CN107871697B - 一种led生产用外延片清洗装置及清洗工艺 - Google Patents
一种led生产用外延片清洗装置及清洗工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107871697B CN107871697B CN201711035237.3A CN201711035237A CN107871697B CN 107871697 B CN107871697 B CN 107871697B CN 201711035237 A CN201711035237 A CN 201711035237A CN 107871697 B CN107871697 B CN 107871697B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- epitaxial wafer
- cleaning
- washing mechanism
- washing
- support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 9
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 48
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 36
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 55
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 16
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 11
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims description 8
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 claims description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 241001465382 Physalis alkekengi Species 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 2
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000004134 energy conservation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67023—Apparatus for fluid treatment for general liquid treatment, e.g. etching followed by cleaning
-
- B08B1/12—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
- B08B3/024—Cleaning by means of spray elements moving over the surface to be cleaned
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
- H01L21/02052—Wet cleaning only
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
Abstract
本发明公开了一种LED生产用外延片清洗装置,包括支架,所述支架上位于两侧处固定有安装架,所述安装架上通过弹簧连接有多组外延片夹紧机构,所述所述夹紧机构之间设有由气缸驱动的可沿支架上的滑槽滑动的洗刷机构,所述洗刷机构的正上方设有冲洗机构。本发明使用时将外延片放在夹紧机构上夹紧,打开冲洗机构和洗刷机构,对外延片进行清洗,清洗完成后再将外延片取出。本发明使用方便,清洗效率高,清洗效果好,同时可以保护人手不被伤害。
Description
技术领域
本发明涉及一种LED生产用外延片清洗装置及清洗工艺,属于LED技术领域。
背景技术
发光二极管灯具,亦称LED灯具,是指能透光、分配和改变LED光源光分布的器具,包括除LED光源外所有用于固定和保护LED光源所需的全部零、部件,以及与电源连接所必需的线路附件。发光二极管灯具以其高效、节能、安全、长寿、小巧、清晰光线等技术特点,正在成为新一代照明市场的主力产品,且有力地拉动环保节能产业的高速发展。LED的心脏是一个半导体的晶片,半导体的晶片也叫外延片,外延片是由加工完成的单晶硅棒切割而成,初步加工完成后的外延片表面易残留污染物,外延片表面留有污染物会降低LED灯具的质量,从而会降低LED灯具的成品量,因此需要对外延片进行清洗,目前,一般是人工用清洗溶液对外延片进行清洗,人工清洗的方式,费时费力、清洗效率较低,且人工清洗手需要长时间的浸泡在清洗溶液内,从而会影响工人的身体健康。为此,我们提出一种LED生产用外延片清洗装置及清洗工艺。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种LED生产用外延片清洗装置及清洗工艺,清洗效率高,清洗效果好,同时可以保护人手不被伤害,可以有效解决背景技术中的问题。
为实现上述目的,本发明采取的技术方案为:
一种LED生产用外延片清洗装置,包括支架,所述支架上位于两侧处固定有安装架,所述安装架上通过弹簧连接有多组外延片夹紧机构,所述所述夹紧机构之间设有由气缸驱动的可沿支架上的滑槽滑动的洗刷机构,所述洗刷机构的正上方设有冲洗机构。
进一步的,所述外延片夹紧机构包括两个相对设置的与弹簧相连的夹板,所述夹板的内侧粘合有泡沫层,所述泡沫层上开设有凹槽。
进一步的,所述洗刷机构包括多组位于外延片上下方的清洗刷,所述清洗刷,多组所述清洗刷通过连接架连接,所述连接架的底部设有与连接架一体成型的滑杆,所述滑杆通过气缸驱动在滑槽内前后移动。
进一步的,所述清洗刷包括刷柄,所述刷柄上安装有海绵刷。
进一步的,所述冲洗机构包括供水箱,所述供水箱上连接有多组导水管,所述导水管上连接有高压喷头。
进一步的,所述支架上位于洗刷机构的正下方设有储水池,所述储水池的底部设有与供水箱相连的导水管,所述导水管上设有高压水泵。
进一步的,所述储水池内水平设有过滤层。
进一步的,所述过滤层包括细沙层,所述细沙层的下方设有吸附层,所述吸附层的下方设有滤膜。
进一步的,所述吸附层由若干球状吸附球组成,所述球状吸附球为多孔的球状活性炭。
本发明还提供一种LED生产用外延片清洗工艺,包括如下步骤:
a)将需要倾心的外延片放在夹紧机构上夹紧;
b)先向供水箱内添加清洗剂,再向供水箱内添加清水;
c)打开高压喷头,同时启动气缸,气缸驱动洗刷机构在支架上前后运动,清洗刷与外延片的上下两面发生摩擦进行清洗;
d)清洗完成后关闭高压喷头和气缸,取下外延片后再进行下一批外延片的清洗。
本发明使用时将外延片放在夹紧机构上夹紧,打开冲洗机构和洗刷机构,对外延片进行清洗,清洗完成后再将外延片取出。本发明使用方便,清洗效率高,清洗效果好,同时可以保护人手不被伤害。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图;
图2为本发明洗刷机构的结构示意图。
图中:1、支架;2、储水池;3、气缸;4、外延片;5、安装架;6、夹板;7、海绵刷;8、刷柄;9、导水管;10、高压喷头;11、泡沫层;12、供水箱;13、高压水泵;14、过滤层;15、滑杆;17、凹槽;18、弹簧;20、连接架。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。
如图1和2所示,本实施例提供一种LED生产用外延片清洗装置,包括支架,所述支架上位于两侧处固定有安装架,所述安装架上通过弹簧连接有多组外延片夹紧机构,所述所述夹紧机构之间设有由气缸驱动的可沿支架上的滑槽滑动的洗刷机构,所述洗刷机构的正上方设有冲洗机构。
将外延片放在夹紧机构上夹紧,打开冲洗机构和洗刷机构,对外延片进行清洗,清洗完成后再将外延片取出。
进一步的,所述外延片夹紧机构包括两个相对设置的与弹簧相连的夹板,所述夹板的内侧粘合有泡沫层,所述泡沫层上开设有凹槽。
固定夹紧时将外延片放置在凹槽内,夹板在弹簧的作用下将外延片夹紧,夹板内侧粘合的泡沫层可以包括外延片在加紧的过程中不被损伤。
进一步的,所述洗刷机构包括多组位于外延片上下方的清洗刷,所述清洗刷,多组所述清洗刷通过连接架连接,所述连接架的底部设有与连接架一体成型的滑杆,所述滑杆通过气缸驱动在滑槽内前后移动。
滑杆在气缸的驱动下沿着滑槽前后移动,带动清洗刷前后移动,清洗刷与外延片的上下表面之间发生摩擦,将外延片的上下表面的灰尘刷除。
进一步的,所述清洗刷包括刷柄,所述刷柄上安装有海绵刷。
海绵刷比较柔软,可以将灰尘刷除的同时还可保护外延片表面不受损伤。
进一步的,所述冲洗机构包括供水箱,所述供水箱上连接有多组导水管,所述导水管上连接有高压喷头。
高压喷头对外延片进行冲洗,将清洗刷刷除的灰尘冲洗掉。
进一步的,所述支架上位于洗刷机构的正下方设有储水池,所述储水池的底部设有与供水箱相连的导水管,所述导水管上设有高压水泵。
储水池可以将清洗后的污水储存起来,通过高压水泵再打到供水箱内。
进一步的,所述储水池内水平设有过滤层。
过滤层可以将污水内的杂质滤除。
进一步的,所述过滤层包括细沙层,所述细沙层的下方设有吸附层,所述吸附层的下方设有滤膜。
通过细沙层、吸附层和滤膜的多层过滤,使水质更干净。
进一步的,所述吸附层由若干球状吸附球组成,所述球状吸附球为多孔的球状活性炭。
将污水内的清洗剂吸附除去。
本发明还提供一种LED生产用外延片清洗工艺,包括如下步骤:
a)将需要倾心的外延片放在夹紧机构上夹紧;
b)先向供水箱内添加清洗剂,再向供水箱内添加清水,可以使清洗剂在清水内扩散均匀;
c)打开高压喷头,同时启动气缸,气缸驱动洗刷机构在支架上前后运动,清洗刷与外延片的上下两面发生摩擦进行清洗;
d)清洗完成后关闭高压喷头和气缸,取下外延片后再进行下一批外延片的清洗。
以上只通过说明的方式描述了本发明的某些示范性实施例,毋庸置疑,对于本领域的普通技术人员,在不偏离本发明的精神和范围的情况下,可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此,上述附图和描述在本质上是说明性的,不应理解为对本发明权利要求保护范围的限制。
Claims (5)
1.一种LED生产用外延片清洗装置,包括支架,其特征在于:所述支架上位于两侧处固定有安装架,所述安装架上通过弹簧连接有多组外延片夹紧机构,所述所述夹紧机构之间设有由气缸驱动的可沿支架上的滑槽滑动的洗刷机构,所述洗刷机构的正上方设有冲洗机构,所述外延片夹紧机构包括两个相对设置的与弹簧相连的夹板,所述夹板的内侧粘合有泡沫层,所述泡沫层上开设有凹槽,所述洗刷机构包括多组位于外延片上下方的清洗刷,所述清洗刷,多组所述清洗刷通过连接架连接,所述连接架的底部设有与连接架一体成型的滑杆,所述滑杆通过气缸驱动在滑槽内前后移动,所述支架上位于洗刷机构的正下方设有储水池,所述储水池的底部设有与供水箱相连的导水管,所述导水管上设有高压水泵,所述储水池内水平设有过滤层,所述过滤层包括细沙层,所述细沙层的下方设有吸附层,所述吸附层的下方设有滤膜。
2.根据权利要求1所述的一种LED生产用外延片清洗装置,其特征在于:所述清洗刷包括刷柄,所述刷柄上安装有海绵刷。
3.根据权利要求1所述的一种LED生产用外延片清洗装置,其特征在于:所述冲洗机构包括供水箱,所述供水箱上连接有多组导水管,所述导水管上连接有高压喷头。
4.根据权利要求1所述的一种LED生产用外延片清洗装置,其特征在于:所述吸附层由若干球状吸附球组成,所述球状吸附球为多孔的球状活性炭。
5.一种使用权利要求1~4任意一项所述装置进行LED生产用外延片清洗的工艺,其特征在于包括如下步骤:
a)将需要清洗的外延片放在夹紧机构上夹紧;
b)先向供水箱内添加清洗剂,再向供水箱内添加清水;
c)打开高压喷头,同时启动气缸,气缸驱动洗刷机构在支架上前后运动,清洗刷与外延片的上下两面发生摩擦进行清洗;
d)清洗完成后关闭高压喷头和气缸,取下外延片后再进行下一批外延片的清洗。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201711035237.3A CN107871697B (zh) | 2017-10-30 | 2017-10-30 | 一种led生产用外延片清洗装置及清洗工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201711035237.3A CN107871697B (zh) | 2017-10-30 | 2017-10-30 | 一种led生产用外延片清洗装置及清洗工艺 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107871697A CN107871697A (zh) | 2018-04-03 |
CN107871697B true CN107871697B (zh) | 2020-04-14 |
Family
ID=61752714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201711035237.3A Active CN107871697B (zh) | 2017-10-30 | 2017-10-30 | 一种led生产用外延片清洗装置及清洗工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN107871697B (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108783867A (zh) * | 2018-05-30 | 2018-11-13 | 安徽省忆德工业刷制造有限公司 | 一种带有清洁剂喷洒机构的工业刷 |
CN108837966A (zh) * | 2018-06-21 | 2018-11-20 | 安徽省忆德工业刷制造有限公司 | 一种刷子用清洁剂喷洒设备 |
CN114951067B (zh) * | 2022-06-01 | 2023-06-02 | 南京科技职业学院 | 一种智能光谱调节系统 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0794456A (ja) * | 1993-09-22 | 1995-04-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
CN104241167A (zh) * | 2013-06-13 | 2014-12-24 | K.C.科技股份有限公司 | 基板清洗装置及方法与基板清洗用清洗刷组件 |
KR20150061731A (ko) * | 2013-11-28 | 2015-06-05 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 세정 장치 |
CN106180055A (zh) * | 2016-09-25 | 2016-12-07 | 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 | 一种循环式bga基板清洗装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5878441B2 (ja) * | 2012-08-20 | 2016-03-08 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置及び基板処理装置 |
-
2017
- 2017-10-30 CN CN201711035237.3A patent/CN107871697B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0794456A (ja) * | 1993-09-22 | 1995-04-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
CN104241167A (zh) * | 2013-06-13 | 2014-12-24 | K.C.科技股份有限公司 | 基板清洗装置及方法与基板清洗用清洗刷组件 |
KR20150061731A (ko) * | 2013-11-28 | 2015-06-05 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 세정 장치 |
CN106180055A (zh) * | 2016-09-25 | 2016-12-07 | 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 | 一种循环式bga基板清洗装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107871697A (zh) | 2018-04-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107871697B (zh) | 一种led生产用外延片清洗装置及清洗工艺 | |
CN109676515B (zh) | 一种带清洗功能的半导体晶圆研磨装置 | |
CN205987947U (zh) | 一种用于蔬菜的清洗装置 | |
CN109047105A (zh) | 一种用于镜片清洗的工作台 | |
CN210081391U (zh) | 一种用于模具打磨清洗的机构 | |
CN210936350U (zh) | 一种电气自动化玻璃清洗机 | |
CN211211683U (zh) | 一种鞋业加工的鞋面清洗装置 | |
CN208912721U (zh) | 一种钢管内壁清洗装置 | |
CN205762684U (zh) | 一种方便清洗瓶子内部的超声电动一体清洗机 | |
CN214923169U (zh) | 一种防尘除尘的义齿生产用石膏修磨装置 | |
CN213918109U (zh) | 一种便于维修的工程机械零部件维修装置 | |
CN105921432A (zh) | 方片双面刷洗机 | |
CN219375543U (zh) | 一种紫外杀菌灯板 | |
CN108212852A (zh) | 一种灯具用装饰水晶清洗设备 | |
CN109604282A (zh) | 一种用于化工设备的清洗装置 | |
CN218424409U (zh) | 一种砷化镓单晶的表面清洁装置 | |
CN219485225U (zh) | 一种铝合金靠手垫加工用打磨装置 | |
CN213795976U (zh) | 一种注塑模具零部件加工的磁吸附机构 | |
CN212468910U (zh) | 一种插入式净水机消毒杀菌设备 | |
CN216800774U (zh) | 一种led照明灯清洗装置 | |
CN219045805U (zh) | 一种空调净化清洗装置 | |
CN220576921U (zh) | 一种美术毛笔快速清洁器 | |
CN215278751U (zh) | 一种硅片加工的清洗装置 | |
CN220027885U (zh) | 一种载具清洁装置及生产线 | |
CN218692009U (zh) | 一种阀杆表面处理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |