JP6632900B2 - 基板洗浄装置、洗浄具および基板処理装置、ならびに、洗浄具の取り外し、取り付けおよび交換方法 - Google Patents
基板洗浄装置、洗浄具および基板処理装置、ならびに、洗浄具の取り外し、取り付けおよび交換方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6632900B2 JP6632900B2 JP2016017766A JP2016017766A JP6632900B2 JP 6632900 B2 JP6632900 B2 JP 6632900B2 JP 2016017766 A JP2016017766 A JP 2016017766A JP 2016017766 A JP2016017766 A JP 2016017766A JP 6632900 B2 JP6632900 B2 JP 6632900B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning tool
- cleaning
- shaft
- holding member
- shaft holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 487
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 140
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 49
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 19
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 38
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 16
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 8
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Description
このような構成により、洗浄具の表面を汚染させることなく洗浄具の交換が可能になる。
このような構成により、第1洗浄具を第2洗浄具に交換するのが容易となる。
このような構成によっても、第1洗浄具を第2洗浄具に交換するのが容易となる。
このように、第1洗浄具および第2洗浄具がテーパー面を有することで、第1洗浄具を第2洗浄具に交換するのが容易となる。
このように、保持部材がテーパー面を有することで、第1洗浄具を第2洗浄具に交換するのが容易となる。
これにより、第2洗浄具に交換した後の初期化を短縮できる。
これにより、適切なタイミングで第1洗浄具を第2洗浄具に取り換えることができる。
このような洗浄具により、保持部材からの取り外しおよび保持部材への取り付けが容易となる。
この方法により、洗浄具の表面を汚染させることなく、保持部材から洗浄具を取り外すことができる。
この方法により、洗浄具の表面を汚染させることなく、保持部材に洗浄具を取り付けることができる。
このような構成により、洗浄具の表面を汚染させることなく洗浄具の交換が可能になる。
前記交換台に載置された前記第2洗浄具に液体を供給する液体供給ノズルを備えるのが望ましい。
前記交換台における穴の底部には、前記液体を排出する溝が設けられるのが望ましい。
この方法により、洗浄具の表面を汚染させることなく、保持部材から洗浄具を取り外すことができる。
この方法により、洗浄具の表面を汚染させることなく、保持部材に洗浄具を取り付けることができる。
この方法により、適切なタイミングで第1洗浄具を第2洗浄具に取り換えることができる。
(第1の実施形態)
以下に説明する第1の実施形態は、ロール型の洗浄具を用いた基板洗浄装置(以下ロール型基板洗浄装置という)に関する。
図1は、第1の実施形態に係るロール型基板洗浄装置1の概略構成を示す図である。ロール型基板洗浄装置1は、基板保持回転機構2と、上側洗浄具3aと、上側保持部材4aと、上側駆動機構5aと、下側洗浄具3bと、下側保持部材4bと、下側駆動機構5bと、制御部6とを備えている。
以下、各部材について詳しく説明する。なお、以下では上側の各部材について主に説明するが、下側の各部材の構造もほぼ同様である。
参考のために、テーパー面323およびシャフト324をP,Q,R方向から見た図を、それぞれ図2B〜図2Dに示す。
続いて、上側保持部材4aから上側洗浄具3aを取り外す工程を図5に示すフローチャートおよび図6A〜図8Bに示す工程図を用いて説明する。
さらに上側フック部材8aおよび上側保持部材4aが移動すると、シャフト324が駆動側シャフトホルダ44aから外れる(図5のステップS3)。このように、本実施形態では、短フック82と長フック83との長さが異なるようにされているので、上側洗浄具3aは、最初に短フック82と係合された側から取り外され、次いで、長フック83と係合された側を取り外すことができるので、上側洗浄具3aを取り外す際に不安定な動作が生じることをできるだけ抑制しながら、より確実に上側洗浄具3aを上側保持部材4aから取り外すことができる。
なお、上側待機台9aおよび下側待機台9bは、それぞれ上側取付部材9aおよび下側取付部材9bと言い換えることができる。
以下に説明する第2の実施形態は、ペンシル型の洗浄具を用いた基板洗浄装置(以下ペンシル型基板洗浄装置100という)に関する。
図13は、第2の実施形態に係るペンシル型基板洗浄装置100の概略構成を示す図である。ペンシル型基板洗浄装置100は、ステージ110と、アーム120と、回転軸130と、揺動軸140と、保持部材150と、上下動機構160と、制御部170と、洗浄具180とを備えている。
アーム120は、一端下部に回転軸130が取り付けられ、他端下部に揺動軸140が取り付けられている。回転軸130は先端に取り付けられた保持部材150を回転させる。保持部材150は洗浄具180を先端で保持し、保持した洗浄具180を基板Wに対して加圧する。揺動軸140はモータ(不図示)などによって駆動されることでアーム120を揺動させ、これにより、保持部材150に保持された洗浄具180が基板W上で基板Wの中心と縁との間を揺動する。
以下、各部材について詳しく説明する。
このように、第2の実施形態では、ペンシル型の洗浄具180を用いたペンシル型基板洗浄装置100において、洗浄具180を自動交換できる。
以下に説明する第3の実施形態は、洗浄具の交換タイミングを規定するものである。なお、本実施形態は、上述した第1の実施形態および第2の実施形態のどちらにも適用可能である。
寿命を超えていないと判断された場合(ステップS23のNO)、基板洗浄装置は基板の洗浄を続行する(ステップS21)。
洗浄具の自動交換が完了すると(ステップS26)、次のロットの基板洗浄が行われる(ステップS21)。
なお、積算使用時間Tや積算処理枚数Lの管理や寿命を超えたか否かの判断は、基板洗浄装置における制御部が行ってもよいし、ホストPCで行ってもよい。
このように、第3の実施形態では、適切なタイミングで洗浄具を自動交換することができる。
2 基板保持回転機構
3a 上側洗浄具
3b 下側洗浄具
31 洗浄部材
32 固定部材
321 受け部
322 幅狭部
323 テーパー面
324 シャフト
4a 上側保持部材
4b 下側保持部材
41 保持部本体
41a 駆動側区画
41b 従動側区画
42 モータ
43a 駆動側シャフトハウジング
43b 従動側シャフトハウジング
44a 駆動側シャフトホルダ
44b 従動側シャフトホルダ
441 凹部
442 テーパー面
443 案内面
45a 駆動側バネ
45b 従動側バネ
46 おもり
47 ベアリング
5a 上側駆動機構
5b 下側駆動機構
6 制御部
7a 上側交換台
7b 下側交換台
8a 上側フック部材
8b 下側フック部材
81 アーム
82 短フック
821 凹部
83 長フック
831 凹部
9a 上側待機台
9b 下側待機台
91 凹部
100 ペンシル型基板洗浄装置
110 ステージ
120 アーム
130 回転軸
140 揺動軸
150 保持部材
151 スリーブ
151a チャック爪
151b 突起
151c ネジ穴
151d 突起
151e 突起
152 保持芯体
152a 円柱部
152b 鍔体
152b1 貫通孔
152c 凹部
153 リング部材
153a 溝
154 ネジ
160 上下動機構
170 制御部
180 洗浄具
181 上側円柱部
182 下側円柱部
190 取り外し台
191 穴
192 洗浄具センサ
1A0 待機台
1B0 交換台
1B01 開口
1B02 穴
1B03 底面
1B04 内側面
1B05 排水溝
Claims (18)
- 第1洗浄部材、第1シャフトおよび第2シャフトを有したロール型の第1洗浄具と、
前記第1シャフトを脱着可能に固定する第1シャフトホルダ、および前記第2シャフトを脱着可能に固定する第2シャフトホルダを有し、前記第1シャフトホルダと前記第2シャフトホルダとの間の距離が可変に構成された、第1洗浄具を保持するための保持部材と、
前記保持部材を移動させるための駆動機構と、
前記第1洗浄具を載置させて、前記保持部材から第1洗浄具を取り外すためのフック部材と、
前記第1シャフトホルダに設けられた第1弾性部材と、
前記第2シャフトホルダに設けられた第2弾性部材と、
を備え、
前記第1弾性部材および前記第2弾性部材により、前記第1シャフトホルダと前記第2シャフトホルダとの距離が可変である、基板洗浄装置。 - 第2洗浄部材、第3シャフトおよび第4シャフトを有したロール型の第2洗浄具を載置させて、前記保持部材に前記第2洗浄具を装着させるための待機台
をさらに備えた、請求項1記載の基板洗浄装置。 - 第1洗浄部材、第1シャフトおよび第2シャフトを有したロール型の第1洗浄具と、
前記第1シャフトを脱着可能に固定する第1シャフトホルダ、および前記第2シャフトを脱着可能に固定する第2シャフトホルダを有し、前記第1シャフトホルダと前記第2シャフトホルダとの間の距離が可変に構成された、第1洗浄具を保持するための保持部材と、
前記保持部材を移動させるための駆動機構と、
前記第1洗浄具を載置させて、前記保持部材から第1洗浄具を取り外すためのフック部材と、を備え、
前記フック部材は、
前記第1洗浄具の軸方向に延びるアームと、
前記アームに取り付けられて前記軸方向と略直交する方向に延びており、前記第1洗浄具の第1洗浄部材に隣接して設けられた第1幅狭部と係合可能な第1フックと、
前記アームと取り付けられて前記軸方向と略直交する方向に延びており、前記第1洗浄部材に隣接して、かつ、前記第1フックの他端側に設けられた第2幅狭部と係合可能な第2フックと、
を有した、基板洗浄装置。 - 前記第1洗浄具は、
前記第1洗浄部材の第1端から延びた前記第1幅狭部の外側に設けられた外側が先細な第1テーパー面と、
前記第1洗浄部材における前記第1端とは反対側の第2端から延びた前記第2幅狭部の外側に設けられた外側が先細な第2テーパー面と、をさらに有し、
前記第1シャフトは、前記第1テーパー面の外側に設けられ、
前記第2シャフトは、前記第2テーパー面の外側に設けられた、請求項3記載の基板洗浄装置。 - 前記保持部材は、
前記第1シャフトが嵌まる第1凹部と、前記第1凹部に向かって傾斜した第5テーパー面と、が設けられた第1シャフトホルダと、
前記第2シャフトが嵌まる第2凹部と、前記第2凹部に向かって傾斜した第6テーパー面と、が設けられた第2シャフトホルダと、
を有した、請求項4記載の基板洗浄装置。 - 前記第1シャフトホルダと前記第2シャフトホルダとの距離を可変とする弾性部材を備える、請求項3乃至5のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 第1洗浄部材、第1シャフトおよび第2シャフトを有したロール型の第1洗浄具と、
前記第1シャフトを脱着可能に固定する第1シャフトホルダ、および前記第2シャフトを脱着可能に固定する第2シャフトホルダを有し、前記第1シャフトホルダと前記第2シャフトホルダとの間の距離が可変に構成された、第1洗浄具を保持するための保持部材と、
前記保持部材を移動させるための駆動機構と、
前記第1洗浄具を載置させて、前記保持部材から第1洗浄具を取り外すためのフック部材と、
第2洗浄部材、第3シャフトおよび第4シャフトを有したロール型の第2洗浄具を載置させて、前記保持部材に前記第2洗浄具を装着させるための待機台と、
前記待機台に載置された前記第2洗浄具に液体を供給するための液体供給機構と、を備えた、基板洗浄装置。 - 第1洗浄部材、第1シャフトおよび第2シャフトを有したロール型の第1洗浄具と、
前記第1シャフトを脱着可能に固定する第1シャフトホルダ、および前記第2シャフトを脱着可能に固定する第2シャフトホルダを有し、前記第1シャフトホルダと前記第2シャフトホルダとの間の距離が可変に構成された、第1洗浄具を保持するための保持部材と、
前記保持部材を移動させるための駆動機構と、
前記第1洗浄具を載置させて、前記保持部材から第1洗浄具を取り外すためのフック部材と、
前記第1洗浄具が使用された積算時間、および、前記第1洗浄具が処理した基板の積算枚数のうち少なくとも1つに基づいて、前記第1洗浄具の寿命が経過したか否かを判定して、前記第1洗浄具の寿命が経過し、かつ、複数の基板から構成される1単位の基板群を処理し終えた後に、前記第1洗浄具を第2洗浄具に交換するように、前記駆動機構の動作を指示するように構成された制御部と、をさらに備えた、基板洗浄装置。 - 基板を研磨するための基板研磨装置と、
基板洗浄装置と、
基板を乾燥させるための乾燥装置と、
を備え、
前記基板洗浄装置は、第1洗浄部材、第1シャフトおよび第2シャフトを有したロール型の第1洗浄具と、
前記第1シャフトを脱着可能に固定する第1シャフトホルダ、および前記第2シャフトを脱着可能に固定する第2シャフトホルダを有し、前記第1シャフトホルダと前記第2シャフトホルダとの間の距離が可変に構成された、第1洗浄具を保持するための保持部材と、
前記保持部材を移動させるための駆動機構と、
前記第1洗浄具を載置させて、前記保持部材から第1洗浄具を取り外すためのフック部材と、
を備えた、基板処理装置。 - 基板洗浄装置の保持部材に保持されるように構成されたロール型の洗浄具であって、
第1方向に延びる第1洗浄部材と、
前記第1洗浄部材の第1端から延びた、第1幅狭部、その外側に設けられた外側が先細な第1テーパー面、および、その外側に設けられて前記保持部材に保持され得る第1シャフトと、
前記第1洗浄部材における前記第1端とは反対側の第2端から延びた、第2幅狭部、その外側に設けられた外側が先細な第2テーパー面、および、その外側に設けられて前記保持部材に保持され得る第2シャフトと、
を備える洗浄具。 - フック部材を用いて、保持部材に取り付けられた洗浄具を取り外す方法であって、
前記保持部材は、第1凹部と、前記第1凹部に向かって傾斜した第1テーパー面と、が設けられた第1シャフトホルダと、第2凹部と、前記第2凹部に向かって傾斜した第2テーパー面と、が設けられた第2シャフトホルダと、を備え、前記第1シャフトホルダと前記第2シャフトホルダとの距離が可変とされており、
当該方法は、
前記洗浄具の第1端から延びた第1幅狭部および前記第1端の他端から延びた第2幅狭部が、前記フック部材のアームに取り付けられて前記アームと並行な第1方向と略直交する第2方向に延びた第1フックおよび第2フックとそれぞれ係合するよう前記保持部材を移動させることと、
前記フック部材を前記第1方向における前記第1シャフトホルダ側に移動させて、前記洗浄具の第2シャフトを前記保持部材の前記第2シャフトホルダから外すことと、
前記保持部材が前記第2方向における前記フック部材から離れる方向に移動させるとともに、前記フック部材を前記第1方向における前記第2シャフトホルダ側に移動させて、前記洗浄具の第1シャフトを前記保持部材の前記第1シャフトホルダから外すことと、を有する、洗浄具の取り外し方法。 - 待機台に載置された洗浄具を保持部材に取り付ける方法であって、
前記保持部材は、
第1凹部と、傾斜した第1案内面と、が設けられた第1シャフトホルダと、
第2凹部と、傾斜した第2案内面と、が設けられた第2シャフトホルダと、を備え、前記第1シャフトホルダと前記第2シャフトホルダとの距離が可変とされており、
当該方法は、
前記洗浄具に向かって、前記洗浄具が延びる第1方向と略直交する第2方向に前記保持部材を移動させることで、前記洗浄具における端部に位置する第1シャフトおよび前記第1シャフトの他端部に位置する第2シャフトが、前記保持部材における前記第1案内面および前記第2案内面をそれぞれ押し、前記第1シャフトホルダと前記第2シャフトホルダとの距離を広げることと、
さらに前記第2方向に前記保持部材を移動させることで、前記洗浄具における前記第1シャフトおよび前記第2シャフトを、前記保持部材における前記第1凹部および前記第2凹部に嵌めることと、を備える洗浄具の取り付け方法。 - 基板を洗浄するペンシル型の第1洗浄具と、
前記第1洗浄具を保持する保持部材と、
前記第1洗浄具を取り外すための取り外し台と、
ペンシル型の第2洗浄具を載置するための交換台と、を備え、
前記第1洗浄具は、
下面で前記基板を洗浄する第1下部と、
前記保持部材に保持される第1上部と、を有し、
前記第2洗浄具は、
下面で前記基板を洗浄する第2下部と、
前記保持部材に保持される第2上部と、を有し、
前記取り外し台には、前記第1下部が嵌まることが可能な凹部が設けられ、
前記交換台は、穴が設けられ、該穴の内側面は下側が先細なテーパー状であり、該穴の底面は略中央が高くなるよう湾曲しており、その底面上に前記第2洗浄具を支持可能である、基板洗浄装置。 - 前記保持部材を移動させるとともに揺動自在とするための駆動機構を備えた、請求項13に記載の基板洗浄装置。
- 前記保持部材は先細な先端を有し、さらに、前記交換台における穴はテーパー状の内側面を備えた、請求項14に記載の基板洗浄装置。
- 保持部材の先端に上部が保持された洗浄具を取り外す方法であって、
前記洗浄具の下部が、取り外し台の凹部に嵌まるよう、前記保持部材を移動させることと、
前記保持部材を揺動させて、前記洗浄具を前記保持部材から外すことと、を備える、洗浄具の取り外し方法。 - 交換台に載置された洗浄具を、先端が先細な保持部材に取り付ける方法であって、
前記交換台は、穴が設けられ、該穴の内側面は下側が先細なテーパー状であり、該穴の底面は略中央が高くなるよう湾曲して、その底面上に前記洗浄具が支持されており、
当該方法は、前記保持部材を前記交換台の上方から下降させ、その際、前記保持部材における先細な先端および前記交換台における穴のテーパー状の内側面によって、前記保持部材が前記洗浄具に対して位置決めさせて、前記洗浄具における上部を前記保持部材によって保持するようにした、洗浄具の取り付け方法。 - 請求項2,7,8,13,14のいずれかに記載の基板洗浄装置において、前記第1洗浄具を前記第2洗浄具に交換する方法であって、
前記第1洗浄具の寿命が経過したか否かを判断する判断ステップと、
前記第1洗浄具の寿命が経過し、かつ、複数の基板から構成される1単位の基板群を処理し終えた後に、前記第1洗浄具を前記第2洗浄具に交換する交換ステップと、を備える、洗浄具の交換方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016017766A JP6632900B2 (ja) | 2016-02-02 | 2016-02-02 | 基板洗浄装置、洗浄具および基板処理装置、ならびに、洗浄具の取り外し、取り付けおよび交換方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016017766A JP6632900B2 (ja) | 2016-02-02 | 2016-02-02 | 基板洗浄装置、洗浄具および基板処理装置、ならびに、洗浄具の取り外し、取り付けおよび交換方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017139283A JP2017139283A (ja) | 2017-08-10 |
JP6632900B2 true JP6632900B2 (ja) | 2020-01-22 |
Family
ID=59566117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016017766A Active JP6632900B2 (ja) | 2016-02-02 | 2016-02-02 | 基板洗浄装置、洗浄具および基板処理装置、ならびに、洗浄具の取り外し、取り付けおよび交換方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6632900B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7165104B2 (ja) * | 2019-06-11 | 2022-11-02 | 株式会社荏原製作所 | 洗浄部材の着脱用治具 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001195731A (ja) * | 2000-01-13 | 2001-07-19 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 板状ワークの洗浄装置 |
JP4437194B2 (ja) * | 2004-02-24 | 2010-03-24 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 洗浄ブラシの着脱用治具 |
JP5323455B2 (ja) * | 2008-11-26 | 2013-10-23 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置のロール間隙調整方法 |
-
2016
- 2016-02-02 JP JP2016017766A patent/JP6632900B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017139283A (ja) | 2017-08-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0837493B1 (en) | Cleaning apparatus | |
US9673067B2 (en) | Substrate processing apparatus and processed substrate manufacturing method | |
EP2762274A2 (en) | Method of polishing back surface of substrate and substrate processing apparatus | |
US11139182B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
US20070006895A1 (en) | Substrate cleaning brush, and substrate treatment apparatus and substrate treatment method using the same | |
TW201938314A (zh) | 切削裝置 | |
US20210308828A1 (en) | Dressing apparatus and dressing method for substrate rear surface polishing member | |
US20190006204A1 (en) | Post-cmp cleaning apparatus and method with brush self-cleaning function | |
US10256120B2 (en) | Systems, methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate buff pre-cleaning | |
JP2007273607A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2006128359A (ja) | スピンナー洗浄装置及びダイシング装置 | |
JP6375166B2 (ja) | Cmp後洗浄用の両面バフモジュール | |
JP6632900B2 (ja) | 基板洗浄装置、洗浄具および基板処理装置、ならびに、洗浄具の取り外し、取り付けおよび交換方法 | |
JP2016152382A (ja) | 基板洗浄装置および方法 | |
JP2014216393A (ja) | 基板処理装置及び処理基板の製造方法 | |
JP2010245332A (ja) | 半導体露光装置 | |
KR20210089671A (ko) | 세정 모듈, 세정 모듈을 구비하는 기판 처리 장치와 세정 방법 | |
JP2008028175A (ja) | ウエハ洗浄装置 | |
JP2010092928A (ja) | 基板処理装置 | |
KR20170087766A (ko) | 웨이퍼 노치 연마장치 | |
JP6731827B2 (ja) | 基板研磨装置、基板処理装置、ドレッサディスク、ドレッサディスクの取り外し方法、ドレッサディスクの取り付け方法およびドレッサディスクの交換方法 | |
KR100744101B1 (ko) | 웨이퍼 표면연마장비의 플래튼 구동 시스템 | |
JP2009206360A (ja) | 基板処理装置 | |
JP5064331B2 (ja) | 洗浄ブラシ、基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | |
JP6144531B2 (ja) | 基板処理装置及び処理基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181017 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190607 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190611 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190813 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191211 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6632900 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |