JP2013527597A - 感光性半導体ダイオードを採用した画像センサ - Google Patents
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Abstract
Description
実施形態は、電荷蓄積部が半導体基板のn型領域からなる画像センサを含む。
実施形態は、電荷蓄積部がダイオードからなる画像センサを含む。
実施形態は、電荷蓄積部が埋め込みダイオードからなる画像センサを含む。
実施形態は、埋め込みダイオードが半導体基板のn型領域上にp型の感光材料層を備えた画像センサを含む。
実施形態は、非金属接触領域がpn接合からなる画像センサを含む。
実施形態は、非金属接触領域がヘテロ接合からなる画像センサを含む。
実施形態は、感光材料が電荷蓄積部と直接接触している画像センサを含む。
実施形態は、感光材料が電荷蓄積部上にパッシベーション層を形成している画像センサを含む。
実施形態は、電荷蓄積部が埋め込みダイオードからなり、埋め込みダイオードが半導体基板のn型領域上にp型の感光材料層を備えている画像センサを含む。
実施形態は、感光材料はこの感光材料に入射する光から電荷蓄積部を実質的に遮蔽する画像センサを含む。
実施形態は、材料層がp型半導体材料からなる画像センサを含む。
実施形態は、材料層が、半導体材料、重合体材料、及び有機材料の群から選択した材料を備えている画像センサを含む。
実施形態は、電荷蓄積部上に位置する少なくとも1つの材料層が、感光層に入射する光から電荷蓄積部を遮蔽する画像センサを含む。
実施形態は、半導体基板が該半導体基板の第1側部上に金属相互接続部を備えている画像センサを含む。
実施形態は、感光材料が半導体基板の第1側部上に位置する画像センサを含む。
実施形態は、電荷蓄積部を露出させるべく半導体基板の金属相互接続層に開口部が形成された画像センサを含み、該開口部を介して感光材料が電荷蓄積部と結合されている。
実施形態は、開口部に少なくとも1つの追加の非金属材料層が含まれている画像センサを含む。
実施形態は、感光材料が半導体基板の第2側部上に位置している画像センサを含む。
実施形態は、電極が各画素領域の感光材料上に位置する透明電極からなる画像センサを含む。
実施形態は、電極が各画素領域の感光材料の周囲に設けられたグリッド電極である画像センサを含む。
実施形態は、電極が複数の画素領域に共通の電極である画像センサを含む。
実施形態は、電極が接地されている画像センサを含む。
実施形態は、電極が、電荷蓄積部を形成している埋め込みダイオードの空乏電圧よりも低い電圧を印加するように構成されている画像センサを含む。
実施形態は、センスノードが半導体基板のドープ領域からなる画像センサを含む。
実施形態は、センスノードと電荷蓄積部の間に電荷転送トランジスタが設けられ、電荷転送トランジスタは、そのゲートに転送信号が供給されると、センスノードと電荷蓄積部との間で電荷を選択的に転送する画像センサを含む。
実施形態は、結合期間中に感光材料からの電荷を電荷蓄積部に結合するように画素回路が構成されており、電荷が感光材料から非金属接触領域を介して電荷蓄積部へ転送される画像センサを含む。
実施形態は、画素回路が相関二重サンプリングを用いて読み出し信号を供給するように構成されている画像センサを含む。
実施形態は、結合期間中に電荷転送トランジスタが閉じる画像センサを含む。
実施形態は、画素回路が、読み出しの前にセンスノードの第2リセットを実行するように構成されており、第2リセットの間、電荷転送トランジスタが閉じられるとともにリセットトランジスタが開かれる画像センサを含む。
実施形態は、感光材料が、各画素領域の電極および電荷蓄積部と接触した、相互接続されたナノ結晶粒子の連続膜を備えている、画像センサを含む。
実施形態は、複数のナノ結晶コア同士が融合されている画像センサを含む。
実施形態は、画素領域間の略境界における水平面に配置された遮光層を用いて画素領域間の光アイソレーションが達成される画像センサを含む。
実施形態は、遮光層が5nm〜100nmの範囲の幅を持った材料から成る画像センサを含む。
実施形態は画像センサを含み、画像センサは、半導体基板と、光を受光するように位置付けられる感光材料を半導体基板上にそれぞれ備える複数の画素領域と、埋め込みダイオードとを備える。埋め込みダイオードは、半導体基板のドープ領域と、ドープ領域上にわたる感光材料の一部分とを備えている。
実施形態は、感光材料とドープ領域との間の界面がヘテロ接合を形成している画像センサを含む。
実施形態は、感光材料とドープ領域との間の界面がヘテロ接合を形成している画像センサを含む。
実施形態は、埋め込みダイオードが、感光材料に入射する光から実質的に遮蔽されていることを含む。
実施形態は、画像センサを読み出す方法を含む。この方法は、半導体基板上に感光材料を提供すること、感光材料を光に曝すこと、第1リセットを実行して、センスノードを基準電位にリセットするとともに、埋め込みダイオードを空乏電圧レベルにリセットすること、結合期間中にセンスノードから埋め込みダイオードをアイソレートすること、結合期間中に感光材料からの電荷を埋め込みダイオードに結合することであって、結合期間中に結合される電荷の量は、感光材料に入射する光の強度に依存する当該結合すること、センスノードが埋め込みダイオードからアイソレートされている間、読み出しに先立ってセンスノードをリセットするための第2リセットを実行すること、第2リセット後に、埋め込みダイオードからの電荷をセンスノードへ転送すること、センスノードから信号を読み出すことを備える。
実施形態は、感光材料がダイオードと界面を接してpn接合を形成しており、その界面を介して感光材料からダイオードに電荷が結合されることを含む。
本明細書中で説明するシステムおよび方法は、図面を参照することで理解される。
特定の例示的実施形態では、0.11umのCMOS技術ノードを採用した場合、行軸および列軸に沿った画素の周期的な繰り返し距離は700nm、900nm、1.1um、1.2um、1.4um、1.55um、175um、2.2um、またはこれ以上であってもよい。これらの画素サイズのうち最も小さいもの、特に700nm、900nm、1.1um、1.2um、1.4umの実装には、隣接する画素の対間またはより大きなグループ間で共有されるトランジスタが必要である。
QD装置の実施形態は、QD層とカスタム設計または事前に組み立てられた電子読み出し集積回路とを備えている。次にQD層は、カスタム設計の、または事前に組み立てられた電子読み出し集積回路上に直接形成される。いくつかの実施形態では、QD層は、回路上の何処にあるかにかかわらず、回路の少なくともいくらかの部分にわたって連続して重なり、これと接触している。いくつかの実施形態では、QD層が回路の3次元特徴の上にこれを覆って存在している場合、QD層はこれらの3次元特徴と合致する。言い換えれば、QD層とその下の電子読み出し集積回路との間には、実質的に接した界面が存在する。回路内の1つ以上の電極がQD層と接触しており、QD層に関する情報、例えばQD層上の照射線1000の量に関する電子信号を、読み出し回路へ中継することができる。QD層は、その下の回路(例えば読み出し回路)の全体を被覆するように連続様式で提供するか、またはパターン処理することができる。QD層が連続様式で提供された場合、フィルファクタはパターン処理によって約100%アプローチでき、また、減少するとはいえ、例えばシリコンフォトダイオードを使用したCMOSセンサの場合の典型的な35%よりも遥かに多い。
共通接触部1401は所与の時間にアレイにわたって1つの電極電位にあるのに対し、画素電極1402はアレイにわたって時間的と空間的に変化し得る。例えば、1402におけるバイアスが1402に流入・流出する電流に関連して変化するように回路が構成されている場合には、各電極1402は、結合期間進行の全体を通じて各種の異なるバイアスを受けることができる。領域1403は、側方面内の1401と1402の間の非接触領域を示す。1403は概して、1401と1402の間に流れる暗電流を最小化するための絶縁材料である。1401と1402は概して異なる材料で構成されていてもよい。例えばこれらの各々は、例えばTiN、TiN/Al/TiN、Cu、TaN、Ni、Ptのリストから選択でき、また、このリストの材料を用いた場合、一方または両方の接触部の上に、Pt、アルカンチオール、Pd、Ru、Au、ITO、またはその他の導電材料あるいは部分的導電材料の中から選択したさらなる層あるいは1組の層を重ねることができる。
ここで述べる実施形態はそれぞれ組み合わせることが可能である。例示的な実施形態は、金属ではなくシリコン等の半導体から成る画素電極を採用した画素回路を含む。実施形態では、金属製画素電極(前面または背面のいずれか)の間ではなく、膜とダイオードの間に直接接続を形成できる。このアプローチまたは構造に、本明細書中で述べているその他の特徴を組み合わせることが可能である。
図6Bは、感光材料がシリコンダイオードと密接に接触して結合されている、前面照射されたCMOS画像センサ画素を示す。631は、画像センサが上に製造されたシリコン基板である。633は、シリコン内に形成されたダイオードを示す。639は金属層相互接続部であり、637は、集積回路内およびこれに亘り電気信号を伝達させる層間誘電体スタックである。641は、画像化される光の主要な吸収場所となる感光材料である。643は、感光材料から光キャリアを収集するべく、感光材料を電気バイアスするために使用される透明電極である。645は、有機物質またはポリマー封止材料(例えパリレン)、あるいはSi3N4等の無機物質、もしくはこれらの組み合わせを組み込んだスタックのうちの少なくとも1つから成っていてもよいパッシベーション層である。645は、下にある材料と回路を、水や酸素の衝突等の環境的影響から保護するべく機能する。647は、色画像化の達成を補助するべく使用される、スペクトル選択的な光送信機であるカラー・フィルタ・アレイ層である。649は、感光材料641上への光の集束を補助するマイクロレンズである。635は、感光材料641とダイオード633の間に設けられた材料である。635は追加の埋め込み層と称することができる。例示的な実施形態はp型シリコン層を含む。例示的な実施形態は、半導体等の非金属材料を含み、および/または、ポリマー材料および/または有機材料を含むこともできる。実施形態では、材料635は、電荷が感光材料からダイオードへと流れることができる十分な伝導性を持った経路を設けることができるが、しかし、これは金属相互接続部ではない。実施形態において、635は、この例示的実施形態ではダイオード表面を不動態化し、埋め込みダイオードを作成する(この追加層の頂上にある感光材料の代わりとなる)べく機能する。
例示的な実施形態は、画素素子のアレイを使用して画像の検出を行う画像センサを提供する。画素素子は感光材料を含んでいてもよく、この感光材料をここでは感光性付与材料とも称しており、これは図6Aの609、図6Bの641、図6Cの659、図7Aの709、図8中の光801が入射する充填楕円形、図9の903、図10の1003、図11A〜図11Fの1103に相当する。
第1リセット(図12の「a」)を実行して、センスノード(図8の811)とダイオード(図8の805)を結合前にリセットする。トランジスタ(図8の817)をリセットし、第1リセット中に電荷転送トランジスタ(図8の809)を開く。これにより、センスノード(図8の811)が基準電位(例えば3ボルト)にリセットされる。ダイオードは、空乏化されると、固定電圧に据え置かれる。ダイオードが据え置かれるこの固定電圧は、「ダイオードの空乏電圧」と称される。リセットによってダイオードが空乏化し、これによりダイオードの電圧がリセットされる(例えば1ボルト)。電圧は据え置かれているので、センスノードと同じ電圧レベルには達しない。
結合期間中に、電荷が感光材料からダイオード内に結合される(図12の「c」)。感光性膜をバイアスする電極の電圧はダイオードよりも低いので(例えば0ボルト)、材料全体に電圧差が生じ、電荷がダイオードに結合される。電荷は、材料とダイオードの間の非金属接触領域を介して結合される。実施形態では、これは感光材料とダイオードのnドープ領域との間の接合部である。実施形態では、感光材料とダイオードの間に他の非金属層(例えばp型シリコン)が存在する。感光材料との界面によってダイオードが埋め込まれ、さらに、ホール蓄積層を提供することで、nドープ領域の表面が不動態化される。これにより、ダイオードの頂面に形成された酸化シリコンによって発生するノイズと暗電流が低減する。
図6Aを参照すると、既述のシステムは、ダイオード603を介して感光材料609とシリコン読み出し回路を結合することでで、暗電流および/またはノイズ、および/または光反応の感光性不均一性、および/または暗電流不均一性の最小化を達成できる。
図6Aを参照すると、これは実質的に垂直バイアスのケースと称することができ、ダイオード603と頂部電極611の間の感光性付与材料609に亘りバイアスが提供される。このケースでは、頂部電極611は、感知する光の波長を透過させることが望ましい。頂部電極611の形成に使用できる材料の例には、Mo03、ITO、AZOや、BPhen等の有機材料や、アルミニウム、銀、銅、ニッケル等の金属の極薄膜が含まれる。
図10を参照すると、感光材料1003を介した画素の光アイソレーションについて、次の構造および処理を採用することができる。二重露光技術やインプリント技術等の高解像度リソグラフィ技術を用いて、感光材料の表面上にハードマスク保護パターンを形成する。マスクが最小寸法のグリッドを形成する(例えば、幅22nmまたは16nm)。露出された感光材料を、異方性反応性イオンプラズマエッチング工程を用いて、感光層の全体または主要部分に亘りエッチングする。形成された凹部を例えば、(a)光子を完全な内部反射によって画素内部に戻すために必要な屈折率を備えた1つ以上の誘電材料で充填する、または、(b)露出させた感光材料を酸化させて、凹部の側壁に厚さ約1〜5nmの電気アイソレーション層を形成し、その他の自由空間を、例えば従来の真空メタライゼーション工程を用いて、アルミニウム等の反射性金属材料で充填する。感光材料の表面上に残留した金属を、湿式または乾式エッチング、あるいは機械研磨によって除去する。
Claims (78)
- 画像センサであって、
半導体基板と、
光を受光するように位置付けられる感光材料を前記半導体基板上にそれぞれ備える複数の画素領域と、
前記半導体基板上に形成された電荷蓄積部と読み出し回路とを備える各画素領域の画素回路と、
前記各画素領域の前記電荷蓄積部と前記感光材料との間の非金属接触領域と、を備え、
前記電荷蓄積部は前記非金属接触領域を介して前記各画素領域の前記感光材料と電気的に導通されている、画像センサ。 - 前記電荷蓄積部は前記半導体基板のドープ領域からなる、請求項1に記載の画像センサ。
- 前記電荷蓄積部は前記半導体基板のn型領域からなる、請求項1に記載の画像センサ。
- 前記電荷蓄積部はダイオードからなる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記電荷蓄積部はn型シリコンダイオードからなる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記電荷蓄積部は埋め込みダイオードからなる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記埋め込みダイオードは、前記半導体基板のn型領域上にp型の感光材料層を備えている、請求項6に記載の画像センサ。
- 前記感光材料はp型半導体材料からなる、請求項1〜7のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記非金属接触領域はpn接合からなる、請求項1〜8のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記非金属接触領域はヘテロ接合からなる、請求項1〜9のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記感光材料は前記電荷蓄積部と直接的に電気的に導通されている、請求項1〜10のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記感光材料は前記電荷蓄積部と直接接触(または直接結合)している、請求項1〜11のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記感光材料は前記電荷蓄積部上にパッシベーション層を形成している、請求項1〜12のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記感光材料は前記電荷蓄積部上にホール蓄積層を形成している、請求項1〜13のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記電荷蓄積部は埋め込みダイオードからなり、前記埋め込みダイオードは前記半導体基板のn型領域上にp型の感光材料層を備えている、請求項1〜14のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記感光材料は画像化される波長光を吸収する、請求項1〜15のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記感光材料は該感光材料の層に入射する光から前記電荷蓄積部を実質的に遮蔽する、請求項1〜16のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記非金属接触領域は前記感光材料と前記電荷蓄積部との間に少なくとも1層の材料層を備えている、請求項1〜10のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記材料層はp型半導体材料からなる、請求項18に記載の画像センサ。
- 前記材料層はp型シリコン層からなる、請求項18に記載の画像センサ。
- 前記材料層は、半導体材料、ポリマー材料、及び有機材料からなる群より選択された材料からなる、請求項18に記載の画像センサ。
- 前記材料層は、電荷を流すための非金属導電路を前記感光材料と前記電荷蓄積部との間に提供する、請求項18に記載の画像センサ。
- 前記電荷蓄積部上の少なくとも1層の材料層により、前記感光材料の層に入射する光から前記電荷蓄積部を実質的に遮蔽する、請求項1〜22のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記画素回路は前記半導体基板の第1側部上に形成された少なくとも1つのトランジスタを備えている、請求項1〜23のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記半導体基板は前記半導体基板の第1側部上に金属相互接続部を備えている、請求項1〜24のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記電荷蓄積部は前記半導体基板の前記第1側部上に形成されている、請求項24または25に記載の画像センサ。
- 前記感光材料は前記半導体基板の前記第1側部上に位置している、請求項24〜26のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記半導体基板の金属相互接続層に開口部が形成されて前記電荷蓄積部が露出されており、前記感光材料は前記開口部を介して前記電荷蓄積部と結合されている、請求項1〜27のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記感光材料の少なくとも一部は前記開口部内に位置している、請求項28に記載の画像センサ。
- 前記少なくとも1つの追加の非金属材料層が前記開口部内に含まれている、請求項28に記載の画像センサ。
- 前記電荷蓄積部は前記半導体基板の第2側部上に形成されている、請求項24または25に記載の画像センサ。
- 前記感光材料は前記半導体基板の第2側部上に位置している、請求項24、25、または28に記載の画像センサ。
- 前記各画素領域の前記感光材料に近接した少なくとも1つの電極をさらに備える請求項1〜32のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記電極が前記各画素領域の前記感光材料上に位置する透明電極からなる、請求項33に記載の画像センサ。
- 前記電極が前記各画素領域の前記感光材料に近接した側方電極である、請求項33に記載の画像センサ。
- 前記電極が前記各画素領域の前記感光材料の周囲のグリッド電極である、請求項33に記載の画像センサ。
- 前記電極が前記半導体基板の金属相互接続層と電気的に導通されている、請求項33または34に記載の画像センサ。
- 前記電極が前記複数の画素領域に共通の電極である、請求項33〜37のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記電極が前記感光材料をバイアスするように構成されている、請求項33〜38のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記電極が接地されている、請求項33〜39のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記電極が、前記電荷蓄積部を形成している埋め込みダイオードの空乏電圧よりも低い電圧を印加するように構成されている、請求項33〜40のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記画素回路はさらにセンスノードを備えている、請求項1〜41のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記センスノードは前記半導体基板のドープ領域からなる、請求項42に記載の画像センサ。
- 前記センスノードと前記電荷蓄積部との間に電荷転送トランジスタをさらに備え、前記電荷転送トランジスタは、そのゲートに転送信号が供給されると、前記センスノードと前記電荷蓄積部との間で電荷を選択的に転送する、請求項42または43に記載の画像センサ。
- 前記読み出し回路は、ソース・フォロワ・トランジスタと、該ソース・フォロワ・トランジスタを列読み出しラインに選択的に結合するための行選択トランジスタとを備えている、請求項1〜44のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記画素回路は、前記センスノードと基準電位部との間にリセットトランジスタをさらに備え、前記リセットトランジスタは、そのゲートにリセット信号が供給されると、前記センスノードの電圧を選択的にリセットする、請求項42〜44のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記画素回路内には4個のトランジスタが含まれている、請求項1〜46のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記画素回路が、結合期間中に前記感光材料からの電荷を前記電荷蓄積部に結合するように構成されており、前記電荷は前記非金属接触領域を介して前記感光材料から前記電荷蓄積部へ転送される、請求項1〜47のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 結合期間中に前記各画素領域の前記感光材料によって吸収された光の強度に基づく電荷が前記電荷蓄積部へ転送される、請求項1〜48のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記画素回路が相関二重サンプリングを用いて読み出し信号を提供するように構成されている、請求項1〜49のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記画素回路が、第1リセットを実行するように構成されており、前記第1リセットにおいて、センスノードが基準電位にリセットされ、前記電荷蓄積部は該電荷蓄積部を形成している埋め込みダイオードの空乏電圧にリセットされる、請求項1〜50のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記第1リセットの間においてリセットトランジスタと前記電荷転送トランジスタとが開放される、請求項51に記載の画像センサ。
- 電荷転送トランジスタは結合期間の間において閉じられる、請求項1〜52のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 結合期間中に電極から前記感光材料に電圧差が与えられる、請求項1〜53のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記画素回路は、読み出しの前にセンスノードの第2リセットを実行するように構成されており、前記第2リセットの間、電荷転送トランジスタが閉じられるとともにリセットトランジスタが開かれる、請求項1〜54のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記画素回路は、前記第2リセット後に前記電荷蓄積部からの電荷を読み出しのために前記センスノードへ転送するように構成されており、読み出しのために前記電荷蓄積部からの前記電荷が転送されている間、前記電荷転送トランジスタが開かれるとともに前記リセットトランジスタが閉じられる、請求項55に記載の画像センサ。
- 前記感光材料は単分散ナノ結晶を備えている、請求項1〜56のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記感光材料は、前記各画素領域の電極と前記電荷蓄積部とに接触した、相互接続されるナノ結晶粒子の連続膜を備えている、請求項1〜57のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記ナノ結晶粒子は、複数のナノ結晶コアと、前記複数のナノ結晶コア上のシェルとを備えている、請求項58に記載の画像センサ。
- 前記複数のナノ結晶コア同士は融合されている、請求項59に記載の画像センサ。
- 前記複数のナノ結晶コアはリンカー分子と電気的に相互接続している、請求項59または60に記載の画像センサ。
- 前記画素領域間の略境界における水平面に配置された遮光層を用いて、前記画素領域間の光アイソレーションが達成される、請求項1〜61のいずれか一項に記載の画像センサ。
- 前記遮光層が、Al、TiN、Cu、Ni、Mo、TiOxNy、Wの群から選択された材料から成る、請求項62に記載の画像センサ。
- 前記遮光層は、5nm〜100nmの範囲の幅を持つ材料から成る、請求項62に記載の画像センサ。
- 前記遮光層は、5nm〜100nmの範囲の幅を持つ材料から成る、請求項62に記載の画像センサ。
- 画像センサであって、
半導体基板と、
光を受光するように位置付けられる感光材料を前記半導体基板上にそれぞれ備える複数の画素領域と、
前記半導体基板のドープ領域と該ドープ領域上における前記感光材料の一部とを備える埋め込みダイオードと、
を備える画像センサ。 - 前記感光材料と前記ドープ領域との間の界面はpn接合を形成している、請求項66に記載の画像センサ。
- 前記感光材料と前記ドープ領域との間の界面はヘテロ接合を形成している、請求項66に記載の画像センサ。
- 画像センサであって、
半導体基板と、
光を受光するように位置付けられる感光材料を前記半導体基板上にそれぞれ備える複数の画素領域と、
前記半導体基板上に形成されたダイオードと、を備え、
前記感光材料が前記ダイオードに直接接触して前記感光材料と前記ダイオードとの間が電気的に導通されている、画像センサ。 - 前記感光材料とドープ領域との間の界面はpn接合を形成している、請求項69に記載の画像センサ。
- 前記感光材料とドープ領域との間の界面はヘテロ接合を形成している、請求項69に記載の画像センサ。
- 画像センサから読み出しを行う方法であって、
半導体基板上に感光材料を提供すること、
前記感光材料を光に曝すこと、
前記半導体基板上に形成された電荷蓄積部に、前記感光材料と前記電荷蓄積部との間の非金属接触領域を介して前記感光材料からの電荷を結合すること、を備える方法。 - 前記電荷蓄積部は埋め込みダイオードである、請求項72に記載の方法。
- 前記埋め込みダイオードは前記感光材料に入射する光から実質的に遮蔽される、請求項73に記載の方法。
- 前記感光材料は、画像化される光が吸収される最初の場所である、請求項72に記載の方法。
- 画像センサから読み出しを行う方法であって、
半導体基板上に感光材料を提供すること、
前記感光材料を光に曝すこと、
センスノードを基準電位にリセットするとともに埋め込みダイオードを空乏電圧レベルにリセットするための第1リセットを実行すること、
結合期間中に前記埋め込みダイオードを前記センスノードからアイソレートすること、
前記結合期間中に前記感光材料からの電荷を前記埋め込みダイオードに結合することであって、前記結合期間中に結合される電荷の量は、前記感光材料に入射する光の強度に依存する、前記結合すること、
前記埋め込みダイオードを前記センスノードからアイソレートしている間、読み出しに先立って前記センスノードをリセットするための第2リセットを実行すること、
前記第2リセット後に、前記埋め込みダイオードからの電荷を前記センスノードへ転送すること、
前記センスノードから信号を読み出すこと、
を備える方法。 - 前記感光材料と前記埋め込みダイオードとの間で金属相互接続部が存在していない直接界面を介して前記感光材料から前記埋め込みダイオードに電荷が結合される、請求項76に記載の方法。
- 前記感光材料は前記ダイオードと界面を接してpn接合を形成しており、その界面を介して前記感光材料から前記ダイオードに電荷が結合される、請求項76に記載の方法。
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