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  1. 第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、を有し、
    前記第1のトランジスタの導電型と、前記第2のトランジスタの導電型と、前記第3のトランジスタの導電型と、は同じであり、
    前記第1のトランジスタは、チャネルが形成される第1の半導体層と、第1のゲート電極と、第2のゲート電極と、を有し、
    前記第1のゲート電極は、第1のゲート絶縁層を介して前記第1の半導体層と重なる領域を有し、
    前記第2のゲート電極は、第2のゲート絶縁層を介して前記第1の半導体層と重なる領域を有し、
    前記第2のトランジスタは、チャネルが形成される第2の半導体層と、第3のゲート電極と、第4のゲート電極と、を有し、
    前記第3のゲート電極は、前記第1のゲート絶縁層を介して前記第2の半導体層と重なる領域を有し、
    前記第4のゲート電極は、前記第2のゲート絶縁層を介して前記第2の半導体層と重なる領域を有し、
    前記第3のトランジスタは、チャネルが形成される第3の半導体層と、第5のゲート電極と、第6のゲート電極と、を有し、
    前記第5のゲート電極は、前記第1のゲート絶縁層を介して前記第3の半導体層と重なる領域を有し、
    前記第6のゲート電極は、前記第2のゲート絶縁層を介して前記第3の半導体層と重なる領域を有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第3のゲート電極と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第2のゲート電極と電気的に接続され、
    前記第1のゲート電極は、第1の電源線と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第1の電源線と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第4のゲート電極と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第2の電源線と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第6のゲート電極と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方には、第1の信号が入力され、
    前記第5のゲート電極には、第2の信号が入力され、
    前記第1の電源線は、第1の電位を供給する機能を有し、
    前記第2の電源線は、前記第1の電位とは異なる第2の電位を供給する機能を有し、
    前記第1の信号は、前記第2の信号の論理値が反転した信号であることを特徴とする半導体装置。
  2. 請求項1において、
    前記第1の半導体層、前記第2の半導体層、及び、前記第3の半導体層は、酸化物半導体を用いて形成されることを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項2において、
    前記第1の半導体層、前記第2の半導体層、及び、前記第3の半導体層は、脱水化又は脱水素化処理を行った後、酸素が供給される工程を経て形成されたものであることを特徴とする半導体装置。
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