KR100853378B1 - 대면적 기판의 접촉식 세정장치 - Google Patents

대면적 기판의 접촉식 세정장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100853378B1
KR100853378B1 KR1020060129207A KR20060129207A KR100853378B1 KR 100853378 B1 KR100853378 B1 KR 100853378B1 KR 1020060129207 A KR1020060129207 A KR 1020060129207A KR 20060129207 A KR20060129207 A KR 20060129207A KR 100853378 B1 KR100853378 B1 KR 100853378B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
brush
belt brush
contact
belt
Prior art date
Application number
KR1020060129207A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20080036903A (ko
Inventor
김정하
정일용
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Publication of KR20080036903A publication Critical patent/KR20080036903A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100853378B1 publication Critical patent/KR100853378B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

본 발명은 대면적 기판의 접촉식 세정장치에 관한 것으로, 기판을 이송하는 이송부와, 상기 이송되는 기판의 상면에 면접촉되어 기판의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부와, 상기 이송되는 기판의 저면에 면접촉되어 기판의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부를 포함한다. 이와 같이 구성된 본 발명은 벨트형의 브러시를 적용하여 상대적으로 좁은 면적에서도 면접촉에 의해 세정력을 높일 수 있는 효과가 있으며, 기판과 브러시가 면접촉됨에 따라 기판과의 접촉압력이 분산되어 기판이 손상되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Description

대면적 기판의 접촉식 세정장치{Touch cleaning apparatus for large area substrate}
도 1은 종래 롤 브러시 세정장치의 구성도이다.
도 2은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제1실시예에 따른 구성도이다.
도 3은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제2실시예에 따른 구성도이다.
도 4는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제3실시예에 따른 구성도이다.
도 5는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제4실시예에 따른 구성도이다.
도 6은 본 발명에 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제5실시예에 따른 구성도이다.
도 7은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제6실시예에 따른 구성도이다.
도 8은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제7실시예에 따른 구성도이다.
도 9는 도 8에 있어서, 주요부분 상세 구성도이다.
도 10은 도 8에 있어서, 브러시 체결부에 체결된 브러시의 다른 구성도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10:기판 20:이송부
30:상부 벨트 브러시부 31,32:롤러
33:벨트 브러시 34:압력조절판
40:하부 벨트 브러시부 41,42:롤러
43:벨트 브러시 44:압력조절판
본 발명은 대면적 기판의 접촉식 세정장치에 관한 것으로, 특히 접촉식 세정장치와 대면적 기판의 접촉면적을 증가시킨 대면적 기판의 접촉식 세정장치에 관한 것이다.
일반적으로, 대면적 기판을 사용하는 평판 디스플레이의 제조공정에서는 세정액 등을 이용하여 상기 대면적 기판을 습식세정하고 있으며, 그 습식세정과정에서 상대적으로 큰 파티클을 제거하기 위하여 접촉식 세정장치를 사용하고 있다.
종래 대면적 기판의 접촉식 세정장치는 이송중인 기판의 상하면에 각각 접촉 되어 상호 반대방향으로 회전하는 롤 브러시(roll brush)를 사용하였으며, 이와 같은 종래 대면적 기판의 접촉식 세정장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래 대면적 기판의 접촉식 세정장치인 롤 브러시 세정장치의 단면 구성도이다.
도 1을 참조하면, 종래 롤 브러시 세정장치는 이송부(2)에 의해 이송되는 기판(1)의 상면에 접촉되며, 상호 소정거리 이격되는 복수의 상부 롤 브러시(3,4)와, 상기 상부 롤 브러시(3,4)와 기판(1)이 접촉하는 접촉부의 저면에 접촉되는 복수의 하부 롤 브러시(5,6)를 포함하여 구성된다.
상기 상부 롤 브러시(3,4)와 하부 롤 브러시(5,6)는 기판(1)이 처짐이 발생되지 않도록 기판(1)의 상하면에 마주보게 위치한다.
상기 상부 롤 브러시(3,4)는 각각 회전방향을 반대로 할 수 있으며, 그 상부 롤 브러시(3,4)에 마주하는 하부 롤 브러시(5,6) 또한 회전방향이 반대가 된다.
이와 같은 구조에서 상기 상부 롤 브러시(3,4)와 하부 롤 브러시(5,6)는 이송되는 기판(1)의 이송방향에 대해 수직인 방향으로 선접촉되며, 그 접촉부분에서 상대적으로 크기가 큰 파티클을 제거하게 된다.
그러나 상기 상부 롤 브러시(3,4)와 하부 롤 브러시(5,6)는 모두 선접촉되는 것으로, 세정력이 저하되는 문제점이 있었다. 이를 극복하기 위하여 상부 롤 브러시(3,4)와 하부 롤 브러시(5,6)를 각각 다수로 설치하여야 한다.
이처럼 세정력의 증가를 위해 다수의 롤 브러시와 이를 각각 구동하는 구동부를 사용해야 함으로써, 접촉식 세정장치의 설치 면적이 증가하게 되는 문제점이 있었다.
또한, 롤 브러시가 장축화되어 그 롤 브러시에 처짐이 발생할 수 있으며, 이에 접촉되는 기판(1)의 중앙부에서는 압력이 증가하여 기판(1)이 손상될 수 있으며, 기판(1)의 가장자리 부분에서는 접촉압력이 중앙부에 비해 낮아져 세정력이 저하되는 문제점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 설치면적을 최소화하면서도 세정력을 향상시킬 수 있는 대면적 기판의 접촉식 세정장치를 제공함에 그 목적이 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 기판을 접촉식으로 세정할 때 기판이 손상되는 것을 최대한 방지할 수 있는 대면적 기판의 접촉식 세정장치를 제공함에 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 기판을 이송하는 이송부와, 상 기 이송되는 기판의 상면에 면접촉되어 기판의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부와, 상기 이송되는 기판의 저면에 면접촉되어 기판의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부를 포함한다.
상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예들을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
<실시예 1>
도 2는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제1실시예에 따른 구성도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 바람직한 실시예는 이송부(20)에 의해 이송되는 기판(10)의 상면에 면접촉되어 기판(10)의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부(30)와, 상기 상부 벨트 브러시부(30)와 대응하는 위치의 기판(10)의 저면에 면접촉되어 기판(10)의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부(40)로 구성된다.
상기 상부 벨트 브러시부(30)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전하는 두 롤러(31,32)와, 상기 롤러(31,32)의 외주면에 감겨 두 롤러(31,32)의 회전에 따라 회전하며, 상기 기판(10)의 상면에 면접촉되어 기판(10)의 이송방향에 수직인 방향으로 그 기판(10)을 세정하는 벨트 브러시(33)를 포함한다.
상기 하부 벨트 브러시부(40)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전 하는 두 롤러(41,42)와, 상기 롤러(41,42)의 외주면에 감겨 두 롤러(41,42)의 회전에 따라 회전하며, 상기 기판(10)의 저면에 그 기판(10)의 이송방향에 수직한 방향으로 면접촉되어 그 기판(10)을 세정하는 벨트 브러시(43)를 포함한다.
이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 바람직한 실시예의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
먼저, 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)는 그 구성이 동일하며, 각각에 마련된 롤러(31,32)(41,42)의 회전방향은 서로 동일하다.
이에 따라 그 롤러(31,32,)(41,42)에 의해 구동되는 벨트 브러시(33,43) 또한 구동방향이 서로 동일 방향이 된다.
즉, 상부 벨트 브러시부(30)의 벨트 브러시(33)는 기판(10)의 상면에 접촉되어, 기판(10)의 이송방향에 대하여 우측으로 수직한 방향으로 회전하면서 기판(10)의 상면을 세정하게 되며, 하부 벨트 브러시부(40)의 벨트 브러시(43)는 기판(10)의 저면에 면접촉하여 그 기판(10)의 이송방향에 대하여 좌측으로 수직한 방향으로 회전하면서 기판(10)의 저면을 세정한다.
이와 같은 구동에 의해 상기 이송되는 기판(10)은 편향힘을 받지 않게 된다.
상기 벨트 브러시(33,43)는 각각 외주면에 브러시가 마련된 것이며, 그 브러시와 기판(10)의 접촉은 면접촉으로, 접촉면적을 증가시켜 세정력을 높일 수 있다.
이에 따라 종래 롤 브러시와 같이 다수의 롤 브러시를 사용할 필요가 없으며, 상대적인 설치면적을 줄일 수 있게 된다.
상기 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)는 각각 상하로 이동이 가능해야 한다. 이는 기판(10)과의 면접촉압력을 조절하기 위한 것이며, 이는 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40) 각각에 마련된 롤러(31,32)(41,42)의 높이를 조정함으로써 가능하게 된다.
이와 같이 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치는 기판(10)의 세정을 위한 접촉면을 면접촉으로 함으로써, 상대적으로 좁은 면적에서도 더 우수한 세정력을 가지게 된다.
그리고, 상기 상부 벨트 브러시부(30)의 롤러(31,32)와 하부 벨트 브러시부(40)의 롤러(41,42)는 기판(10)이 진입하는 방향의 사이가 더 넓도록 경사지게 배치할 수 있다.
이때의 경사각은 1 내지 10도의 범위에서 경사지게 한다.
상기와 같은 롤러(31,32,41,42)의 배치에 의해 기판(10)이 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)의 사이로 이송되는 초기 과정에서 파손되는 것을 방지할 수 있다.
이와 같은 롤러(31,32,41,42)의 경사 형태는 아래의 실시예들에서도 동일하게 적용될 수 있음은 물론이다.
<실시예 2>
도 3은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제2실시예에 따른 구성도이다.
도 3을 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 상기 실시예 1의 구성에서 상기 상부 벨트 브러시부(30)의 두 롤러(31,32)의 사이에 위치하여, 그 두 롤러(31,32)에 의해 구동되는 벨트 브러시(33)와 기판(10)과의 접촉압력을 조절할 수 있는 압력조절판(34)과, 상기 하부 벨트 브러시부(40)의 두 롤러(41,42)의 사이에 위치하여, 그 두 롤러(41,42)에 의해 구동되는 벨트 브러시(43)와 기판(10)과의 접촉압력을 조절할 수 있는 압력조절판(44)을 더 포함하여 구성된다.
이때, 상기 상부 벨트 브러시부(30)의 두 롤러(31,32)와 상기 하부 벨트 브러시부(40)의 두 롤러(41,42)는 이송되는 기판(10)과 소정거리 이상 이격된 위치에서 회전가능하도록 고정된 것이며, 상기 압력조절판(34,44)의 상하 위치 조절에 의해 벨트 브러시(33,43)와 기판(10)의 접촉 압력을 조절할 수 있게 된다.
상기 상부 벨트 브러시부(30)의 두 롤러(31,32) 중 적어도 하나의 롤러는 구동롤러이며, 하부 벨트 브러시부(40)의 두 롤러(41,42) 중 적어도 하나의 롤러는 구동롤러이다.
즉, 상기 벨트 브러시(33,43)은 각각 롤러(31,32),(41,42)에 의해 구동되며, 그 벨트 브러시(33,43)와 면접촉되는 기판(10)의 상면과 저면의 접촉압력은 압력조절판(34,44)의 상하 이동에 의해 이루어진다.
이와 같이 상기 압력조절판(34,44)이 적용되는 경우에는 상기 벨트 브러시(33,34)와 기판(10)의 접촉면에 고른 압력을 전달할 수 있어, 세정의 균일도가 향상되며, 세정 효율도 보다 향상시킬 수 있게 된다.
상기와 같은 면접촉식 세정공정이 진행되는 과정에서도 기판(10)의 상하부에서는 세정수가 분사 공급되는 것은 당연하다.
상기의 실시예 1과 실시예 2에서는 롤러(31,32)(41,42)의 상하이동 또는 압력조절판(34,44)의 상하이동에 의해 기판(10)과 벨트 브러시(33,43)의 접촉압력이 조정되는 것을 설명하였으나, 롤러(31,32)(41,42)와 압력조절판(34,44)이 모두 상하 이동할 수 있다.
예를 들어 상기 롤러(31,32)(41,42)는 그 상하 이동의 간격이 상대적으로 큰 것으로 하고, 상기 압력조절판(34,44)의 상하 이동은 미세 조정되도록 구성할 수 있다.
이는 비상 정지가 요구되는 상황에서 상기 롤러(31,32)(41,42) 중 상하로 대응하여 위치하는 롤러(31,41)(32,42)의 간격을 순간적으로 벌려 비상 정지시 기판(10)의 손상을 방지할 수 있도록 한 것이다. 이때 압력조절판(34,44) 또한 상기 롤러(31,32)(41,42)의 이동 거리만큼 이동된다.
정상 동작시에는 상기 롤러(31,32)(41,42)의 위치를 고정한 상태에서 미세 조정이 가능한 압력조절판(34,44)의 위치를 미세조정하여 면접촉압력을 조정할 수 있게 된다.
<실시예 3>
도 4는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제3실시예에 따른 구성도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 상기 도 2를 참조하여 설명한 실시예 1의 구성에서 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)를 각각 평면상에서 90도 회전시킨 것이며, 이에 따라 벨트 브러시(33)는 기판(10)의 이송방향측으로 구동되어 기판(10)의 상면을 세정하고, 벨트 브러시(43)는 기판(10)의 이송방향과는 반대방향으로 구동되어 기판(10)의 저면을 세정하게 된다.
이와 같은 실시예 3의 구체적인 작용은 실시예 1과 유사하여 그 상세한 설명 은 생략한다.
<실시예 4>
도 5는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제4실시예에 따른 구성도이다.
도 5를 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 상기 실시예 3에 실시예 2의 압력조절판(34,44)이 포함된 구조이다.
상기 압력조절판(34,44)에 의해 기판(10)의 상면 및 저면과 각각 접하는 벨트 브러시(33,43)의 접촉압력을 조절할 수 있게 되어, 기판(10)의 이송방향 또는 이송방향의 역방향으로 구동되는 형태로 기판(10)의 상면과 저면을 각각 세정할 수 있게 된다.
<실시예 5>
도 6은 본 발명에 따른 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제5실시예에 따른 구성도이다.
도 6을 참조하면, 본 발명에 따른 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 이송부(20)에 의해 이송되는 기판(10)의 상면에 면접촉되어 기판(10)의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부(30)와, 상기 상부 벨트 브러시부(30)와 대응하는 위치의 기판(10)의 저면에 면접촉되어 기판(10)의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부(40)와, 상기 상부 밸트 브러시부(30)의 내측에 위치하여 기판(10)측으로 세정수를 분사하여 상기 상부 브러시부(30)와 기판(10)의 접촉압력을 증가시키는 상부 세정수분사부(51)와, 상기 하부 브러시부(40)의 내측에 위치하여 상기 기판(10) 측으로 세정수를 분사하여 상기 하부 브러시부(40)와 기판(10)의 접촉압력을 증가시키는 하부 세정수분사부(52)로 구성된다.
상기 상부 벨트 브러시부(30)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전하는 두 롤러(31,32)와, 상기 롤러(31,32)의 외주면에 감겨 두 롤러(31,32)의 회전에 따라 회전하며, 상기 기판(10)의 상면에 면접촉되어 기판(10)의 이송방향에 수직인 방향으로 그 기판(10)을 세정하는 벨트 브러시(33)를 포함한다.
상기 하부 벨트 브러시부(40)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전하는 두 롤러(41,42)와, 상기 롤러(41,42)의 외주면에 감겨 두 롤러(41,42)의 회전에 따라 회전하며, 상기 기판(10)의 저면에 그 기판(10)의 이송방향에 수직한 방향으로 면접촉되어 그 기판(10)을 세정하는 벨트 브러시(43)를 포함한다.
상기 상부 세정수분사부(51)와 하부 세정수분사부(52)는 각각 상부 벨트 브러시부(30)의 롤러(31,32)의 사이와, 하부 벨트 브러시부(40)의 롤러(41,42)의 사이에 위치하며, 각각 기판(10)에 접촉되는 벨트 브러시(33,43)의 배면에 세정수를 분사하여 벨트 브러시(33,43)가 기판(10)에 밀착될 수 있도록 구성된다.
상기의 상부 세정수분사부(51)와 하부 세정수분사부(52)는 각각 벨트 브러 시(33,43)에 비접촉식으로 압력을 가하게 됨으로써, 파티클의 발생이 없어 신뢰성이 향상되며, 세정수를 벨트 브러시(33,43)에 직접 분사하기 때문에 접촉식 세정에 의해 기판(10)이 손상되는 것을 방지할 수 있으며, 세정력도 높일 수 있다.
이와 같은 상부 및 하부 세정수분사부(51,52)의 작용에 의해 상기 벨트 브러시(33,43)는 위치에 관계없이 일정한 압력으로 기판(10)의 상면과 하면 각각에 접촉되게 할 수 있어 세정의 균일성을 확보할 수 있다.
<실시예 6>
도 7은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제6실시예에 따른 구성도이다.
도 7을 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 그 구성이 상기 실시예 1의 구성과 동일하나, 상기 벨트 브러시(33,43)가 각각 상호 인력이 작용하는 극의 자성체인 것을 특징으로 한다.
즉, 상기 벨트 브러시(33)가 N극, 벨트 브러시(43)가 S극인 자성체이며, 이는 기판(10)을 사이에 두고 상호 인력이 작용하기 때문에 그 벨트 브러시(33,43)가 기판(10)의 상하면에 각각 균일한 압력으로 밀착된다.
이와 같이 상기 벨트 브러시(33,43) 자체를 상호 인력이 작용하는 자성체로 하거나, 그 벨트 브러시(33,43) 내에 상호 인력이 작용하는 자성체를 심거나 부착 함으로써, 균일한 압력으로 세정이 가능하여 세정의 신뢰성을 높일 수 있다.
<실시예 7>
도 8은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제7실시예에 따른 구성도이다.
도 8을 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 이송부(20)에 의해 이송되는 기판(10)의 상면에 면접촉되어 기판(10)의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부(30)와, 상기 상부 벨트 브러시부(30)와 대응하는 위치의 기판(10)의 저면에 면접촉되어 기판(10)의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부(40)로 구성하되,
상기 상부 벨트 브러시부(30)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전하는 두 롤러(31,32)와, 상기 롤러(31,32)의 외주면에 감겨 두 롤러(31,32)의 회전에 따라 회전하는 프로파일 벨트(35)와, 상기 프로파일 벨트(35)의 두께가 두꺼운 부분에 부착되며, 그 반대면에 집중도가 높은 브러시(37)가 고정되는 브러시 체결부(36)를 포함하여 구성된다.
상기 하부 벨트 브러시부(40)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전하는 두 롤러(41,42)와, 상기 롤러(41,42)의 외주면에 감겨 두 롤러(41,42)의 회전에 따라 회전하는 프로파일 벨트(45)와, 상기 프로파일 벨트(45)의 두께가 두꺼운 부분에 부착되며, 그 반대면에 집중도가 높은 브러시(47)가 고정되는 브러시 체결부(46)를 포함하여 구성된다.
도 9는 상기 상부 벨트 브러시부(30)의 브러시 체결부(36)와 브러시(37)의 상세 단면 구성도이다.
도 9를 참조하면, 상기 브러시 체결부(36)의 형상은 상기 프로파일 벨트(35)와의 접촉면적에 비해 상기 브러시(37)가 고정되는 면적이 더 넓으며, 그 브러시(37)를 고정하기 위한 다수의 홈을 구비한다.
그 브러시 체결부(36)의 홈에는 상기 다른 실시예들에서 보인 벨트 브러시(33)에 비하여 보다 치밀하고, 견고하게 브러시(37)를 심을 수 있으며, 따라서 브러시(37)의 집중도를 높일 수 있게 된다.
이와 같은 브러시(37) 집중도의 증가는 기판(10)에 직접 접촉되는 브러시(37)의 수를 늘려 세정력을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 브러시(37)는 기판(10)이 유입되는 측의 길이가 더 짧고, 반대편 측의 길이가 더 길게 구현할 수 있다. 이는 기판(10)이 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)의 사이로 이송되는 과정에서 손상되는 것을 방지할 수 있다.
상기 브러시 체결부(36)의 재질은 우레탄이며, 용착 또는 나사결합에 의해 상기 프로파일 벨트(35)와 결합될 수 있으며, 이때 그 브러시 체결부(36) 내에 자성체를 삽입할 수 있으며, 그 브러시 체결부(36)에 삽입되는 자성체의 극성은 상기 하부 벨트 브러시부(40)의 브러시 체결부(46)에 삽입되는 자성체의 극성과는 다른 극성으로 한다.
이와 같은 구조에 의하여 상기 하부 벨트 브러시부(40)와 상부 벨트 브러시부(30)의 사이에는 인력이 작용하게 되며 이에 따라 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)가 상기 기판(10)에 균일한 압력으로 밀착된다. 이와 같은 밀착에 의해 기판(10)은 균일하게 세정될 수 있다.
상기 하부 벨트 브러시부(40)의 상세 구성은 상기 도 9의 상부 브러시부(30)의 구성과 동일하므로, 그 상세한 구성과 작용의 설명은 생략한다.
도 10은 상기 브러시 체결부(36)에 체결된 브러시(37)의 다른 구성도이다.
도 10을 참조하면, 브러시 체결부(36)의 외측으로 돌출된 부분이 상호 교차하도록 구성할 수 있다.
이와 같은 구조는 브러시(37)를 교차 탄성 지지하여 기판(10)에서 파티클의 제거가 보다 용이하게 되어, 세정력을 향상시킬 수 있게 된다.
이상에서는 벨트에 접합되는 브러시 체결부(36)를 가지는 본 발명의 다른 실시예에 대해 설명하였으나, 상기 브러시 체결부(36)의 형상은 위의 실시예에 한정되지 않는다.
예를 들면 연성의 재질의 판에 다수의 브러시를 조밀하게 심고, 그 브러시가 부착된 판을 벨트와 합착하는 구조를 예로 들 수 있다.
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.
상기한 바와 같이 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치는 벨트형의 브러시를 적용하여 상대적으로 좁은 면적에서도 면접촉에 의해 세정력을 높일 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 대면적 기판과 브러시가 면접촉됨에 따라 대면적 기판과의 접촉압력이 분산되어 대면적 기판이 손상되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
아울러 면접촉을 통해 대면적 기판을 세정하되, 그 접촉되는 면 전체의 압력을 균일하게 함으로써, 세정의 신뢰성과 세정력을 향상시키는 효과가 있다.

Claims (13)

  1. 기판을 이송하는 이송부;
    상기 이송되는 기판의 상면에 면접촉되어 기판의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부; 및
    상기 이송되는 기판의 저면에 면접촉되어 기판의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부를 포함하되,
    상기 상부 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부는,
    상호 소정거리 이격되며 회전하는 복수의 롤러; 및
    상기 복수의 롤러 각각의 외주면에 감겨 그 복수의 롤러가 회전함에 따라 회전함과 아울러 상기 기판의 상면 또는 저면에 면접촉하는 벨트 브러시를 포함하며,
    상기 상부 벨트 브러시부의 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부의 벨트 브러시는 상호 인력이 작용하는 자성체인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 상부 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부의 벨트 브러시는 기판의 상면과 저면에 각각 접촉하되, 구동방향이 기판의 이송방향에 대하여 좌 또는 우측으로 수직인 방향인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 하부 벨트 브러시부의 벨트 브러시는 상부 벨트 브러시부의 벨트 브러시와는 구동방향이 반대방향인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.
  5. 제1항 또는 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 복수의 롤러는 상하 이동이 가능하며, 그 상하 이동에 의해 상기 벨트 브러시와 기판의 면접촉압력을 조절하는 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.
  6. 제1항 또는 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 상부 벨트 브러시부에 마련된 상기 복수의 롤러의 사이에 위치하며, 상하 이동이 가능하여 상기 상부 벨트 브러시부의 벨트 브러시와 상기 기판의 상부 면접촉압력을 조절하는 제1압력조절판; 및
    상기 하부 벨트 브러시부에 마련된 상기 복수의 롤러의 사이에 위치하며, 상하 이동이 가능하여 상기 하부 벨트 브러시부의 벨트 브러시와 상기 기판의 하부 면접촉압력을 조절하는 제2압력조절판을 더 포함하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 상부 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부 각각의 롤러 사이에 위치하여, 각각 기판 방향으로 세정수를 분사하는 상부 세정수분사부와 하부 세정수분사부를 더 포함하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.
  8. 삭제
  9. 기판을 이송하는 이송부;
    상기 이송되는 기판의 상면에 면접촉되어 기판의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부; 및
    상기 이송되는 기판의 저면에 면접촉되어 기판의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부를 포함하되,
    상기 상부 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부는,
    상호 소정거리 이격되며 회전하는 복수의 롤러; 및
    상기 복수의 롤러 각각의 외주면에 감겨 그 복수의 롤러가 회전함에 따라 회전함과 아울러 상기 기판의 상면 또는 저면에 면접촉하는 벨트 브러시를 포함하며,
    상기 상부 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부의 벨트 브러시는,
    상기 롤러에 의해 일방향으로 회전하는 벨트; 및
    상기 벨트 상에 부착되며, 부착면의 반대면에는 브러시가 체결되는 브러시 체결부를 포함하고, 상기 브러시 체결부에는,
    상기 상부 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부에 상호 인력이 작용하도록 자성체가 삽입되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.
  10. 삭제
  11. 제9항에 있어서,
    상기 브러시는 상기 브러시 체결부에 마련된 체결구에 체결되며, 그 체결구 외부로 노출된 브러시는 그 노출된 브러시의 중앙부에서 상호 교차되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 브러시는,
    기판이 유입되는 측의 길이가 유출되는 측의 길이에 비해 상대적으로 더 짧은 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.
  13. 제1항 또는 제9항에 있어서,
    상기 상부 벨트 브러시부의 롤러와 하부 벨트 브러시부의 롤러는,
    상기 기판이 유입되는 측의 사이 거리가 더 이격되도록 상호 반대방향으로 경사진 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.
KR1020060129207A 2006-10-24 2006-12-18 대면적 기판의 접촉식 세정장치 KR100853378B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20060103575 2006-10-24
KR1020060103575 2006-10-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080036903A KR20080036903A (ko) 2008-04-29
KR100853378B1 true KR100853378B1 (ko) 2008-08-21

Family

ID=39575144

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060129207A KR100853378B1 (ko) 2006-10-24 2006-12-18 대면적 기판의 접촉식 세정장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100853378B1 (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100870147B1 (ko) * 2007-09-05 2008-11-24 세메스 주식회사 기판 처리 장치
KR101226952B1 (ko) * 2010-01-14 2013-01-28 세메스 주식회사 기판 세정 장치 및 방법과, 이를 이용한 기판 세정 설비
KR101333497B1 (ko) * 2011-09-22 2013-11-28 김성기 반도체칩용 방열판스트립의 자동브러싱장치
KR101329765B1 (ko) * 2012-02-10 2013-11-15 주식회사 에스에프에이 기판 세정장치
JP7265858B2 (ja) * 2018-11-16 2023-04-27 株式会社荏原製作所 洗浄モジュール、洗浄モジュールを備える基板処理装置と洗浄方法
CN109499954B (zh) * 2019-01-02 2021-07-02 安徽琼钰刷业有限公司 一种用于清除金属板材油污杂质的自动刷

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1034090A (ja) * 1996-07-24 1998-02-10 Sharp Corp 洗浄装置
JP2001340815A (ja) * 2000-06-05 2001-12-11 Joichi Takada 洗浄装置
KR20050116252A (ko) * 2004-06-07 2005-12-12 주식회사 디엠에스 면 접촉용 브러시가 구비된 기판세정장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1034090A (ja) * 1996-07-24 1998-02-10 Sharp Corp 洗浄装置
JP2001340815A (ja) * 2000-06-05 2001-12-11 Joichi Takada 洗浄装置
KR20050116252A (ko) * 2004-06-07 2005-12-12 주식회사 디엠에스 면 접촉용 브러시가 구비된 기판세정장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080036903A (ko) 2008-04-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100853378B1 (ko) 대면적 기판의 접촉식 세정장치
CN101985208B (zh) 衬底抛光设备和方法
US5862560A (en) Roller with treading and system including the same
KR20070119387A (ko) 기판 세정 장치
JP2013187236A (ja) 太陽電池製造用のスリットノズル及び薬液塗布装置
JP2005279451A (ja) 基板処理装置
KR100871893B1 (ko) 인쇄회로기판의 이송장치 및 그에 사용되는 인쇄회로기판
KR102461592B1 (ko) 기판 처리 장치
KR101242291B1 (ko) 상압 플라즈마 세정장치
US20180297171A1 (en) Grinding apparatus
CN212120884U (zh) 清洁装置及晶圆清洁设备
JP2005019991A (ja) 基板処理装置
KR102478384B1 (ko) 기판 처리 장치
KR101099591B1 (ko) 기판 세정용 디스크 유닛 및 이를 갖는 기판 세정 장치
KR101103828B1 (ko) 대면적 기판 이송장치
KR101007688B1 (ko) 세정액을 분사하기 위한 노즐 및 이를 포함하는 기판 세정 장치
KR102493011B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20080056377A (ko) 대면적 기판의 접촉식 세정장치
KR20200028579A (ko) 기판 처리 장치
KR20210050728A (ko) 기판 세정 장치
KR102171900B1 (ko) 기판 세정 장치
KR102349117B1 (ko) 박판형 기판의 이송용 롤러 조립체
KR20200027687A (ko) 기판 처리 장치
KR101075483B1 (ko) 기판 세정장치 및 방법
KR20200061656A (ko) 기판 연마 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110616

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120712

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee