KR20150061731A - 기판 세정 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 다수의 세정 돌기가 표면에 규칙적으로 배열 형성되고 경사진 자세로 회전 구동되는 롤러 형태의 한 쌍의 세정 브러쉬와; 접촉 지지부가 상기 기판의 가장자리와 접촉하면서 상기 기판을 회전 지지하되, 상기 접촉 지지부 중 어느 하나 이상의 높이가 다른 하나 이상과 달라 상기 기판이 상기 세정 브러쉬의 경사진 자세와 동일한 경사도로 지지되어 회전하게 하는 3개 이상의 기판 지지대를; 포함하여 구성되어, 세정 돌기와 접촉하면서 이물질을 씻어내는 세정 영역의 사이 영역에서도, 세정액과 순수와 혼합된 이물질이 경사면을 따라 흘러내리도록 함으로써, 기판의 전체 표면에 걸쳐 깨끗하고 균일하게 세정할 수 있는 기판 세정 장치를 제공한다.

Description

기판 세정 장치{SUBSTRATE CLEANING APPARATUS }

본 발명은 기판 세정 장치 및 이를 이용한 기판 세정 방법에 관한 것으로, 상세하게는 한 쌍의 세정 브러쉬 사이에서 기판을 세정하는 과정에서 세정 브러쉬의 처짐에 의하여 기판의 일부분이 제대로 세정되지 않는 문제점을 해소하는 기판 세정 장치 및 이를 이용한 기판 세정 방법에 관한 것이다.

디스플레이 장치에 사용되는 기판이나 반도체 소자의 제작에 사용되는 웨이퍼(이하, 이들을 '기판'이라고 통칭함)를 처리한 이후에, 처리 공정 중에 표면에 묻은 이물질을 제거하는 세정 공정이 이루어진다.

도1 및 도2는 종래의 기판 세정 장치(9)를 도시한 것이다. 종래의 기판 세정 장치(9)는 기판 이송부에 의하여 기판(66)을 한 쌍의 세정 브러쉬(10)의 사이로 이송하면, 한 쌍의 세정 브러쉬(10) 중 어느 하나가 상하로 이동(10d)하여 기판(66)을 사이에 낀 상태로 세정 브러쉬(10)가 회전하면서 기판(66)의 표면을 세정한다.

이 때, 세정 브러쉬(10)는 구동부(40)에 의해 각각 서로 다른 방향으로 회전 구동되며, 기판(66)이나 세정 브러쉬(10) 중 어느 하나에 탈염수와 순수가 공급되면서 기판(66)을 세정한다. 도면에 도시되지 않았지만, 기판(66)에는 세정액(세정용 케미컬)과 탈염수가 노즐을 통해 공급된다.

그러나, 상기와 같이 구성된 종래의 기판 세정 장치(9)는 세정 브러쉬(20)를 회전 지지하는 지지대(20)가 일측에만 위치하여, 세정 브러쉬의 자중에 의한 처짐이 발생되어, 세정 브러쉬(20)와 기판(66) 사이의 들뜸 현상(E)이 발생되어, 기판(66)의 표면에 균일한 세정 마찰력이 작용하지 않아 세정이 불균일하게 이루어질 수 밖에 없는 문제점이 있었다.

또한, 세정 브러쉬(20)를 회전 지지하는 지지대(20)가 양단에 위치하여 세정 브러쉬(20)를 양단 지지한다고 하더라도, 세정 브러쉬(20)를 상하로 이동 구동하면서 이동 거리에 약간의 오차가 발생되면, 마찬가지로 세정 브러쉬(20)와 기판(66) 사이에 들뜸 현상(E)이 발생되는 위치가 생기는 동일한 문제가 야기된다. 설령, 세정 브러쉬(20)의 표면을 탄력성있는 재질로 형성하여 들뜸 현상이 외형상 없어지더라도, 세정 브러쉬(20)와 기판(66) 사이의 접촉 가압력에 차이가 생기므로, 결국 기판(66)의 표면에 균일한 세정 마찰력이 작용하지 않아 세정이 불균일해지는 문제가 여전히 발생된다.

따라서, 기판(66)의 표면에 잔류하는 이물질이 없이 깨끗하게 기판(66)을 세정할 수 있도록 하는 브러쉬 타입의 세정 장치의 필요성이 날로 대두되고 있다.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 규칙적으로 배열된 세정 돌기를 구비한 한 쌍의 세정 브러쉬를 이용하여 원형 기판을 세정함에 있어서 세정 돌기와 접촉하지 않는 영역도 깨끗하게 세정할 수 있는 기판 세정 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상술한 바와 같은 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은, 원형 기판을 접촉 세정하는 기판 세정 장치로서, 다수의 세정 돌기가 표면에 규칙적으로 배열 형성되고 경사진 자세로 회전 구동되는 롤러 형태의 한 쌍의 세정 브러쉬와; 접촉 지지부가 상기 기판의 가장자리와 접촉하면서 상기 기판을 회전 지지하되, 상기 접촉 지지부 중 어느 하나 이상의 높이가 다른 하나 이상과 달라 상기 기판이 상기 세정 브러쉬의 경사진 자세와 동일한 경사도로 지지되어 회전하게 하는 3개 이상의 기판 지지대를; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치를 제공한다.

이는, 원형 기판이 경사진 자세로 지지되어 회전하고 동시에 한 쌍의 세정 브러쉬도 동일한 경사도로 경사진 자세로 회전하면서 기판을 세정함에 따라, 세정 돌기와 접촉하면서 이물질을 씻어내는 세정 영역 사이에 위치하는 영역에서도, 세정액과 순수와 혼합된 이물질이 경사면을 따라 흘러내리도록 함으로써, 원형 기판의 전체 표면에 걸쳐 깨끗하고 균일하게 세정될 수 있도록 하기 위함이다.

이 때, 상기 기판 지지대는, 상기 기판의 가장자리를 위치시켜 지지하는 롤러와, 상기 롤러의 하측에 이격되게 위치하는 세로축과, 상기 롤러와 세로축 사이에 위치하여 상기 롤러를 탄성 지지하는 스프링을 구비하도록 구성될 수 있다. 이와 같이, 기판 지지대의 세로축과 롤러 사이에 롤러를 탄성 지지하는 스프링을 설치함으로써, 상하 이동하는 세정 브러쉬가 정확하지 않은 위치로 이동하더라도, 롤러가 세정 브러쉬의 위치에 대응하여 스프링에 의하여 허용되는 위치로 기판을 위치시켜 지지할 수 있으며, 특히 상기와 같이 경사진 자세로 원형 기판을 보다 안정되게 회전 지지할 수 있게 된다.

이 뿐만 아니라, 기판의 가장자리가 롤러에 안착되는 위치에 마모가 발생되더라도, 롤러가 스프링에 의하여 탄성 지지됨에 따라, 롤러에 안착된 기판의 가장자리는 스프링의 탄성 복원력에 의한 상방으로 밀리는 힘을 받게 되고, 동시에 기판의 중앙부는 한 쌍의 세정 브러쉬의 사이에서 상하 이동이 제한되므로, 스프링의 탄성 복원력에 의하여 기판의 가장자리와 롤러 사이의 마찰력이 크게 확보되므로, 세정 공정 중에 기판 지지대에 지지되는 기판이 슬립(slip)이 최소화되면서 원활하게 자전할 수 있도록 하는 잇점이 얻어진다.

이 때, 상기 세로축과 상기 롤러 사이에는 상기 롤러의 상하 이동 변위를 제한하는 스토퍼가 형성되어, 롤러가 세로축에 대하여 상하 이동하는 변위를 제한하는 것이 바람직하다. 이를 통해, 스프링에 의하여 탄성 지지되는 롤러의 상하 이동 스트로크가 제한되므로, 롤러가 불안정하게 피칭 운동이 발생되는 것을 방지할 수 있다. 예를 들어, 롤러가 고정된 롤러 이동체와 스토퍼 사이의 간격은 0.5mm 내지 3mm정도로 유지되는 것이 바람직하다.

상기 롤러는 상기 기판의 가장자리를 수용하는 홈이 측면둘레에 형성되고, 점착성있는 고무 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 롤러는 폴리우레탄 계열의 재질로 형성될 수 있다.

본 명세서 및 특허청구범위에 기재된 '수용홈'이라는 용어는 기판의 가장자리를 지지할 수 있는 형태를 지칭하는 것으로, 기판의 가장자리가 끼워지는 홈(groove) 형태에 국한되지 않으며, 기판의 가장자리를 거치시켜 지지할 수 있는 단턱도 포함하는 것으로 정의하기로 한다. 본 발명에 따른 롤러는 탄성 지지됨에 따라 기판의 가장 자리를 단순 거치시키는 형태로 지지하더라도, 탄성 복원력에 의하여 기판의 가장자리와 단턱 사이의 마찰력을 확보하여, 기판을 자전시키는 것이 가능하기 때문이다.

는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.

상술한 바와 같이 본 발명은, 기판 지지대의 세로축과 롤러 사이에 롤러를 탄성 지지하는 스프링이 개재됨으로써, 상하 이동하는 세정 브러쉬가 정확하지 않은 위치로 이동하더라도, 롤러가 세정 브러쉬의 위치에 대응하여 스프링에 의하여 허용되는 위치로 기판을 위치시켜 지지할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.

또한, 본 발명은, 이 뿐만 아니라, 기판의 가장자리가 롤러에 안착되는 위치에 마모가 발생되더라도, 롤러가 스프링에 의하여 탄성 지지됨에 따라, 롤러에 안착된 기판의 가장자리는 스프링의 탄성 복원력에 의한 상방으로 밀리는 힘을 받게 되고, 동시에 기판의 중앙부는 한 쌍의 세정 브러쉬의 사이에서 상하 이동이 제한되므로, 스프링의 탄성 복원력에 의하여 기판의 가장자리와 롤러 사이의 마찰력이 크게 확보되므로, 세정 공정 중에 기판 지지대에 지지되는 기판이 슬립(slip)이 최소화되면서 원활하게 자전할 수 있도록 하는 잇점이 얻어진다.

즉, 본 발명은, 한 쌍의 세정 브러쉬의 상하 이동에 따른 위치 편차가 발생되거나, 기판을 지지하는 롤러가 장시간 동안 사용되어 기판의 가장자리를 수용하는 홈의 간격이 넓혀진 경우에도, 기판을 정확하게 자전시킬 수 있도록 함으로써 기판의 판면이 전체적으로 균일하게 세정 브러쉬에 접촉되어 깨끗한 세정이 이루어질 수 있도록 하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.

도1은 기판 지지대를 제외한 종래의 기판 세정 장치의 구성을 도시한 정면도,
도2는 도1의 평면도,
도3은 기판이 도1의 기판 지지대의 롤러에 지지된 상태를 도시한 정면도,
도4는 도1의 기판 세정 장치로 세정되고 있는 기판의 이물질 분포 상태를 도시한 도면,
도5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 구성을 도시한 평면도,
도6은 도5의 정면도,
도7은 기판이 도6의 기판 지지대의 롤러에 지지된 상태를 도시한 정면도,
도8은 도5의 도1의 기판 세정 장치로 세정되고 있는 기판의 이물질 분포 상태를 도시한 도면,
도9a는 도6의 'A'부분의 기판 지지대의 종단면도,
도9b는 도9a의 'B' 부분의 확대도이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치(1)에 대하여 구체적으로 설명한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해서는 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하며, 동일하거나 유사한 기능 혹은 구성에 대해서는 동일하거나 유사한 도면 부호를 부여하기로 한다.

도5 및 도6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치(100)는 수평면(66)에 대하여 경사(77)진 자세로 설치되어 원형 기판(W)과 접촉하면서 세정하는 한 쌍의 세정 브러쉬(110)와, 한 쌍의 세정 브러쉬(110)와 결합되어 세정 브러쉬(110)를 회전 구동하는 회전축(130)과, 회전축(130)의 양단을 지지하는 지지대(120)와, 세정 브러쉬(110)와 동일한 경사도로 경사지게 기판(W)을 지지하면서 회전시키는 기판 지지대(140)로 구성된다.

상기 세정 브러쉬(110)는 표면에 다수의 세정 돌기(111)가 규칙적인 배열로 돌출 형성되며, 다공성 형태의 스폰지나 물을 머금은 상태에서 외력에 의해 부드럽게 변형되는 수지 재질로 일체 형성된다. 이에 따라, 세정 브러쉬(110)는 회전 구동되면서 기판(W)의 표면을 마찰 접촉하면서 표면을 세정한다.

세정 브러쉬(110)는 한 쌍이 모두 동일한 경사도(77)로 경사지게 설치되며, 그 사이 공간에 원형 기판(W)을 위치시키고 회전 구동되는 것에 의하여 기판(W)의 표면에 묻어있는 이물질을 제거한다.

상기 회전축(130)은 세정 브러쉬(110)의 중심부를 관통하는 형태로 배열되며, 지지대(120)에 대하여 경사지게 배열되고 구동 모터(M)에 의하여 회전 구동되게 설치됨으로써, 회전축(130)과 함께 회전하는 세정 브러쉬(110)가 수평면(66)에 대하여 경사(77)진 자세로 회전 구동되도록 한다.

상기 지지대(120)는 회전축(130)의 단부에서 회전 가능하게 지지하며, 도1에 도시된 종래 구성과 마찬가지로 한 쌍의 브러쉬(110)와 회전축(130)이 결합된 브러쉬 조립체 중 하나를 상하 방향(110d)으로 이동할 수 있도록 한다. 이에 따라, 기판(W)이 한 쌍의 브러쉬(110)의 사이에 위치하면, 회전축(130) 중 어느 하나 이상이 기판(W)의 판면을 향하여 이동하여, 한 쌍의 세정 브러쉬(110)가 기판(W)의 양측 판면에 접촉하게 된다.

상기 기판 지지대(140, 140')는 회전 가능하게 설치된 세로축(148)과, 기판(W)의 가장자리를 지지하는 롤러(141)로 이루어진 롤러조립체(141)로 이루어진다. 기판 지지대(140)는 기판(W)의 둘레에 90도 간격으로 4개 설치되어, 원형 기판(W)이 원활하게 자전할 수 있도록 지지된다.

이 때, 2개의 제1기판 지지대(140)의 높이(H2)는 다른 2개의 제2기판 지지대(140')의 높이(H1)에 비하여 더 높게 형성되어, 세정 브러쉬(110)의 경사도(77)와 동일한 경사도로 기판(W)이 경사진 자세로 회전 구동될 수 있도록 한다. 즉, 세로축(148)의 높이를 서로 다르게 형성한다. 그리고, 2개의 제2기판 지지대(140')는 다른 2개의 제1기판 지지대(140)를 향하거나 멀어지는 방향으로 함께 이동(140x)하도록 구성되어, 기판(W)이 4개의 기판 지지대(140, 140')의 접촉 수용홈(141a)에 안착될 수 있게 된다. 도면에는 높이(H2)가 높은 제1기판 지지대(140)를 2개로 형성하고, 높이(H1)가 낮은 제2기판 지지대(140')를 2개로 형성한 구성을 예로 들었지만, 기판 지지대(140, 140')의 개수는 다양하게 조절될 수 있다. 다만, 경사진 자세로 회전 구동되는 기판(W)을 안정적으로 위치시킬 수 있도록, 높이(H1)가 낮은 제2기판 지지대(140')는 2개 이상 형성되는 것이 바람직하다.

한편, 기판 지지대(140, 140')의 세로축(148)은 구동부(140m)에 의하여 그 자체로 회전 가능한 축으로 형성될 수도 있고, 도면에 도시되지 않았지만, 회전 가능한 축을 감싸는 케이싱이 추가적으로 포함될 수 있다. 세로축(148)은 상하 방향으로 위치 고정되지만, 롤러(141)를 포함하는 롤러 조립체(140h)는 세로축(148)에 대하여 상하 방향으로 이동 가능하게 설치된다.

세로축(148)의 선단면에는 스프링(145)이 설치되는 가이드 핀(147)이 연직 방향으로 돌출 형성되어, 가이드 핀(147)의 둘레에 코일 스프링(145)이 위치할 수 있도록 한다. 이를 통하여, 코일 스프링(145)의 압축 방향은 연직 방향으로 제한되므로, 코일 스프링(145)에 의한 탄성 복원력도 연직 방향으로 작용하게 된다. 따라서, 원형 기판(W)의 가장자리를 지지하는 롤러(141)의 위치가 틀어지지 않고 제자리에서 연직 방향으로만 이동하는 것을 신뢰성있게 구현할 수 있게 된다. 여기서, 가이드 핀(147)은 코일 스프링(145)의 개수만큼 설치되는 것이 바람직하며, 삼각형 분포로 3개 내지 4개의 다수로 설치되는 것이 좋다.

또한, 세로축(148)의 선단면에는 롤러 조립체(140h)와의 간극을 일정한 치수로 제한하는 스토퍼(149)가 돌출 형성된다. 이에 따라, 롤러 조립체(140h)는 상하 방향으로 이동할 수 있는 스트로크는 스토퍼(149)의 상면과 롤러 조립체(140h)의 저면 사이의 간격(d)으로 제한된다. 이 간격(d)은 기판 세정 장치(1)의 세정 브러쉬(110)의 상하 이동 변위의 오차와 롤러(141)의 수용홈(141a)의 마모에 의한 유격 크기를 고려하여 결정되는데, 대략 0.5mm 내지 3mm 정도로 정해지는 것이 좋다. 롤러 조립체(140h)의 상하 방향으로의 이동 스트로크가 0.5mm보다 작은 경우에는 기판(W)의 가장자리의 위치 변동에 따른 롤러(141)의 지지 위치를 보정하는 범위가 미미해지고, 롤러 조립체의 이동 스트로크가 3mm보다 큰 경우에는 롤러 조립체의 상하 이동량이 지나치게 커져서 피칭 성분의 휨 변위가 야기될 수 있기 때문이다.

한편, 롤러 조립체는, 원형 기판(W)의 가장자리를 수용하도록 수평 방향으로 요입 형성된 접촉 수용홈(141a)이 측면 둘레에 형성된 롤러(141)와, 롤러(141)와 제1고정볼트(141b)로 일체 결합된 제1연결 부재(142)와, 제1연결 부재(142)와 제2고정볼트(142b)로 일체 결합된 제2연결 부재(143)로 이루어진다. 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면 제1연결부재(142)와 제2연결부재(143)는 일체로 성형될 수도 있다. 연결 부재(142, 143)는 기판(W)의 가장자리를 지지하지 않으므로, 마찰 계수가 상대적으로 낮더라도 무방하며, 강도가 높은 금속 재질로 형성되는 것이 바람직하다.

여기서, 롤러(141)는 원형 기판(W)의 가장자리와 접촉한 상태로 기판(W)을 회전시킬 수 있도록 마찰 계수가 상대적으로 높으면서 내마모성이 우수한 고무 재질로 형성된다. 예를 들어, 폴리우레탄 계열로 형성될 수 있다.

제1연결부재(142)에는 가이드 핀(147)의 끝단이 삽입되는 삽입홈(142x) 또는 삽입 구멍이 연직 방향으로 형성된다. 이에 의하여, 기판 지지대(140)의 조립이 완료된 상태에서는, 세로축(148)으로부터 돌출된 가이드 핀(147)의 끝단이 롤러 조립체의 제1연결부재(142)의 삽입홈(142x)에 삽입된 상태가 되므로, 가이드 핀(147)은 회전하는 세로축(149)의 토크가 롤러 조립체에 전달하는 매개가 된다. 따라서, 세로축(148)의 회전력(140d)은 롤러(141)에 전달되어, 롤러(141)에 지지되어 있는 기판(G)을 회전시키면서, 롤러(141)가 세로축(148)에 대하여 탄성 지지되어 정해진 스트로크(d)의 범위 내에서 상하 이동(140k)이 가능한 상태가 된다.

이와 같이, 기판 지지대(140)의 세로축(148)과 롤러(141) 사이에 롤러(141)를 탄성 지지하는 스프링(145)을 연직 방향으로 뻗은 가이드 핀(147)에 설치함으로써, 세정 브러쉬(110)가 정확하지 않은 위치로 이동하여 기판(W)의 표면과 접촉한 상태가 되더라도, 롤러(141)가 세정 브러쉬(110)의 위치에 대응하여 상하 이동됨으로써, 기판(W)을 롤러(141)의 수용홈(141a)에 끼워진 위치에서 정확하게 지지하면서 회전 구동할 수 있게 된다.

또한, 기판(W)의 가장자리가 롤러(141)의 수용홈(141a)에 끼워진 상태로 경사진 자세로 회전 구동되는 동안에도, 스프링(145)의 탄성에 의하여 기판(W)의 가장자리가 살짝 가압되면서, 안정되게 회전 구동될 수 있는 잇점도 얻을 수 있다. 즉, 기판(W)의 가장자리가 안착되는 롤러(141)의 수용홈(141a)에 마모량이 커져 수용홈(141a)의 폭이 커져, 기판(W)이 수용홈(141a)에 위치하더라도 기판(W)의 가장자리가 수용홈(141a)의 유격에 의하여 끼워지지 않아 마찰력이 낮아지더라도, 기판(W)의 가장자리 저면(140c)이 스프링(145)의 탄성 복원력에 의하여 상방(140y)으로 밀리는 힘이 작용하는 상태가 되고, 동시에 기판(W)의 중앙부는 한 쌍의 세정 브러쉬(110)의 사이에서 상하 이동이 제한되므로, 스프링(145)의 탄성 복원력에 의하여 기판(W)의 가장자리와 롤러(141) 사이의 마찰력이 크게 확보되므로, 세정 공정 중에 기판 지지대에 경사진 자세로 지지되는 기판(W)을 슬립(slip)이 최소화되면서 원활하게 회전시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.

따라서, 기판(W)의 슬립을 최소화하면서 경사진 자세로 안정되게 회전 구동하기 위해서는, 높이(H1)가 낮게 형성된 기판 지지대(140')에 대해서만 스프링(145)이 설치된 구성을 채택할 수도 있다.

상기와 같이 구성된 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치(100)는 기판(W)이 경사(77)진 자세로 회전하면서, 세정 브러쉬(110)의 세정돌기(111)에 접촉하는 영역은 높은 접촉 압력에 의하여 깨끗하게 세정되고, 세정 돌기(111)가 접촉하지 않는 영역(도7의 88)에서도 세정 공정에서 분사되는 세정액이나 순수에 이물질이 혼합되면서 경사면을 따라 도면부호 88d로 표시된 방향으로 흘러 내려가므로, 원형 기판(W)의 표면 전체에 걸쳐 깨끗하고 균일하게 세정할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.

또한, 본 발명은 기판의 가장자리를 접촉 지지하는 접촉 수용홈(141a)이 탄성 지지되는 형태로 설치됨에 따라, 특히 높이(H1)가 낮은 제2기판지지대(140')의 접촉 수용홈(141a)이 상방으로 이동하려는 탄성 복원력에 의하여 경사진 자세의 기판(W)의 가장자리를 확실하게 파지할 수 있게 되므로, 경사진 기판(W)을 회전 지지하는 작용이 보다 원활하고 안정적으로 이루어지는 효과를 얻을 수 있다.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 상기와 같은 특정 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 본 발명의 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.

1: 기판 세정 장치 110: 세정 브러쉬
120: 지지대 130: 회전축
140, 140': 기판 지지대 141: 롤러
141a: 수용홈 142: 제1연결 부재
143: 제2연결부재 145: 코일 스프링
148: 세로축 149: 스토퍼
W: 기판

Claims (8)

1. 기판을 접촉 세정하는 기판 세정 장치로서,
   상기 기판의 가장자리와 접촉하여 지지하는 기판 지지대와
   상기 기판의 직경보다 작은 길이로 접촉한 상태로 회전하며 상기 기판을 세정하는 제1세정브러쉬와;
   상기 기판의 직경보다 작은 길이로 상기 기판과 접촉하되, 상기 제1세정브러쉬와 다른 위치에서 접촉하고 상기 제1세정브러쉬와 독립적으로 회전 제어되며 상기 기판을 세정하는 제2세정브러쉬를;
   포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
   
2. 제 1항에 있어서,
   상기 제1세정브러쉬와 상기 제2세정브러쉬 중 어느 하나는 상기 기판의 중앙부와 접촉하면서 세정하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
   
3. 제 2항에 있어서,
   상기 제1세정브러쉬와 상기 제2세정브러쉬는 직선 형태로 배열되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
   
4. 제 2항에 있어서,
   상기 제1세정브러쉬와 상기 제2세정브러쉬는 서로 다른 각도로 배열되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
   
5. 제 1항에 있어서,
   상기 제1세정브러쉬와 상기 제2세정브러쉬에는 각각 세정 돌기가 규칙적으로 돌출 형성되고, 상기 제1세정브러쉬와 상기 제2세정브러쉬가 상기 웨이퍼에 접촉하는 각각의 세정 돌기는 상기 기판의 서로 다른 지점과 접촉하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
   
6. 제 1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제1세정브러쉬와 상기 제2세정브러쉬는 각각 서로 다른 회전 속도로 회전하며 상기 기판의 표면을 세정하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
   
7. 제 1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제1세정브러쉬와 상기 제2세정브러쉬는 각각 서로 다른 높이에 회전 중심축이 위치한 상태에서 상기 기판의 표면을 세정하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
   
8. 제 1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 기판은 원형 기판이고, 상기 기판 지지대는 상기 기판을 회전시키면서 지지하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
   

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