JP5323455B2 - 基板処理装置のロール間隙調整方法 - Google Patents
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
11 スピンドル
12 コマ
13 第1ロール型洗浄部材
15 第2ロール型洗浄部材
17 第1ロール回転機構
18 第2ロール回転機構
19 洗浄液ノズル
20 洗浄アーム
21 揺動軸
22 従動軸部
23 駆動軸部
25 従動軸部
26 駆動軸部
30 基台
31 エアシリンダ
32 エアシリンダ
33 ストッパーボルト(ダイヤル式ストッパー)
34 ストッパーボルト(ダイヤル式ストッパー)
40 ロール治具
41 大径部
44 小径部
45 ダイヤルゲージ
47 スキミゲージ
50 基板治具
51 間隙測定用窓
52 間隙測定用窓
Claims (3)
- 円板状の基板を支持して回転させる基板回転機構と、
第1ロールを第1回転軸線上に支持し回転させながら前記基板の表面に摺接させる第1ロール回転機構と、
第2ロールを前記第1回転軸線に平行する第2回転軸線上で、且つ前記基板を挟むように対向して支持し回転させながら前記基板の裏面に摺接させる第2ロール回転機構とを備えた基板処理装置における前記第1ロールと前記第2ロール間の間隙を調整する基板処理装置のロール間隙調整方法であって、
前記基板回転機構に前記基板に相当する板状の基板治具を支持させると共に、前記第2ロール回転機構に前記第2ロールに相当する第2ロール治具を支持させ、前記基板治具裏面と前記第2ロール治具の間の間隙を第1の実測手段で実測し、該実測値が所定値になるように前記第2ロール回転機構の位置を調整して位置決めし、
前記第2ロール治具に前記第1ロール回転機構に支持させた前記第1ロールに相当する第1ロール治具を対向させ、前記第2ロール治具と該第1ロール治具の間の間隙を第2の実測手段で実測し、該実測値が所定値になるように前記第1ロール回転機構の位置を調整して位置決めし、
しかる後、前記第1ロール回転機構及び前記第2ロール回転機構に、前記第1ロール治具及び第2ロール治具に換えて、前記第1ロール及び第2ロールを支持させ、該第1ロール及び第2ロールが前記基板の表面及び裏面に接触する位置を管理することを特徴とする基板処理装置のロール間隙調整方法。 - 請求項1に記載の基板処理装置のロール間隙調整方法において、
前記第1の実測手段がダイヤルゲージであり、
前記第2の実測手段がスキミゲージであり、
前記基板治具には、前記第2ロール治具に対応する位置に間隙測定用窓を設け、該間隙測定用窓を通して前記ダイヤルゲージを用いて前記基板治具裏面と前記第2ロール治具の間隙を実測し、該間隙が前記所定値になるように、前記第2ロール回転機構の位置を調整して位置決めし、
前記第2ロール治具と前記第1ロール治具の間の間隙調整は、前記第2ロール回転機構を位置決めした後、前記第2ロール治具と前記第1ロール治具の間に所定値の厚みを有する前記スキミゲージを介在させて、該第2ロール治具とスキミゲージと第1ロール治具が接触した状態で前記第1ロール回転機構を位置決めすることを特徴とする基板処理装置のロール間隙調整方法。 - 請求項1又は2に記載の基板処理装置のロール間隙調整方法において、
前記第1及び第2ロール治具は、樹脂材に剛性の大きい円柱材を埋め込んだ構成とし、
前記第1及び第2ロール治具のいずれか一方又は双方を前記第1及び第2ロールの外径と同じ外径の複数の大径部と該大径部より外径の小さい複数の小径部を有する構成とするか又は全体を前記第1及び第2ロールの外径と同一外径に構成したことを特徴とする基板処理装置のロール間隙調整方法。
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