JP2013045525A - 電子銃および荷電粒子線装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子銃における最も電子源1に近い引出電極5の絞り7Aに炭素など二次電子放出率の小さい薄膜をコーティングすると、二次電子の発生量を減少させることができる。フレアの発生原因である引出電極で発生する二次電子が減少するので、結果的にフレアが減少する。また、引出電極5に2枚の絞り7A,7Bを組み込み、この2枚の絞りに引出電極と等電位となる電位を与えることで、引出電極の下部から上部へ染み出す電界をなくすことができる。この結果、電子ビームが引出電極に衝突したときに発生する二次電子は引出電極から通過する方向の力をうけなくなり、結果的にフレアが減少する。
【選択図】図2
Description
(2)さらに、本願発明は、上記した構成に加えて、前記引出電極には、上下2枚の前記絞りが設けられ、これらの絞りの電位を前記引出電極と等電位にした電子銃も提案する。
[実施例1]
図1の実施例(実施例1)は、適用対象の一例としてショットキー電子銃を示している。
[実施例2]
図12は複数段の加速電極が組み込まれた本発明の他の実施例(実施例2)を示す。本実施例と実施例1との相違点は、実施例1では、加速電極6が一段であるのに対して、実施例2では、加速電極が3段としたショットキー電子銃を例示している。絞り7A,8Aの構成については、実施例1同様である。本実施例の基本的な動作や、その作用効果の説明については、図1同様であるので省略する。
Claims (8)
- 電子源と、前記電子源から電子を引き出すために該電子源に電界を与える引出電極と、前記引出電極により引き出された電子を所定の加速電圧まで加速する加速電極とを備え、前記引出電極には、前記電子源からの電子の一部を通過させる絞りが設けられている電子銃において、
前記絞りは、1枚以上設けられ、少なくとも前記電子源に最も近い絞りの基材表面には、前記絞りに衝突する一次電子の照射エネルギが2kV〜3kVである場合に0.6以下の二次電子放出率を有する材料によるコーティングが施されていることを特徴とする電子銃。 - 請求項1において、前記絞りの基材表面に施される前記コーティングの材料が、炭素或いはボロンであることを特徴とする電子銃。
- 請求項1又は2において、前記電子銃がショットキー電子銃或いは電界放出電子銃であることを特徴する電子銃。
- 請求項1ないし3のいずれか1項において、
前記引出電極には、上下2枚の前記絞りが設けられ、これらの絞りの電位を前記引出電極と等電位にしてあることを特徴とする電子銃。 - 請求項4において、前記引出電極に設けられる前記絞りのうち、下側の絞りの内径は、上側の絞りの内径より大きいことを特徴とする電子銃。
- 請求項5において、前記電子銃がショットキー電子銃であって、前記引出電極に設けられる2枚の前記絞りの間隔は、下側の絞りの内径の1倍以上であることを特徴とする電子銃。
- 請求項5又は6において、前記電子銃が電界放出電子銃であって、前記引出電極に設けられる2枚の前記絞りの間隔は、下側の絞りの内径の2倍以上であることを特徴とする電界放出電子銃
- 請求項1から7のいずれか1項に記載された前記電子銃を含む本体と、前記本体を駆動するための電圧や電流を供給する電源と、前記電源の出力を制御することで前記本体を制御する制御装置と、を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014183045A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-29 | Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh | 高輝度電子銃、高輝度電子銃を用いるシステム及び高輝度電子銃の動作方法 |
JPWO2020235003A1 (ja) * | 2019-05-21 | 2020-11-26 | ||
JPWO2021001916A1 (ja) * | 2019-07-02 | 2021-01-07 | ||
WO2022137332A1 (ja) * | 2020-12-22 | 2022-06-30 | 株式会社日立ハイテク | 電子銃および電子線応用装置 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6340165B2 (ja) * | 2013-04-25 | 2018-06-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子銃、荷電粒子銃およびそれらを用いた荷電粒子線装置 |
DE102016124673B3 (de) | 2016-12-16 | 2018-05-30 | Ketek Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung eines Quellenstroms von Ladungsträgern mittels Feldemission und Verfahren zur Stabilisierung eines mittels eines Feldemissionselements emittierten Quellenstroms von Ladungsträgern |
US10096447B1 (en) * | 2017-08-02 | 2018-10-09 | Kla-Tencor Corporation | Electron beam apparatus with high resolutions |
CN111108582A (zh) | 2017-08-08 | 2020-05-05 | Asml荷兰有限公司 | 带电粒子阻挡元件、包括这样的元件的曝光装置以及使用这样的曝光装置的方法 |
JP6466020B1 (ja) * | 2018-10-16 | 2019-02-06 | 株式会社Photo electron Soul | 電子銃、電子線適用装置、電子銃による電子射出方法、および、電子ビームの焦点位置調整方法 |
CN111540662B (zh) * | 2020-05-08 | 2023-04-11 | 中国工程物理研究院流体物理研究所 | 一种适用于超快电子衍射技术的超高压直流电子枪 |
CN114242550A (zh) * | 2021-09-03 | 2022-03-25 | 聚束科技(北京)有限公司 | 一种电子束产生装置及电子显微镜 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3946268A (en) * | 1974-10-21 | 1976-03-23 | American Optical Corporation | Field emission gun improvement |
JPH09204891A (ja) * | 1996-01-26 | 1997-08-05 | Hitachi Ltd | 電子線描画装置 |
JP2007123134A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Jeol Ltd | 電界放出形電子銃 |
JP2007250491A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Fujitsu Ltd | ZrO/Wエンハンスドショットキー放出型電子銃 |
JP2008052935A (ja) * | 2006-08-22 | 2008-03-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡 |
JP2008117662A (ja) * | 2006-11-06 | 2008-05-22 | Hitachi High-Technologies Corp | ショットキー電子銃及びショットキー電子銃を搭載する荷電粒子線装置 |
JP2009037966A (ja) * | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2003085692A1 (ja) * | 2002-04-11 | 2005-08-18 | 三菱電機株式会社 | 冷陰極表示装置及び冷陰極表示装置の製造方法 |
JP2004273365A (ja) * | 2003-03-11 | 2004-09-30 | Ebara Corp | 電子線装置及び該装置を用いたデバイス製造方法 |
CN1964620B (zh) * | 2003-12-12 | 2010-07-21 | 山米奎普公司 | 对从固体升华的蒸气流的控制 |
US7372195B2 (en) * | 2005-09-10 | 2008-05-13 | Applied Materials, Inc. | Electron beam source having an extraction electrode provided with a magnetic disk element |
JP2008204675A (ja) * | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡及びそれに用いられる絞り板並びに絞り板の製造方法 |
JP2009194252A (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画装置 |
JP2010003596A (ja) * | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線加工装置 |
DE112010002551B4 (de) | 2009-06-16 | 2019-10-31 | Hitachi High-Technologies Corporation | Geladene teilchen abstrahlende vorrichtung |
US20110227173A1 (en) * | 2010-03-17 | 2011-09-22 | Honeywell International Inc. | Mems sensor with integrated asic packaging |
-
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-
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3946268A (en) * | 1974-10-21 | 1976-03-23 | American Optical Corporation | Field emission gun improvement |
JPH09204891A (ja) * | 1996-01-26 | 1997-08-05 | Hitachi Ltd | 電子線描画装置 |
JP2007123134A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Jeol Ltd | 電界放出形電子銃 |
JP2007250491A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Fujitsu Ltd | ZrO/Wエンハンスドショットキー放出型電子銃 |
JP2008052935A (ja) * | 2006-08-22 | 2008-03-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡 |
JP2008117662A (ja) * | 2006-11-06 | 2008-05-22 | Hitachi High-Technologies Corp | ショットキー電子銃及びショットキー電子銃を搭載する荷電粒子線装置 |
JP2009037966A (ja) * | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014183045A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-29 | Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh | 高輝度電子銃、高輝度電子銃を用いるシステム及び高輝度電子銃の動作方法 |
JPWO2020235003A1 (ja) * | 2019-05-21 | 2020-11-26 | ||
WO2020235003A1 (ja) * | 2019-05-21 | 2020-11-26 | 株式会社日立ハイテク | 電子銃および電子銃を備えた荷電粒子線装置 |
KR20210151969A (ko) | 2019-05-21 | 2021-12-14 | 주식회사 히타치하이테크 | 전자총 및 전자총을 구비한 하전 입자선 장치 |
US11978609B2 (en) | 2019-05-21 | 2024-05-07 | Hitachi High-Tech Corporation | Electron gun and charged particle beam device equipped with electron gun |
JPWO2021001916A1 (ja) * | 2019-07-02 | 2021-01-07 | ||
WO2021001916A1 (ja) * | 2019-07-02 | 2021-01-07 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子ビームシステム |
US11961704B2 (en) | 2019-07-02 | 2024-04-16 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam system |
WO2022137332A1 (ja) * | 2020-12-22 | 2022-06-30 | 株式会社日立ハイテク | 電子銃および電子線応用装置 |
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