及若必要時以加入作爲反應促進劑之鹼金屬碘 化物（如碘化鉀、碘化鈉或類似物）可以進行上述反應； 以及在其運用實例中（EP-A-367141，第5頁，第42-44 行），以碘化鈉用作反應促進劑。但是，根據£?-八-3 6 7 1 4 1所述之方法，目標艾瑞哌唑的產量不可能超過約 80%，即使使用反應促進劑。 根據EP-A-3 6 7 1 4 1，甚至在沒有溶劑的存在下進行艾 瑞哌唑的製備作用。但是，在沒有溶劑存在下的反應只可 以緩慢地進行，以及反應系統不易以攪拌維持在均勻狀態 ，因爲原料化合物及艾瑞哌唑標的兩者係固體物質。因此 ，在EP-A-3 67 1 4 1所述之方法不適合於工業製造。 再者，在EP-A-3 67 1 4 1所述之方法係以複雜的步驟獲 得艾瑞哌唑標的。 因爲以艾瑞哌唑用作醫學藥物之活性成份，故希望獲 得甚至更高純度之艾瑞哌唑。再者，爲了壓抑製造成本， 故希望生產甚至更高產量之艾瑞哌唑。 -6 - (3) 1258470 【發明內容】 本發明的目的係提供更高純度及更高產量之艾瑞哌唑 之製法。 本發明目前已發現甚至更高純度及產量之艾瑞哌唑之 製法。在化學科學領域中常見的技術經驗係在反應基質溶 解在反應系統時，則可以進行高效率的化學反應。根據上 述的經驗，一般熟悉本技藝的人不可能想到使用水作爲在 完全不溶於水之通式（2 )之D|諾酮化合物與式（3 )之哌 哄化合物或其鹽之間的反應之反應介質。此外，一般熟悉 本技藝的人可輕易預期在以通式（2)代表之_諾酮化合 物分子中的X基具有以水之水解作用轉化成羥基的非常 高的可能性。因此，一般熟悉本技藝的人可輕易預期在這 種條件下將會降低艾瑞哌唑的純度及產量。 在上述的條件下，本發明的發明者令人注目地發現係 以大膽地使用完全不能夠溶解通式（2 )之咱諾酮化合物 的水作爲反應介質及進一步使用無機鹼性化合物作爲該鹼 性化合物可以製備甚至更高純度及更高產量之艾瑞哌唑。 本發明係關於艾瑞哌唑之製法，其係以上述之通式（ 2 )代表之喹諾酮化合物與以式（3 )代表之哌畊化合物及 /或其鹽在水中及在以每莫耳喹諾酮化合物（2)計0.5至 1 〇莫耳爲範圍之無機鹼性化合物量的存在下反應，以便 於獲得以式（1 )代表之艾瑞哌唑。 本發明的詳細說明 (5) 1258470 萘基取代之直鏈或支鏈 C ! _6烷基磺醯氧基及類似物作爲 以X代表之芳烷基磺醯氧基之實例。在本發明包含以苯 甲基磺醯氧基、2 -苯基乙基磺醯氧基、4 -苯基丁基磺醯氧 基、2 -甲基苯甲基磺醯氧基、4 -甲氧基苯甲基磺醯氧基、 4 -硝基苯甲基磺醯氧基、3 -氯基苯甲基磺醯氧基及類似物 作爲以苯基取代之上述烷基磺醯氧基之實例。在本發明包 含以α -萘甲基磺醯氧基、/3 -萘甲基磺醯氧基及類似物作 爲以萘基取代之上述烷基磺醯氧基之實例。 以鹵素原子作爲X較佳，並以氯原子更佳。 以式（3 )代表之哌哄化合物及其鹽類也係已知的化 合物，將其當作本發明的另一種原料使用。 在本發明包含以例如無機鹽類（如氫氯酸鹽、硫酸鹽 、磷酸鹽、氫溴酸鹽及類似物）及有機酸鹽（如草酸鹽、 馬來酸鹽、富馬酸鹽、蘋果酸鹽、酒石酸鹽、苯甲酸鹽及 類似物）作爲該鹽。 在介於上述的通式（2)之喹諾酮化合物與式（3)之 哌畊化合物及/或其鹽之間的反應中，未特別限制彼等的 量之間的比，並可以寬廣的範圍適當地選擇彼等的量。更 特別地係可以使用以每莫耳通式（2 )之D奎諾酮化合物計 至少〇 · 5莫耳量之式（3 )之哌哄化合物及/或其鹽，並以 1至1 . 5莫耳量較佳。 在水中及在無機鹼性化合物的存在下進行本發明的反 應。 可以廣泛使用已知的化合物作爲無機鹼性化合物。例 -9 - (6) 1258470 如，在本發明包含以鹼金屬 化鉀、氫氧化絶、氫氧化鋰 如碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鉋 鈉、碳酸氫鉀及類似物）、 類似物）等。可以使用或單 些無機鹼性化合物。 在使用單獨一種無機鹼 碳酸鹽較佳，如碳酸鈉、碳 氫鋰、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀 每莫耳通式（2 )代表之喹詳 並以〇 . 5至6莫耳更特別。 在使用二或多種成爲混 中，以使用鹼金屬氫氧化物 氧化鉋、氫氧化鋰或類似物 、碳酸鉀、碳酸鉋、碳酸鋰 氫鉀或類似物）的混合物形 ，則一起使用的無機鹼性化 式（2 )代表之喧諾酮化合物 至6莫耳更特別。 在本發明的方法中，經 之喹諾酮化合物重量計3至 1 5份重量較佳。
經常在從室溫至2 0 0 °C 反應，並以從約8 0至1 5 0 °C 氫氧化物（如氫氧化鈉、氫氧 及類似物）、鹼金屬碳酸鹽（ 、碳酸錐、酸氣煙、&酸氯 驗金屬（如金屬納、金屬绅及 獨或二或多種混合物形式的這 性化合物的實例中，以鹼金屬 酸鉀、碳酸鉋、碳酸鋰、碳酸 或類似物，以及其量特別係以 ί酮化合物計〇 . 5至1 0莫耳， 合物之無機鹼性化合物的實例 (如氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫 )與鹼金屬碳酸鹽（如碳酸鈉 、碳酸氫鋰、碳酸氫鈉、碳酸 式較佳。當使用這種混合物時 合物的總量特別係以每莫耳通 丨計〇·5至10莫耳，並以0.5 常使用以每份通式（2 )代表 5 〇份重量的水量，並以5至 爲範圍之溫度下進行本發明的 較佳。經常以約1至I 〇小時 -10- 1258470 完成反應。 以攪拌進行反應可以更有利於進展本發明的反應： 可將根據本發明的方法所獲得的艾瑞哌唑根據在該領 域中慣闬的分離方式及純化方式輕易自反應混合物分離及 純化。可以例如所述及之溶劑萃取法、稀釋法、再結晶法 、管柱色層分離法、製備性薄層色層分離法及類似方法作 爲該分離及純化的方法。
根據本發明的方法，可以製備高純度及高產量的艾瑞 卩浪口坐。 因爲本發明的反應係使用水作爲反應介質，故本發明 的方法可以避免使用以環境衛生學的觀點而言不希望的物 質（如有機溶劑），不會對環境造成任何負擔及具有安全 性。 根據本發明的方法，可以簡單的步驟製備艾瑞哌Π坐。 根據本發明的方法，可以沒有任何複雜的純化步,驟_ 備具有高純度的艾瑞哌唑。
因爲本發明的方法未使用任何超過需要的試劑，纟夂q 以合乎經濟的方式製備艾瑞哌唑。 因此，以本發明的方法作爲艾瑞哌唑的工業製法+ # 有利。 【實施方式】 實例 將在以下以參考運作實例進一步說明本發明。 -11 - (8) 1258470 實例1 將3 6.0公克碳酸鉀加入6 00毫升水中，將60.0公克 7 - ( 4 -氯基丁氧基）-3 · 4 -二氫喹諾酮及6 9.6公克1 - ί 2 · 3 -二氯苯基）哌哄單氫氯酸鹽加入其中。將混合物在9 0至 9 5 °C下以攪拌加熱約小時。接著將反應混合物冷卻至約 4 ，並以過濾收集沉積之晶體。將因此獲得的晶體以
24 0毫升水淸洗及溶解在90 0毫升醋酸乙酯中，並將水/醋 酸乙酯之共沸混合物（約3 00毫升）在回流下蒸發。將殘 餘溶液冷卻至〇至5 t，並以過濾收集沉積之晶體。將因 此獲得的晶體以1 20毫升醋酸乙酯淸洗及在50托之減壓 下以5 0至6 (TC經3小時乾燥，獲得9 8.4公克艾瑞哌唑（ 產量9 2.8 %，純度9 8 % )。熔點1 4 (Γ C。 以在以下條件下的高性能液相色層分離法（HP LC ) 測量艾瑞哌唑的純度：
管柱：YMC AM303 ODS (由YMC公司所製造的） 洗提齊ϋ : 0.02 克分子量硫酸鈉/乙腈/甲醇/醋酸
=56/33/11/1 流速：1毫升/分鐘 偵測波長：2 5 4毫微米UV -12-
Claims (1)
- 公，甘劑 mmmmιι_»___ ι___ --------η Μ,,ι,| , | A 匕本j 拾 、申請專利範 圍 第92135997號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國94年12月21日修正令以式（2 )代表之喹諾酮化合物(其中X代表鹵素原子、Cl-C6鏈烷磺醯氧基、可隨 意爲1至3個選自CrQ烷基、烷氧基、硝基及鹵 素原子之基團所取代之C6-C1()芳基磺醯氧基或經C6-C10 芳基所取代之Ci-Cs烷基磺醯氧基（其中的芳基環可隨意 爲1至3個選自Ci-Q烷基、d-Cs烷氧基、硝基及鹵素 原子之基團所取代））與以式（3 )代表之哌畊化合物(2)1258470⑶ 及/或其鹽在水中及在以每莫耳α奎諾酮化合物（2 )計 〇. 5至1 0莫耳量之無機鹼性化合物的存在下反應。 2 .如申請專利範圍第1項之艾瑞哌唑之製法，其中 該方法使用單獨一種無機鹼性化合物，且該無機鹼性化合 物係鹼金屬氫氧化物、鹼金屬碳酸鹽或鹼金屬。 3 ·如申請專利範圍第1項之艾瑞哌唑之製法，其中 該方法使用二或多種成混合物形式之無機鹼性化合物，且 該無機鹼性化合物之混合物係鹼金屬氫氧化物與鹼金屬碳 酸鹽之混合物。 4.如申請專利範圍第2或3項之艾瑞哌唑之製法， 其中X係鹵素原子。 5 ·如申請專利範圍第2項之艾瑞哌唑之製法，其中 X係氯原子且該無機鹼性化合物係鹼金屬碳酸鹽。 6.如申請專利範圍第3項之艾瑞哌唑之製法，其中 X係氯原子。 7 .如申請專利範圍第2或3項之艾瑞哌唑之製法， 其中該鹼金屬氫氧化物係氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鉋 或氫氧化鋰。 8 ·如申請專利範圍第2、3或5項之艾瑞哌唑之製法 ，其中該鹼金屬碳酸鹽係碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鉋、碳酸 -2- 1258470 (3) 鋰、碳酸氫鋰、碳酸氫鈉或碳酸氫鉀。 9.如申請專利範圍第2項之艾瑞哌唑之製法，其中 該鹼金屬係鈉或鉀。-3-
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003002996 | 2003-01-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200418840A TW200418840A (en) | 2004-10-01 |
| TWI258470B true TWI258470B (en) | 2006-07-21 |
Family
ID=32652780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW092135997A TWI258470B (en) | 2003-01-09 | 2003-12-18 | Process for preparing aripiprazole |
Country Status (20)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6995264B2 (zh) |
| EP (1) | EP1480953B2 (zh) |
| JP (2) | JP5797090B2 (zh) |
| KR (1) | KR100583667B1 (zh) |
| CN (1) | CN1263742C (zh) |
| AR (1) | AR042702A1 (zh) |
| AT (1) | ATE308524T1 (zh) |
| AU (1) | AU2003288755C1 (zh) |
| BR (2) | BR0305500A (zh) |
| CA (2) | CA2458929C (zh) |
| DE (1) | DE60302139T3 (zh) |
| DK (1) | DK1480953T4 (zh) |
| EG (1) | EG23557A (zh) |
| ES (1) | ES2250919T5 (zh) |
| HK (1) | HK1073110A1 (zh) |
| MX (1) | MXPA04002519A (zh) |
| MY (1) | MY129831A (zh) |
| SI (1) | SI1480953T2 (zh) |
| TW (1) | TWI258470B (zh) |
| WO (1) | WO2004063162A1 (zh) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005058835A2 (en) * | 2003-12-16 | 2005-06-30 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Methods of preparing aripiprazole crystalline forms |
| US7714129B2 (en) * | 2003-12-16 | 2010-05-11 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Methods of preparing anhydrous aripiprazole form II |
| MXPA06008828A (es) * | 2004-02-05 | 2007-04-25 | Teva Pharma | Proceso para preparar aripiprazol. |
| US7507823B2 (en) | 2004-05-06 | 2009-03-24 | Bristol-Myers Squibb Company | Process of making aripiprazole particles |
| KR101041551B1 (ko) * | 2004-10-08 | 2011-06-15 | 수벤 라이프 사이언시스 리미티드 | 아리피프라졸 제조를 위해 유용한 신규 중간체와 신규중간체 및 아리피프라졸 제조 방법 |
| US20060079689A1 (en) * | 2004-10-12 | 2006-04-13 | Vladimir Naddaka | Processes for preparing and purifying carbostyril compounds such as aripiprazole and 7-(4-halobutoxy)-3,4-dihydro-2(1H)-quinolinones |
| EP1812397A1 (en) * | 2004-11-18 | 2007-08-01 | Synthon B.V. | Process of making crystalline aripiprazole |
| CN1303068C (zh) * | 2005-01-11 | 2007-03-07 | 中国人民解放军第二军医大学 | 一种阿立哌唑的制备方法 |
| TWI320783B (en) | 2005-04-14 | 2010-02-21 | Otsuka Pharma Co Ltd | Heterocyclic compound |
| JP2009508859A (ja) * | 2005-09-15 | 2009-03-05 | エラン ファーマ インターナショナル リミテッド | ナノ粒子アリピプラゾール製剤 |
| EP1919453A2 (en) * | 2005-12-22 | 2008-05-14 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd | Processes for reducing particle size of aripiprazole |
| US20070149782A1 (en) * | 2005-12-23 | 2007-06-28 | Michael Brand | Methods of preparing a crystalline form of 7-(4-chlorobutoxy)-3,4-dihydro-2(1h)-quinolinone and the use thereof in the synthesis of Aripiprazole |
| US20070238876A1 (en) * | 2006-04-10 | 2007-10-11 | Neera Tewari | Process for the preparation of aripiprazole |
| RU2497819C2 (ru) | 2007-05-21 | 2013-11-10 | Ривайва Фармасьютикалс, Инк. | Композиции, синтез и способы применения атипичных нейролептиков на основе хинолина |
| EP2299814A4 (en) | 2008-05-27 | 2011-06-15 | Reviva Pharmaceuticals Inc | COMPOSITIONS, SYNTHESIS AND METHOD FOR USE OF ANTIPSYCHOTICS ON PIPERAZINE BASIS |
| CN101781246B (zh) * | 2009-01-15 | 2012-02-29 | 成都康弘药业集团股份有限公司 | 一种合成阿立哌唑的改进方法 |
| KR101705727B1 (ko) | 2009-02-26 | 2017-02-10 | 레비바 파마슈티칼스, 아이엔씨. | 아릴피페라진 유도체의 조성물, 합성, 및 사용 방법 |
| JOP20200109A1 (ar) | 2012-04-23 | 2017-06-16 | Otsuka Pharma Co Ltd | مستحضر قابل للحقن |
| WO2016181406A1 (en) * | 2015-05-08 | 2016-11-17 | Davuluri Ramamohan Rao | Improved process for the preparation of aripiprazole with reduced particle size |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54130587A (en) * | 1978-03-30 | 1979-10-09 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Carbostyryl derivative |
| DE3034237A1 (de) † | 1979-09-18 | 1981-04-16 | Otsuka Pharmaceutical Co. Ltd., Tokyo | Carbostyrilderivate, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltende, antihistaminisch wirkende mittel |
| US5006528A (en) * | 1988-10-31 | 1991-04-09 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Carbostyril derivatives |
| JP2608788B2 (ja) * | 1988-10-31 | 1997-05-14 | 大塚製薬 株式会社 | 精神分裂病治療剤 |
| JP4060523B2 (ja) † | 1999-11-24 | 2008-03-12 | 大塚製薬株式会社 | カルボスチリル誘導体の製造法 |
| AR033485A1 (es) † | 2001-09-25 | 2003-12-26 | Otsuka Pharma Co Ltd | Sustancia medicinal de aripiprazol de baja higroscopicidad y proceso para la preparacion de la misma |
-
2003
- 2003-12-18 CA CA002458929A patent/CA2458929C/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-18 CA CA002676216A patent/CA2676216A1/en not_active Abandoned
- 2003-12-18 ES ES03780889T patent/ES2250919T5/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 AT AT03780889T patent/ATE308524T1/de active
- 2003-12-18 BR BR0305500-0A patent/BR0305500A/pt not_active IP Right Cessation
- 2003-12-18 MX MXPA04002519A patent/MXPA04002519A/es active IP Right Grant
- 2003-12-18 AU AU2003288755A patent/AU2003288755C1/en not_active Ceased
- 2003-12-18 KR KR1020047003990A patent/KR100583667B1/ko active IP Right Grant
- 2003-12-18 TW TW092135997A patent/TWI258470B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-12-18 BR BRPI0305500-0A patent/BRPI0305500B1/pt unknown
- 2003-12-18 SI SI200330153T patent/SI1480953T2/sl unknown
- 2003-12-18 WO PCT/JP2003/016256 patent/WO2004063162A1/en active IP Right Grant
- 2003-12-18 DE DE60302139T patent/DE60302139T3/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 EP EP03780889A patent/EP1480953B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 DK DK03780889.6T patent/DK1480953T4/da active
-
2004
- 2004-01-05 AR ARP040100006A patent/AR042702A1/es not_active Application Discontinuation
- 2004-01-05 EG EG2004010004A patent/EG23557A/xx active
- 2004-01-08 MY MYPI20040043A patent/MY129831A/en unknown
- 2004-01-08 US US10/752,490 patent/US6995264B2/en active Active
- 2004-01-09 CN CNB2004100020641A patent/CN1263742C/zh not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-07-11 HK HK05105804A patent/HK1073110A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2011
- 2011-11-04 JP JP2011241871A patent/JP5797090B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2014
- 2014-03-06 JP JP2014043786A patent/JP2014148511A/ja active Pending
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI258470B (en) | Process for preparing aripiprazole | |
| TW538040B (en) | Novel form of S-omeprazole | |
| EP1487801B1 (en) | 7-arylsulfonamido-2,3,4,5-tetrahydro-1h-benzo¬d|azepine derivatives with 5-ht6 receptor affinity for the treatment of cns disorders | |
| JP4971343B2 (ja) | エポキシ化合物及びその製造方法 | |
| JP5641802B2 (ja) | （ｓ）−４−〔（４−クロロフェニル）（２−ピリジル）メトキシ〕ピペリジンのジアステレオマー塩の製造方法 | |
| WO2008104781A1 (en) | Process for preparing isomers of carmoterol | |
| US6630590B1 (en) | Process for producing carbostyril derivatives | |
| KR100430575B1 (ko) | 란소프라졸 및 그 중간체의 제조방법 | |
| KR20160003244A (ko) | 퀴놀론 유도체 | |
| JP4060523B2 (ja) | カルボスチリル誘導体の製造法 | |
| WO2014051077A1 (ja) | 高純度の含窒素複素環化合物の製造方法 | |
| CN102725269A (zh) | 噁唑化合物的合成中间体及其制备方法 | |
| US7399864B2 (en) | Process for producing carbostyril derivatives | |
| US7825251B2 (en) | Process for producing carbostyril derivatives | |
| JP2020079206A (ja) | 縮合複素環化合物及びその中間体の製造方法 | |
| JP4902945B2 (ja) | アリピプラゾールの製造法 | |
| WO2007035003A1 (ja) | 光学活性なピペラジン化合物の製造方法 | |
| WO2014136808A1 (ja) | 細胞死抑制剤及びその製造方法 | |
| JP2004250340A (ja) | ４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩の製法 | |
| WO2009133778A1 (ja) | ｔｅｒｔ－ブチル ３－アミノピペリジン－１－カルボキシレートの製造方法およびその中間体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |