JP2014038983A - 基板洗浄装置及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】長尺状に水平に延びるロール洗浄部材46を支持して回転させるロールホルダ42と、制御機器62を備えたアクチュエータ56の駆動に伴って昇降する昇降部58を有し、基板洗浄時にロール洗浄部材46が基板Wに所定のロール荷重を加えるように昇降部58に連結されたロールホルダ42を昇降させる昇降機構60と、昇降機構60の昇降部58とロールホルダ42との間に介装されてロール荷重を測定するロードセル54と、ロードセル54の測定値を元にアクチュエータ56の制御機器62を介してロール荷重をフィードバック制御する制御部66とを有する。
【選択図】図3
Description
昇降機構の昇降部は、ロールホルダの重心を通る鉛直線に沿って昇降する昇降軸からなることが好ましいが、設置スペース等の関係によっては、水平方向に延びる昇降アームで昇降機構の昇降部を構成してもよい。
これにより、ロールホルダで保持されたロール洗浄部材の水平姿勢を保ちながら、基板に反りや傾き、回転によるばたつき等が生じた時に、ロール洗浄部材をそのほぼ全長に亘って基板に均一に接触させつつ基板に追従させ、ロール荷重が均一に基板に加わるようにして、洗浄性能を向上させるとともに、基板からの反発力をロール洗浄部材全体で受けて、ロール荷重の測定精度を向上させることができる。
これにより、ロール洗浄部材を支持して回転させるロールホルダの重心がロードセルのほぼ中心を通るようにして、ロールホルダをバランス良く昇降部に連結することができる。
このように、基板にロール荷重を加える前にロール荷重のフィードバック制御を行わないようにすることで、ロール荷重の初期乱れを防ぎ、ロール荷重が設定ロール荷重に到達するのに要する時間を短縮することができる。
これによっても、ロール荷重の初期乱れを防ぎ、ロール荷重が設定ロール荷重に到達するのに要する時間を短縮することができる。
16,18 基板洗浄装置
20 基板乾燥装置
24 基板搬送ユニット
30 制御盤(タッチパネル)
40 スピンドル
42,44 ロールホルダ
46,48 ロール洗浄部材
54,54a ロードセル
56,56a エアシリンダ(アクチュエータ)
60,60a 昇降機構
62,62a 電空レギュレータ(制御機器)
64,64a 表示計
66 調節計(制御部)
70,70a チルト機構
72,72a ブラケット
74,74a 枢軸
76,76a 軸受
78,78a 軸受ハウジング
Claims (8)
- 長尺状に水平に延びるロール洗浄部材を支持して回転させるロールホルダと、
制御機器を備えたアクチュエータの駆動に伴って昇降する昇降部を有し、基板洗浄時に前記ロール洗浄部材が基板に所定のロール荷重を加えるように前記昇降部に連結された前記ロールホルダを昇降させる昇降機構と、
前記昇降機構の昇降部と前記ロールホルダとの間に設置されて前記ロール荷重を測定するロードセルと、
前記ロードセルの測定値を元に前記アクチュエータの制御機器を介して前記ロール荷重をフィードバック制御する制御部とを有することを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記昇降機構の前記昇降部は、前記アクチュエータの駆動に伴って昇降する昇降軸または該昇降軸に基端を連結されて水平方向に延びる昇降アームからなることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記昇降機構の昇降部と前記ロールホルダとの間に、前記ロールホルダをチルトさせるチルト機構を設置したことを特徴とする請求項1または2に記載の基板洗浄装置。
- 前記ロードセルは、ロールホルダの長さ方向に沿ったほぼ中央に配置されて、前記昇降機構の昇降部に連結されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記制御部は、基板にロール荷重を加えた時からロール荷重のフィードバック制御を開始することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記制御部は、基板に加えられるロール荷重のフィードバック制御を開始するタイミングを設定ロール荷重毎に任意に設定することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載に基板洗浄装置。
- 前記制御機器として電空レギュレータを使用し、前記制御部は、基板に加えられるロール荷重のフィードバック制御を開始する前の電空レギュレータ操作量を設定ロール荷重毎に任意に設定することを特徴とする請求項5または6に記載の基板洗浄装置。
- 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の基板洗浄装置を備えたことを特徴とする基板処理装置。
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