JP2013018706A - 軸オフの種結晶上での100ミリメートル炭化ケイ素結晶の成長 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体結晶および関連する成長方法が開示される。結晶は、種結晶部分と、種結晶部分上の成長部分とを含んでいる。種結晶部分および成長部分は、実質的に直立した円筒形の炭化ケイ素の単結晶を形成する。種結晶面は、成長部分と種結晶部分との間の界面を規定し、種結晶面は、直立した円筒形の結晶の基部に実質的に平行であり、単結晶の基底平面に関して軸オフである。成長部分は、種結晶部分のポリタイプを複製し、成長部分は、少なくとも約100mmの直径を有する。
【選択図】 図8
Description
方向もまた、図6上に示される。結晶の方向が任意であるという点において、[0001]方向および
方向は、等価な方向と考えられる。等価な方向は、山括弧の使用によって示される。従って、表記<0001>は、[0001]方向と等価な方向のファミリーを示す。平面のファミリーは、波括弧によって、例えば{0001}と表される。SiCウェーハの片側は、シリコン原子によって終端され、他の側は、炭素原子によって終端される。慣例によって、シリコン側は(0001)と表され、炭素側は
と表される。慣例および植字法に依存して、「バー」表示もまた、関連する整数に先行し得る。すなわち(000−1)。
方向から
または
方向のいずれかへの8°の配向が、高品質な炭化ケイ素のエピタキシャル成長を促進することに対して、特に有効であることが見出されている。
一局面において、本発明は、半導体結晶である。該結晶は、種結晶部分と、該種結晶部分上の成長部分とを含んでいる。種結晶部分および成長部分は、実質的に直立した円筒形の炭化ケイ素の単結晶を形成する。種結晶面は、成長部分と種結晶部分との間の界面を規定し、該種結晶面は、直立した円筒形の結晶の基部(base)に実質的に平行であり、該単結晶の{0001}平面に関して約0.5°と12°との間の軸オフである。成長部分は、種結晶部分のポリタイプを複製し、該成長部分は、少なくとも約100mmの直径を有する。
図1は、軸オフの炭化ケイ素ウェーハを得るための従来技術の概略図である。一般に、10で広く示されたバルク結晶は、軸オンの方向において成長する。従って図1が例示するc軸[0001]15は、結晶10のc面(0001)14と直角である。軸オフの成長のための軸オフの種結晶を得るために、結晶10は、c軸15と直角でない(軸オフ)、従ってc面14に関して平行でない複数の線13に沿って切断される。
面は、炭化ケイ素のバルク成長に都合がよいけれども、全くそうというわけではない。従って、当業者は、本明細書中に記載された角度および面に加えて、複数の角度および面を用いて、特許請求の範囲に記載される発明を組込み得る。
Claims (29)
- 半導体結晶であって、
種結晶部分と、
該種結晶部分上の成長部分と、
実質的に直立した円筒形の炭化ケイ素の単結晶を形成する該種結晶部分および該成長部分と、
該成長部分と該種結晶部分との間の界面を規定する種結晶面であって、該種結晶面は、該直立した円筒形の結晶の基部に実質的に平行であり、該単結晶の基底平面に関して軸オフである、種結晶面と、
該種結晶部分のポリタイプを複製する該成長部分と、
少なくとも約100mmの直径を有する該成長部分と
を含む、半導体結晶。 - 前記種結晶面は、前記結晶の{0001}平面から約0.5°と12°との間の軸オフである、請求項1に記載の半導体結晶。
- 前記種結晶部分および前記成長部分は、炭化ケイ素の2H、3C、4H、6Hおよび15Rポリタイプからなる群から選択されるポリタイプを有する、請求項1に記載の半導体結晶。
- 前記種結晶面は、前記結晶の{0001}平面に関して約3.5°と8°との間の軸オフである、請求項1に記載の半導体結晶。
- 前記ポリタイプは、4Hおよび6Hからなる群から選択され、前記種結晶面は、前記結晶の{0001}平面に関して約3.5°と8°との間の軸オフである、請求項1に記載の半導体結晶。
- 前記種結晶面は、
方向に軸オフである、請求項2に記載の半導体結晶。 - 前記種結晶面は、
方向に軸オフである、請求項2に記載の半導体結晶。 - 100cm−2未満のマイクロパイプ密度を有する、請求項1に記載の半導体結晶。
- 20cm−2未満のマイクロパイプ密度を有する、請求項1に記載の半導体結晶。
- 5cm−2未満のマイクロパイプ密度を有する、請求項1に記載の半導体結晶。
- 1cm−2未満のマイクロパイプ密度を有する、請求項1に記載の半導体結晶。
- 半導体ウェーハであって、
単結晶の種結晶部分と、
該種結晶部分上の単結晶の成長部分と、
少なくとも直径100ミリメートルの直立した円筒形の炭化ケイ素の単結晶を規定するために十分な直径を有する該種結晶部分および該成長部分と、
該成長部分と該種結晶部分との間の界面を規定する種結晶面であって、該種結晶面は、該直立した円筒形の結晶の基部に実質的に平行であり、該単結晶の{0001}平面に関して約0.5°と12°との間の軸オフである、種結晶面と、
該種結晶部分のポリタイプを複製する該成長部分と
を含む、半導体ウェーハ。 - 前記種結晶部分および前記成長部分は、炭化ケイ素の2H、3C、4H、6Hおよび15Rポリタイプからなる群から選択されるポリタイプを有する、請求項12に記載の半導体ウェーハ。
- 前記ポリタイプは、4Hおよび6Hからなる群から選択される、請求項12に記載の半導体ウェーハ。
- 前記種結晶面は、
方向に軸オフである、請求項12に記載の半導体ウェーハ。 - 前記種結晶面は、
方向に軸オフである、請求項12に記載の半導体ウェーハ。 - 半導体材料の少なくとも1つのエピタキシャル層を前記直立した円柱単結晶の基部の1つの上にさらに含む、請求項12に記載の半導体ウェーハ。
- 前記エピタキシャル層は、炭化ケイ素を含む、請求項17に記載の半導体ウェーハ。
- 前記エピタキシャル層は、III族窒化物を含む、請求項17に記載の半導体ウェーハ。
- 複数のエピタキシャル層を含む、請求項17に記載の半導体ウェーハ。
- 高品質で大きな直径の炭化ケイ素の単結晶を成長させるための方法であって、該方法は、
炭化ケイ素のバルク単結晶から該バルク結晶のc軸に関してある角度で炭化ケイ素の種結晶を切断することであって、該バルク結晶は、該バルク結晶のc面に関して軸オフである面を有する種結晶を産生する、切断することと、
シードされた成長システムにおける該軸オフの種結晶に対して顕著な温度勾配を適用することにより、該種結晶の軸方向の配向を複製する、結果もたらされるバルク結晶を産生することと、
該種結晶の原初の面に平行に該バルク結晶を切断することによって該バルク結晶からウェーハを切断して、該種結晶ウェーハの{0001}平面に関して軸オフである面を有するウェーハを産生することと
を包含する、方法。 - 前記バルク結晶から複数のウェーハを切断することを包含する、請求項21に記載の方法。
- 前記切断された軸オフのウェーハによってバルク成長システムをシーディングすることをさらに包含する、請求項21に記載の方法。
- 前記切断された軸オフのウェーハによってシードされる、シードされた昇華システムにおいて炭化ケイ素の前記バルク成長を実施することを包含する、請求項23に記載の方法。
- 少なくとも1つのエピタキシャル層を前記種結晶ウェーハの前記軸オフの面上に成長させることをさらに包含する、請求項21に記載の方法。
- 複数のエピタキシャル層を成長させることを包含する、請求項25に記載の方法。
- 炭化ケイ素のエピタキシャル層を成長させることを包含する、請求項25に記載の方法。
- III族窒化物のエピタキシャル層を成長させることを包含する、請求項25に記載の方法。
- シードされた成長システムにおいて前記温度勾配を前記軸オフの種結晶に適用する、請求項21に記載の方法。
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