JP2014038983A5 - - Google Patents
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Description
本発明の基板洗浄装置は、長尺状に水平に延びるロール洗浄部材を支持して回転させるロールホルダと、制御機器を備えたアクチュエータの駆動に伴って昇降する昇降部を有し、基板洗浄時に前記ロール洗浄部材が基板に所定のロール荷重を加えるように前記ロールホルダを昇降させる昇降機構と、前記昇降機構の昇降部と前記ロールホルダとの間に設置され、前記ロール荷重の方向に働く荷重を測定することにより前記ロール荷重を測定するロードセルと、前記ロードセルの測定値を元に前記アクチュエータの制御機器を介して前記ロール荷重をフィードバック制御する制御部とを有し、前記ロードセルは、ロールホルダの長さ方向に沿ったほぼ中央に配置されて、前記昇降機構の昇降部に連結されている。
このように、昇降機構の昇降部と該昇降部に連結されたロールホルダとの間にロードセルを設置することで、ロードセルがロールホルダの自重を全て受ける構造となし、ロールホルダとロードセルとの間に、ロールホルダ昇降時にフリクション増となるベアリングやリンクロッド、荷重伝達でロスを発生させる梁構造や突起物等を介さない構造とすることができる。これによって、基板洗浄時に基板に加えられるロール荷重を正確にロードセルに伝え、ロール荷重を精度良く測定して制御することができる。
また、ロール洗浄部材を支持して回転させるロールホルダの重心がロードセルのほぼ中心を通るようにして、ロールホルダをバランス良く昇降部に連結することができる。
また、ロール洗浄部材を支持して回転させるロールホルダの重心がロードセルのほぼ中心を通るようにして、ロールホルダをバランス良く昇降部に連結することができる。
本発明の好ましい一態様において、前記チルト機構は、前記ロール洗浄部材の回転軸に対して直角方向を向いた枢軸と前記枢軸を回転自在に支承する軸受から構成される。
本発明の基板処理装置は、上記基板洗浄装置を備えたことを特徴とする。
本発明の基板洗浄装置の他の態様は、長尺状に延びるロール洗浄部材を支持して回転させるロールホルダと、制御機器を備えたアクチュエータの駆動に伴って前記ロール洗浄部材を基板に押し付ける方向に移動する押圧部を有し、基板洗浄時に前記ロール洗浄部材が基板に所定のロール荷重を加えるように前記ロールホルダを移動させる押圧機構と、前記押圧機構の押圧部と前記ロールホルダとの間に設置され、前記ロール荷重の方向に働く荷重を測定することにより前記ロール荷重を測定するロードセルと、前記ロードセルの測定値を元に前記アクチュエータの制御機器を介して前記ロール荷重をフィードバック制御する制御部とを有し、前記ロードセルは、ロールホルダの長さ方向に沿ったほぼ中央に配置されて、前記押圧機構の押圧部に連結されている。
本発明の基板洗浄装置の他の態様は、長尺状に延びるロール洗浄部材を支持して回転させるロールホルダと、制御機器を備えたアクチュエータの駆動に伴って前記ロール洗浄部材を基板に押し付ける方向に移動する押圧部を有し、基板洗浄時に前記ロール洗浄部材が基板に所定のロール荷重を加えるように前記ロールホルダを移動させる押圧機構と、前記押圧機構の押圧部と前記ロールホルダとの間に設置され、前記ロール荷重の方向に働く荷重を測定することにより前記ロール荷重を測定するロードセルと、前記ロードセルの測定値を元に前記アクチュエータの制御機器を介して前記ロール荷重をフィードバック制御する制御部とを有し、前記ロードセルは、ロールホルダの長さ方向に沿ったほぼ中央に配置されて、前記押圧機構の押圧部に連結されている。
ロードポート１２、該ロードポート１２側に位置する研磨装置１４ａ及び基板乾燥装置２０に囲まれた領域には、第１基板搬送ロボット２２が配置され、また研磨装置１４ａ〜１４ｄと平行に、基板搬送ユニット２４が配置されている。第１基板搬送ロボット２２は、研磨前の基板をロードポート１２から受け取って基板搬送ユニット２４に受け渡すとともに、乾燥後の基板を基板乾燥装置２０から受け取ってロードポート１２に戻す。基板搬送ユニット２４は、第１基板搬送ロボット２２から受け取った基板を搬送して、各研磨装置１４ａ〜１４ｄとの間で基板の受け渡しを行う。
この基板Ｗの表面の下部ロール洗浄部材４８によるスクラブ洗浄時に、前述の上部ロール洗浄部材４６の場合と同様に、基板Ｗの洗浄時に基板Ｗに加えられるロール荷重が設定ロール荷重となるようにロール荷重をフィードバック制御する。
図９は、ロードセル５４ａ及びチルト機構７０ａを内部に組み入れた他の下部ロールホルダ４４を示す縦断正面図である。この例の上記下部ロールホルダと異なる点は以下の通りである。
すなわち、下部ロールホルダ４４に固定されたチルト機構７０ａ及び該チルト機構７０ａに連結されたロードセル５４ａは、下部ロールホルダ４４の内部に形成された、下方に開口する収納部１００内に収納されている。そして、上端面にロードセル５４ａを固定した昇降軸（昇降部）５９の上部は、下方に垂下する円筒状の防水カバー１０２で包囲されている。これにより、洗浄処理の際に、洗浄に使用される洗浄液でチルト機構７０ａやロードセル５４ａが濡れないようになっている。
Claims (9)
- 長尺状に水平に延びるロール洗浄部材を支持して回転させるロールホルダと、
制御機器を備えたアクチュエータの駆動に伴って昇降する昇降部を有し、基板洗浄時に前記ロール洗浄部材が基板に所定のロール荷重を加えるように前記ロールホルダを昇降させる昇降機構と、
前記昇降機構の昇降部と前記ロールホルダとの間に設置され、前記ロール荷重の方向に働く荷重を測定することにより前記ロール荷重を測定するロードセルと、
前記ロードセルの測定値を元に前記アクチュエータの制御機器を介して前記ロール荷重をフィードバック制御する制御部とを有し、
前記ロードセルは、ロールホルダの長さ方向に沿ったほぼ中央に配置されて、前記昇降機構の昇降部に連結されていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記昇降機構の前記昇降部は、前記アクチュエータの駆動に伴って昇降する昇降軸または該昇降軸に基端を連結されて水平方向に延びる昇降アームからなることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
- 前記昇降機構の昇降部と前記ロールホルダとの間に、前記ロールホルダをチルトさせるチルト機構を設置したことを特徴とする請求項１または２に記載の基板洗浄装置。
- 前記チルト機構は、前記ロール洗浄部材の回転軸に対して直角方向を向いた枢軸と前記枢軸を回転自在に支承する軸受から構成されることを特徴とする請求項３に記載の基板洗浄装置。
- 前記制御部は、基板にロール荷重を加えた時からロール荷重のフィードバック制御を開始することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記制御部は、基板に加えられるロール荷重のフィードバック制御を開始するタイミングを設定ロール荷重毎に任意に設定することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記制御機器として電空レギュレータを使用し、前記制御部は、基板に加えられるロール荷重のフィードバック制御を開始する前の電空レギュレータ操作量を設定ロール荷重毎に任意に設定することを特徴とする請求項５または６に記載の基板洗浄装置。
- 請求項１乃至７のいずれか一項に記載の基板洗浄装置を備えたことを特徴とする基板処理装置。
- 長尺状に延びるロール洗浄部材を支持して回転させるロールホルダと、
制御機器を備えたアクチュエータの駆動に伴って前記ロール洗浄部材を基板に押し付ける方向に移動する押圧部を有し、基板洗浄時に前記ロール洗浄部材が基板に所定のロール荷重を加えるように前記ロールホルダを移動させる押圧機構と、
前記押圧機構の押圧部と前記ロールホルダとの間に設置され、前記ロール荷重の方向に働く荷重を測定することにより前記ロール荷重を測定するロードセルと、
前記ロードセルの測定値を元に前記アクチュエータの制御機器を介して前記ロール荷重をフィードバック制御する制御部とを有し、
前記ロードセルは、ロールホルダの長さ方向に沿ったほぼ中央に配置されて、前記押圧機構の押圧部に連結されていることを特徴とする基板洗浄装置。
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