JP2008084934A - 半導体基板の洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基板21の表面21A及び端面32に帯電防止機能を有する洗浄水14を供給しながら、半導体基板21の端面32をブラシ洗浄する。
【選択図】図2
Description
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る洗浄装置の概略構成を示す平面図であり、図2は、図1に示す洗浄装置のA−A線方向の断面図である。なお、図1において、洗浄水供給ノズル13は、一点鎖線で示す。
図7は、本発明の第2の実施の形態に係る洗浄装置の概略構成を示す平面図であり、図8は、図7に示す洗浄装置のG−G線方向の断面図である。
図10は、本発明の第3の実施の形態に係る洗浄装置の概略構成を示す平面図であり、図11は、図10に示す洗浄装置の断面図(その1)である。
11 ステージ
12 ステージ支持体
13,41 洗浄水供給ノズル
14 洗浄水
15 第1のブラシ洗浄部
16 第2のブラシ洗浄部
17 第3のブラシ洗浄部
21 半導体基板
21A 表面
21B 裏面
21C 第1の傾斜面
21D ラウンド面
21E 第2の傾斜面
22 ゲート
25,27,29,84,87 回転軸
26,28,31,85,88 ロールブラシ
32 端面
33 ゲート酸化膜
34 ゲート電極
46 洗浄水供給手段
47 洗浄水供給管本体
47A,51,52 供給部
48 分岐管
61 第1のパッド洗浄部
62 第2のパッド洗浄部
64,67 パッド支持板
64A,66A,67A,69A 面
65,68 支持部材
66,69 パッド
81 第4のブラシ洗浄部
82 第5のブラシ洗浄部
C 中心位置
E1〜E6 幅
I1,I2 直線
θ1〜θ7 角度
Claims (3)
- 半導体基板の表面及び端面に帯電防止機能を有する洗浄水を供給しながら、前記半導体基板の端面をブラシ洗浄することを特徴とする半導体基板の洗浄方法。
- 前記半導体基板の表面に形成されたゲート酸化膜と、ゲート酸化膜上に形成されたゲート電極とを有し、
前記ブラシ洗浄は、エッチングにより前記ゲート酸化膜及び前記ゲート電極を形成後に行うことを特徴とする請求項1記載の半導体基板の洗浄方法。 - 前記洗浄水は、二酸化炭素を含むことを特徴とする請求項1または2記載の半導体基板の洗浄方法。
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