JP2002001238A - 基板をクリーニングするための洗浄装置 - Google Patents
基板をクリーニングするための洗浄装置Info
- Publication number
- JP2002001238A JP2002001238A JP2001123773A JP2001123773A JP2002001238A JP 2002001238 A JP2002001238 A JP 2002001238A JP 2001123773 A JP2001123773 A JP 2001123773A JP 2001123773 A JP2001123773 A JP 2001123773A JP 2002001238 A JP2002001238 A JP 2002001238A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roller
- substrate
- rollers
- rotation axis
- scrubbing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 135
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 claims abstract description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- MFRCZYUUKMFJQJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane-2,5-dione;1,3-dioxan-2-one Chemical compound O=C1OCCCO1.O=C1COC(=O)CO1 MFRCZYUUKMFJQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000005020 Acaciella glauca Species 0.000 description 1
- 229920004943 Delrin® Polymers 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 235000003499 redwood Nutrition 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
- B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
- G11B23/505—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板の装填及び取出し方法を改善した基板
を洗浄する装置を提供する。 【解決手段】 基板を洗浄する装置は、基板の２つの
半径方向に１８０°離れて沿在するような、互いに逆向
きの回転方向を有する駆動ローラー及びスクラビングロ
ーラーを備え、スクラブサイクル中には、駆動ローラー
は基板を回転させ、スクラビングローラーは基板を挟ん
で対向して基板を両面からスクラブし、両ローラーに直
交して位置するような外径ローラーは基板の外径に接し
て、基板を所定の位置に保持する。この構成により、小
型ディスク等の基板を洗浄する際に基板が所定の位置か
らずれることによって鋭いエッジがローラーを損傷する
ことがなくなり、また、軽量の小型ディスク等がローラ
ーに貼着することがなくなる。
を洗浄する装置を提供する。 【解決手段】 基板を洗浄する装置は、基板の２つの
半径方向に１８０°離れて沿在するような、互いに逆向
きの回転方向を有する駆動ローラー及びスクラビングロ
ーラーを備え、スクラブサイクル中には、駆動ローラー
は基板を回転させ、スクラビングローラーは基板を挟ん
で対向して基板を両面からスクラブし、両ローラーに直
交して位置するような外径ローラーは基板の外径に接し
て、基板を所定の位置に保持する。この構成により、小
型ディスク等の基板を洗浄する際に基板が所定の位置か
らずれることによって鋭いエッジがローラーを損傷する
ことがなくなり、また、軽量の小型ディスク等がローラ
ーに貼着することがなくなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、記録媒体の製品に
用いられる基板の表面をスクラブするために用いられる
洗浄装置に関し、特にパッドまたはブラシを用いる洗浄
装置に関する。
用いられる基板の表面をスクラブするために用いられる
洗浄装置に関し、特にパッドまたはブラシを用いる洗浄
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスクや光磁気ディスク等の記録
媒体の製造中に、少なくとも１つのクリーニング過程が
実行される。一般にブラシ（またはパッド）材料が、基
板の表面に押し付けられる円筒形ローラーに周着され
る。ブラシを回転させて基板の表面に押し付けることに
よって、ディスクがスクラブされる。一般に２個のロー
ラーが用いられ、基板を挟んで対向して押し付けられる
ことによって両面が同時にスクラブされ、ディスクを損
傷したり破損したりするような全圧力（net pressure）
がディスクに加えられることはない。
媒体の製造中に、少なくとも１つのクリーニング過程が
実行される。一般にブラシ（またはパッド）材料が、基
板の表面に押し付けられる円筒形ローラーに周着され
る。ブラシを回転させて基板の表面に押し付けることに
よって、ディスクがスクラブされる。一般に２個のロー
ラーが用いられ、基板を挟んで対向して押し付けられる
ことによって両面が同時にスクラブされ、ディスクを損
傷したり破損したりするような全圧力（net pressure）
がディスクに加えられることはない。
【０００３】図１及び図２は各々、ディスク１２をクリ
ーニングするような従来の洗浄装置１０の正面図及び側
面図を示す。洗浄装置１０は２個のスクラビングローラ
ー１４、１６を有し（ローラー１６は図１では隠れてい
る）、両ローラーは図１の矢印１５及び図２の矢印１
７、１８によって示される方向に回転する。スクラビン
グローラー１４、１６は、矢印２０、２２によって示さ
れるような方向にディスク１２に接近させたりディスク
１２から離隔させたりすることが可能なので、ディスク
１２の装填及び取出しは容易にされる。洗浄装置１０
は、駆動ローラー２４、２６を更に有し（ローラー２６
は図２では隠れている）、両ローラーはディスク１２の
外径に接する。矢印１３によって示される方向にディス
ク１２を回転させるため、駆動ローラー２４、２６は図
１の矢印２５、２７及び図２の矢印２８によって示され
る方向に回転する。リフトアーム３０は、ディスク１２
を洗浄装置１０内に引き上げるために用いられる。
ーニングするような従来の洗浄装置１０の正面図及び側
面図を示す。洗浄装置１０は２個のスクラビングローラ
ー１４、１６を有し（ローラー１６は図１では隠れてい
る）、両ローラーは図１の矢印１５及び図２の矢印１
７、１８によって示される方向に回転する。スクラビン
グローラー１４、１６は、矢印２０、２２によって示さ
れるような方向にディスク１２に接近させたりディスク
１２から離隔させたりすることが可能なので、ディスク
１２の装填及び取出しは容易にされる。洗浄装置１０
は、駆動ローラー２４、２６を更に有し（ローラー２６
は図２では隠れている）、両ローラーはディスク１２の
外径に接する。矢印１３によって示される方向にディス
ク１２を回転させるため、駆動ローラー２４、２６は図
１の矢印２５、２７及び図２の矢印２８によって示され
る方向に回転する。リフトアーム３０は、ディスク１２
を洗浄装置１０内に引き上げるために用いられる。
【０００４】運転中にリフトアーム３０は、ディスク１
２を洗浄装置１０内に引き上げ、ディスクがその間に引
き上げられることを許容するように離隔されたようなス
クラビングローラー１４と１６との間に引き上げる。ス
クラビングローラー１４、１６はディスク１２に押し付
けられ、図２の矢印１８、１９によって示される方向に
回転する。スクラビングローラー１４、１６が回転する
ことにより、ディスク１２が駆動ローラー２４、２６に
上向きに押し付けられる。駆動ローラー２４、２６が回
転することにより、ディスク１２が矢印１３によって示
される方向に回転する。従って、ディスク１２が回転す
るにつれてスクラビングローラー１４、１６が回転し、
同時にディスク１２の両面をスクラブする。ディスク１
２のスクラブが終わると駆動ローラー２４、２６は停止
し、リフトアーム３０はディスク１２まで上昇し、スク
ラビングローラー１４、１６は離隔する。リフトアーム
３０はその後ディスク１２から離隔して降下する。
２を洗浄装置１０内に引き上げ、ディスクがその間に引
き上げられることを許容するように離隔されたようなス
クラビングローラー１４と１６との間に引き上げる。ス
クラビングローラー１４、１６はディスク１２に押し付
けられ、図２の矢印１８、１９によって示される方向に
回転する。スクラビングローラー１４、１６が回転する
ことにより、ディスク１２が駆動ローラー２４、２６に
上向きに押し付けられる。駆動ローラー２４、２６が回
転することにより、ディスク１２が矢印１３によって示
される方向に回転する。従って、ディスク１２が回転す
るにつれてスクラビングローラー１４、１６が回転し、
同時にディスク１２の両面をスクラブする。ディスク１
２のスクラブが終わると駆動ローラー２４、２６は停止
し、リフトアーム３０はディスク１２まで上昇し、スク
ラビングローラー１４、１６は離隔する。リフトアーム
３０はその後ディスク１２から離隔して降下する。
【０００５】洗浄装置１０のような従来の洗浄装置は、
９５ｍｍディスクのような大型ディスクに好適に作動す
る一方で、25.4 mm（１インチ）のディスクのような小
型ディスクを洗浄するために洗浄装置１０が用いられる
時には２つの鍵となる欠点がある。第１の欠点は、大型
ディスクのエッジより鋭い小型ディスクのエッジによっ
て発生する。特に駆動ローラー２４、２６とディスクの
外径とが噛み合わずにずれがあるような場合には、小型
ディスクの鋭いエッジによって駆動ローラー２４、２６
が損傷することがある。駆動ローラー２４、２６が損傷
すると、ディスクの汚染及び駆動ローラーの過度の摩耗
が発生する可能性がある。
９５ｍｍディスクのような大型ディスクに好適に作動す
る一方で、25.4 mm（１インチ）のディスクのような小
型ディスクを洗浄するために洗浄装置１０が用いられる
時には２つの鍵となる欠点がある。第１の欠点は、大型
ディスクのエッジより鋭い小型ディスクのエッジによっ
て発生する。特に駆動ローラー２４、２６とディスクの
外径とが噛み合わずにずれがあるような場合には、小型
ディスクの鋭いエッジによって駆動ローラー２４、２６
が損傷することがある。駆動ローラー２４、２６が損傷
すると、ディスクの汚染及び駆動ローラーの過度の摩耗
が発生する可能性がある。
【０００６】小型ディスクを洗浄装置１０に用いる時に
発生する第２の欠点は、スクラビングローラー１４と１
６との間からディスクを出し入れする際に発生する。小
型ディスクは軽量なので、ディスクは表面張力からスク
ラビングローラー１４、１６に貼着する傾向がある。結
果として、小型ディスクの装填及び取出しには問題が多
い。
発生する第２の欠点は、スクラビングローラー１４と１
６との間からディスクを出し入れする際に発生する。小
型ディスクは軽量なので、ディスクは表面張力からスク
ラビングローラー１４、１６に貼着する傾向がある。結
果として、小型ディスクの装填及び取出しには問題が多
い。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みて成されたものであり、その目的は、小型ディスク
等の基板が所定の位置からずれることによって鋭いエッ
ジがローラーを損傷しないように、また、軽量の小型デ
ィスク等がローラーに貼着しないように、基板を挟んで
対向して基板を両面から押すような駆動ローラー及びス
クラビングローラーを有するような基板洗浄装置を提供
することにある。
鑑みて成されたものであり、その目的は、小型ディスク
等の基板が所定の位置からずれることによって鋭いエッ
ジがローラーを損傷しないように、また、軽量の小型デ
ィスク等がローラーに貼着しないように、基板を挟んで
対向して基板を両面から押すような駆動ローラー及びス
クラビングローラーを有するような基板洗浄装置を提供
することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の実施例に基づく
洗浄装置は、ディスクの２つの異なる半径に沿在して１
８０°離れて一直線に並べられるような２つのローラー
セットを用いる。一方のローラーセットが基板の回転を
駆動し、他方のローラーセットが基板の表面をスクラブ
する。１実施例において、外径ローラーセットはスピン
フリー（スピンしない）であり、スクラブサイクル中に
ディスクの外径と接するような位置に置かれる。外径ロ
ーラーがスピンフリーであるので、ディスクとローラー
が噛み合わずにずれが発生するということがなく、その
結果としてディスクがローラーを損傷することがない。
別の実施例においては、外径ローラーはディスクが回転
する速度と同一の速度で回転する。それに加えて、駆動
ローラー及びスクラビングローラーを回転させることに
よってディスクを装填位置まで引き込む。駆動ローラー
及びスクラビングローラーの回転を反転させてディスク
を取り出すことも可能である。別の実施例においては、
駆動ローラー及びスクラビングローラーは同一方向に回
転し続け、外径ローラーはディスクを取り出すために離
隔する。装填中及び取出し中には駆動ローラー及びスク
ラビングローラーはディスクから離隔しないので、ディ
スクはスクラブ位置へ強制的に出し入れされる。従って
ディスクがローラーに貼着することはない。
洗浄装置は、ディスクの２つの異なる半径に沿在して１
８０°離れて一直線に並べられるような２つのローラー
セットを用いる。一方のローラーセットが基板の回転を
駆動し、他方のローラーセットが基板の表面をスクラブ
する。１実施例において、外径ローラーセットはスピン
フリー（スピンしない）であり、スクラブサイクル中に
ディスクの外径と接するような位置に置かれる。外径ロ
ーラーがスピンフリーであるので、ディスクとローラー
が噛み合わずにずれが発生するということがなく、その
結果としてディスクがローラーを損傷することがない。
別の実施例においては、外径ローラーはディスクが回転
する速度と同一の速度で回転する。それに加えて、駆動
ローラー及びスクラビングローラーを回転させることに
よってディスクを装填位置まで引き込む。駆動ローラー
及びスクラビングローラーの回転を反転させてディスク
を取り出すことも可能である。別の実施例においては、
駆動ローラー及びスクラビングローラーは同一方向に回
転し続け、外径ローラーはディスクを取り出すために離
隔する。装填中及び取出し中には駆動ローラー及びスク
ラビングローラーはディスクから離隔しないので、ディ
スクはスクラブ位置へ強制的に出し入れされる。従って
ディスクがローラーに貼着することはない。
【０００９】従って、本発明の１実施例に基づいた小型
ディスクのような基板を洗浄するための装置は、第１ロ
ーラー及び第２ローラーを有する第１ローラーセットを
備える。第１ローラー及び第２ローラーは各々回転軸を
有し、第１ローラー回転軸と第２ローラー回転軸は垂直
である。基板が装填される時、第１ローラー回転軸及び
第２ローラー回転軸は基板を挟んで反対側に位置する。
洗浄装置は、第３ローラー及び第４ローラーを有する第
２ローラーセットを更に備える。第３ローラー及び第４
ローラーは各々回転軸を有し、第３ローラー回転軸と第
４ローラー回転軸は垂直である。基板が装填される時、
第３ローラー回転軸及び第４ローラー回転軸は基板を挟
んで反対側に位置する。洗浄装置はまた、少なくとも１
個の外径ローラーを備える。外径ローラーはスピンフリ
ーであり、第１ローラー回転軸に垂直な回転軸を有す
る。外径ローラーは、基板が装填される時に基板の外径
に接するような位置に置かれる。ローラーは、ブラシ材
料またはパッド材料が周着される。第１ローラー及び第
２ローラーには少なくとも１個のモータが連結され、第
３ローラー及び第４ローラーには別の少なくとも１個の
モータが連結される。
ディスクのような基板を洗浄するための装置は、第１ロ
ーラー及び第２ローラーを有する第１ローラーセットを
備える。第１ローラー及び第２ローラーは各々回転軸を
有し、第１ローラー回転軸と第２ローラー回転軸は垂直
である。基板が装填される時、第１ローラー回転軸及び
第２ローラー回転軸は基板を挟んで反対側に位置する。
洗浄装置は、第３ローラー及び第４ローラーを有する第
２ローラーセットを更に備える。第３ローラー及び第４
ローラーは各々回転軸を有し、第３ローラー回転軸と第
４ローラー回転軸は垂直である。基板が装填される時、
第３ローラー回転軸及び第４ローラー回転軸は基板を挟
んで反対側に位置する。洗浄装置はまた、少なくとも１
個の外径ローラーを備える。外径ローラーはスピンフリ
ーであり、第１ローラー回転軸に垂直な回転軸を有す
る。外径ローラーは、基板が装填される時に基板の外径
に接するような位置に置かれる。ローラーは、ブラシ材
料またはパッド材料が周着される。第１ローラー及び第
２ローラーには少なくとも１個のモータが連結され、第
３ローラー及び第４ローラーには別の少なくとも１個の
モータが連結される。
【００１０】第１ローラーセット及び第２ローラーセッ
トは、基板が装填される時に、第１ローラーセットが基
板の第１半径方向に延在し、第２ローラーセットが第２
半径方向に延在するような位置に置かれる。基板におい
て、第１半径は第２半径から１８０°離れている。それ
に加えて、第１ローラーセット及び第２ローラーセット
と、第３ローラーセット及び第４ローラーセットは、基
板全体が洗浄されるように、基板のほぼ中心から前記基
板の外径をはみ出すまで延在する。第１ローラーセット
及び第２ローラーセットは、基板にかける圧力を増減さ
せるために可動式のホルダーに取り付けられる。また、
第１ローラーセット及び第２ローラーセットの回転速度
も可変である。
トは、基板が装填される時に、第１ローラーセットが基
板の第１半径方向に延在し、第２ローラーセットが第２
半径方向に延在するような位置に置かれる。基板におい
て、第１半径は第２半径から１８０°離れている。それ
に加えて、第１ローラーセット及び第２ローラーセット
と、第３ローラーセット及び第４ローラーセットは、基
板全体が洗浄されるように、基板のほぼ中心から前記基
板の外径をはみ出すまで延在する。第１ローラーセット
及び第２ローラーセットは、基板にかける圧力を増減さ
せるために可動式のホルダーに取り付けられる。また、
第１ローラーセット及び第２ローラーセットの回転速度
も可変である。
【００１１】洗浄装置は、基板を第１ローラーセット及
び第２ローラーセットまで持ち上げるように置かれたリ
フトアームをも有する。リフトアームは、基板が嵌着す
るようなＶ字型溝を有する。リフトアームはＶ字型溝の
底部の切欠きを更に有し、切欠き用いることによって、
基板が第１ローラーセットと第２ローラーセットとの間
に装填される時に、基板が確実に水平に置かれるように
する。
び第２ローラーセットまで持ち上げるように置かれたリ
フトアームをも有する。リフトアームは、基板が嵌着す
るようなＶ字型溝を有する。リフトアームはＶ字型溝の
底部の切欠きを更に有し、切欠き用いることによって、
基板が第１ローラーセットと第２ローラーセットとの間
に装填される時に、基板が確実に水平に置かれるように
する。
【００１２】本発明の別の実施例に基づけば、基板を洗
浄する方法は、第１組のローラーを反転させる過程と、
第２組のローラーを反転させる過程と、第１組のローラ
ーが基板を挟んで対向して両面を押し付け、第２組のロ
ーラーも基板を挟んで対向して両面を押し付けるような
第１組のローラーと第２組のローラーとの間に基板を装
填する過程と、第１組のローラーを用いて基板を基板面
において回転させる過程と、第２組のローラーを用いて
基板を挟んで対向して基板を両面からスクラブする過程
とを含む。基板を装填する過程は、第１組のローラー及
び第２組のローラーへ基板を持ち上げる過程と、少なく
とも１個のスピンフリーローラーに対して押し付けられ
るような基板の外径を用いて第１組のローラーと第２組
のローラーとの間の位置に基板を引き込む過程とを含
み、後者の過程においては第１組のローラー及び第２組
のローラーの回転が基板を位置に引き込む。基板を取り
出す過程は、第１組のローラー及び第２組のローラーの
回転を反転することによって第１組のローラーと第２組
のローラーと間から基板を押す過程と、第１組のローラ
ー及び第２組のローラーから基板を降下させる過程とを
含む。別の実施例では、基板を取り出す過程は、第１組
のローラー及び第２組のローラーを回転させ続ける間に
基板の外径に接するような少なくとも２個のスピンフリ
ーローラーを離隔する過程を含む。
浄する方法は、第１組のローラーを反転させる過程と、
第２組のローラーを反転させる過程と、第１組のローラ
ーが基板を挟んで対向して両面を押し付け、第２組のロ
ーラーも基板を挟んで対向して両面を押し付けるような
第１組のローラーと第２組のローラーとの間に基板を装
填する過程と、第１組のローラーを用いて基板を基板面
において回転させる過程と、第２組のローラーを用いて
基板を挟んで対向して基板を両面からスクラブする過程
とを含む。基板を装填する過程は、第１組のローラー及
び第２組のローラーへ基板を持ち上げる過程と、少なく
とも１個のスピンフリーローラーに対して押し付けられ
るような基板の外径を用いて第１組のローラーと第２組
のローラーとの間の位置に基板を引き込む過程とを含
み、後者の過程においては第１組のローラー及び第２組
のローラーの回転が基板を位置に引き込む。基板を取り
出す過程は、第１組のローラー及び第２組のローラーの
回転を反転することによって第１組のローラーと第２組
のローラーと間から基板を押す過程と、第１組のローラ
ー及び第２組のローラーから基板を降下させる過程とを
含む。別の実施例では、基板を取り出す過程は、第１組
のローラー及び第２組のローラーを回転させ続ける間に
基板の外径に接するような少なくとも２個のスピンフリ
ーローラーを離隔する過程を含む。
【００１３】基板を洗浄する方法は、第１組のローラー
及び第２組のローラーのうち少なくとも１つによって加
えられる圧力を調整することによって、または第１組の
ローラー及び第２組のローラーのうち少なくとも１つの
回転速度を変化させることによって、基板の回転速度を
制御する過程を含む。
及び第２組のローラーのうち少なくとも１つによって加
えられる圧力を調整することによって、または第１組の
ローラー及び第２組のローラーのうち少なくとも１つの
回転速度を変化させることによって、基板の回転速度を
制御する過程を含む。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の実施例に基づく洗浄装置
は、スクラビングローラーの回転を用いて基板を装填位
置または取出し位置へ動かし、スクラビングサイクル中
に基板を回転させる。従って、基板が例えば小型ディス
クであれば、基板は都合のよいことに外径（トップ）ロ
ーラーを損傷することはなく、また装填中や取出し中に
基板がスクラビングローラーに貼着したりすることもな
い。本発明は、磁気メモリディスク及び光磁気メモリデ
ィスク等の好適な型の基板と共に用いられることを理解
されたい。
は、スクラビングローラーの回転を用いて基板を装填位
置または取出し位置へ動かし、スクラビングサイクル中
に基板を回転させる。従って、基板が例えば小型ディス
クであれば、基板は都合のよいことに外径（トップ）ロ
ーラーを損傷することはなく、また装填中や取出し中に
基板がスクラビングローラーに貼着したりすることもな
い。本発明は、磁気メモリディスク及び光磁気メモリデ
ィスク等の好適な型の基板と共に用いられることを理解
されたい。
【００１５】図３、図４、及び図５は各々、ディスク１
０１として示される基板が本発明の実施例に基づいて２
つのスクラビングローラーセット１０２と１０４の間に
装填されているような洗浄装置１００の正面図、側面
図、及び上面図である。セット１０２、１０４は各２個
のローラーを有し、ローラーは合計で４個である。セッ
ト１０２はローラー１０６、１０７を有し、各ローラー
はディスク１０１の反対側に接触し、洗浄中にディスク
１０１の回転を駆動するために用いられる。セット１０
４はローラー１０８、１０９を有し、これらのローラー
もディスク１０１の反対側に接触し、サイクル中にディ
スク１０１をスクラブするために用いられる。図３では
ローラー１０４及び１０５は視界から隠れており、図４
ではローラー１０２及び１０４が視界から隠れているこ
とを理解されたい。洗浄装置１００は、スピンフリーロ
ーラーであるようなトップローラー１１０、１１２と、
ディスク１０１の装填及び取出し中に用いられるリフト
アーム１１４をも有する。
０１として示される基板が本発明の実施例に基づいて２
つのスクラビングローラーセット１０２と１０４の間に
装填されているような洗浄装置１００の正面図、側面
図、及び上面図である。セット１０２、１０４は各２個
のローラーを有し、ローラーは合計で４個である。セッ
ト１０２はローラー１０６、１０７を有し、各ローラー
はディスク１０１の反対側に接触し、洗浄中にディスク
１０１の回転を駆動するために用いられる。セット１０
４はローラー１０８、１０９を有し、これらのローラー
もディスク１０１の反対側に接触し、サイクル中にディ
スク１０１をスクラブするために用いられる。図３では
ローラー１０４及び１０５は視界から隠れており、図４
ではローラー１０２及び１０４が視界から隠れているこ
とを理解されたい。洗浄装置１００は、スピンフリーロ
ーラーであるようなトップローラー１１０、１１２と、
ディスク１０１の装填及び取出し中に用いられるリフト
アーム１１４をも有する。
【００１６】図３に示されるように、駆動ローラーセッ
ト１０２及びスクラビングローラーセット１０４は、デ
ィスク１０１のほぼ中心からディスク１０１の外径をは
み出すまで半径に沿ってディスク１０１に接する。図３
に見られるように、ディスク１０１は一般的に中心に孔
１０１ａを有する。従って、ローラー１０６〜１０９は
ディスク１０１の中心においてディスク１０１に接する
のではなく、孔１０１ａによって形成される内径からデ
ィスク１０１の外径までにおいてディスク１０１に接す
る必要がある。２つのセット１０２、１０４は、１８０
°離れた２つの半径上にほぼ一直線に並べられる。当
然、２つのローラーセット１０２、１０４は、ディスク
１０１上に正確に一直線に並べられる必要はないが、２
つのローラーセット１０２、１０４が半径内で接近して
一直線に並べられれば、ディスク１０１はより安定して
保持される。従って、洗浄装置１００が25.4 mm（１イ
ンチ）のディスクをスクラブするために用いられる場合
には、各ローラー１０６〜１０９の長さは約25.4 mm、
直径は約25.4 mmである。ローラー１０６〜１０９は、
例えば外径が16.5 mm、内径が4.5 mm、長さが12.7 mmで
あり、カリフォルニア州サクラメントにあるRippey, In
c.社によって製造されるＰＶＡ−６７のようなＰＶＡブ
ラシローラーから製造される。図３及び図５のブロック
１２０及び１２２に概略的に示されるように、各ローラ
ー１０６、１０７、１０８、１０９は、各々軸１１６、
１１７、１１８、１１９に取り付けられ、モータによっ
て駆動される。
ト１０２及びスクラビングローラーセット１０４は、デ
ィスク１０１のほぼ中心からディスク１０１の外径をは
み出すまで半径に沿ってディスク１０１に接する。図３
に見られるように、ディスク１０１は一般的に中心に孔
１０１ａを有する。従って、ローラー１０６〜１０９は
ディスク１０１の中心においてディスク１０１に接する
のではなく、孔１０１ａによって形成される内径からデ
ィスク１０１の外径までにおいてディスク１０１に接す
る必要がある。２つのセット１０２、１０４は、１８０
°離れた２つの半径上にほぼ一直線に並べられる。当
然、２つのローラーセット１０２、１０４は、ディスク
１０１上に正確に一直線に並べられる必要はないが、２
つのローラーセット１０２、１０４が半径内で接近して
一直線に並べられれば、ディスク１０１はより安定して
保持される。従って、洗浄装置１００が25.4 mm（１イ
ンチ）のディスクをスクラブするために用いられる場合
には、各ローラー１０６〜１０９の長さは約25.4 mm、
直径は約25.4 mmである。ローラー１０６〜１０９は、
例えば外径が16.5 mm、内径が4.5 mm、長さが12.7 mmで
あり、カリフォルニア州サクラメントにあるRippey, In
c.社によって製造されるＰＶＡ−６７のようなＰＶＡブ
ラシローラーから製造される。図３及び図５のブロック
１２０及び１２２に概略的に示されるように、各ローラ
ー１０６、１０７、１０８、１０９は、各々軸１１６、
１１７、１１８、１１９に取り付けられ、モータによっ
て駆動される。
【００１７】図３及び図５に示されるように、モータ１
２０は駆動ローラーセット１０２の２個のローラー１０
６、１０７の回転を駆動し、モータ１２２は駆動ローラ
ーセット１０４の２個のローラー１０８、１０９の回転
を駆動する。しかしながら、別の実施例では、それぞれ
個別のモータが個別のローラーを制御する。モータ１２
０、１２２とローラー１０６〜１０９との間の連動装置
が軸１１６〜１１９への直接的な連動装置として示され
る一方で、ケーブル、ギヤ、磁気軸受を含むあらゆる型
式の駆動系統が用いられることを理解されたい。モータ
１２０、１２２は、スイスのMaxon Motor社から購入さ
れるような標準ＤＣモータであり、６０：１等のギヤ比
を用いてローラーを駆動する。
２０は駆動ローラーセット１０２の２個のローラー１０
６、１０７の回転を駆動し、モータ１２２は駆動ローラ
ーセット１０４の２個のローラー１０８、１０９の回転
を駆動する。しかしながら、別の実施例では、それぞれ
個別のモータが個別のローラーを制御する。モータ１２
０、１２２とローラー１０６〜１０９との間の連動装置
が軸１１６〜１１９への直接的な連動装置として示され
る一方で、ケーブル、ギヤ、磁気軸受を含むあらゆる型
式の駆動系統が用いられることを理解されたい。モータ
１２０、１２２は、スイスのMaxon Motor社から購入さ
れるような標準ＤＣモータであり、６０：１等のギヤ比
を用いてローラーを駆動する。
【００１８】都合のよいことに、スクラビング位置にお
いてローラー１０６〜１０９を動作させたりセットした
りすることによって、洗浄装置１００においてディスク
１０１が装填されたり取り出されたりする。すなわち、
装填中及び取出し中にはローラー１０６〜１０９はディ
スク１０１から離隔したり接近したりしない。ディスク
１０１の装填中に、ディスク１０１はリフトアーム１１
４の上に載せられ、図３の矢印１２４、１２５及び図４
の矢印１２６、１２７によって示される方向に回転する
ようなローラー１０６〜１０９の位置まで上昇する。デ
ィスク１０１の外径がトップローラー１１０及び１１２
に接するまで、ディスク１０１はローラー１０６〜１０
９の回転力によって引き上げられる。
いてローラー１０６〜１０９を動作させたりセットした
りすることによって、洗浄装置１００においてディスク
１０１が装填されたり取り出されたりする。すなわち、
装填中及び取出し中にはローラー１０６〜１０９はディ
スク１０１から離隔したり接近したりしない。ディスク
１０１の装填中に、ディスク１０１はリフトアーム１１
４の上に載せられ、図３の矢印１２４、１２５及び図４
の矢印１２６、１２７によって示される方向に回転する
ようなローラー１０６〜１０９の位置まで上昇する。デ
ィスク１０１の外径がトップローラー１１０及び１１２
に接するまで、ディスク１０１はローラー１０６〜１０
９の回転力によって引き上げられる。
【００１９】図４に示すように、トップローラー１１
０、１１２は、ディスク１０１の装填中にディスク１０
１の外径が嵌挿されるようなＶ字型溝を有する。トップ
ローラー１１０、１１２は、約10.8 mmの幅Ｗ110、約15
mmの外径ＯＤ110、及び約8.28mmの内径ＩＤ110（Ｖ字
の内側）を有する。トップローラー１１０、１１２は、
デルリンＴＭのようなプラスチックまたは別の好適な材
料から製造される。トップローラー１１０、１１２の中
心線は、ローラー１０６〜１０９の中心線より約12.7 m
mの高さＨCLほど上方に位置し、約18 mmの距離ＤCLだけ
離れている。トップローラー１１０、１１２の正確なサ
イズ及び位置は変えられるが、トップローラー１１０、
１１２は十分大きいサイズで且つ装填中にディスク１０
１の外径がローラー１０６〜１０９によってＶ字型溝に
嵌挿されるような位置に置かれるべきであることは理解
されよう。ディスク１０１の中心線または基板面は、デ
ィスク１０１の装填時には±0.254 mm程度の精密許容差
内に維持されるべきである。
０、１１２は、ディスク１０１の装填中にディスク１０
１の外径が嵌挿されるようなＶ字型溝を有する。トップ
ローラー１１０、１１２は、約10.8 mmの幅Ｗ110、約15
mmの外径ＯＤ110、及び約8.28mmの内径ＩＤ110（Ｖ字
の内側）を有する。トップローラー１１０、１１２は、
デルリンＴＭのようなプラスチックまたは別の好適な材
料から製造される。トップローラー１１０、１１２の中
心線は、ローラー１０６〜１０９の中心線より約12.7 m
mの高さＨCLほど上方に位置し、約18 mmの距離ＤCLだけ
離れている。トップローラー１１０、１１２の正確なサ
イズ及び位置は変えられるが、トップローラー１１０、
１１２は十分大きいサイズで且つ装填中にディスク１０
１の外径がローラー１０６〜１０９によってＶ字型溝に
嵌挿されるような位置に置かれるべきであることは理解
されよう。ディスク１０１の中心線または基板面は、デ
ィスク１０１の装填時には±0.254 mm程度の精密許容差
内に維持されるべきである。
【００２０】ディスク１０１をスクラブするために、ロ
ーラー１０６〜１０９はトップローラー１１０、１１２
に接するディスク１０１と同一方向に回転し続ける。駆
動ローラーセット１０２はスクラビングローラーセット
１０４が押し付けられる圧力よりも高い圧力でディスク
１０１に押し付けられる。従って、図３の矢印１２４に
よって示されるような、より高い圧力の駆動ローラーセ
ット１０２の回転と、矢印１２８によって示されるよう
なディスク１０１の基板面においてディスク１０１を回
転させるような、より低い圧力のスクラビングローラー
セット１０４の回転とによって、異なる回転力がディス
ク１０１に加えられる。スクラビングローラーセット１
０４は、矢印１２５（図３）及び１２７（図４）によっ
て示される方向に回転し続ける。駆動ローラーセット１
０２はスクラビングローラーセット１０４が押し付けら
れる圧力よりも高い圧力でディスク１０１に押し付けら
れるので、ディスク１０１はスクラビングローラー１０
８と１０９との間を滑らかに動き、それによってディス
クの表面をスクラブする。スクラビングプロセス中にデ
ィスク１０１が回転している間、トップローラー１１
０、１１２はディスク１０１を適所に収容する。トップ
ローラー１１０、１１２はスピンフリーであり、従って
ディスク１０１と共に回転する。トップローラー１１
０、１１２はディスク１０１の回転を駆動しないので、
ディスク１０１がローラー１１０、１１２を損傷するこ
とを防止するようなずれは発生しない。別の実施例で
は、トップローラー１１０、１１２は、ディスク１０１
の外径と同一速度で駆動される。本実施例では、トップ
ローラー１１０、１１２はモータ１０２、１２２によっ
て駆動されるが、ローラー１０６〜１０９を駆動するた
めに用いられるギヤ比とは異なるギヤ比で駆動される。
ーラー１０６〜１０９はトップローラー１１０、１１２
に接するディスク１０１と同一方向に回転し続ける。駆
動ローラーセット１０２はスクラビングローラーセット
１０４が押し付けられる圧力よりも高い圧力でディスク
１０１に押し付けられる。従って、図３の矢印１２４に
よって示されるような、より高い圧力の駆動ローラーセ
ット１０２の回転と、矢印１２８によって示されるよう
なディスク１０１の基板面においてディスク１０１を回
転させるような、より低い圧力のスクラビングローラー
セット１０４の回転とによって、異なる回転力がディス
ク１０１に加えられる。スクラビングローラーセット１
０４は、矢印１２５（図３）及び１２７（図４）によっ
て示される方向に回転し続ける。駆動ローラーセット１
０２はスクラビングローラーセット１０４が押し付けら
れる圧力よりも高い圧力でディスク１０１に押し付けら
れるので、ディスク１０１はスクラビングローラー１０
８と１０９との間を滑らかに動き、それによってディス
クの表面をスクラブする。スクラビングプロセス中にデ
ィスク１０１が回転している間、トップローラー１１
０、１１２はディスク１０１を適所に収容する。トップ
ローラー１１０、１１２はスピンフリーであり、従って
ディスク１０１と共に回転する。トップローラー１１
０、１１２はディスク１０１の回転を駆動しないので、
ディスク１０１がローラー１１０、１１２を損傷するこ
とを防止するようなずれは発生しない。別の実施例で
は、トップローラー１１０、１１２は、ディスク１０１
の外径と同一速度で駆動される。本実施例では、トップ
ローラー１１０、１１２はモータ１０２、１２２によっ
て駆動されるが、ローラー１０６〜１０９を駆動するた
めに用いられるギヤ比とは異なるギヤ比で駆動される。
【００２１】スクラブサイクル中、洗浄装置１００は従
来のスクラブ環境を用いる。従って、例えばアルカリ性
せっけん等を用いる従来のウエット環境は、本発明の属
する技術分野における通常の知識を有する者がよく理解
できるように用いられる。当然、本発明においてはいか
なる望ましい環境も用いられる。
来のスクラブ環境を用いる。従って、例えばアルカリ性
せっけん等を用いる従来のウエット環境は、本発明の属
する技術分野における通常の知識を有する者がよく理解
できるように用いられる。当然、本発明においてはいか
なる望ましい環境も用いられる。
【００２２】スクラブサイクルが終了した後で、ローラ
ーセット１０２、１０４の回転方向は、図３の矢印１３
０、１３２及び図４の矢印１３４、１３６によって示さ
れるような方向に共に反転し、それによってディスク１
０１をローラーの間から押し出し、リフトアーム１１４
に設けられたＶ字型溝１３８へ押し込む。リフトアーム
１１４にＶ字型溝１３８があることにより、ディスク１
０１が好適にリフトアーム１１４に装填されることがよ
り確実になる。それに加えて、リフトアーム１１４は都
合のよいことにＶ字型溝１３８の底部に小さな切欠き１
４０を有する。切欠き１４０の幅は例えば約0.3 mmのよ
うな殆どディスク１０１の幅と同じ幅であって、洗浄装
置１００からディスクを装填及び取出しする間にディス
ク１０１を水平位置に保持する際に補助的な役割をす
る。ディスク１０１が例えば装填中に水平から一定の角
度で傾いてしまうと、ディスク１０１はローラー１０６
〜１０９によって引き上げられるためにディスク１０１
の位置は好適な位置とはならない。従って、切欠き１４
０があることによって、ディスク１０１は洗浄装置１０
０に装填するために好適な位置に保持されることが可能
となる。本実施例は、例えばプロセスカセットが用いら
れるような時、すなわちディスクがリフトアーム１１４
によってカセットから取り出されてスクラブサイクル後
にカセットに戻されるような時に好ましい。上昇位置及
び降下位置へのリフトアーム１１４の動作は、例えばリ
ニアアクチュエータによって制御され、本発明の属する
技術分野における通常の知識を有する者が理解できる範
囲内にある。
ーセット１０２、１０４の回転方向は、図３の矢印１３
０、１３２及び図４の矢印１３４、１３６によって示さ
れるような方向に共に反転し、それによってディスク１
０１をローラーの間から押し出し、リフトアーム１１４
に設けられたＶ字型溝１３８へ押し込む。リフトアーム
１１４にＶ字型溝１３８があることにより、ディスク１
０１が好適にリフトアーム１１４に装填されることがよ
り確実になる。それに加えて、リフトアーム１１４は都
合のよいことにＶ字型溝１３８の底部に小さな切欠き１
４０を有する。切欠き１４０の幅は例えば約0.3 mmのよ
うな殆どディスク１０１の幅と同じ幅であって、洗浄装
置１００からディスクを装填及び取出しする間にディス
ク１０１を水平位置に保持する際に補助的な役割をす
る。ディスク１０１が例えば装填中に水平から一定の角
度で傾いてしまうと、ディスク１０１はローラー１０６
〜１０９によって引き上げられるためにディスク１０１
の位置は好適な位置とはならない。従って、切欠き１４
０があることによって、ディスク１０１は洗浄装置１０
０に装填するために好適な位置に保持されることが可能
となる。本実施例は、例えばプロセスカセットが用いら
れるような時、すなわちディスクがリフトアーム１１４
によってカセットから取り出されてスクラブサイクル後
にカセットに戻されるような時に好ましい。上昇位置及
び降下位置へのリフトアーム１１４の動作は、例えばリ
ニアアクチュエータによって制御され、本発明の属する
技術分野における通常の知識を有する者が理解できる範
囲内にある。
【００２３】本発明の別の実施例では、取出しプロセス
中にトップローラー１１０、１１２は、各々矢印１４
２、１４４によって示される方向に離隔される。ローラ
ー１０６〜１０９は、矢印１２４及び１２５（図３）に
よって示されるように、装填サイクル及びスクラビング
サイクルで回転する方向と同一方向に回転し続け、リフ
トアーム１１４から離隔し、洗浄装置１００からディス
ク１０１を押し出す。本実施例においては、ディスク１
０１の取出しの際にディスク１０１を受け取るため、当
然別のリフトアーム（図示せず）またはそれに相当する
装置が洗浄装置１００の反対側の端に置かれる。本実施
例は、例えばプロセスカセットを使用せずにディスク１
０１が１つのスクラブステーションから次のステーショ
ンへ導かれるようなインラインプロセスに好適である。
中にトップローラー１１０、１１２は、各々矢印１４
２、１４４によって示される方向に離隔される。ローラ
ー１０６〜１０９は、矢印１２４及び１２５（図３）に
よって示されるように、装填サイクル及びスクラビング
サイクルで回転する方向と同一方向に回転し続け、リフ
トアーム１１４から離隔し、洗浄装置１００からディス
ク１０１を押し出す。本実施例においては、ディスク１
０１の取出しの際にディスク１０１を受け取るため、当
然別のリフトアーム（図示せず）またはそれに相当する
装置が洗浄装置１００の反対側の端に置かれる。本実施
例は、例えばプロセスカセットを使用せずにディスク１
０１が１つのスクラブステーションから次のステーショ
ンへ導かれるようなインラインプロセスに好適である。
【００２４】ローラー１０６〜１０９によってディスク
１０１上に加えられる圧力は、ディスク１０１が望まし
い速度で回転するように調整されて加えられる。図６
は、各々ローラー１０６、１０７を保持するために用い
られるローラーホルダー１５０、１５２の側面図を示
す。ローラー１０８、１０９も同様のホルダーに取り付
けられる。スクラビング中、ローラーの中心線は、ロー
ラーの半径と、ディスクの厚さと、ローラーの偏平とを
含めて約7.6 mm離れている。ローラー１０６、１０７が
取り付けられているような軸１１６、１１７は、ホルダ
ー１５０、１５２を介して延在する。図６に示されるよ
うに、モータ１２０から軸１１６、１１７に延在するよ
うなケーブル１５６、１５７を用いてローラー１０６、
１０７を回転させる。各ローラーホルダー１５０、１５
２は各々ポイント１５１、１５３に回転可能に取り付け
られる。スクリュー１５８を調整することによってブラ
シホルダー１５０、１５２がハサミのように動いて開閉
することが可能なように、ローラーホルダー１５０、１
５２は相互にスクリュー１５８または同様の装置を用い
て連結される。従って、駆動ローラー１０６、１０７は
矢印１６０、１６２によって示されるように互いに離れ
たり近づいたりすることが可能であり、ディスク１０１
上で圧力を増加させることが可能である（図３、図４、
及び図５に示される）。
１０１上に加えられる圧力は、ディスク１０１が望まし
い速度で回転するように調整されて加えられる。図６
は、各々ローラー１０６、１０７を保持するために用い
られるローラーホルダー１５０、１５２の側面図を示
す。ローラー１０８、１０９も同様のホルダーに取り付
けられる。スクラビング中、ローラーの中心線は、ロー
ラーの半径と、ディスクの厚さと、ローラーの偏平とを
含めて約7.6 mm離れている。ローラー１０６、１０７が
取り付けられているような軸１１６、１１７は、ホルダ
ー１５０、１５２を介して延在する。図６に示されるよ
うに、モータ１２０から軸１１６、１１７に延在するよ
うなケーブル１５６、１５７を用いてローラー１０６、
１０７を回転させる。各ローラーホルダー１５０、１５
２は各々ポイント１５１、１５３に回転可能に取り付け
られる。スクリュー１５８を調整することによってブラ
シホルダー１５０、１５２がハサミのように動いて開閉
することが可能なように、ローラーホルダー１５０、１
５２は相互にスクリュー１５８または同様の装置を用い
て連結される。従って、駆動ローラー１０６、１０７は
矢印１６０、１６２によって示されるように互いに離れ
たり近づいたりすることが可能であり、ディスク１０１
上で圧力を増加させることが可能である（図３、図４、
及び図５に示される）。
【００２５】ディスク１０１上の圧力は、表面上にマー
クされるような較正ディスクを用いて較正される。較正
ディスクは洗浄装置に装填され、駆動ローラーセット１
０２が較正ディスクを回転させ、スクラビングローラー
セット１０４が較正ディスクをスクラブする。駆動ロー
ラーセット１０２及びスクラビングローラーセット１０
４が較正ディスクに加える圧力が同一であれば、ディス
クは回転しない。駆動ローラーセット１０２によって加
えられる圧力を増加させることによって、較正ディスク
は回転する。駆動ローラーセット１０２によって加えら
れる圧力が大きいほど、較正ディスクは速く回転する。
従って、スクリュー１５８を調整することによってディ
スクの回転速度を制御することができる。スクラブサイ
クル中の適正なディスク回転速度は、例えば１分間当た
り１〜１０回転であるが、当然これは多数のファクター
により変化する。スクラブサイクルは、自主検査によっ
て決定されるような、ディスク１０１を適切に洗浄する
に十分な長さとすべきである。例えば、スクラブサイク
ルは１８秒、装填サイクル及び取出しサイクルは各約４
秒である。
クされるような較正ディスクを用いて較正される。較正
ディスクは洗浄装置に装填され、駆動ローラーセット１
０２が較正ディスクを回転させ、スクラビングローラー
セット１０４が較正ディスクをスクラブする。駆動ロー
ラーセット１０２及びスクラビングローラーセット１０
４が較正ディスクに加える圧力が同一であれば、ディス
クは回転しない。駆動ローラーセット１０２によって加
えられる圧力を増加させることによって、較正ディスク
は回転する。駆動ローラーセット１０２によって加えら
れる圧力が大きいほど、較正ディスクは速く回転する。
従って、スクリュー１５８を調整することによってディ
スクの回転速度を制御することができる。スクラブサイ
クル中の適正なディスク回転速度は、例えば１分間当た
り１〜１０回転であるが、当然これは多数のファクター
により変化する。スクラブサイクルは、自主検査によっ
て決定されるような、ディスク１０１を適切に洗浄する
に十分な長さとすべきである。例えば、スクラブサイク
ルは１８秒、装填サイクル及び取出しサイクルは各約４
秒である。
【００２６】本発明の別の実施例では、駆動ローラーセ
ット１０２及びスクラビングローラーセット１０４は同
一または殆ど同一の圧力をディスク１０１上に加え、ま
た、ディスク１０１は異なった材料から製造されるよう
な２つのセット１０２、１０４によって回転させられ
る。従って、駆動ローラーセット１０２は、スクラビン
グローラーセット１０４と比較して摩擦係数が高い材料
から製造される。本発明の別の実施例では、駆動ローラ
ーセット１０２はスクラビングローラーセット１０４が
回転するよりも速い回転速度で駆動され、これも矢印１
３によって示される方向にディスク１０１を回転させ
る。別の実施例では、駆動ローラーセット１０２及びス
クラビングローラーセット１０４のいずれかまたは両方
は、内径から外径までディスク１０１上に均等に力を分
散させるような円錐形状を有する。当然、実施例を組み
合わせて用いることが好ましければ、そうすることも可
能である。従って、例えば駆動ローラーセット１０２を
異なった材料から製造し、高回転速度で駆動し、スクラ
ビングローラーセット１０４の圧力より高い圧力でディ
スク１０１に対して保持されるようにすることも可能で
ある。
ット１０２及びスクラビングローラーセット１０４は同
一または殆ど同一の圧力をディスク１０１上に加え、ま
た、ディスク１０１は異なった材料から製造されるよう
な２つのセット１０２、１０４によって回転させられ
る。従って、駆動ローラーセット１０２は、スクラビン
グローラーセット１０４と比較して摩擦係数が高い材料
から製造される。本発明の別の実施例では、駆動ローラ
ーセット１０２はスクラビングローラーセット１０４が
回転するよりも速い回転速度で駆動され、これも矢印１
３によって示される方向にディスク１０１を回転させ
る。別の実施例では、駆動ローラーセット１０２及びス
クラビングローラーセット１０４のいずれかまたは両方
は、内径から外径までディスク１０１上に均等に力を分
散させるような円錐形状を有する。当然、実施例を組み
合わせて用いることが好ましければ、そうすることも可
能である。従って、例えば駆動ローラーセット１０２を
異なった材料から製造し、高回転速度で駆動し、スクラ
ビングローラーセット１０４の圧力より高い圧力でディ
スク１０１に対して保持されるようにすることも可能で
ある。
【００２７】本発明は説明目的のために特定の実施例に
関連して説明されているが、本発明は特定の実施例のみ
に限定されるものではない。本発明の範囲を逸脱するこ
となく、種々の適用及び改変を行うことができる。例え
ば、洗浄装置のサイズは、いかなるサイズの基板をも収
容するように改変される。更に、基板を洗浄装置に装填
したりそこから取り出したりするために、種々のリフト
（持ち上げ）機構が用いられる。本発明に基づく洗浄装
置は、ウエット、ドライ、アルカリ性、酸性を含む、い
かなる目的環境においても用いられる。モータから駆動
ローラー及びスクラビングローラーへの駆動系統は、い
かなる望ましい方法においても改変される。結果的に、
そのような改変は全て請求の範囲内においてなされる。
関連して説明されているが、本発明は特定の実施例のみ
に限定されるものではない。本発明の範囲を逸脱するこ
となく、種々の適用及び改変を行うことができる。例え
ば、洗浄装置のサイズは、いかなるサイズの基板をも収
容するように改変される。更に、基板を洗浄装置に装填
したりそこから取り出したりするために、種々のリフト
（持ち上げ）機構が用いられる。本発明に基づく洗浄装
置は、ウエット、ドライ、アルカリ性、酸性を含む、い
かなる目的環境においても用いられる。モータから駆動
ローラー及びスクラビングローラーへの駆動系統は、い
かなる望ましい方法においても改変される。結果的に、
そのような改変は全て請求の範囲内においてなされる。
【００２８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の洗浄装置に
おいては、互いに回転軸が垂直であるような駆動ローラ
ーセット及びスクラビングローラーセットを用いること
から、基板の鋭いエッジが外径に接するローラーを損傷
することがなくなり、また、軽量の小型ディスク等が基
板面においてローラーに貼着することがなくなる。
おいては、互いに回転軸が垂直であるような駆動ローラ
ーセット及びスクラビングローラーセットを用いること
から、基板の鋭いエッジが外径に接するローラーを損傷
することがなくなり、また、軽量の小型ディスク等が基
板面においてローラーに貼着することがなくなる。
【図１】ディスクをクリーニングするような従来の洗浄
装置の正面図を示す。
装置の正面図を示す。
【図２】ディスクをクリーニングするような従来の洗浄
装置の側面図を示す。
装置の側面図を示す。
【図３】本発明の実施例に基づいて１つの駆動ローラー
セットと１つのスクラビングローラーセットとの間にデ
ィスクを装填した洗浄装置の正面図を示す。
セットと１つのスクラビングローラーセットとの間にデ
ィスクを装填した洗浄装置の正面図を示す。
【図４】本発明の実施例に基づいて１つの駆動ローラー
セットと１つのスクラビングローラーセットとの間にデ
ィスクを装填した洗浄装置の側面図を示す。
セットと１つのスクラビングローラーセットとの間にデ
ィスクを装填した洗浄装置の側面図を示す。
【図５】本発明の実施例に基づいて１つの駆動ローラー
セットと１つのスクラビングローラーセットとの間にデ
ィスクを装填した洗浄装置の上面図を示す。
セットと１つのスクラビングローラーセットとの間にデ
ィスクを装填した洗浄装置の上面図を示す。
【図６】ローラーを保持するために、またローラーが基
板に加える圧力を調整するために用いられるようなロー
ラーホルダーの側面図を示す。
板に加える圧力を調整するために用いられるようなロー
ラーホルダーの側面図を示す。
１０ 洗浄装置 １２ ディスク １３ ディスク１２の回転方向を示す矢印 １４、１６ スクラビングローラー １５、１７ ローラー１４の回転方向 １８ ローラー１６の回転方向 ２０ ローラー１４の可動方向 ２２ ローラー１６の可動方向 ２４、２６ 駆動ローラー ２５、２８ ローラー２４の回転方向を示す矢印 ２７ ローラー２６の回転方向を示す矢印 ３０ リフトアーム １００ 洗浄装置 １０１ ディスク １０１ａ 孔 １０２ 駆動ローラーセット １０４ スクラビングローラーセット １０６、１０７ ローラーセット１０２のローラー １０８、１０９ ローラーセット１０４のローラー １１０、１１２ 外径（トップ）ローラー １１４ リフトアーム １１６ ローラー１０６の回転軸 １１７ ローラー１０７の回転軸 １１８ ローラー１０８の回転軸 １１９ ローラー１０９の回転軸 １２０ ローラーセット１０２を駆動するモータ １２２ ローラーセット１０４を駆動するモータ １２４ ローラー１０６の回転方向を示す矢印 １２５、１２６ ローラー１０８の回転方向を示す矢印 １２７ ローラー１０９の回転方向を示す矢印 １２８ ディスク１０１の回転方向を示す矢印 １３０ ローラー１０６の反転方向を示す矢印 １３２、１３４ ローラー１０８の反転方向を示す矢印 １３６ ローラー１０９の反転方向を示す矢印 １３８ Ｖ字型溝 １４０ 切欠き １４２ ローラー１１０の可動方向を示す矢印 １４４ ローラー１１２の可動方向を示す矢印 １５０、１５２ ホルダー １５６、１５７ ケーブル １５８ スクリュー １６０ ローラー１０６の可動方向を示す矢印 １６２ ローラー１０７の可動方向を示す矢印
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヨハン・エフ・アダム アメリカ合衆国カリフォルニア州94304・ パロアルト・アパートメント711・ウェル チロード 1170 (72)発明者 エバン・エフ・クロムウェル アメリカ合衆国カリフォルニア州94062・ レッドウッドシティー・ビスタドライブ 820 Ｆターム(参考） 3B116 AA03 AB33 BA02 BA03 BA12 5D112 AA02 AA24 GA08
Claims (25)
- 【請求項１】 基板を洗浄するための装置であって、前
記装置が、 前記第１ローラーが前記第１ローラーの回転軸を有し、
前記第２ローラーが前記第２ローラーの回転軸を有する
ような第１ローラー及び第２ローラーを有する第１ロー
ラーセットを備え、前記第１ローラーの回転軸及び前記
第２ローラーの回転軸が平行であり、前記第１ローラー
と前記第２ローラーの間に基板が装填される時に前記第
１ローラー及び前記第２ローラーが前記基板を挟んで反
対側に位置し、 前記第３ローラーが前記第３ローラーの回転軸を有し、
前記第４ローラーが前記第４ローラーの回転軸を有する
ような第３ローラー及び第４ローラーを有する第２ロー
ラーセットを備え、前記第３ローラーの回転軸及び前記
第４ローラーの回転軸が平行であり、前記第１ローラー
の回転軸と前記第３ローラーの回転軸が平行であり、前
記第２ローラーの回転軸と前記第４ローラーの回転軸が
平行であり、前記第３ローラーと前記第４ローラーの間
に基板が装填される時に前記第３ローラー及び前記第４
ローラーが前記基板を挟んで反対側に位置し、 前記第１ローラーの回転軸に垂直であるような回転軸を
有する外径ローラーを少なくとも１個備え、前記第１ロ
ーラーと前記第２ローラーの間及び前記第３ローラーと
前記第４ローラーの間に基板が装填される時に、前記基
板の外径が少なくとも１個の外径ローラーに接すること
を特徴とする装置。 - 【請求項２】 前記第１ローラー、前記第２ローラー、
前記第３ローラー、及び前記第４ローラーにブラシ材料
が周着されることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 前記第１ローラー、前記第２ローラー、
前記第３ローラー、及び前記第４ローラーにパッド材料
が周着されることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項４】 前記第１ローラー及び前記第２ローラー
に連結されるような少なくとも１個のモータと、 前記第３ローラー及び前記第４ローラーに連結されるよ
うな少なくとも１個の第２のモータとを更に有し、 前記少なくとも１個のモータが前記第１ローラー及び前
記第２ローラーの回転を駆動し、前記少なくとも１個の
第２のモータが前記第３ローラー及び前記第４ローラー
の回転を駆動することを特徴とする請求項１に記載の装
置。 - 【請求項５】 前記第１ローラー及び前記第２ローラー
に連結されるような前記少なくとも１個のモータが、前
記第１ローラーに連結されるような第１モータと、前記
第２ローラーに連結されるような第２モータとからな
り、前記第３ローラー及び前記第４ローラーに連結され
るような前記少なくとも１個の第２のモータが、前記第
３ローラーに連結されるような第３モータと、前記第４
ローラーに連結されるような第４モータとからなること
を特徴とする請求項４に記載の装置。 - 【請求項６】 前記第１ローラーと前記第２ローラーと
の間及び前記第３ローラーと前記第４ローラーとの間に
基板が装填される時に、前記第１ローラーセットが前記
基板の第１半径方向に延在し、前記第２ローラーセット
が前記基板の第２半径方向に延在し、前記第１半径が前
記第２半径から１８０°離隔していることを特徴とする
請求項１に記載の装置。 - 【請求項７】 前記第１ローラーセット及び前記第２ロ
ーラーセットが、前記基板のほぼ中心から前記基板の外
径をはみ出すまで延在することを特徴とする請求項６に
記載の装置。 - 【請求項８】 前記第１ローラーセット及び前記第２ロ
ーラーセットの下に位置するようなリフトアームを更に
有し、前記リフトアームが前記第１ローラーと前記第２
ローラーとの間及び前記第３ローラーと前記第４ローラ
ーとの間に基板を装填することを特徴とする請求項１に
記載の装置。 - 【請求項９】 前記リフトアームが、前記基板を嵌着す
るためのＶ字型溝と、前記Ｖ字型溝の底部の切欠きから
なることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項１０】 前記第１ローラーに取り付けられる第
１ローラーホルダーと、前記第２ローラーに取り付けら
れる第２ローラーホルダーとを更に有し、 前記第１ローラーホルダー及び前記第２ローラーホルダ
ーが、前記第１ローラーと前記第２ローラーとを互いに
接近させたり離隔したりするために可動式に連結される
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項１１】 前記第１ローラーと前記第２ローラー
との間及び前記第３ローラーと前記第４ローラーとの間
に基板が装填される時に、前記第１ローラーセットによ
って前記基板に加えられる圧力が前記第２ローラーセッ
トによって前記基板に加えられる圧力より高くなるよう
に、前記第１ローラーの回転軸と前記第２ローラーの回
転軸が、前記第３ローラーの回転軸と前記第４ローラー
の回転軸よりも相互に接近していることを特徴とする請
求項１に記載の装置。 - 【請求項１２】 前記第１ローラーと前記第２ローラー
との間及び前記第３ローラーと前記第４ローラーとの間
に基板が装填される時に、前記第２ローラーセットが回
転するより速く前記第１ローラーセットが回転すること
を特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項１３】 各々前記第１ローラーの回転軸に垂直
な回転軸を有する２個の外径ローラーを有し、前記２個
の外径ローラーの間から基板を取り出すことができるよ
うに、前記外径ローラーが互いに接近したり離隔したり
することが可能であることを特徴とする請求項１に記載
の装置。 - 【請求項１４】 前記少なくとも１個の外径ローラーが
スピンフリー（スピンしない）であることを特徴とする
請求項１に記載の装置。 - 【請求項１５】 基板を洗浄する方法であって、前記方
法が、 第１組のローラーを反転させる過程と、 第２組のローラーを反転させる過程と、 前記第１組のローラーが前記基板を挟んで対向して基板
を両面から押し付け、前記第２組のローラーも前記基板
を挟んで対向して基板を両面から押し付けるような、前
記第１組のローラーの間及び前記第２組のローラーの間
に基板を装填する過程と、 前記基板の基板面において前記第１組のローラーを用い
て前記基板を回転させる過程と、 前記基板を挟んで対向して基板を両面から前記第２組の
ローラーを用いてスクラブする過程とからなることを特
徴とする方法。 - 【請求項１６】 前記基板を装填する過程が、 前記第１組のローラー及び前記第２組のローラーまで前
記基板を持ち上げる過程と、 前記第１組のローラー及び前記第２組のローラーに直交
して位置するような少なくとも１個のローラーに前記基
板の外径が押し付けられながら、前記第１組のローラー
の回転及び前記第２組のローラーの回転によって前記第
１組のローラーの間と前記第２組のローラーとの間の位
置に前記基板を引き込む過程とからなることを特徴とす
る請求項１５に記載の方法。 - 【請求項１７】 前記第１組のローラーの間及び前記第
２組のローラーの間から前記基板を取り出す過程を更に
有し、前記基板を取り出す過程が、 前記第１組のローラーの回転方向及び前記第２組のロー
ラーの回転方向を反転させることによって、前記第１組
のローラーの間及び前記第２組のローラーの間から前記
基板を引き出す過程と、 前記第１組のローラー及び前記第２組のローラーから前
記基板を降下させる過程とを含むことを特徴とする請求
項１６に記載の方法。 - 【請求項１８】 前記第１組のローラーを反転させ続
け、また前記第２組のローラーを反転させ続ける間に、
前記基板の前記外径に接するような、前記第１組のロー
ラー及び前記第２組のローラーに直交して位置するよう
な少なくとも２個のローラーを離隔することによって、
前記第１組のローラーの間及び前記第２組のローラーの
間から前記基板を取り出す過程を更に有することを特徴
とする請求項１５に記載の方法。 - 【請求項１９】 前記基板の前記基板面において前記基
板の回転速度を制御する過程を更に有することを特徴と
する請求項１５に記載の方法。 - 【請求項２０】 前記基板の回転速度を制御する過程
が、前記第１組のローラー及び前記第２組のローラーの
うち少なくとも１組によって前記基板上の圧力を調整す
る過程からなることを特徴とする請求項１９に記載の方
法。 - 【請求項２１】 前記基板の回転速度を制御する過程
が、前記第１組のローラー及び前記第２組のローラーの
うち少なくとも１組の回転速度を変化させる過程からな
ることを特徴とする請求項１９に記載の方法。 - 【請求項２２】 基板を洗浄するための洗浄装置であっ
て、前記洗浄装置が、 前記基板を挟んで対向する両面に押し付けられるような
１組の駆動ローラーと、 前記基板を挟んで対向する両面に押し付けられるような
１組のスクラビングローラーと、 前記基板の前記外径に接するような、前記第１組のロー
ラー及び前記第２組のローラーに直交して位置するよう
な少なくとも１個のローラーとからなり、 前記基板の前記基板面内で前記１組の駆動ローラーが前
記基板の回転を駆動し、 前記基板の前記基板面内で前記基板が回転する間に、前
記１組のスクラビングローラーが前記基板を挟んで対向
して前記基板を両面からスクラブすることを特徴とする
洗浄装置。 - 【請求項２３】 前記１組の駆動ローラーが前記基板の
第１半径にほぼ沿在するように並べられ、前記１組のス
クラビングローラーが前記基板の第２半径にほぼ沿在す
るように並べられることを特徴とする請求項２１に記載
の洗浄装置。 - 【請求項２４】 前記第１半径と前記第２半径とが約１
８０°離隔していることを特徴とする請求項２３に記載
の洗浄装置。 - 【請求項２５】 前記基板を前記１組の駆動ローラー及
び前記１組のスクラビングローラーまで持ち上げるため
のリフトアームを更に有することを特徴とする請求項２
２に記載の洗浄装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/556813 | 2000-04-21 | ||
| US09/556,813 US6438781B1 (en) | 2000-04-21 | 2000-04-21 | Washer for cleaning substrates |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002001238A true JP2002001238A (ja) | 2002-01-08 |
Family
ID=24222964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001123773A Withdrawn JP2002001238A (ja) | 2000-04-21 | 2001-04-23 | 基板をクリーニングするための洗浄装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6438781B1 (ja) |
| JP (1) | JP2002001238A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010231861A (ja) * | 2009-03-28 | 2010-10-14 | Hoya Corp | 磁気記録ディスク用洗浄装置 |
| CN102479669A (zh) * | 2010-11-29 | 2012-05-30 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 晶片毛刷清洗装置及晶片毛刷清洗方法 |
| KR20150061731A (ko) * | 2013-11-28 | 2015-06-05 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 세정 장치 |
| JP2015162258A (ja) * | 2014-02-27 | 2015-09-07 | 株式会社太陽 | ハードディスク基板の洗浄装置 |
| JP2015233091A (ja) * | 2014-06-10 | 2015-12-24 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置 |
| US20220262620A1 (en) * | 2015-09-30 | 2022-08-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Post-CMP Cleaning and Apparatus |
| JP7481198B2 (ja) | 2020-08-20 | 2024-05-10 | 株式会社ディスコ | ウェーハ清掃装置、及び保持面清掃装置 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE60033811T2 (de) * | 2000-09-08 | 2007-11-15 | Qimonda Dresden Gmbh & Co. Ohg | Wafer-Reinigungsvorrichtung |
| US8172954B2 (en) * | 2002-10-10 | 2012-05-08 | Seagate Technology Llc | Apparatus for simultaneous two-disk scrubbing and washing |
| US20080216867A1 (en) * | 2005-04-25 | 2008-09-11 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for cleaning an edge of a substrate |
| US20070095367A1 (en) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Yaxin Wang | Apparatus and method for atomic layer cleaning and polishing |
| JP5775383B2 (ja) * | 2011-06-30 | 2015-09-09 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄方法 |
| JP6875154B2 (ja) * | 2017-03-06 | 2021-05-19 | 株式会社荏原製作所 | セルフクリーニング装置、基板処理装置、および洗浄具のセルフクリーニング方法 |
| CN111640692B (zh) * | 2020-04-26 | 2023-10-10 | 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 | 一种晶圆的清洗辅助装置及清洗装置 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1181133B (it) * | 1984-10-25 | 1987-09-23 | Int Supplies Co Srl | Apparecchiatura di comando e controllo per macchine pulitrici di schede e fogli sottili, destinati alla fabbricazione di circuiti stampati e di parti metalliche ottenute per tranciatura chimica |
| US5375291A (en) * | 1992-05-18 | 1994-12-27 | Tokyo Electron Limited | Device having brush for scrubbing substrate |
| JP2888412B2 (ja) * | 1994-07-04 | 1999-05-10 | 信越半導体株式会社 | ブラシ洗浄装置及びワーク洗浄システム |
| US6003185A (en) * | 1994-07-15 | 1999-12-21 | Ontrak Systems, Inc. | Hesitation free roller |
| US5675856A (en) | 1996-06-14 | 1997-10-14 | Solid State Equipment Corp. | Wafer scrubbing device |
| US5875507A (en) | 1996-07-15 | 1999-03-02 | Oliver Design, Inc. | Wafer cleaning apparatus |
| US5725414A (en) * | 1996-12-30 | 1998-03-10 | Intel Corporation | Apparatus for cleaning the side-edge and top-edge of a semiconductor wafer |
| US5933902A (en) * | 1997-11-18 | 1999-08-10 | Frey; Bernhard M. | Wafer cleaning system |
| US5894622A (en) * | 1997-12-31 | 1999-04-20 | International Business Machines Corporation | Brush conditioner wing |
| US6070284A (en) * | 1998-02-04 | 2000-06-06 | Silikinetic Technology, Inc. | Wafer cleaning method and system |
| JP2000024601A (ja) * | 1998-07-09 | 2000-01-25 | Speedfam Clean System Kk | ディスク形ワークの洗浄装置 |
| DE19901162C2 (de) * | 1999-01-14 | 2002-03-14 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von Halbleiterscheiben |
| US6427566B1 (en) * | 2000-03-31 | 2002-08-06 | Lam Research Corporation | Self-aligning cylindrical mandrel assembly and wafer preparation apparatus including the same |
-
2000
- 2000-04-21 US US09/556,813 patent/US6438781B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-04-23 JP JP2001123773A patent/JP2002001238A/ja not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-06-14 US US10/173,382 patent/US6544343B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010231861A (ja) * | 2009-03-28 | 2010-10-14 | Hoya Corp | 磁気記録ディスク用洗浄装置 |
| CN102479669A (zh) * | 2010-11-29 | 2012-05-30 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 晶片毛刷清洗装置及晶片毛刷清洗方法 |
| CN102479669B (zh) * | 2010-11-29 | 2013-09-11 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 晶片毛刷清洗装置及晶片毛刷清洗方法 |
| KR20150061731A (ko) * | 2013-11-28 | 2015-06-05 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 세정 장치 |
| KR102171900B1 (ko) | 2013-11-28 | 2020-10-30 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 세정 장치 |
| JP2015162258A (ja) * | 2014-02-27 | 2015-09-07 | 株式会社太陽 | ハードディスク基板の洗浄装置 |
| JP2015233091A (ja) * | 2014-06-10 | 2015-12-24 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置 |
| US10002778B2 (en) | 2014-06-10 | 2018-06-19 | Ebara Corporation | Substrate cleaning apparatus |
| US20220262620A1 (en) * | 2015-09-30 | 2022-08-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Post-CMP Cleaning and Apparatus |
| US11728157B2 (en) * | 2015-09-30 | 2023-08-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Post-CMP cleaning and apparatus |
| JP7481198B2 (ja) | 2020-08-20 | 2024-05-10 | 株式会社ディスコ | ウェーハ清掃装置、及び保持面清掃装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6544343B2 (en) | 2003-04-08 |
| US6438781B1 (en) | 2002-08-27 |
| US20020153026A1 (en) | 2002-10-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002001238A (ja) | 基板をクリーニングするための洗浄装置 | |
| US6299698B1 (en) | Wafer edge scrubber and method | |
| US6041465A (en) | Cleaning apparatus | |
| US6200201B1 (en) | Cleaning/buffer apparatus for use in a wafer processing device | |
| US6186877B1 (en) | Multi-wafer polishing tool | |
| US6344947B1 (en) | Head cleaner | |
| EP0548994B1 (en) | Method and apparatus for cleaning cylindrical outer surface of a disk for manufacturing disk-type information recording medium and a disk-type information recording medium made by using a disk cleaned by said method or apparatus | |
| US7563402B2 (en) | Apparatus for and method of manufacturing an optical disc | |
| JP4308778B2 (ja) | ウエーハの洗浄装置 | |
| WO2011093960A2 (en) | Variable pressure brush/pad | |
| JP3104354B2 (ja) | ガイドローラのエージング方法及びその装置 | |
| JP4413383B2 (ja) | スクラブ洗浄装置及びスクラブ洗浄方法、並びに情報記録媒体の製造方法 | |
| JP3346238B2 (ja) | ディスク洗浄装置 | |
| JP3314685B2 (ja) | ディスクの回転装置 | |
| JPH1190354A (ja) | 洗浄用ブラシ装置 | |
| JP2830170B2 (ja) | ディスクの洗浄装置 | |
| JPH08299917A (ja) | 板状体洗浄方法および洗浄装置 | |
| JPH04186512A (ja) | 回転磁気ヘッド装置のごみ除去装置 | |
| JPH05303871A (ja) | ディスク洗浄装置 | |
| JPH07230640A (ja) | テープ駆動手段のクリーニング機構 | |
| JPS61123076A (ja) | 積層された磁気デイスクより塵挨を除去する方法及び積層された磁気デイスクの塵挨除去装置 | |
| JPH05114132A (ja) | 磁気デイスクのテープ加工方法およびテープ加工装置 | |
| JPH11185254A (ja) | 磁気ディスク基板の洗浄方法および装置 | |
| JP2006015189A (ja) | ディスク洗浄装置 | |
| JP2008112497A (ja) | ディスク端面バニッシュ装置およびディスク端面バニッシュ方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20060904 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20060905 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070110 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070112 |
|
| A072 | Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A073 Effective date: 20070227 |
|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080701 |