JP7165104B2 - 洗浄部材の着脱用治具 - Google Patents

Description

本発明は、洗浄部材の着脱用治具に関するものである。

下記特許文献１には、基板をスクラブ洗浄する洗浄ブラシ（洗浄部材）を洗浄装置（回転装置）に対して着脱するための着脱用治具が開示されている。半導体製造装置などでは、基板を高い清浄度で洗浄することが要求されている。このため、洗浄ブラシを洗浄装置に装着する際には、ブラシ毛（本体部）に手が触れないようにし、ブラシ毛が汚れたり、折れ曲がったりしないようにする必要がある。

このため、下記特許文献１に記載の洗浄ブラシの着脱用治具は、洗浄ブラシの両端部の支軸部に係合する係合部が一端面に開放して形成された一対の治具本体と、上記治具本体に形成された取り付け孔に着脱可能に挿入保持されて上記係合部の開放端を閉塞し上記係合部が上記支軸部から外れないよう上記治具本体を上記支軸部に保持する抜け止め部材と、一対の治具本体に両端部が連結されこれら治具本体の係合部が上記支軸部の軸方向に抜出するのを阻止する把持部材とを具備し、上記把持部材を把持して上記洗浄ブラシを上記洗浄装置に対して着脱することを特徴としている。

特許第４４３７１９４号公報

近年の半導体製造装置は、洗浄部材と、当該洗浄部材の両端部が取り付けられる回転装置との隙間（クリアランス）が非常に少なく、手が入らないこともあり、本体部に手が触れないようにしつつ洗浄部材を回転装置に装着することが困難な場合がある。
洗浄部材と回転装置との隙間に手が入らないと、仮に、上記従来技術の着脱用治具を用いて洗浄部材を回転装置に装着したとしても、洗浄部材を保持する上記抜け止め部材を治具本体から引き抜くことができず、着脱用治具が洗浄部材から離脱できない虞がある。

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、洗浄部材の周辺に十分な隙間がなくても、洗浄部材を直接手で持つことなく、回転装置に対して洗浄部材を容易に着脱できる洗浄部材の着脱用治具の提供を目的とする。

本発明の一態様に係る洗浄部材の着脱用治具は、対象物をスクラブ洗浄する本体部と、前記本体部を保持するホルダーと、を備え、前記ホルダーの両端部が、回転装置に対し着脱可能とされる洗浄部材の着脱用治具であって、前記本体部と前記回転装置との隙間から露出する前記ホルダーの両端部を挟持可能な一対の治具本体と、前記一対の治具本体を連結し、且つ、前記ホルダーの両端部を挟持する挟持状態と、当該挟持状態を解除する非挟持状態との間で、前記一対の治具本体の動きを連動させる連結機構と、を備える。

上記洗浄部材の着脱用治具において、前記一対の治具本体のぞれぞれは、一つの交点で交差し、且つ、当該交点を中心に開閉可能な挟持片を備え、前記連結機構は、前記挟持片の交点において、前記一対の治具本体同士を連結する連結軸と、前記挟持片が前記ホルダーを挟持する第１端に対して前記交点を挟んだ反対側の第２端において、前記一対の治具本体同士を連結する一対の把持軸と、を備えてもよい。
上記洗浄部材の着脱用治具において、前記一対の把持軸同士を固定し、前記挟持状態を維持する固定部材を備えてもよい。
上記洗浄部材の着脱用治具において、前記一対の把持軸の少なくともいずれか一方の周面には、環状溝が形成され、前記固定部材は、前記環状溝に係合していてもよい。
上記洗浄部材の着脱用治具において、前記連結軸は、前記挟持片に対して相対回転可能に連結され、前記一対の把持軸のそれぞれは、前記挟持片に対して相対回転不能に連結されていてもよい。
上記洗浄部材の着脱用治具において、前記一対の治具本体の間隔を調整する間隔調整機構を備えてもよい。

上記本発明の一態様によれば、洗浄部材の周辺に十分な隙間がなくても、洗浄部材を直接手で持つことなく、回転装置に対して洗浄部材を容易に着脱できる。

一実施形態に係る基板処理装置の全体構成を示す平面図である。 一実施形態に係る基板洗浄装置の構成図である。 一実施形態に係る洗浄部材の着脱用治具の正面図である。 一実施形態に係る着脱用治具を正面左側から視た斜視図である。 一実施形態に係る着脱用治具を背面右側から視た斜視図である。 一実施形態に係る着脱用治具の分解斜視図である。 一実施形態に係る回転装置に洗浄部材を装着する手順を示す説明図である。 一実施形態に係る一実施形態の変形例に係る洗浄部材の着脱用治具の正面図である。

以下、本発明の一実施形態について図面を参照して説明する。以下では、洗浄部材の着脱用治具の適用例として、基板を洗浄する洗浄部を有し、洗浄部材の着脱を要する基板処理装置を例示する。

図１は、一実施形態に係る基板処理装置１の全体構成を示す平面図である。
図１に示す基板処理装置１は、シリコンウェハ等の基板Ｗの表面を平坦に研磨する化学機械研磨（ＣＭＰ）装置である。この基板処理装置１は、矩形箱状のハウジング２を備える。ハウジング２は、平面視で略長方形に形成されている。

ハウジング２は、その中央に長手方向に延在する基板搬送路３を備える。基板搬送路３の長手方向の一端部には、ロード／アンロード部１０が配設されている。基板搬送路３の幅方向（平面視で長手方向と直交する方向）の一方側には、研磨部２０が配設され、他方側には、洗浄部３０が配設されている。基板搬送路３には、基板Ｗを搬送する基板搬送部４０が設けられている。また、基板処理装置１は、ロード／アンロード部１０、研磨部２０、洗浄部３０、及び基板搬送部４０の動作を統括的に制御する制御部５０（制御装置）を備える。

ロード／アンロード部１０は、基板Ｗを収容するフロントロード部１１を備える。フロントロード部１１は、ハウジング２の長手方向の一方側の側面に複数設けられている。複数のフロントロード部１１は、ハウジング２の幅方向に配列されている。フロントロード部１１は、例えば、オープンカセット、ＳＭＩＦ（Standard Manufacturing Interface）ポッド、またはＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）を搭載する。ＳＭＩＦ、ＦＯＵＰは、内部に基板Ｗのカセットを収納し、隔壁で覆った密閉容器であり、外部空間とは独立した環境を保つことができる。

また、ロード／アンロード部１０は、フロントロード部１１から基板Ｗを出し入れする２台の搬送ロボット１２と、各搬送ロボット１２をフロントロード部１１の並びに沿って走行させる走行機構１３と、を備える。各搬送ロボット１２は、上下に２つのハンドを備えており、基板Ｗの処理前、処理後で使い分けている。例えば、フロントロード部１１に基板Ｗを戻すときは上側のハンドを使用し、フロントロード部１１から処理前の基板Ｗを取り出すときは下側のハンドを使用する。

研磨部２０は、基板Ｗの研磨（平坦化）を行う複数の基板研磨装置２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ）を備える。複数の基板研磨装置２１は、基板搬送路３の長手方向に配列されている。基板研磨装置２１は、研磨面を有する研磨パッド２２を回転させる研磨テーブル２３と、基板Ｗを保持しかつ基板Ｗを研磨テーブル２３上の研磨パッド２２に押圧しながら研磨するためのトップリング２４と、研磨パッド２２に研磨液やドレッシング液（例えば、純水）を供給するための研磨液供給ノズル２５と、研磨パッド２２の研磨面のドレッシングを行うためのドレッサ２６と、液体（例えば純水）と気体（例えば窒素ガス）の混合流体または液体（例えば純水）を霧状にして研磨面に噴射するアトマイザ２７と、を備える。

基板研磨装置２１は、研磨液供給ノズル２５から研磨液を研磨パッド２２上に供給しながら、トップリング２４により基板Ｗを研磨パッド２２に押し付け、さらにトップリング２４と研磨テーブル２３とを相対移動させることにより、基板Ｗを研磨してその表面を平坦にする。ドレッサ２６は、研磨パッド２２に接触する先端の回転部にダイヤモンド粒子やセラミック粒子などの硬質な粒子が固定され、当該回転部を回転しつつ揺動することにより、研磨パッド２２の研磨面全体を均一にドレッシングし、平坦な研磨面を形成する。
アトマイザ２７は、研磨パッド２２の研磨面に残留する研磨屑や砥粒などを高圧の流体により洗い流すことで、研磨面の浄化と、機械的接触であるドレッサ２６による研磨面の目立て作業、すなわち研磨面の再生を達成する。

洗浄部３０は、基板Ｗの洗浄を行う複数の基板洗浄装置３１（３１Ａ，３１Ｂ）と、洗浄した基板Ｗを乾燥させる基板乾燥装置３２と、を備える。複数の基板洗浄装置３１及び基板乾燥装置３２は、基板搬送路３の長手方向に配列されている。基板洗浄装置３１Ａと基板洗浄装置３１Ｂとの間には、第１搬送室３３が設けられている。第１搬送室３３には、基板搬送部４０、基板洗浄装置３１Ａ、及び基板洗浄装置３１Ｂの間で基板Ｗを搬送する搬送ロボット３５が設けられている。また、基板洗浄装置３１Ｂと基板乾燥装置３２との間には、第２搬送室３４が設けられている。第２搬送室３４には、基板洗浄装置３１Ｂと基板乾燥装置３２との間で基板Ｗを搬送する搬送ロボット３６が設けられている。

基板洗浄装置３１は、例えば、後述するロールスポンジ型の洗浄モジュールを備え、基板Ｗを洗浄する。なお、基板洗浄装置３１Ａ及び基板洗浄装置３１Ｂは、同一のタイプであっても、異なるタイプの洗浄モジュールであってもよく、例えば、ペンシルスポンジ型の洗浄モジュールや２流体ジェット型の洗浄モジュールであってもよい。基板乾燥装置３２は、例えば、ロタゴニ乾燥（ＩＰＡ（Iso-Propyl Alcohol）乾燥）を行う乾燥モジュールを備える。乾燥後は、基板乾燥装置３２とロード／アンロード部１０との間の隔壁に設けられたシャッタ１ａが開かれ、搬送ロボット１２によって基板乾燥装置３２から基板Ｗが取り出される。

基板搬送部４０は、リフター４１と、第１リニアトランスポータ４２と、第２リニアトランスポータ４３と、スイングトランスポータ４４と、を備える。基板搬送路３には、ロード／アンロード部１０側から順番に第１搬送位置ＴＰ１、第２搬送位置ＴＰ２、第３搬送位置ＴＰ３、第４搬送位置ＴＰ４、第５搬送位置ＴＰ５、第６搬送位置ＴＰ６、第７搬送位置ＴＰ７が設定されている。

リフター４１は、第１搬送位置ＴＰ１で基板Ｗを上下に搬送する機構である。リフター４１は、第１搬送位置ＴＰ１において、ロード／アンロード部１０の搬送ロボット１２から基板Ｗを受け取る。また、リフター４１は、搬送ロボット１２から受け取った基板Ｗを第１リニアトランスポータ４２に受け渡す。第１搬送位置ＴＰ１とロード／アンロード部１０との間の隔壁には、シャッタ１ｂが設けられており、基板Ｗの搬送時にはシャッタ１ｂが開かれて搬送ロボット１２からリフター４１に基板Ｗが受け渡される。

第１リニアトランスポータ４２は、第１搬送位置ＴＰ１、第２搬送位置ＴＰ２、第３搬送位置ＴＰ３、第４搬送位置ＴＰ４の間で基板Ｗを搬送する機構である。第１リニアトランスポータ４２は、複数の搬送ハンド４５（４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃ，４５Ｄ）と、各搬送ハンド４５を複数の高さで水平方向に移動させるリニアガイド機構４６と、を備える。
搬送ハンド４５Ａは、リニアガイド機構４６によって、第１搬送位置ＴＰ１から第４搬送位置ＴＰ４の間を移動する。この搬送ハンド４５Ａは、リフター４１から基板Ｗを受け取り、それを第２リニアトランスポータ４３に受け渡すためのパスハンドである。

搬送ハンド４５Ｂは、リニアガイド機構４６によって、第１搬送位置ＴＰ１と第２搬送位置ＴＰ２との間を移動する。この搬送ハンド４５Ｂは、第１搬送位置ＴＰ１でリフター４１から基板Ｗを受け取り、第２搬送位置ＴＰ２で基板研磨装置２１Ａに基板Ｗを受け渡す。搬送ハンド４５Ｂには、昇降駆動部が設けられており、基板Ｗを基板研磨装置２１Ａのトップリング２４に受け渡すときは上昇し、トップリング２４に基板Ｗを受け渡した後は下降する。なお、搬送ハンド４５Ｃ及び搬送ハンド４５Ｄにも、同様の昇降駆動部が設けられている。

搬送ハンド４５Ｃは、リニアガイド機構４６によって、第１搬送位置ＴＰ１と第３搬送位置ＴＰ３との間を移動する。この搬送ハンド４５Ｃは、第１搬送位置ＴＰ１でリフター４１から基板Ｗを受け取り、第３搬送位置ＴＰ３で基板研磨装置２１Ｂに基板Ｗを受け渡す。また、搬送ハンド４５Ｃは、第２搬送位置ＴＰ２で基板研磨装置２１Ａのトップリング２４から基板Ｗを受け取り、第３搬送位置ＴＰ３で基板研磨装置２１Ｂに基板Ｗを受け渡すアクセスハンドとしても機能する。

搬送ハンド４５Ｄは、リニアガイド機構４６によって、第２搬送位置ＴＰ２と第４搬送位置ＴＰ４との間を移動する。搬送ハンド４５Ｄは、第２搬送位置ＴＰ２または第３搬送位置ＴＰ３で、基板研磨装置２１Ａまたは基板研磨装置２１Ｂのトップリング２４から基板Ｗを受け取り、第４搬送位置ＴＰ４でスイングトランスポータ４４に基板Ｗを受け渡すためのアクセスハンドとして機能する。

スイングトランスポータ４４は、第４搬送位置ＴＰ４と第５搬送位置ＴＰ５との間を移動可能なハンドを有しており、第１リニアトランスポータ４２から第２リニアトランスポータ４３へ基板Ｗを受け渡す。また、スイングトランスポータ４４は、研磨部２０で研磨された基板Ｗを、洗浄部３０に受け渡す。スイングトランスポータ４４の側方には、基板Ｗの仮置き台４７が設けられている。スイングトランスポータ４４は、第４搬送位置ＴＰ４または第５搬送位置ＴＰ５で受け取った基板Ｗを上下反転して仮置き台４７に載置する。仮置き台４７に載置された基板Ｗは、洗浄部３０の搬送ロボット３５によって第１搬送室３３に搬送される。

第２リニアトランスポータ４３は、第５搬送位置ＴＰ５、第６搬送位置ＴＰ６、第７搬送位置ＴＰ７の間で基板Ｗを搬送する機構である。第２リニアトランスポータ４３は、複数の搬送ハンド４８（４８Ａ，４８Ｂ，４８Ｃ）と、各搬送ハンド４５を複数の高さで水平方向に移動させるリニアガイド機構４９と、を備える。搬送ハンド４８Ａは、リニアガイド機構４９によって、第５搬送位置ＴＰ５から第６搬送位置ＴＰ６の間を移動する。搬送ハンド４５Ａは、スイングトランスポータ４４から基板Ｗを受け取り、それを基板研磨装置２１Ｃに受け渡すアクセスハンドとして機能する。

搬送ハンド４８Ｂは、第６搬送位置ＴＰ６と第７搬送位置ＴＰ７との間を移動する。搬送ハンド４８Ｂは、基板研磨装置２１Ｃから基板Ｗを受け取り、それを基板研磨装置２１Ｄに受け渡すためのアクセスハンドとして機能する。搬送ハンド４８Ｃは、第７搬送位置ＴＰ７と第５搬送位置ＴＰ５との間を移動する。搬送ハンド４８Ｃは、第６搬送位置ＴＰ６または第７搬送位置ＴＰ７で、基板研磨装置２１Ｃまたは基板研磨装置２１Ｄのトップリング２４から基板Ｗを受け取り、第５搬送位置ＴＰ５でスイングトランスポータ４４に基板Ｗを受け渡すためのアクセスハンドとして機能する。なお、説明は省略するが、搬送ハンド４８の基板Ｗの受け渡し時の動作は、上述した第１リニアトランスポータ４２の動作と同様である。

図２は、一実施形態に係る基板洗浄装置３１の構成図である。
図２に示す基板洗浄装置３１は、基板Ｗをスクラブ洗浄する洗浄部材６０と、洗浄部材６０を回転させる回転装置７０と、を備える。洗浄部材６０及び回転装置７０は、基板Ｗの上下に配置されている。基板Ｗの上方に配置された回転装置７０Ａは、アーム８０に接続されて昇降及び水平移動が可能とされている。なお、基板Ｗの下方に配置された回転装置７０Ｂは、図示しないベースなどに固定されている。

洗浄部材６０は、基板Ｗをスクラブ洗浄する本体部６１と、本体部６１を保持するホルダー６２と、を備える。本体部６１は、円筒状のスポンジ体であって、例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）製スポンジあるいはウレタン製スポンジなどから形成されている。なお、本体部６１は、周面にブラシ毛を有するブラシ体であっても構わない。

ホルダー６２は、本体部６１を支える軸体であって、本体部６１の内部に挿通して配置されている。ホルダー６２は、例えば、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）やＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）などから形成されている。ホルダー６２の両端部６３は、本体部６１の両端面よりも軸方向外側に延びている。

ホルダー６２の両端部６３のうちの一方（一端部６３Ａ）には、軸部６４Ａと、フランジ部６５Ａと、が形成されている。ホルダー６２の両端部６３のうちの他方（他端部６３Ｂ）には、軸部６４Ｂが形成され、軸部６４Ｂの周面には図示しないネジが形成され、ナット部６５Ｂが螺合している。フランジ部６５Ａ及びナット部６５Ｂは、本体部６１の両端面と軸方向で対向している。

回転装置７０は、ホルダー６２の両端部６３が装着される一対の回転軸７１を備える。一対の回転軸７１のうちの一方は、従動軸７１Ａであり、ホルダー６２の一端部６３Ａの軸部６４Ａに係合する。従動軸７１Ａは、スプリング７４によって軸方向に移動可能とされている。具体的には、従動軸７１Ａは、軸受７２を介して軸箱７３に支持されており、軸箱７３がスプリング７４によって洗浄部材６０に向かって軸方向に付勢されている。軸箱７３及びスプリング７４は、ハウジング７５に対し軸方向に移動可能に収容されている。

一対の回転軸７１のうちの他方は、駆動軸７１Ｂであり、ホルダー６２の他端部６３Ｂの軸部６４Ｂに係合する。駆動軸７１Ｂは、回転装置７０の内部に収容された図示しないモーターの駆動によって回転する。駆動軸７１Ｂは、円柱体の端面にマイナス（－）の凸部が形成された形状とされている。この駆動軸７１Ｂを受ける軸部６４Ｂは、後述する図５に示すように、駆動軸７１Ｂの凸部が挿入されるすり割り６４Ｂ１と、駆動軸７１Ｂの周面を囲って調心する円弧片６４Ｂ２と、を有する。

なお、従動軸７１Ａは、マイナス（－）の凸部に円柱体が立設した形状とされている。この従動軸７１Ａを受ける軸部６４Ａは、後述する図４に示すように、従動軸７１Ａの凸部が挿入されるすり割り６４Ａ１と、従動軸７１Ａの円柱体が挿入されて調心する孔部６４Ａ２と、を有する。

次に、上記構成の回転装置７０に対し洗浄部材６０を着脱する着脱用治具１００の構成について説明する。

図３は、一実施形態に係る洗浄部材６０の着脱用治具１００の正面図である。図４は、一実施形態に係る着脱用治具１００を正面左側から視た斜視図である。図５は、一実施形態に係る着脱用治具１００を背面右側から視た斜視図である。図６は、一実施形態に係る着脱用治具１００の分解斜視図である。
これらの図に示すように、洗浄部材６０の着脱用治具１００は、一対の治具本体１１０と、一対の治具本体１１０を連結する連結機構１２０と、を備える。

一対の治具本体１１０は、上述した図２に示すように、本体部６１と回転装置７０との隙間から露出するホルダー６２の両端部６３を挟持可能に構成されている。一対の治具本体１１０のぞれぞれは、図４及び図５に示すように、一つの交点Ｐで交差し、且つ、当該交点Ｐを中心に開閉可能な挟持片１１１（シザース）を備える。

連結機構１２０は、挟持片１１１の交点Ｐにおいて、一対の治具本体１１０同士を連結する連結軸１２１と、挟持片１１１がホルダー６２を挟持する第１端１１１Ａ（ツメ）に対して交点Ｐを挟んだ反対側の第２端１１１Ｂにおいて、一対の治具本体１１０同士を連結する一対の把持軸１２２と、を備える。

連結軸１２１は、図６に示すように、挟持片１１１に対して相対回転可能に連結されている。具体的に、連結軸１２１の両端部には、円柱軸１２１ａが形成され、円柱軸１２１ａは、挟持片１１１の交点Ｐに形成された貫通孔１１２に挿入されている。円柱軸１２１ａの先端には、孔部１２１ｂが形成され、孔部１２１ｂにネジ１４０がワッシャー１４１を挿通して螺合することで、連結軸１２１が挟持片１１１に対して相対回転可能に連結される。

一方で、一対の把持軸１２２のそれぞれは、挟持片１１１に対して相対回転不能に連結されている。具体的に、把持軸１２２の両端部には、角柱軸１２２ａが形成され、角柱軸１２２ａは、挟持片１１１の第２端１１１Ｂに形成された角形溝１１４に係合している。角形溝１１４の底部には、挟持片１１１を軸方向に貫通する貫通孔１１３が形成されている。角柱軸１２２ａの先端には、孔部１２２ｂが形成され、孔部１２２ｂにネジ１４２が螺合することで、把持軸１２２が挟持片１１１に対して相対回転不能に連結される。

これにより、一対の治具本体１１０の動きを連動させることができる。すなわち、一対の把持軸１２２を互いに近接させれば、交点Ｐを中心に一対の治具本体１１０の挟持片１１１が閉じ、ホルダー６２の両端部６３を挟持する挟持状態となる。また、一対の把持軸１２２を互いに離間させれば、交点Ｐを中心に一対の治具本体１１０の挟持片１１１が開き、ホルダー６２の両端部６３の挟持状態を解除する非挟持状態となる。

着脱用治具１００は、一対の把持軸１２２同士を固定し、上記挟持状態を維持する固定部材１３０を備える。固定部材１３０は、図６に示すように、孔部１３１と、フック部１３２と、を備える。孔部１３１には、一対の把持軸１２２のいずれか一方が挿入され、フック部１３２は、一対の把持軸１２２の他方に係合する。

一対の把持軸１２２の少なくともいずれか一方（本実施形態では両方）の周面には、環状溝１２２ｃが形成され、固定部材１３０は、環状溝１２２ｃに係合している。具体的に、固定部材１３０には、孔部１３１に連通する一対の貫通孔１３３が径方向に形成され、貫通孔１３３に螺合するネジ１４３の先端が、環状溝１２２ｃに挿入されている。これにより、固定部材１３０は、把持軸１２２に沿う軸方向の移動が規制されつつ、把持軸１２２を中心に回動可能となる。

一対の治具本体１１０の挟持片１１１の第１端１１１Ａは、ホルダー６２の両端部６３の形状に応じた形状を有している。ホルダー６２の一端部６３Ａを挟持する治具本体１１０Ａの挟持片１１１は、図４に示すように、フランジ部６５Ａの軸方向外側において軸部６４Ａの周面を挟持する円弧状の第１端１１１Ａを備える。第１端１１１Ａの下端は、軸部６４Ａを挟持した状態で、軸部６４Ａの直径以下の寸法で離間している。

ホルダー６２の他端部６３Ｂを挟持する治具本体１１０Ｂの挟持片１１１は、図５に示すように、軸部６４Ｂではなくナット部６５Ｂを挟持する円弧状の第１端１１１Ａを備える。ナット部６５Ｂは、ナットフランジ部６５Ｂ１と、ナットフランジ部６５Ｂ１の軸方向外側に配置されたナット回し部６５Ｂ２と、を有する。ナット回し部６５Ｂ２は、ナットフランジ部６５Ｂ１よりも小径で、周面が平行に切り欠かれたフラット部６５Ｂ３を有し、フラット部６５Ｂ３にレンチやスパナが係合可能とされている。

治具本体１１０Ｂの挟持片１１１の第１端１１１Ａには、図４に示すように、周壁１１５と、底壁１１６とが形成されている。図５に示すように、周壁１１５は、ナットフランジ部６５Ｂ１の周面を挟持する。また、底壁１１６は、ナットフランジ部６５Ｂ１と軸方向で対向すると共に、その内周面がナット回し部６５Ｂ２のフラット部６５Ｂ３以外の周面を挟持する。なお、第１端１１１Ａの下端は、ナット部６５Ｂを挟持した状態で、ナットフランジ部６５Ｂ１の直径以下且つナット回し部６５Ｂ２の周面の直径以下の寸法で離間している。

続いて、上記構成の着脱用治具１００を用いて、回転装置７０に洗浄部材６０を装着する手順について説明する。

図７は、一実施形態に係る回転装置７０に洗浄部材６０を装着する手順を示す説明図である。なお、図７に示す回転装置７０は、基板Ｗの下方に配置された回転装置７０Ｂであるが、基板Ｗの上方に配置された回転装置７０Ａにおいても、回転装置７０Ａに対し洗浄部材６０を水平方向に挿入する以外は、以下の手順と同様である。
先ず、図７（ａ）に示すように、洗浄部材６０のホルダー６２の両端部６３を、着脱用治具１００で挟持する。

具体的には、図４に示す固定部材１３０を回動させてロックを解除し、一対の把持軸１２２を互いに離間させ、一対の治具本体１１０の挟持片１１１を開く。次に、挟持片１１１の第１端１１１Ａの間に、洗浄部材６０のホルダー６２の両端部６３を配置し、一対の把持軸１２２を互いに近接させ、一対の治具本体１１０の挟持片１１１を閉じる。その後、固定部材１３０を回動させてフック部１３２を把持軸１２２に係合させることで、洗浄部材６０の挟持状態を維持する。

次に、図７（ｂ）に示すように、回転装置７０Ｂに対し洗浄部材６０を鉛直方向に挿入したら、ホルダー６２の一端部６３Ａを、回転装置７０の従動軸７１Ａに軸方向に押し付ける。このとき、着脱用治具１００（洗浄部材６０）の角度を調整し、ホルダー６２の一端部６３Ａを、回転装置７０の従動軸７１Ａに係合させる。この押し付けによって、従動軸７１Ａが軸方向にスプリングバックし、洗浄部材６０の他端部６３Ｂ側に、回転装置７０との隙間が形成される。

最後に、図７（ｃ）に示すように、上述した隙間を利用し、洗浄部材６０の他端部６３Ｂを、回転装置７０の駆動軸７１Ｂに係合させる。このとき、着脱用治具１００（洗浄部材６０）の角度を調整し、ホルダー６２の他端部６３Ｂを、回転装置７０の駆動軸７１Ｂに係合させる。
以上のように、回転装置７０に洗浄部材６０を装着したら、図４に示す固定部材１３０を回動させてロックを解除し、一対の把持軸１２２を互いに離間させ、一対の治具本体１１０の挟持片１１１を開き、洗浄部材６０から着脱用治具１００を離脱させる。これにより、回転装置７０に対する洗浄部材６０の装着が完了する。

このように、上述した本実施形態によれば、基板Ｗをスクラブ洗浄する本体部６１と、本体部６１を保持するホルダー６２と、を備え、ホルダー６２の両端部６３が、回転装置７０に対し着脱可能とされる洗浄部材６０の着脱用治具１００であって、本体部６１と回転装置７０との隙間から露出するホルダー６２の両端部６３を挟持可能な一対の治具本体１１０と、一対の治具本体１１０を連結し、且つ、ホルダー６２の両端部６３を挟持する挟持状態と、当該挟持状態を解除する非挟持状態との間で、一対の治具本体１１０の動きを連動させる連結機構１２０と、を備える、という構成を採用することによって、洗浄部材６０の周辺に十分な隙間がなくても、洗浄部材６０を直接手で持つことなく、回転装置７０に対して洗浄部材６０を容易に着脱できる。

また、本実施形態では、図４及び図５に示すように、一対の治具本体１１０のぞれぞれは、一つの交点Ｐで交差し、且つ、当該交点Ｐを中心に開閉可能な挟持片１１１を備え、連結機構１２０は、挟持片１１１の交点Ｐにおいて、一対の治具本体１１０同士を連結する連結軸１２１と、挟持片１１１がホルダー６２を挟持する第１端１１１Ａに対して交点Ｐを挟んだ反対側の第２端１１１Ｂにおいて、一対の治具本体１１０同士を連結する一対の把持軸１２２と、を備えているので、洗浄部材６０と回転装置７０との隙間に手が入らない場合であっても、当該隙間の外側から一対の把持軸１２２を操作し、それぞれの挟持片１１１を開閉できる。

また、本実施形態では、一対の把持軸１２２同士を固定し、挟持状態を維持する固定部材１３０を備える。この構成によれば、一対の治具本体１１０の挟持状態を維持できるため、例えば、上述した回転装置７０に対し洗浄部材６０を装着する際に着脱用治具１００（洗浄部材６０）の角度を調整する作業が容易になる。

また、本実施形態では、図６に示すように、一対の把持軸１２２の少なくともいずれか一方の周面には、環状溝１２２ｃが形成され、固定部材１３０は、環状溝１２２ｃに係合している。この構成によれば、固定部材１３０の把持軸１２２に沿う軸方向の移動が規制されるので、着脱用治具１００を傾けた際などに固定部材１３０が移動したりせず、洗浄部材６０の着脱の作業性が向上する。

また、本実施形態では、連結軸１２１は、挟持片１１１に対して相対回転可能に連結され、一対の把持軸１２２のそれぞれは、挟持片１１１に対して相対回転不能に連結されている。この構成によれば、連結軸１２１によって挟持片１１１を開閉可能に連結させつつも、一対の把持軸１２２が挟持片１１１に対して回転しなくなるので、着脱用治具１００のハンドリング性能が向上する。

以上、本発明の好ましい実施形態を記載し説明してきたが、これらは本発明の例示的なものであり、限定するものとして考慮されるべきではないことを理解すべきである。追加、省略、置換、およびその他の変更は、本発明の範囲から逸脱することなく行うことができる。従って、本発明は、前述の説明によって限定されていると見なされるべきではなく、特許請求の範囲によって制限されている。

例えば、以下の図８に示すような構成を採用してもよい。

図８は、一実施形態の変形例に係る洗浄部材６０の着脱用治具１００の正面図である。
図８に示す着脱用治具１００は、一対の治具本体１１０の間隔を調整する間隔調整機構１５０を備える。間隔調整機構１５０は、連結機構１２０の連結軸１２１及び一対の把持軸１２２の双方を、軸方向に伸縮させるテレスコピック構造を採用している。

連結軸１２１及び一対の把持軸１２２のそれぞれは、軸方向において２本の軸に分割され、一方の軸に孔部１５１が形成され、他方の軸にロッド１５２が形成され、孔部１５１及びロッド１５２が互いに軸方向にスライド可能に係合している。孔部１５１には、径方向外側から止めネジ１５３が挿入され、止めネジ１５３を介してロッド１５２を締めることによって、軸の長さ、つまり一対の治具本体１１０の間隔を調整できる。この構成によれば、長さの異なる洗浄部材６０の着脱に対しても、連結軸１２１及び一対の把持軸１２２を長いものに取り換えることなく、この着脱用治具１００を使用できる。

１ 基板処理装置
３１ 基板洗浄装置
６０ 洗浄部材
６１ 本体部
６２ ホルダー
６３ 両端部
７０ 回転装置
１００ 着脱用治具
１１０ 治具本体
１１１ 挟持片
１１１Ａ 第１端
１１１Ｂ 第２端
１２０ 連結機構
１２１ 連結軸
１２２ 把持軸
１２２ｃ 環状溝
１３０ 固定部材
１５０ 間隔調整機構
Ｐ 交点

Claims (6)

1. 対象物をスクラブ洗浄する本体部と、前記本体部を保持するホルダーと、を備え、前記ホルダーの両端部が、回転装置に対し着脱可能とされる洗浄部材の着脱用治具であって、
   前記本体部と前記回転装置との隙間から露出する前記ホルダーの両端部を挟持可能な一対の治具本体と、
   前記一対の治具本体を連結し、且つ、前記ホルダーの両端部を挟持する挟持状態と、当該挟持状態を解除する非挟持状態との間で、前記一対の治具本体の動きを連動させる連結機構と、を備える、ことを特徴とする洗浄部材の着脱用治具。
2. 前記一対の治具本体のぞれぞれは、一つの交点で交差し、且つ、当該交点を中心に開閉可能な挟持片を備え、
   前記連結機構は、
   前記挟持片の交点において、前記一対の治具本体同士を連結する連結軸と、
   前記挟持片が前記ホルダーを挟持する第１端に対して前記交点を挟んだ反対側の第２端において、前記一対の治具本体同士を連結する一対の把持軸と、を備える、ことを特徴とする請求項１に記載の洗浄部材の着脱用治具。
3. 前記一対の把持軸同士を固定し、前記挟持状態を維持する固定部材を備える、ことを特徴とする請求項２に記載の洗浄部材の着脱用治具。
4. 前記一対の把持軸の少なくともいずれか一方の周面には、環状溝が形成され、
   前記固定部材は、前記環状溝に係合している、ことを特徴とする請求項３に記載の洗浄部材の着脱用治具。
5. 前記連結軸は、前記挟持片に対して相対回転可能に連結され、
   前記一対の把持軸のそれぞれは、前記挟持片に対して相対回転不能に連結されている、ことを特徴とする請求項２～４のいずれか一項に記載の洗浄部材の着脱用治具。
6. 前記一対の治具本体の間隔を調整する間隔調整機構を備える、ことを特徴とする請求項１～５のいずれか一項に記載の洗浄部材の着脱用治具。

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