JP6328577B2 - 荷重測定装置および荷重測定方法 - Google Patents
荷重測定装置および荷重測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6328577B2 JP6328577B2 JP2015033910A JP2015033910A JP6328577B2 JP 6328577 B2 JP6328577 B2 JP 6328577B2 JP 2015033910 A JP2015033910 A JP 2015033910A JP 2015033910 A JP2015033910 A JP 2015033910A JP 6328577 B2 JP6328577 B2 JP 6328577B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- load
- roll
- cleaning tool
- substrate
- roll cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 149
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 66
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 47
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 44
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 25
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 76
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 6
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/10—Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
- B08B1/14—Wipes; Absorbent members, e.g. swabs or sponges
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L1/00—Measuring force or stress, in general
- G01L1/04—Measuring force or stress, in general by measuring elastic deformation of gauges, e.g. of springs
- G01L1/048—Measuring force or stress, in general by measuring elastic deformation of gauges, e.g. of springs of torsionally deformable elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
- B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
- B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
- B08B1/34—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members rotating about an axis parallel to the surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B13/00—Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L1/00—Measuring force or stress, in general
- G01L1/04—Measuring force or stress, in general by measuring elastic deformation of gauges, e.g. of springs
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L5/00—Apparatus for, or methods of, measuring force, work, mechanical power, or torque, specially adapted for specific purposes
- G01L5/0061—Force sensors associated with industrial machines or actuators
- G01L5/0076—Force sensors associated with manufacturing machines
- G01L5/0085—Force sensors adapted for insertion between cooperating machine elements, e.g. for measuring the nip force between rollers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Force Measurement Appropriate To Specific Purposes (AREA)
Description
本発明の好ましい態様は、前記基台プレートの縁部には、複数の円弧状の切り欠き部が形成されており、前記基台プレートの中心点から前記円弧状の切り欠き部までの距離は、前記基板の半径に等しいことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ロール洗浄具から前記防水型ロードセルに加えられた荷重を表示する荷重表示器をさらに備え、前記荷重表示器はケーブルを介して前記防水型ロードセルに接続されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記基板洗浄装置は、前記ロール洗浄具から前記防水型ロードセルに加えられる荷重を測定するために前記ロール洗浄具を前記防水型ロードセルに押し付けているときの前記ロール洗浄具の変形量を測定する変位センサを備えていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記基台プレートは金属から構成されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記基台プレートには肉抜き穴が形成されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ケーブルは前記基台プレートに固定されていることを特徴とする。
本発明の一態様は、ロール洗浄具から基板に加えられる荷重を測定するための荷重測定装置であって、前記基板の直径と同じ長さの荷重測定面を有する防水型ロードセルと、前記防水型ロードセルを支持する基台プレートとを備え、前記基台プレートの縁部には、複数の円弧状の切り欠き部が形成されており、前記基台プレートの中心点から前記円弧状の切り欠き部までの距離は、前記基板の半径に等しいことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ロール洗浄具を前記防水型ロードセルに押し付ける力を変えながら、前記荷重の測定と前記ロール洗浄具の潰れ量の測定を繰り返して、前記荷重の複数の測定値と前記潰れ量の複数の測定値を取得し、前記荷重の複数の測定値と前記潰れ量の複数の測定値から、前記荷重と前記ロール洗浄具の潰れ量との関係を導き出すことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ロール洗浄具の回転速度を変えながら、前記荷重の測定を繰り返して、前記荷重の複数の測定値を取得し、前記荷重の複数の測定値と前記ロール洗浄具の対応する回転速度から、前記荷重と前記ロール洗浄具の回転速度との関係を導き出すことを特徴とする。
図1は、基板洗浄装置を示す斜視図である。図1に示すように、基板洗浄装置は、基板の一例であるウェハWの周縁部を保持してウェハWをその軸心まわりに回転させる4つの保持ローラー1,2,3,4を備えた基板保持機構5と、ウェハWの上下面に接触する円筒状のロールスポンジ(ロール洗浄具)7,8と、これらのロールスポンジ7,8をその軸心まわりに回転させるロール回転機構11,12と、ウェハWの上面に純水を供給する上側純水供給ノズル15,16と、ウェハWの上面に洗浄液(薬液)を供給する上側洗浄液供給ノズル20,21とを備えている。図示しないが、ウェハWの下面に純水を供給する下側純水供給ノズルと、ウェハWの下面に洗浄液(薬液)を供給する下側洗浄液供給ノズルが設けられている。
5 基板保持機構
7,8 ロールスポンジ(ロール洗浄具)
11,12 ロール回転機構
15,16 上側純水供給ノズル
20,21 上側洗浄液供給ノズル
27 荷重発生機構
30 ロードセル
30a 荷重測定面
31 基台プレート
35 ケーブル
38 荷重表示器
40 薄肉部
41 切り欠き部
50 ロール軸
52 ばね
55 変位センサ
66 動作コントローラ
67 圧力レギュレータ
Claims (13)
- 基板洗浄装置のロール洗浄具から基板に加えられる荷重を測定するための荷重測定装置であって、
前記基板洗浄装置の前記ロール洗浄具から荷重が加えられる前記基板の直径と同じ長さの長方形の荷重測定面を有する防水型ロードセルと、
前記防水型ロードセルが配置された凹部を有する基台プレートとを備え、
前記凹部は前記基台プレートの中央部に形成されており、
前記基板の洗浄に使用される前記基板洗浄装置の前記ロール洗浄具に洗浄液を供給しながら、前記ロール洗浄具を前記長方形の荷重測定面に直接押し付けることで、前記ロール洗浄具から前記防水型ロードセルに加えられる荷重を測定するように構成されていることを特徴とする荷重測定装置。 - 前記荷重測定面は、平坦な面であることを特徴とする請求項1に記載の荷重測定装置。
- 前記基台プレートの縁部には、複数の円弧状の切り欠き部が形成されており、前記基台プレートの中心点から前記円弧状の切り欠き部までの距離は、前記基板の半径に等しいことを特徴とする請求項1または2に記載の荷重測定装置。
- 前記ロール洗浄具から前記防水型ロードセルに加えられた荷重を表示する荷重表示器をさらに備え、前記荷重表示器はケーブルを介して前記防水型ロードセルに接続されていることを特徴とする請求項1に記載の荷重測定装置。
- 前記基板洗浄装置は、前記ロール洗浄具から前記防水型ロードセルに加えられる荷重を測定するために前記ロール洗浄具を前記防水型ロードセルに押し付けているときの前記ロール洗浄具の変形量を測定する変位センサを備えていることを特徴とする請求項1に記載の荷重測定装置。
- 前記基台プレートは金属から構成されていることを特徴とする請求項1に記載の荷重測定装置。
- 前記基台プレートには肉抜き穴が形成されていることを特徴とする請求項6に記載の荷重測定装置。
- 前記ケーブルは前記基台プレートに固定されていることを特徴とする請求項4に記載の荷重測定装置。
- ロール洗浄具から基板に加えられる荷重を測定するための荷重測定装置であって、
前記基板の直径と同じ長さの荷重測定面を有する防水型ロードセルと、
前記防水型ロードセルを支持する基台プレートとを備え、
前記基台プレートの縁部には、複数の円弧状の切り欠き部が形成されており、前記基台プレートの中心点から前記円弧状の切り欠き部までの距離は、前記基板の半径に等しいことを特徴とする荷重測定装置。 - ロール洗浄具から基板に加えられる荷重を測定する荷重測定方法であって、
前記基板の直径と同じ長さの荷重測定面を有する防水型ロードセルを備えた荷重測定装置を基板保持機構で保持し、
前記ロール洗浄具をその軸心まわりに回転させながら、該ロール洗浄具を前記防水型ロードセルに押し付け、
回転する前記ロール洗浄具に洗浄液を供給しながら、該ロール洗浄具から前記防水型ロードセルに加えられる荷重を測定することを特徴とする荷重測定方法。 - 回転する前記ロール洗浄具が前記防水型ロードセルに押し付けられているときの該ロール洗浄具の潰れ量を測定する工程をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の荷重測定方法。
- 前記ロール洗浄具を前記防水型ロードセルに押し付ける力を変えながら、前記荷重の測定と前記ロール洗浄具の潰れ量の測定を繰り返して、前記荷重の複数の測定値と前記潰れ量の複数の測定値を取得し、
前記荷重の複数の測定値と前記潰れ量の複数の測定値から、前記荷重と前記ロール洗浄具の潰れ量との関係を導き出すことを特徴とする請求項11に記載の荷重測定方法。 - 前記ロール洗浄具の回転速度を変えながら、前記荷重の測定を繰り返して、前記荷重の複数の測定値を取得し、
前記荷重の複数の測定値と前記ロール洗浄具の対応する回転速度から、前記荷重と前記ロール洗浄具の回転速度との関係を導き出すことを特徴とする請求項11に記載の荷重測定方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015033910A JP6328577B2 (ja) | 2015-02-24 | 2015-02-24 | 荷重測定装置および荷重測定方法 |
US15/045,643 US9719869B2 (en) | 2015-02-24 | 2016-02-17 | Load measuring apparatus and load measuring method |
KR1020160019058A KR102238958B1 (ko) | 2015-02-24 | 2016-02-18 | 하중 측정 장치 및 하중 측정 방법 |
CN201610092048.9A CN105914166B (zh) | 2015-02-24 | 2016-02-19 | 载荷测定装置以及载荷测定方法 |
SG10201601246RA SG10201601246RA (en) | 2015-02-24 | 2016-02-19 | Load measuring apparatus and load measuring method |
TW105105095A TWI666712B (zh) | 2015-02-24 | 2016-02-22 | Load measuring device and load measuring method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015033910A JP6328577B2 (ja) | 2015-02-24 | 2015-02-24 | 荷重測定装置および荷重測定方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016157778A JP2016157778A (ja) | 2016-09-01 |
JP2016157778A5 JP2016157778A5 (ja) | 2017-12-21 |
JP6328577B2 true JP6328577B2 (ja) | 2018-05-23 |
Family
ID=56690215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015033910A Active JP6328577B2 (ja) | 2015-02-24 | 2015-02-24 | 荷重測定装置および荷重測定方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9719869B2 (ja) |
JP (1) | JP6328577B2 (ja) |
KR (1) | KR102238958B1 (ja) |
CN (1) | CN105914166B (ja) |
SG (1) | SG10201601246RA (ja) |
TW (1) | TWI666712B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7031806B1 (ja) | 2020-12-11 | 2022-03-08 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 圧力容器および圧力容器の製造方法 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6767834B2 (ja) | 2016-09-29 | 2020-10-14 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置及び基板処理装置 |
JP6792512B2 (ja) * | 2017-05-16 | 2020-11-25 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置および基板処理装置 |
JP6823541B2 (ja) * | 2017-05-30 | 2021-02-03 | 株式会社荏原製作所 | キャリブレーション方法およびキャリブレーションプログラム |
JP7079164B2 (ja) | 2018-07-06 | 2022-06-01 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
CN108955846A (zh) * | 2018-08-14 | 2018-12-07 | 安徽中联九通机械设备有限公司 | 一种配料机控制系统 |
DE102020133121B4 (de) | 2019-12-12 | 2024-06-20 | Alfred Schöpf | Verfahren und Vorrichtung zur Überlaufmessung einer Flüssigkeit über eine Überlaufkante eines Beckens |
JP7093390B2 (ja) * | 2020-10-15 | 2022-06-29 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4248317A (en) * | 1979-09-10 | 1981-02-03 | Cardinal Scale Manufacturing Company | Load cell apparatus |
US4425808A (en) * | 1982-02-26 | 1984-01-17 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Thin film strain transducer |
JPS61278724A (ja) * | 1985-06-04 | 1986-12-09 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 脱水機圧力測定装置 |
JP3341872B2 (ja) * | 1995-04-03 | 2002-11-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 回転式基板洗浄装置 |
KR19980022571A (ko) * | 1996-09-23 | 1998-07-06 | 김광호 | 반도체 스크러버(Scrubber)장비 |
JP3540524B2 (ja) * | 1996-10-28 | 2004-07-07 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JPH10189512A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-21 | Sony Corp | 基板洗浄装置 |
JP2000228382A (ja) * | 1999-02-05 | 2000-08-15 | Sony Corp | ウエハ洗浄装置 |
US6579797B1 (en) * | 2000-01-25 | 2003-06-17 | Agere Systems Inc. | Cleaning brush conditioning apparatus |
JP2002051497A (ja) * | 2000-07-28 | 2002-02-15 | Mitsumi Electric Co Ltd | モータ駆動軸の側圧機構及び側圧機構を備えたモータ |
US7743449B2 (en) * | 2002-06-28 | 2010-06-29 | Lam Research Corporation | System and method for a combined contact and non-contact wafer cleaning module |
US20100212702A1 (en) * | 2005-09-15 | 2010-08-26 | Satomi Hamada | Cleaning Member, Substrate Cleaning Apparatus and Substrate Processing Apparatus |
FR2931550B1 (fr) | 2008-05-20 | 2012-12-07 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif pour la detection gravimetrique de particules en milieu fluide comprenant un oscillateur entre deux canaux fluidiques, procede de realisation et methode de mise en oeuvre du dispositif |
US9312159B2 (en) * | 2009-06-09 | 2016-04-12 | Nikon Corporation | Transport apparatus and exposure apparatus |
US9254510B2 (en) * | 2012-02-03 | 2016-02-09 | Stmicroelectronics, Inc. | Drying apparatus with exhaust control cap for semiconductor wafers and associated methods |
JP5878441B2 (ja) * | 2012-08-20 | 2016-03-08 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置及び基板処理装置 |
JP6262983B2 (ja) * | 2012-10-25 | 2018-01-17 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 |
JP6279276B2 (ja) * | 2013-10-03 | 2018-02-14 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置及び基板処理装置 |
US9266496B2 (en) * | 2013-11-18 | 2016-02-23 | Ford Global Technologies, Llc | Flexible electro-resistive impact detection sensor for front rail mounted airbag |
KR102454775B1 (ko) * | 2015-02-18 | 2022-10-17 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 기판 세정 장치, 기판 세정 방법 및 기판 처리 장치 |
-
2015
- 2015-02-24 JP JP2015033910A patent/JP6328577B2/ja active Active
-
2016
- 2016-02-17 US US15/045,643 patent/US9719869B2/en active Active
- 2016-02-18 KR KR1020160019058A patent/KR102238958B1/ko active IP Right Grant
- 2016-02-19 SG SG10201601246RA patent/SG10201601246RA/en unknown
- 2016-02-19 CN CN201610092048.9A patent/CN105914166B/zh active Active
- 2016-02-22 TW TW105105095A patent/TWI666712B/zh active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7031806B1 (ja) | 2020-12-11 | 2022-03-08 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 圧力容器および圧力容器の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016157778A (ja) | 2016-09-01 |
SG10201601246RA (en) | 2016-09-29 |
US20160243592A1 (en) | 2016-08-25 |
CN105914166B (zh) | 2019-03-01 |
TW201631680A (zh) | 2016-09-01 |
US9719869B2 (en) | 2017-08-01 |
KR20160103520A (ko) | 2016-09-01 |
TWI666712B (zh) | 2019-07-21 |
KR102238958B1 (ko) | 2021-04-13 |
CN105914166A (zh) | 2016-08-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6328577B2 (ja) | 荷重測定装置および荷重測定方法 | |
KR102401524B1 (ko) | 기판 세정 장치 및 기판 세정 장치에 의해 실행되는 방법 | |
KR100874997B1 (ko) | 기판처리장치 및 기판처리방법 | |
CN110651356B (zh) | 清洗装置、基板处理装置、清洗装置的维护方法、以及计算机可读取记录介质 | |
KR101554767B1 (ko) | 기판 세정 방법 및 롤 세정 부재 | |
JP2007273610A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2008137118A (ja) | 欠陥修正装置および欠陥修正方法 | |
JP2017148931A (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
JPH08267023A (ja) | 回転式基板洗浄装置 | |
JP2012009692A (ja) | ドレス方法、研磨方法および研磨装置 | |
TW201420216A (zh) | 基板清洗裝置及基板清洗單元 | |
JP4589863B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2006332534A (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP2020021863A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
TW202122209A (zh) | 研磨機構,研磨頭,研磨裝置,及研磨方法 | |
JP2015023113A (ja) | 半導体基板の平坦化研削加工方法 | |
JP2007294490A (ja) | 基板の洗浄装置およびこれを用いた基板の洗浄方法 | |
JP3764228B2 (ja) | ブラシ洗浄装置 | |
KR101530115B1 (ko) | 세정 성능 예측 방법 및 기판 세정 방법 | |
JP2000091283A (ja) | 研磨装置 | |
KR101677248B1 (ko) | 웨이퍼 연마장치 | |
JP4320618B2 (ja) | スクラブ洗浄装置 | |
JP6736713B2 (ja) | 基板洗浄装置および基板洗浄装置で実行される方法 | |
JP2003285266A (ja) | 研磨方法および研磨装置 | |
JP2011224699A (ja) | 研磨パッドのテーパ面形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171108 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171108 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20171108 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20180226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180322 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180403 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180418 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6328577 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |