JP2014144937A - Nmp精製システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】イオン交換手段16は、NMP水溶液に含まれる不純物を除去する。このイオン交換手段16により不純物が除去されたNMP水溶液について、浸透気化分離手段18により、分離膜を介し水分を選択的に分離して脱水NMPを得る。そして、浸透気化分離手段18に供給される不純物が除去されたNMP水溶液の導電率を導電率測定手段34a,34bで測定する。
【選択図】図2
Description
(1)排ガス中のNMPを吸着体または水スクラバーにより回収する。この工程によりNMP7〜9割、水分1〜3割程度の状態にまでNMPが濃縮される。
(2)NMP/水の混合液を蒸留で精製する。この工程でNMPを99%、水分1%以下まで精製する。
以下、実験例について説明する。
純度99.5%のNMPを購入した。このNMPに純水を添加し、各種水分濃度のNMP水溶液を調製した。
導電率計 :Foxboro 875CR(商品名:FOXBORO社製875CR型導電率/比抵抗測定器)
その結果を表1に示す。
水分1%、3%、10%、20%、30%の各NMP水溶液に、ギ酸を所定濃度(1ppm)溶解させ、水分と導電率の関係を確認した。すなわち、密封容器にNMP水溶液をため、上部空間に乾燥N2を充満させ、水分量を維持した。そして、この密封容器内のNMP水溶液を導電率計に流通して、その導電率を測定した。なお、導電率計は、上述と同様に、Foxboro 875CRを使用した。その結果を表2に示す。
水分15%のNMP水溶液、および無水NMPにギ酸を0〜8ppm溶解させ、導電率を測定した。条件は、具体例1と同様である。
本実施形態によれば、浸透気化分離(PV)装置18へ供給されるNMP水溶液(供給液)に含まれる不純物(特に、ギ酸)をオンライン監視しながらNMPの精製が出来る。
Claims (4)
- NMP(N−メチル−2−ピロリドン)を含むNMP水溶液を精製するNMP精製システムであって、
NMP水溶液に含まれる不純物をイオン交換樹脂を利用して除去するイオン交換手段と、
前記イオン交換手段により不純物が除去されたNMP水溶液について分離膜を介し水分を選択的に分離して脱水NMPを得る浸透気化分離手段と、
前記浸透気化分離手段に供給される不純物が除去されたNMP水溶液の導電率を測定する導電率測定手段と、
を有する、NMP精製システム。 - 請求項1に記載のNMP精製システムであって、
前記分離膜がNaA型ゼオライト膜である、NMP精製システム。 - 請求項1または2に記載のNMP精製システムであって、
前記導電率測定手段により測定した導電率から、NMP水溶液中のギ酸濃度を推定し、ギ酸濃度が所定値以上の場合に、当該NMP水溶液の前記浸透気化分離手段への供給を停止する、NMP精製システム。 - 請求項3に記載のNMP精製システムであって、
さらに、
前記イオン交換手段に供給される不純物が除去される前のNMP水溶液の導電率を測定する前導電率測定手段を有し、
前記前導電率測定手段と、前記導電率測定手段の両方の測定結果から、ギ酸濃度を推定する、NMP精製システム。
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