JP2012532927A - 有機クロロヒドロシラン及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、シリコン高分子の製造に有用な出発物質の有機クロロヒドロシラン及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明は、四級有機ホスホニウム塩化合物を触媒として用い、安価でかつ容易に得ることができるクロロシランのＳｉ-Ｈ結合と異なる有機クロロシランのＳｉ-Ｃｌ結合を交換させ、種々の新しい有機クロロヒドロシランを高収率で合成し、又、触媒を使用した後回収して再使用することが可能であり、非常に経済的であるので、シリコンの原料物質の大量生産に効果的である。
【選択図】なし
【解決手段】本発明は、四級有機ホスホニウム塩化合物を触媒として用い、安価でかつ容易に得ることができるクロロシランのＳｉ-Ｈ結合と異なる有機クロロシランのＳｉ-Ｃｌ結合を交換させ、種々の新しい有機クロロヒドロシランを高収率で合成し、又、触媒を使用した後回収して再使用することが可能であり、非常に経済的であるので、シリコンの原料物質の大量生産に効果的である。
【選択図】なし
Description
本出願は、２００９年７月１３日に韓国特許庁に提出した韓国特許出願第１０−２００９−００６３６１６号を優先権として主張し、その内容は本明細書に含まれる。本発明は、有機クロロヒドロシラン及びその製造方法に関し、特に、四級有機ホスホニウム塩化合物を触媒として用いてクロロシランのＳｉ-Ｈ結合と異なる有機クロロシランのＳｉ-Ｃｌ結合を交換反応させ、種々の新しい有機クロロヒドロシランを高収率で合成できる方法に関する。
近年、本発明者らは、テトラアルキルホスホニウムクロライド化合物を触媒として用いて、Ｃ-Ｃｌ結合を有するアルキルクロライドとＳｉ-Ｈ結合を有するトリクロロシラン(ＨＳｉＣｌ３)とを反応させ、アルキルクロライドから塩素を、トリクロロシラン(ＨＳｉＣｌ３)から水素を脱離して塩化水素を作って除去すると共に、ケイ素と炭素結合(Ｓｉ-Ｃ)を形成させるなど種々の有機ケイ素化合物を合成する方法を報告した(Ｙ.Ｓ. Ｃｈｏ;Ｓ-Ｈ. Ｋａｎｇ;Ｊ.Ｓ. Ｈａｎ;Ｂ.Ｒ. Ｙｏｏ;ＩｌIl Ｎａｍ Ｊｕｎｇ;Ｊ.Ａｍ. Ｃｈｅｍ. Ｓｏｃ., １２３, ２００１, ５５８３;Ｉ.Ｎ. Ｊｕｎｇ ｅｔ ａｌ, 米国特許第６,３９２,０７７号明細書)。この脱塩化水素反応は、ケイ素と炭素の結合を形成させる新しい方法として、種々の新しい有機ケイ素化合物の合成に非常に有用な反応である。
上記脱塩化水素反応に用いられるトリクロロシランのような有機塩化物は、ベンジルクロライドやアリルクロライドのように、活性の大きい炭素に塩素が結合されたアルキルクロライドのみでなく、活性の大きくないアルキルクロライド、環状アルキルクロライド、および三級アルキルクロライドを反応させても、高い収率で有機ケイ素化合物を合成することができる。
本発明者らは、テトラアルキルホスホニウムクロライド化合物を触媒として用いてケトンとアルデヒドをトリクロロシラン(ＨＳｉＣｌ３)に反応させると、酸素の位置にトリクロロシリル基が入って有機トリクロロシランが得られることが分かった(韓国登録特許第０４８７９０４号公報、２００５年４月２７日)。
なお、本発明者らは、四級有機ホスホニウム塩を触媒として用いてアルケンにトリクロロシランを反応させると、炭素と炭素二重結合に二重ケイ素化して２つのシリル基が導入されたビスシリルアルカン化合物を高収率で合成できるということを報告した(韓国登録特許第０４９１９６０号公報、２００５年５月３０日)。
このように、テトラアルキルホスホニウムクロライド化合物を触媒として用いる方法で、種々の有機基を有したシラン化合物の製造が可能であり、シリコン工業分野に新しい原料を供給することにより、新しい製品を生産したり、既存の製品を変形させて様々な製品を生産することを可能にした。
しかしながら、このように製造されるシラン化合物は、分子の片方又は両方にトリクロロシリル基を有するなど１分子中に数個のＳｉ-Ｃｌ結合を有するため、シリコン分野において最も多く用いられているシリコンオイルやゴムの製造に適していないという問題点があった。即ち、シリコンオイルやゴムの製造に必要な原料として用いられるためには、１つのシリコン元素に２つの有機基と２つのＳｉ-Ｃｌ結合を有する原料が必要である。したがって、Ｓｉ-Ｃｌ結合をＳｉ-Ｈ結合に交換させる反応は、Ｓｉ-Ｃｌ結合の数を減らすことができ、Ｓｉ-Ｈ結合は、水素ケイ素化反応(Ｈｙｄｒｏｓｉｌｙｌａｔｉｏｎ)により二重結合や三重結合を有する有機基に付加することが可能であるため、様々な有機基を有する原料の合成を可能にするので非常に重要である。
一方、Ｓｉ-Ｈ結合とＳｉ-Ｃｌ結合の交換反応において、塩化アルミニウム、塩化ボロンなどのルイス酸は、クロロシランの再分配反応に触媒としての効果があると知られている。トリクロロシラン(ＨＳｉＣｌ３)を再分配してジクロロシランに変え、さらに、モノシランを製造する次のような反応には、三級アミン、四級アンモニウムクロライド、ニトリル化合物、有機ホスフィン化合物などの有機物が触媒役割をすると知られている。
米国のユニオンカーバイド社は、米国のロムアンドハース社が製造するアミンやアンモニウム塩がイオン交換樹脂に固定化されたＡｍｂｅｒｙｓｔが、この反応に良い触媒であると報告した。これにより、反応後に生成物を触媒から分離する問題を解決した。
本発明者らは、イオン交換樹脂に固定化されたＡｍｂｅｒｙｓｔが多孔性樹脂であるため、水分を吸着して膨潤が起き易く、アミンやアンモニウム塩がベンジルの位置に置換されており、酸性で分解され易いという弱点があって、アミンやアンモニウム塩をシリコン樹脂に置換させて新しい固定化触媒を開発した(Ｉ.Ｎ. Ｊｕｎｇ ｅｔ ａｌ、米国特許第４,６１３,４９１号明細書および米国特許第４,７０１,４３０号明細書)。
しかしながら、Ｓｉ-Ｈ結合とＳｉ-Ｃｌ結合とを交換させる反応において、アルキル基が置換された有機クロロヒドロシランに適用する反応は多く知られていなく、１９４７年にホイットモアと共同研究者らにより初めて報告された(Ｆ.Ｃ. Ｗｈｉｔｍｏｒｅ;Ｅ.Ｗ. Ｐｉｅｔｒｕｓｚａ;Ｌ.Ｈ. Ｓｏｍｍｅｒ, Ｊ.Ａｍ. Ｃｈｅｍ. Ｓｏｃ., ６９, １９４７, ２１０８)。次のようなこの反応に用いられた触媒は塩化アルミニウムであった。
１９５７年にロシアのトルゴブと共同研究者らは、エチルジクロロシランを塩化アルミニウム触媒下でエチルクロロシランとエチルトリクロロシランに再分配したと報告した(Ｂ.Ｎ. Ｄｏｌｇｏｖ;Ｓ.Ｎ. Ｂｏｒｉｓｏｖ;Ｍ.Ｇ. Ｖｏｒｏｎｋｏｖ, Ｚｈｕｒ. Ｏｂｓｃｈｅｉ. Ｋｈｉｍ., ２７, １９５７, ２０６２)。しかしながら、塩化アルミニウムを触媒として用いる次の再分配反応は温度が１５０〜４００℃まで非常に高くて実用性が良くない。
ベイリーとワグナーは、エチルジクロロシランやフェニルジクロロシランをアジポニトリル(ａｄｉｐｏｎｉｔｒｉｌｅ)を触媒として用いて１５０〜２００℃で再分配したと報告した(Ｄ.Ｌ. Ｂａｉｌｅｙ ａｎｄ Ｇ.Ｈ. Ｗａｇｎｅｒ)。
本発明は、各種シリコンオイルやゴムの製造に有用な出発物質である有機クロロヒドロシランを製造することにより、従来技術の問題点を解決しようとする。
これに、本発明者らは、従来に使用したことのない四級有機ホスホニウム塩化合物を触媒として用い、安価のＳｉ-Ｈ結合を有するクロロシランを用いて有機トリクロロシランに含まれた３つのＳｉ-Ｃｌ結合中の１つ又は２つをＳｉ-Ｈ結合に交換させることにより、１分子中に加水分解されて重合できるＳｉ-Ｃｌ結合と、水素ケイ素化反応で不飽和有機化合物と反応させて新しい有機基が導入できるＳｉ-Ｈ結合とを全て有する有機クロロヒドロシランを高効率で製造することができる。
これにより、本発明の目的は、１分子中にＳｉ-Ｃｌ結合とＳｉ-Ｈ結合とを全て含んでいる有機クロロヒドロシランを提供することにある。
なお、本発明の他の目的は、上記有機クロロヒドロシランの製造方法を提供することにある。
本発明は、四級有機ホスホニウム塩化合物を触媒として用いてＳｉ-Ｈ結合とＳｉ-Ｃｌ結合とを全て含む新しい有機クロロヒドロシランを高収率で合成でき、上記触媒は、使用後回収して再使用が可能であることから、非常に経済的であるので、シリコンの原料物質の大量生産に効果的であり、且つ上記触媒の使用により常温〜２００℃以下の比較的低い温度で反応させることが可能であり、経済的である。
上記のような目的を達成するために、本発明の有機クロロヒドロシランは次の一般式（１）で表されることをその特徴とする。
式中、ａは１又は２であり、Ｒ３は以下で定義するものである。
また、本発明の他の目的を達成するための有機クロロヒドロシランの製造方法は、四級有機ホスホニウム塩触媒下で次の一般式（２）で表されるシラン化合物と次の一般式（３）で表される有機クロロシランとを反応させて製造されることをその特徴とする。
式中、Ｒ１は以下で定義するものである。
式中、Ｒ２は以下で定義するものである。
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明に係る有機クロロヒドロシランは、次の一般式（１）で表され、四級有機ホスホニウム塩化合物触媒の存在下で次の一般式（２）で表されるシラン化合物と次の一般式（３）で表される有機クロロシランとを反応させることにより得ることができる。
ａが１であるとき、Ｒ３は、塩素、炭素数２〜１８の直鎖アルキル基、イソプロピル、イソブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ネオペンチル、２-エチルヘキシル、イソ-オクチル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロヘキセニルメチル、９-アントラセニル、９-アントラセニルメチル、２-(２-ピリジル)エチル、２-(４-ピリジル)エチル、ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２、ジフェニルメチル、２-(ビシクロヘプチル)、５-[(ビシクロヘプテニル)エチル]、１１-アセトキシウンデシル、１１-クロロウンデシル、フェニル基、ベンジル基、２-フェニルエチル基、１-ナフチル基、ＣＨ３(Ｃ=Ｏ)Ｏ(ＣＨ２)ｋ(ここで、ｋ=２、３、１０である。)、Ｒ４-Ｐｈ-(ＣＨ２)ｌ(ここで、ｌ=０、１、２、３であり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン元素である。)、Ｃｌ-(ＣＨ２)ｍ(ここで、ｍ=１〜１２である。)、ＮＣ-(ＣＨ２)ｎ(ここで、ｎ=２〜１１である。)、ＣＨ２=ＣＨ-(ＣＨ２)ｏ(ここで、ｏ=０〜２０である。)、Ａｒ１-ＣＨ(Ｍｅ)-ＣＨ２(ここで、Ａｒ１はＣ１〜Ｃ４のアルキル基あるいはハロゲン元素が置換されたフェニル基、ビフェニル基、ビフェニルエーテル基、ナフチル基である。)、Ａｒ２Ｏ-(ＣＨ２)ｐ(ここで、ｐ=３〜１８であり、Ａｒ２は、フェニル基、ビフェニル基、ビフェニルエーテル基、ナフチル基、フェナントリル基である。)、Ｃｌ３Ｓｉ-(ＣＨ２)ｑ-(ここで、ｑ=０〜１２であり、Ｃｌ３Ｓｉは例えばＣｌ２ＨＳｉである。)、Ｃｌ３Ｓｉ-(ＣＨ２)ｒ-Ａｒ３-(ＣＨ２)ｒ-(ここで、ｒは０又は１であり、Ａｒ３は、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基であり、Ｃｌ３Ｓｉは例えばＣｌ２ＨＳｉである。)、２,２,５,５-テトラクロロ-４-トリクロロシリル-２,５-ジシリルシクロヘキシル基(ここで、Ｃｌ３Ｓｉは例えばＣｌ２ＨＳｉである。)であり;
ａが２であるとき、Ｒ３は、塩素、炭素数２〜１８の直鎖アルキル基、イソプロピル、イソブチル、２-エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２-(ビシクロヘプチル)、ネオペンチル基、イソ-オクチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキセニルメチル基、２-(２-ピリジル)エチル基、２-(４-ピリジル)エチル基、５-[(ビシクロヘプテニル)エチル]、１１-アセトキシウンデシル、１１-クロロウンデシル、フェニル基、ベンジル基、２-フェニルエチル基、１-ナフチル基、ナフチルメチル基、１-ナフチル基、ジフェニルメチル基、ＣＨ３(Ｃ=Ｏ)Ｏ(ＣＨ２)ｋ(ここで、ｋ=２、３、１０である。)、Ｒ４-Ｐｈ-(ＣＨ２)ｌ(ここで、ｌ=０、１、２、３であり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン元素である。)、Ｃｌ-(ＣＨ２)ｍ(ここで、ｍ=１〜１２である。)、ＮＣ-(ＣＨ２)ｍ-(ここで、ｍ=２〜１１である。)、ＣＨ２=ＣＨ-(ＣＨ２)ｏ-(ここで、ｏ=０〜２０である。)、Ａｒ１-ＣＨ(Ｍｅ)-ＣＨ２-(ここで、Ａｒ１はＣ１〜Ｃ４のアルキル基あるいはハロゲン元素が置換されたフェニル基、ビフェニル基、ビフェニルエーテル基、ナフチル基である。)、Ａｒ２Ｏ-(ＣＨ２)ｐ-(ここで、ｐ=３〜１８であり、Ａｒ２は、フェニル基、ビフェニル基、ビフェニルエーテル基、ナフチル基、フェナントリル基である。)、又は、Ａｒ４-(ＣＨ２)ｑ-(ここで、ｑは０あるいは１であり、Ａｒ４はビフェニル基又はアントラセニル基である。)である。
上記一般式（２）で表されるシラン化合物の具体的な例としては、メチルジクロロシラン、(ジクロロシリルメチル)ジクロロシラン、(トリクロロシリルメチル)ジクロロシランおよび(メチルジクロロシリルメチル)ジクロロシランからなる群より選ばれる１種以上を用いることができる。
なお、本発明の有機クロロヒドロシランの製造に用いられる触媒の四級有機ホスホニウム塩は、次の一般式（４）又は（５）で表することができる。
式（４）、（５）中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ５は各々互いに同一でも異なっても良く、Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基又は-(ＣＨ２)ｕ-Ｃ６Ｈ５(ここで、u=０〜６)を示し、２つのＲ５が互いに共有結合して４員環又は８員環を形成でき、ＹはＣ１〜Ｃ１２のアルキレン基を示す。
上記四級有機ホスホニウム塩触媒は、上記一般式（３）で表される有機クロロシラン１モルに対し０.０５〜０.５モルを用いることが望ましい。
また、本発明に係る四級有機ホスホニウム塩触媒は、上記一般式（４）又は（５）で表される四級有機ホスホニウム塩化合物を直接用いるか、もしくはシリコンレジン、シリカ、無機錯体、および有機高分子からなる群より選ばれる１種以上の担体に固定化させて用いることもできる。 例えば、シリコンレジンの場合(Ｃｌ-Ｂｕ３Ｐ+(ＣＨ２)３-ＳｉＯ３/２)ｎの構造のように、シリコンレジンに触媒活性を有するホスホニウム塩を含む構造を有し、上記他の担体の場合も類似した構造で高分子の担体に触媒活性を有するホスホニウム塩が固定化された構造を有する。上記触媒を種々の担体に固定化させる技術は、特に限定されず、通常の触媒固定化方法を用いるので、その詳細な説明は省略する。
なお、本発明に係る上記反応は、２０〜２００℃の温度範囲で行われるが、望ましくは５０〜１００℃で反応することが良い。また、上記反応は、反応溶媒が存在しない状態で反応することが望ましいが、必要に応じて選択的にベンゼン、トルエン、およびキシレンからなる群より選ばれる１種以上の芳香族炭化水素溶媒の存在下で行われても良い。
一方、本発明では、上記一般式（２）で表されるＳｉ-Ｈ結合を有するシラン化合物は、上記一般式（３）で表される有機クロロシラン１モルに対し１〜２０モルの範囲で反応させ、望ましくは１〜６モルの範囲で反応させる。
本発明の有機クロロヒドロシランの製造反応はバッチ法や連続工程で行われることが望ましい。
本発明を次の実施例により詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
実施例１:テトラクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
オーブンで乾燥させた２５ｍｌのステンレススチール管からなる反応槽を乾燥した窒素気体下で冷却させた後、２.５ｇ(０.０１５ｍｏｌ)のテトラクロロシラン、９.７ｇ(０.０９０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１５ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れた。反応槽の入口を栓で密封し、８０℃で３時間反応させた後、気体クロマトグラフィーにて出発物質の消耗と生成物を確認でき、反応物の常圧蒸溜により１.５ｇ(収率７３.３％)のトリクロロシランと０.２ｇ(収率２.２％)のジクロロシランとを得た。
オーブンで乾燥させた２５ｍｌのステンレススチール管からなる反応槽を乾燥した窒素気体下で冷却させた後、２.５ｇ(０.０１５ｍｏｌ)のテトラクロロシラン、９.７ｇ(０.０９０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１５ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れた。反応槽の入口を栓で密封し、８０℃で３時間反応させた後、気体クロマトグラフィーにて出発物質の消耗と生成物を確認でき、反応物の常圧蒸溜により１.５ｇ(収率７３.３％)のトリクロロシランと０.２ｇ(収率２.２％)のジクロロシランとを得た。
得られた生成物を３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、トリクロロシランは、δ６.１５ｐｐｍ(ｓ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、ジクロロシランはδ５.３７ｐｐｍ(ｓ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈのピークを確認した。
実施例２:ヘキシルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１４ｍｏｌ)のヘキシルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の常圧蒸留により１.９ｇ(収率７３.３％)のヘキシルジクロロシランと０.２ｇ(収率９.５％)のヘキシルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１４ｍｏｌ)のヘキシルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の常圧蒸留により１.９ｇ(収率７３.３％)のヘキシルジクロロシランと０.２ｇ(収率９.５％)のヘキシルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、ヘキシルジクロロシランは、δ５.５１ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.１７〜１.５６ｐｐｍ(ｍ、１０Ｈ)で-ＣＨ２-、δ０.８９ｐｐｍ(ｔ、３Ｈ)で-ＣＨ２ -ＣＨ３のピークを確認した。ヘキシルクロロシランは、δ５.１４ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.１３〜１.４６ｐｐｍ(ｍ、１０Ｈ)で-ＣＨ２-、δ０.９３ｐｐｍ(ｔ、３Ｈ)で-ＣＨ２ -ＣＨ３のピークを確認した。
実施例３:オクタデシルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)のオクタデシルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.０ｇ(収率６１.５％)のオクタデシルジクロロシランと０.４ｇ(収率９.６％)のオクタデシルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)のオクタデシルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.０ｇ(収率６１.５％)のオクタデシルジクロロシランと０.４ｇ(収率９.６％)のオクタデシルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、オクタデシルジクロロシランは、δ５.３８ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.１８〜１.５３ｐｐｍ(ｍ、３４Ｈ)で-ＣＨ２-、δ０.９３ｐｐｍ(ｔ、３Ｈ)で-ＣＨ２-ＣＨ３のピークを確認した。オクタデシルクロロシランは、δ４.８８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.１２〜１.５５ｐｐｍ(ｍ、３４Ｈ)で-ＣＨ２-、δ０.９４ｐｐｍ(ｔ、３Ｈ)で-ＣＨ２-ＣＨ３のピークを確認した。
実施例４:オクタデシルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.００５ｍｏｌ)のオクタデシルトリクロロシラン、６.９ｇ(０.０６０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００５ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.１ｇ(収率６９.０％)のオクタデシルクロロシランと０.２ｇ(収率１１.３％)のオクタデシルジクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例３と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.００５ｍｏｌ)のオクタデシルトリクロロシラン、６.９ｇ(０.０６０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００５ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.１ｇ(収率６９.０％)のオクタデシルクロロシランと０.２ｇ(収率１１.３％)のオクタデシルジクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例３と同様である。
実施例５:イソプロピルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)のイソプロピルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８５ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の常圧蒸溜により１.６ｇ(収率７９.９％)のイソプロピルジクロロシランと０.１ｇ(収率６.６％)のイソプロピルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)のイソプロピルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８５ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の常圧蒸溜により１.６ｇ(収率７９.９％)のイソプロピルジクロロシランと０.１ｇ(収率６.６％)のイソプロピルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、イソプロピルジクロロシランは、δ５.３９ｐｐｍ(ｓ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.３７ｐｐｍ(ｍ、１Ｈ)でＣＨ３-ＣＨ-Ｓｉ、δ１.１６ｐｐｍ(ｄ、６Ｈ)でＣＨ３-ＣＨのピークを確認した。イソプロピルクロロシランは、δ５.２１ｐｐｍ(ｓ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.３３ｐｐｍ(ｍ、１Ｈ)でＣＨ３-ＣＨ-Ｓｉ、δ１.１６ｐｐｍ(ｄ、６Ｈ)でＣＨ３-ＣＨのピークを確認した。
実施例６:イソブチルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.０１０ｍｏｌ)のイソブチルトリクロロシラン、６.９ｇ(０.０６０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.３ｇ(０.００１０ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の常圧蒸留により１.２ｇ(収率７６.３％)のイソブチルジクロロシランと０.２ｇ(収率１６.３％)のイソブチルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.０１０ｍｏｌ)のイソブチルトリクロロシラン、６.９ｇ(０.０６０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.３ｇ(０.００１０ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の常圧蒸留により１.２ｇ(収率７６.３％)のイソブチルジクロロシランと０.２ｇ(収率１６.３％)のイソブチルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、イソブチルジクロロシランは、δ５.３７ｐｐｍ(ｓ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.５４〜１.６２ｐｐｍ(ｍ、１Ｈ)でＣＨ３-ＣＨ-ＣＨ２、δ１.３２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＨ-ＣＨ２-Ｓｉ、δ１.１４(ｄ、６Ｈ)でＣＨ-ＣＨ３のピークを確認した。イソブチルクロロシランは、δ５.１３ｐｐｍ(ｓ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.５３〜１.６７ｐｐｍ(ｍ、１Ｈ)でＣＨ３-ＣＨ-ＣＨ２、δ１.３２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＨ-ＣＨ２-Ｓｉ、δ１.１９(ｄ、６Ｈ)でＣＨ-ＣＨ３のピークを確認した。
実施例７:イソブチルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラエチルホスホニウムクロライド１８２.６７)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.０１０ｍｏｌ)のイソブチルトリクロロシラン、６.９ｇ(０.０６０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.００１０ｍｏｌ)のテトラエチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.１ｇ(収率７０.０％)のイソブチルジクロロシランと０.２ｇ(収率１６.３％)のイソブチルクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例６と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.０１０ｍｏｌ)のイソブチルトリクロロシラン、６.９ｇ(０.０６０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.００１０ｍｏｌ)のテトラエチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.１ｇ(収率７０.０％)のイソブチルジクロロシランと０.２ｇ(収率１６.３％)のイソブチルクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例６と同様である。
実施例８:ネオペンチルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のネオペンチルトリクロロシラン、８.４ｇ(０.０７３ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.７ｇ(収率８１.４％)のネオペンチルジクロロシランと０.２ｇ(収率１２.２％)のネオペンチルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のネオペンチルトリクロロシラン、８.４ｇ(０.０７３ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.７ｇ(収率８１.４％)のネオペンチルジクロロシランと０.２ｇ(収率１２.２％)のネオペンチルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、ネオペンチルジクロロシランは、δ５.６５ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.３９ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＣ-ＣＨ２-Ｓｉ、δ１.１２ｐｐｍ(ｓ、９Ｈ)でＣ-ＣＨ３のピークを確認した。ネオペンチルクロロシランは、δ５.２３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.４１ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣ-ＣＨ２-Ｓｉ、δ１.１２ｐｐｍ(ｓ、９Ｈ)でＣ-ＣＨ３のピークを確認した。
実施例９:２-エチルヘキシルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の２-エチルヘキシルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.２ｇ(収率７３.７％)の２-エチルヘキシルジクロロシランと０.４ｇ(収率１６.０％)の２-エチルヘキシルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の２-エチルヘキシルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.２ｇ(収率７３.７％)の２-エチルヘキシルジクロロシランと０.４ｇ(収率１６.０％)の２-エチルヘキシルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、２-エチルヘキシルジクロロシランは、δ５.８８ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.５６ｐｐｍ(ｍ、１Ｈ)で-ＣＨ-、δ１.２３〜１.３５ｐｐｍ(ｍ、１０Ｈ)で-ＣＨ２-、δ０.９６〜１.１０ｐｐｍ(ｍ、６Ｈ)で-ＣＨ３-のピークを確認した。２-エチルヘキシルクロロシランは、δ５.３２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.４９ｐｐｍ(ｍ、１Ｈ)で-ＣＨ-、δ１.２６〜１.３５ｐｐｍ(ｍ、１０Ｈ)で-ＣＨ２-、δ０.９２〜１.１４ｐｐｍ(ｍ、６Ｈ)で-ＣＨ３-のピークを確認した。
実施例１０:シクロペンチルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
上記実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のシクロペンチルトリクロロシラン、８.５ｇ(０.０７４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.７ｇ(収率８１.７％)のシクロペンチルジクロロシランと０.２ｇ(収率１２.４％)のシクロペンチルクロロシランとを得た。
上記実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のシクロペンチルトリクロロシラン、８.５ｇ(０.０７４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.７ｇ(収率８１.７％)のシクロペンチルジクロロシランと０.２ｇ(収率１２.４％)のシクロペンチルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、シクロペンチルジクロロシランは、δ５.４３ｐｐｍ(ｓ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.４７〜１.９３ｐｐｍ(ｍ、９Ｈ)でシクロペンチル-Ｈのピークを確認した。シクロペンチルクロロシランは、δ５.１７ｐｐｍ(ｓ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.４４〜１.９４ｐｐｍ(ｍ、９Ｈ)でシクロペンチル-Ｈのピークを確認した。
実施例１１:シクロヘキシルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１１ｍｏｌ)のシクロヘキシルトリクロロシラン、７.６ｇ(０.０６６ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.３ｇ(０.００１１ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.５ｇ(収率７４.４％)のシクロヘキシルジクロロシランと０.１ｇ(収率６.１％)のシクロヘキシルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１１ｍｏｌ)のシクロヘキシルトリクロロシラン、７.６ｇ(０.０６６ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.３ｇ(０.００１１ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.５ｇ(収率７４.４％)のシクロヘキシルジクロロシランと０.１ｇ(収率６.１％)のシクロヘキシルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、シクロヘキシルジクロロシランは、δ５.３９ｐｐｍ(ｓ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.４２〜１.８７ｐｐｍ(ｍ、１１Ｈ)でシクロヘキシル-Ｈのピークを確認した。シクロヘキシルクロロシランは、δ４.８９ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.３２〜１.７９ｐｐｍ(ｍ、１１Ｈ)でシクロヘキシル-Ｈのピークを確認した。
実施例１２:シクロヘキシルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラフェニルホスホニウムクロライド３７４.８４)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１１ｍｏｌ)のシクロヘキシルトリクロロシラン、７.６ｇ(０.０６６ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１１ｍｏｌ)のテトラフェニルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.３ｇ(収率６４.５％)のシクロヘキシルジクロロシランと０.２ｇ(収率１２.２％)のシクロヘキシルクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例１１と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１１ｍｏｌ)のシクロヘキシルトリクロロシラン、７.６ｇ(０.０６６ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１１ｍｏｌ)のテトラフェニルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.３ｇ(収率６４.５％)のシクロヘキシルジクロロシランと０.２ｇ(収率１２.２％)のシクロヘキシルクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例１１と同様である。
実施例１３:２-(２-ピリジル)エチルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の２-(２-ピリジル)エチルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.８ｇ(収率６７.２％)の２-(２-ピリジル)エチルジクロロシランと０.１ｇ(収率４.５％)の２-(２-ピリジル)エチルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の２-(２-ピリジル)エチルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.８ｇ(収率６７.２％)の２-(２-ピリジル)エチルジクロロシランと０.１ｇ(収率４.５％)の２-(２-ピリジル)エチルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、２-(２-ピリジル)エチルジクロロシランは、δ５.７１ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.９２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.８２ｐｐｍ(ｑ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉ、δ７.１０〜８.５２ｐｐｍ(ｍ、４Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。２-(２-ピリジル)エチルクロロシランは、δ５.３２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.８８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.８５ｐｐｍ(ｍ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉ、δ７.０４〜８.４２ｐｐｍ(ｍ、４Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例１４:２-(ビシクロヘプチル)トリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の２-(ビシクロヘプチル)トリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.０ｇ(収率７８.９％)の２-(ビシクロヘプチル)ジクロロシランと０.２ｇ(収率９.６％)の２-(ビシクロヘプチル)クロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の２-(ビシクロヘプチル)トリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.０ｇ(収率７８.９％)の２-(ビシクロヘプチル)ジクロロシランと０.２ｇ(収率９.６％)の２-(ビシクロヘプチル)クロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、２-(ビシクロヘプチル)ジクロロシランは、δ５.４４ｐｐｍ(ｄ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.２８〜１.６３ｐｐｍ(ｍ、１１Ｈ)で-ＣＨ２-のピークを確認した。２-(ビシクロヘプチル)クロロシランは、δ５.１２ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.２３〜１.６２ｐｐｍ(ｍ、１１Ｈ)で-ＣＨ２-のピークを確認した。
実施例１５:(ジフェニルメチル)トリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の(ジフェニルメチル)トリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.５ｇ(収率７２.０％)の(ジフェニルメチル)ジクロロシランと０.３ｇ(収率９.９％)の(ジフェニルメチル)クロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の(ジフェニルメチル)トリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.５ｇ(収率７２.０％)の(ジフェニルメチル)ジクロロシランと０.３ｇ(収率９.９％)の(ジフェニルメチル)クロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、(ジフェニルメチル)ジクロロシランは、δ５.７７ｐｐｍ(ｄ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ３.９２ｐｐｍ(ｄ、１Ｈ)でＳｉ-ＣＨ、δ７.３４〜８.２５ｐｐｍ(ｍ、１０Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。(ジフェニルメチル)クロロシランは、δ５.２３ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ３.８２ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-ＣＨ、δ７.３８〜８.２６ｐｐｍ(ｍ、１０Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例１６:(ジフェニルメチル)トリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.００７ｍｏｌ)の(ジフェニルメチル)トリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００７ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.０ｇ(収率６１.４％)の(ジフェニルメチル)クロロシランと０.１ｇ(収率５.３％)の(ジフェニルメチル)ジクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例１５と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.００７ｍｏｌ)の(ジフェニルメチル)トリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００７ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.０ｇ(収率６１.４％)の(ジフェニルメチル)クロロシランと０.１ｇ(収率５.３％)の(ジフェニルメチル)ジクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例１５と同様である。
実施例１７:アセトキシエチルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１４ｍｏｌ)のアセトキシエチルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.８ｇ(収率６８.７％)のアセトキシエチルジクロロシランと０.１ｇ(収率４.７％)のアセトキシエチルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１４ｍｏｌ)のアセトキシエチルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.８ｇ(収率６８.７％)のアセトキシエチルジクロロシランと０.１ｇ(収率４.７％)のアセトキシエチルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、アセトキシエチルジクロロシランは、δ５.２３ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ４.２８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＯ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ２.１７ｐｐｍ(ｓ、３Ｈ)で-Ｃ-ＣＨ３、δ１.６３ｐｐｍ(ｑ、２Ｈ)で-ＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。アセトキシエチルクロロシランは、δ４.８３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ４.１８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＯ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ２.０９ｐｐｍ(ｓ、３Ｈ)で-Ｃ-ＣＨ３、δ１.６８ｐｐｍ(ｍ、２Ｈ)で-ＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。
実施例１８:１１-アセトキシウンデシルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の１１-アセトキシウンデシルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.１ｇ(収率７０.１％)の１１-アセトキシウンデシルジクロロシランと０.３ｇ(収率７.７％)の１１-アセトキシウンデシルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の１１-アセトキシウンデシルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.１ｇ(収率７０.１％)の１１-アセトキシウンデシルジクロロシランと０.３ｇ(収率７.７％)の１１-アセトキシウンデシルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、１１-アセトキシウンデシルジクロロシランは、δ５.２９ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ４.０８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＯ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ２.０６ｐｐｍ(ｓ、３Ｈ)で-Ｃ-ＣＨ３、δ１.２９〜１.５７ｐｐｍ(ｍ、１８Ｈ)で-ＣＨ２-、δ１.３３ｐｐｍ(ｑ、２Ｈ)で-ＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。１１-アセトキシウンデシルクロロシランは、δ４.９９ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ４.０１ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＯ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ２.０１ｐｐｍ(ｓ、３Ｈ)で-Ｃ-ＣＨ３、δ１.２５〜１.６０ｐｐｍ(ｍ、１８Ｈ)で-ＣＨ２-、δ１.３０ｐｐｍ(ｍ、２Ｈ)で-ＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。
実施例１９:(ヘプタデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロデシル)トリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に７.０ｇ(０.０１２ｍｏｌ)の(ヘプタデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロデシル)トリクロロシラン８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により５.３ｇ(収率８０.７％)の(ヘプタデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロデシル)ジクロロシランと０.４ｇ(収率６.５％)の(ヘプタデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロデシル)クロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に７.０ｇ(０.０１２ｍｏｌ)の(ヘプタデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロデシル)トリクロロシラン８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により５.３ｇ(収率８０.７％)の(ヘプタデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロデシル)ジクロロシランと０.４ｇ(収率６.５％)の(ヘプタデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロデシル)クロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、(ヘプタデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロデシル)ジクロロシランは、δ５.６２ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.３０ｐｐｍ(ｑ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.４８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＦ２-ＣＨ２-ＣＨ２のピークを確認した。(ヘプタデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロデシル)クロロシランは、δ５.２４ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.３３ｐｐｍ(ｍ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.４４ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)で ＣＦ２-ＣＨ２-ＣＨ２のピークを確認した。
実施例２０:トリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.７ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.１ｇ(収率５７.８％)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルジクロロシランと０.３ｇ(収率６.１％)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.７ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.１ｇ(収率５７.８％)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルジクロロシランと０.３ｇ(収率６.１％)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、トリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルジクロロシランは、δ５.５６ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.３６ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.６７ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＦ２-ＣＨ２-ＣＨ２のピークを確認した。トリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルクロロシランは、δ５.２３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.３８ｐｐｍ(ｍ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.７２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＦ２-ＣＨ２-ＣＨ２のピークを確認した。
実施例２１:トリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド３８８.８７)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.７ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.３ｇ(収率６１.５％)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルジクロロシランと０.２ｇ(収率４.１％)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例２０と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.７ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.３ｇ(収率６１.５％)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルジクロロシランと０.２ｇ(収率４.１％)のトリデカフルオロ-１,１,２,２-テトラヒドロオクチルクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例２０と同様である。
実施例２２:(４-フルオロベンジル)トリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の(４-フルオロベンジル)トリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１４ ｍｏｌ)のベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.１ｇ(収率７１.７％)の(４-フルオロベンジル)ジクロロシランと０.１ｇ(収率４.１％)の(４-フルオロベンジル)クロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の(４-フルオロベンジル)トリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１４ ｍｏｌ)のベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.１ｇ(収率７１.７％)の(４-フルオロベンジル)ジクロロシランと０.１ｇ(収率４.１％)の(４-フルオロベンジル)クロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、(４-フルオロベンジル)トリクロロシランは、δ５.７１ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.９２ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-Ｃ、δ７.１０ｐｐｍ(ｍ、４Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。(４-フルオロベンジル)クロロシランは、δ５.３３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.８４ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-Ｃ、δ７.１３ｐｐｍ(ｍ、４Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例２３:３-クロロプロピルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の３-クロロプロピルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.０ｇ(収率８０.５％)の３-クロロプロピルジクロロシランと０.２ｇ(収率１０.０％)の３-クロロプロピルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の３-クロロプロピルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.０ｇ(収率８０.５％)の３-クロロプロピルジクロロシランと０.２ｇ(収率１０.０％)の３-クロロプロピルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、３-クロロプロピルジクロロシランは、δ５.５７ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ３.６０ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣｌ-ＣＨ２、δ１.９９ｐｐｍ(ｍ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.３７ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。３-クロロプロピルクロロシランは、δ５.１３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ３.５３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣｌ-ＣＨ２、δ２.０７ｐｐｍ(ｍ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.３８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。
実施例２４:１１-クロロウンデシルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の１１-クロロウンデシルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.９ｇ(収率７１.４％)の１１-クロロウンデシルジクロロシランと０.３ｇ(収率８.４％)の１１-クロロウンデシルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の１１-クロロウンデシルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.９ｇ(収率７１.４％)の１１-クロロウンデシルジクロロシランと０.３ｇ(収率８.４％)の１１-クロロウンデシルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、１１-クロロウンデシルジクロロシランは、δ５.３６ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ３.３８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣｌ-ＣＨ２、δ１.５６〜１.８４ｐｐｍ(ｍ、１８Ｈ)で-ＣＨ２-、δ１.３７ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。１１-クロロウンデシルクロロシランは、δ４.８９ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ３.４８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣｌ-ＣＨ２、δ１.４９〜１.７５ｐｐｍ(ｍ、１８Ｈ)で-ＣＨ２-、δ１.３７ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。
実施例２５:シアノエチルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１３ｍｏｌ)のシアノエチルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.５ｇ(収率７４.９％)のシアノエチルジクロロシランと０.１ｇ(６.４％)のシアノエチルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１３ｍｏｌ)のシアノエチルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.５ｇ(収率７４.９％)のシアノエチルジクロロシランと０.１ｇ(６.４％)のシアノエチルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、シアノエチルジクロロシランは、δ５.１５ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.５４ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＮＣ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.７２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)で-ＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。シアノエチルクロロシランは、δ４.８５ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.５３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＮＣ-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.７０ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)で- ＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。
実施例２６:シアノエチルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に１.０ｇ(０.００５ｍｏｌ)のシアノエチルトリクロロシラン、６.９ｇ(０.０６０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００５ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により０.５ｇ(収率８３.６％)のシアノエチルクロロシランと０.１ｇ(１３.０％)のシアノエチルジクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例２５と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に１.０ｇ(０.００５ｍｏｌ)のシアノエチルトリクロロシラン、６.９ｇ(０.０６０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００５ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により０.５ｇ(収率８３.６％)のシアノエチルクロロシランと０.１ｇ(１３.０％)のシアノエチルジクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例２５と同様である。
実施例２７:アリルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)のアリルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.４ｇ(収率７０.９％)のアリルジクロロシランと０.２ｇ(収率１３.４％)のアリルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、アリルジクロロシランはδ５.４６ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ５.６９〜５.８３ｐｐｍ(ｍ、１Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ-ＣＨ２、δ５.１７ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ、δ２.１７ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＨ-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。アリルクロロシランはδ５.０９ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ５.６１〜５.９３ｐｐｍ(ｍ、１Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ-ＣＨ２、δ５.２３ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ、δ２.１３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＨ-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)のアリルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.４ｇ(収率７０.９％)のアリルジクロロシランと０.２ｇ(収率１３.４％)のアリルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、アリルジクロロシランはδ５.４６ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ５.６９〜５.８３ｐｐｍ(ｍ、１Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ-ＣＨ２、δ５.１７ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ、δ２.１７ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＨ-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。アリルクロロシランはδ５.０９ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ５.６１〜５.９３ｐｐｍ(ｍ、１Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ-ＣＨ２、δ５.２３ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ、δ２.１３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＣＨ-ＣＨ２-Ｓｉのピークを確認した。
実施例２８:５-ヘキセニルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラフェニルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の５-ヘキセニルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.７ｇ(収率６６.３％)の５-ヘキセニルジクロロシランと０.２ｇ(収率９.６％)の５-ヘキセニルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の５-ヘキセニルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.７ｇ(収率６６.３％)の５-ヘキセニルジクロロシランと０.２ｇ(収率９.６％)の５-ヘキセニルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、５-ヘキセニルジクロロシランは、δ５.４７ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.１７〜１.５６ｐｐｍ(ｍ、８Ｈ)で-ＣＨ２-、δ５.８９ｐｐｍ(ｑ、１Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ、δ５.０２ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＣＨ２=ＣＨのピークを確認した。５-ヘキセニルクロロシランは、δ５.１７ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.１２〜１.５１ｐｐｍ(ｍ、８Ｈ)で-ＣＨ２-、δ５.８３ｐｐｍ(ｑ、１Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ、δ４.９９ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＣＨ２=ＣＨのピークを確認した。
実施例２９:７-オクテニルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラフェニルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の７-オクテニルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.９ｇ(収率６４.２％)の７-オクテニルジクロロシランと０.１ｇ(収率４.０％)の７-オクテニルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の７-オクテニルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.９ｇ(収率６４.２％)の７-オクテニルジクロロシランと０.１ｇ(収率４.０％)の７-オクテニルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、７-オクテニルジクロロシランは、δ５.６７ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.２７〜１.８６ｐｐｍ(ｍ、１２Ｈ)で-ＣＨ２-、δ５.９９ｐｐｍ(ｑ、１Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ、δ５.１３ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＣＨ２=ＣＨのピークを確認した。７-オクテニルクロロシランは、δ５.３７ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.３２〜１.９３ｐｐｍ(ｍ、１２Ｈ)で-ＣＨ２-、δ５.８９ｐｐｍ(ｑ、１Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ、δ５.１１ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＣＨ２=ＣＨのピークを確認した。
実施例３０:１１-フェノキシウンデシルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の１１-フェノキシウンデシルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.９ｇ(収率６４.２％)の１１-フェノキシウンデシルジクロロシランと０.３ｇ(収率６.６％)の１１-フェノキシウンデシルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の１１-フェノキシウンデシルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.９ｇ(収率６４.２％)の１１-フェノキシウンデシルジクロロシランと０.３ｇ(収率６.６％)の１１-フェノキシウンデシルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、１１-フェノキシウンデシルジクロロシランは、δ５.３３ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ３.９２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＯ-ＣＨ２、δ１.３９〜１.６１ｐｐｍ(ｍ、１８Ｈ)で-ＣＨ２-、δ１.１８ｐｐｍ(ｑ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉ、δ６.７７〜７.１５ｐｐｍ(ｍ、５Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。１１-フェノキシウンデシルクロロシランは、δ４.９３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ３.９９ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＯ-ＣＨ２、δ１.３３〜１.６０ｐｐｍ(ｍ、１８Ｈ)で-ＣＨ２-、δ１.１２ｐｐｍ(ｑ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉ、δ６.９０〜７.２５ｐｐｍ(ｍ、５Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例３１:３-ナフトキシプロピルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の３-ナフトキシプロピルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.０ｇ(収率７５.１％)の３-ナフトキシプロピルジクロロシランと０.５ｇ(収率１４.２％)の３-ナフトキシプロピルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の３-ナフトキシプロピルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.０ｇ(収率７５.１％)の３-ナフトキシプロピルジクロロシランと０.５ｇ(収率１４.２％)の３-ナフトキシプロピルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、３-ナフトキシプロピルジクロロシランは、δ５.４３ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ３.９４ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＯ-ＣＨ２、δ１.６８ｐｐｍ(ｍ、２Ｈ)で ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.２４ｐｐｍ(ｑ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉ、δ６.９７〜７.６０ｐｐｍ(ｍ、７Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。３-ナフトキシプロピルクロロシランは、δ５.２３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ３.９８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＯ-ＣＨ２、δ１.６１ｐｐｍ(ｍ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２、δ１.１９ｐｐｍ(ｑ、２Ｈ)でＣＨ２-ＣＨ２-Ｓｉ、δ６.９１〜７.５３ｐｐｍ(ｍ、７Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例３２:ビストリクロロシリルメタンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.０ｇ(０.０１８ｍｏｌ)のビストリクロロシリルメタン、１２.２ｇ(０.１０６ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１８ ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.３ｇ(収率７５.０％)の(トリクロロシリルメチル)ジクロロシランと０.３ｇ(収率７.８％)のビスジクロロシリルメタンとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.０ｇ(０.０１８ｍｏｌ)のビストリクロロシリルメタン、１２.２ｇ(０.１０６ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１８ ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.３ｇ(収率７５.０％)の(トリクロロシリルメチル)ジクロロシランと０.３ｇ(収率７.８％)のビスジクロロシリルメタンとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、(トリクロロシリルメチル)ジクロロシランは、δ５.７１ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.６３ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)で-ＣＨ２-のピークを確認した。ビスジクロロシリルメタンは、δ５.２１ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.６３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)で-ＣＨ２-のピークを確認した。
実施例３３:ビストリクロロシリルメタンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:ベンジルトリブチルホスホニウムクロライド３２８.９)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.０ｇ(０.０１８ｍｏｌ)のビストリクロロシリルメタン、１２.２ｇ(０.１０８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.６ｇ(０.００１８ｍｏｌ)のベンジルトリブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.１ｇ(収率６９.３％)の(トリクロロシリルメチル)ジクロロシランと０.２ｇ(収率５.２％)のビスジクロロシリルメタンとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例３２と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に５.０ｇ(０.０１８ｍｏｌ)のビストリクロロシリルメタン、１２.２ｇ(０.１０８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.６ｇ(０.００１８ｍｏｌ)のベンジルトリブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.１ｇ(収率６９.３％)の(トリクロロシリルメチル)ジクロロシランと０.２ｇ(収率５.２％)のビスジクロロシリルメタンとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例３２と同様である。
実施例３４:ビストリクロロシリルプロパンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)のビストリクロロシリルプロパン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.５ｇ(収率６９.５％)の１-(ジクロロシリル)-３-(トリクロロシリル)プロパンと０.２ｇ(収率６.４％)のビスジクロロシリルプロパンとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)のビストリクロロシリルプロパン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.５ｇ(収率６９.５％)の１-(ジクロロシリル)-３-(トリクロロシリル)プロパンと０.２ｇ(収率６.４％)のビスジクロロシリルプロパンとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、１-(ジクロロシリル)-３-(トリクロロシリル)プロパンは、δ５.６８ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.２３〜１.６８ｐｐｍ(ｔ、６Ｈ)で-ＣＨ２-のピークを確認した。ビスジクロロシリルプロパンは、δ５.２８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.２０〜１.６６ｐｐｍ(ｔ、６Ｈ)で-ＣＨ２-のピークを確認した。
実施例３５:ビストリクロロシリルプロパンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.００６ｍｏｌ)のビストリクロロシリルプロパン、８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００６ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.２ｇ(収率８２.６％)のビスジクロロシリルプロパンと０.１ｇ(収率６.０％)の１-(ジクロロシリル)-３-(トリクロロシリル)プロパンとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例３４と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.００６ｍｏｌ)のビストリクロロシリルプロパン、８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００６ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.２ｇ(収率８２.６％)のビスジクロロシリルプロパンと０.１ｇ(収率６.０％)の１-(ジクロロシリル)-３-(トリクロロシリル)プロパンとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例３４と同様である。
実施例３６:ビストリクロロシリルオクタンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.６ｇ(０.００７ｍｏｌ)のビストリクロロシリルオクタン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００７ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.３ｇ(収率５９.５％)のビスジクロロシリルオクタンと０.１ｇ(収率４.１％)の１-(ジクロロシリル)-８-(トリクロロシリル)オクタンとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.６ｇ(０.００７ｍｏｌ)のビストリクロロシリルオクタン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００７ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.３ｇ(収率５９.５％)のビスジクロロシリルオクタンと０.１ｇ(収率４.１％)の１-(ジクロロシリル)-８-(トリクロロシリル)オクタンとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、ビスジクロロシリルオクタンは、δ５.３２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.４６ｐｐｍ(ｔ、４Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-、δ１.１９〜１.３７ｐｐｍ(ｍ、１２Ｈ)で-ＣＨ２-のピークを確認した。１-(ジクロロシリル)-８-(トリクロロシリル)オクタンは、δ５.６２ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.４１ｐｐｍ(ｔ、４Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-、δ１.１２〜１.３１ｐｐｍ(ｍ、１２Ｈ)で-ＣＨ２-のピークを確認した。
実施例３７:２,５-ビス(トリクロロシリル)-１,１,４,４-テトラクロロ-１,４-ジシラシクロヘキサンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.００５８ｍｏｌ)の２,５-ビス(トリクロロシリル)-１,１,４,４-テトラクロロ-１,４-ジシラシクロヘキサン、８.０ｇ(０.０６９ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００６ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.１ｇ(収率８０.１％)の２,５-ビス(ジクロロシリル)-１,１,４,４-テトラクロロ-１,４-ジシラシクロヘキサンと０.２ｇ(収率７.１％)の２-(ジクロロシリル)-５-(トリクロロシリル)-１,１,４,４-テトラクロロ-１,４-ジシラシクロヘキサンとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.００５８ｍｏｌ)の２,５-ビス(トリクロロシリル)-１,１,４,４-テトラクロロ-１,４-ジシラシクロヘキサン、８.０ｇ(０.０６９ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００６ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.１ｇ(収率８０.１％)の２,５-ビス(ジクロロシリル)-１,１,４,４-テトラクロロ-１,４-ジシラシクロヘキサンと０.２ｇ(収率７.１％)の２-(ジクロロシリル)-５-(トリクロロシリル)-１,１,４,４-テトラクロロ-１,４-ジシラシクロヘキサンとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、２,５-ビス(ジクロロシリル)-１,１,４,４-テトラクロロ-１,４-ジシラシクロヘキサンは、δ５.３４ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.８２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ-Ｓｉ、δ１.５７ｐｐｍ(ｄ、４Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-Ｃのピークを確認した。２-(ジクロロシリル)-５-(トリクロロシリル)-１,１,４,４-テトラクロロ-１,４-ジシラシクロヘキサンは、δ５.５４ｐｐｍ(ｄ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.７５〜１.８８ｐｐｍ(ｍ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ-Ｓｉ、δ１.５７ｐｐｍ(ｄ、４Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-Ｃのピークを確認した。
実施例３８:１,４-ビス(トリクロロシリル)ベンゼンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１２ｍｏｌ)の１,４-ビス(トリクロロシリル)ベンゼン、８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.５ｇ(収率７５.５％)の１-(ジクロロシリル)-４-(トリクロロシリル)ベンゼンと０.２ｇ(収率６.０％)の１,４-ビス(ジクロロシリル)ベンゼンとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１２ｍｏｌ)の１,４-ビス(トリクロロシリル)ベンゼン、８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.５ｇ(収率７５.５％)の１-(ジクロロシリル)-４-(トリクロロシリル)ベンゼンと０.２ｇ(収率６.０％)の１,４-ビス(ジクロロシリル)ベンゼンとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、１-(ジクロロシリル)-４-(トリクロロシリル)ベンゼンは、δ５.８４ｐｐｍ(ｓ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ７.３４ｐｐｍ(ｄ、４Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。１,４-ビス(ジクロロシリル)ベンゼンは、δ５.４４ｐｐｍ(ｓ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ７.３４ｐｐｍ(ｄ、４Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例３９:１,４-ビス(トリクロロシリル)ベンゼンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.００６ｍｏｌ)の１,４-ビス(トリクロロシリル)ベンゼン、８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００６ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.１ｇ(収率６６.４％)の１,４-ビス(ジクロロシリル)ベンゼンと０.１ｇ(収率５.４％)の１-(ジクロロシリル)-４-(トリクロロシリル)ベンゼンとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例３８と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.０ｇ(０.００６ｍｏｌ)の１,４-ビス(トリクロロシリル)ベンゼン、８.３ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００６ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.１ｇ(収率６６.４％)の１,４-ビス(ジクロロシリル)ベンゼンと０.１ｇ(収率５.４％)の１-(ジクロロシリル)-４-(トリクロロシリル)ベンゼンとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例３８と同様である。
実施例４０:４,４'-ビス(トリクロロシリルメチル)ビフェニルとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に６.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の４,４'-ビス(トリクロロシリルメチル)ビフェニル、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により４.０ｇ(収率７４.２％)の４-(ジクロロシリルメチル)-４'-(トリクロロシリルメチル)ビフェニルと０.３ｇ(収率７.４％)の４,４'-ビス(ジクロロシリルメチル)ビフェニルとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に６.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の４,４'-ビス(トリクロロシリルメチル)ビフェニル、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により４.０ｇ(収率７４.２％)の４-(ジクロロシリルメチル)-４'-(トリクロロシリルメチル)ビフェニルと０.３ｇ(収率７.４％)の４,４'-ビス(ジクロロシリルメチル)ビフェニルとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、４-(ジクロロシリルメチル)-４'-(トリクロロシリルメチル)ビフェニルは、δ５.９４ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.２８〜２.６３ｐｐｍ(ｄｓ、４Ｈ)でＡｒ-ＣＨ２-Ｓｉ、δ７.１４〜７.３７ｐｐｍ(ｍ、８Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。４,４'-ビス(ジクロロシリルメチル)ビフェニルは、δ５.５４ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.３８ｐｐｍ(ｄ、４Ｈ)でＡｒ-ＣＨ２-Ｓｉ、δ７.１０〜７.４２ｐｐｍ(ｍ、８Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例４１:４,４'-ビス(トリクロロシリルメチル)ビフェニルとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.００７ｍｏｌ)の４,４'-ビス(トリクロロシリルメチル)ビフェニル、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００７ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.８ｇ(収率６７.６％)の４,４'-ビス(ジクロロシリルメチル)ビフェニルと０.２ｇ(収率７.５％)の４-(ジクロロシリルメチル)-４'-(トリクロロシリルメチル)ビフェニルとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例４０と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.００７ｍｏｌ)の４,４'-ビス(トリクロロシリルメチル)ビフェニル、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.２ｇ(０.０００７ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.８ｇ(収率６７.６％)の４,４'-ビス(ジクロロシリルメチル)ビフェニルと０.２ｇ(収率７.５％)の４-(ジクロロシリルメチル)-４'-(トリクロロシリルメチル)ビフェニルとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例４０と同様である。
実施例４２:フェニルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のフェニルトリクロロシラン、８.１ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.７ｇ(収率８０.０％)のフェニルジクロロシランと０.１ｇ(収率５.８％)のフェニルクロロシランとを得た。得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、フェニルジクロロシランは、δ５.９９ｐｐｍ(ｓ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ７.４８〜７.８４ｐｐｍ(ｍ、５Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。フェニルクロロシランは、δ５.５２ｐｐｍ(ｓ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ７.５８〜７.８７ｐｐｍ(ｍ、５Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のフェニルトリクロロシラン、８.１ｇ(０.０７２ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１２ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.７ｇ(収率８０.０％)のフェニルジクロロシランと０.１ｇ(収率５.８％)のフェニルクロロシランとを得た。得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、フェニルジクロロシランは、δ５.９９ｐｐｍ(ｓ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ７.４８〜７.８４ｐｐｍ(ｍ、５Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。フェニルクロロシランは、δ５.５２ｐｐｍ(ｓ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ７.５８〜７.８７ｐｐｍ(ｍ、５Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例４３:フェニルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:４級ホスホニウム塩を含んだ固形化触媒のシリコンレジン)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のフェニルトリクロロシラン、８.１ｇ(０.０７１ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.８gのシリコンレジン[(ＲＳｉＯ３/２)ｎ、Ｒ={３-(トリブチルホスホニウム)プロピル}クロライド]を入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.３ｇ(収率６１.２％)のフェニルジクロロシランと０.１ｇ(収率５.８％)のフェニルクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例４２と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に２.５ｇ(０.０１２ｍｏｌ)のフェニルトリクロロシラン、８.１ｇ(０.０７１ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.８gのシリコンレジン[(ＲＳｉＯ３/２)ｎ、Ｒ={３-(トリブチルホスホニウム)プロピル}クロライド]を入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.３ｇ(収率６１.２％)のフェニルジクロロシランと０.１ｇ(収率５.８％)のフェニルクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例４２と同様である。
実施例４４:ベンジルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:ベンジルトリエチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)のベンジルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.９ｇ(収率７６.４％)のベンジルジクロロシランと０.１ｇ(収率４.９％)のベンジルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)のベンジルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により１.９ｇ(収率７６.４％)のベンジルジクロロシランと０.１ｇ(収率４.９％)のベンジルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、ベンジルジクロロシランは、δ５.８８ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.７８ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-Ｃ、δ７.１０ｐｐｍ(ｍ、５Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。ベンジルクロロシランは、δ５.５２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.７０ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-Ｃ、δ７.１３ｐｐｍ(ｍ、５Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例４５:(２-フェニルエチル)トリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:ベンジルトリエチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の(２-フェニルエチル)トリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.０ｇ(収率７５.０％)の(２-フェニルエチル)ジクロロシランと０.３ｇ(収率１３.５％)の(２-フェニルエチル)クロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の(２-フェニルエチル)トリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.０ｇ(収率７５.０％)の(２-フェニルエチル)ジクロロシランと０.３ｇ(収率１３.５％)の(２-フェニルエチル)クロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、(２-フェニルエチル)ジクロロシランは、δ５.８３ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.６８ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＡｒ-ＣＨ２-Ｃ、δ１.７２ｐｐｍ(ｑ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-Ｃ、δ７.１０ｐｐｍ(ｍ、５Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。(２-フェニルエチル)クロロシランは、δ５.４３ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.７１ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＡｒ-ＣＨ２-Ｃ、δ１.７５ｐｐｍ(ｍ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-Ｃ、δ７.１４ｐｐｍ(ｍ、５Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例４６:９-トリクロロシリルアントラセンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の９-トリクロロシリルアントラセン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.８ｇ(収率７７.７％)の９-ジクロロシリルアントラセンと０.１ｇ(収率３.２％)の９-クロロシリルアントラセンとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の９-トリクロロシリルアントラセン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.８ｇ(収率７７.７％)の９-ジクロロシリルアントラセンと０.１ｇ(収率３.２％)の９-クロロシリルアントラセンとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、９-ジクロロシリルアントラセンは、δ５.８８ｐｐｍ(ｓ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ７.１０〜７.４３ｐｐｍ(ｍ、９Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。９-クロロシリルアントラセンは、δ５.３３ｐｐｍ(ｓ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ７.１４〜７.４６ｐｐｍ(ｍ、９Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例４７:１-ナフチルトリクロロシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.５ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の１-ナフチルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.４ｇ(収率８１.３％)の１-ナフチルジクロロシランと０.１ｇ(収率４.０％)の１-ナフチルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.５ｇ(０.０１３ｍｏｌ)の１-ナフチルトリクロロシラン、９.０ｇ(０.０７８ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１３ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.４ｇ(収率８１.３％)の１-ナフチルジクロロシランと０.１ｇ(収率４.０％)の１-ナフチルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、１-ナフチルジクロロシランは、δ５.７９ｐｐｍ(ｓ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ７.０２〜７.３３ｐｐｍ(ｍ、７Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。１-ナフチルクロロシランは、δ５.３１ｐｐｍ(ｓ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ７.０５〜７.３５ｐｐｍ(ｍ、７Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例４８:９-トリクロロシリルメチルアントラセンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の９-トリクロロシリルメチルアントラセン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.３ｇ(収率８０.９％)の９-ジクロロシリルメチルアントラセンと０.３ｇ(収率８.３％)の９-クロロシリルメチルアントラセンとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.５ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の９-トリクロロシリルメチルアントラセン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて１２０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により３.３ｇ(収率８０.９％)の９-ジクロロシリルメチルアントラセンと０.３ｇ(収率８.３％)の９-クロロシリルメチルアントラセンとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、９-ジクロロシリルメチルアントラセンは、δ６.０１ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.４８ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-Ａｒ、δ７.２０〜７.４２ｐｐｍ(ｍ、９Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。９-クロロシリルメチルアントラセンは、δ５.５２ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ２.３４ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-ＣＨ２-Ａｒ、δ７.１７〜７.４１ｐｐｍ(ｍ、９Ｈ)でＡｒ-Ｈのピークを確認した。
実施例４９:１,１,１,３,３-ペンタクロロ-１,３-ジシラブタンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:ベンジルトリブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１５ｍｏｌ)の１,１,１,３,３-ペンタクロロ-１,３-ジシラブタン、１０.４ｇ(０.０９０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１５ｍｏｌ)のベンジルトリブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.７ｇ(収率７８.９％)の１,１,３,３-テトラクロロ-１,３-ジシラブタンと０.２ｇ(収率６.９％)の１,１,３-トリクロロ-１,３-ジシラブタンとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１５ｍｏｌ)の１,１,１,３,３-ペンタクロロ-１,３-ジシラブタン、１０.４ｇ(０.０９０ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１５ｍｏｌ)のベンジルトリブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.７ｇ(収率７８.９％)の１,１,３,３-テトラクロロ-１,３-ジシラブタンと０.２ｇ(収率６.９％)の１,１,３-トリクロロ-１,３-ジシラブタンとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、１,１,３,３-テトラクロロ-１,３-ジシラブタンは、δ５.６８ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.３３ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)で-ＣＨ２-、δ０.９４ｐｐｍ(ｓ、３Ｈ)でＳｉ-ＣＨ３のピークを確認した。１,１,３-トリクロロ-１,３-ジシラブタンは、δ５.２４ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.３９ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)で-ＣＨ２-、δ０.９９ｐｐｍ(ｓ、３Ｈ)でＳｉ-ＣＨ３のピークを確認した。
実施例５０:１,１,１,-トリクロロ-３,３-ジメチル-１,３-ジシラブタンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:ベンジルトリブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の１,１,１,-トリクロロ-３,３-ジメチル-１,３-ジシラブタン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のベンジルトリブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.１ｇ(収率８０.１％)の１,１-ジクロロ-３,３-ジメチル-１,３-ジシラブタンと０.１ｇ(収率４.７％)の１-クロロ-３,３-ジメチル-１,３-ジシラブタンとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に３.０ｇ(０.０１４ｍｏｌ)の１,１,１,-トリクロロ-３,３-ジメチル-１,３-ジシラブタン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.５ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のベンジルトリブチルホスホニウムクロライドを入れて８０℃で３時間反応させ、反応物の減圧蒸留により２.１ｇ(収率８０.１％)の１,１-ジクロロ-３,３-ジメチル-１,３-ジシラブタンと０.１ｇ(収率４.７％)の１-クロロ-３,３-ジメチル-１,３-ジシラブタンとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、１,１-ジクロロ-３,３-ジメチル-１,３-ジシラブタンは、δ５.５７ｐｐｍ(ｔ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.３０ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)で-ＣＨ２-、δ１.０７ｐｐｍ(ｓ、９Ｈ)でＳｉ-ＣＨ３のピークを確認した。１-クロロ-３,３-ジメチル-１,３-ジシラブタンは、δ５.０９ｐｐｍ(ｔ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ１.３３ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)で-ＣＨ２-、δ１.１３ｐｐｍ(ｓ、９Ｈ)でＳｉ-ＣＨ３のピークを確認した。
実施例５１:ビニルトリクロロシランと１,１,３,３-テトラクロロ-１,３-ジシラブタンとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に１.０ｇ(０.００６ｍｏｌ)のビニルトリクロロシラン、８.２ｇ(０.０３６ｍｏｌ)の１,１,３,３-テトラクロロ-１,３-ジシラブタンと０.２ｇ(０.０００６ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて９０℃で３時間反応させ、反応物の常圧蒸留により０.６ｇ(収率７８.７％)のビニルジクロロシランと０.１ｇ(収率１８.０％)のビニルクロロシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に１.０ｇ(０.００６ｍｏｌ)のビニルトリクロロシラン、８.２ｇ(０.０３６ｍｏｌ)の１,１,３,３-テトラクロロ-１,３-ジシラブタンと０.２ｇ(０.０００６ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて９０℃で３時間反応させ、反応物の常圧蒸留により０.６ｇ(収率７８.７％)のビニルジクロロシランと０.１ｇ(収率１８.０％)のビニルクロロシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、ビニルジクロロシランは、δ５.６８ｐｐｍ(ｄ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ６.３３ｐｐｍ(ｑ、１Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ-Ｓｉ、δ５.３４ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ-Ｓｉのピークを確認した。ビニルクロロシランは、δ５.１８ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈ、δ６.２３ｐｐｍ(ｍ、１Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ-Ｓｉ、δ５.２０ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＣＨ２=ＣＨ-Ｓｉのピークを確認した。
実施例５２:ビニルトリクロロシランと１,１,３,３,３-ペンタクロロ-１,３-ジシラプロパンの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライド)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に１.０ｇ(０.００６ｍｏｌ)のビニルトリクロロシラン、８.９ｇ(０.０３６ｍｏｌ)の１,１,３,３,３-ペンタクロロ-１,３-ジシラプロパンと０.２ｇ(０.０００６ ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて９０℃で３時間反応させ、反応物の常圧蒸留により０.５ｇ(収率６５.６％)のビニルジクロロシランと０.１ｇ(収率１８.０％)のビニルクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例５１と同様である。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に１.０ｇ(０.００６ｍｏｌ)のビニルトリクロロシラン、８.９ｇ(０.０３６ｍｏｌ)の１,１,３,３,３-ペンタクロロ-１,３-ジシラプロパンと０.２ｇ(０.０００６ ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを入れて９０℃で３時間反応させ、反応物の常圧蒸留により０.５ｇ(収率６５.６％)のビニルジクロロシランと０.１ｇ(収率１８.０％)のビニルクロロシランとを得た。各生成物のピーク確認は上記実施例５１と同様である。
実施例５３:ヘキサクロロジシランとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライドが結合されたシリコン樹脂をシリカに塗布した固体)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１５ｍｏｌ)のヘキサクロロジシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを含んだ固形シリコン樹脂１.０ｇを３.０ｇのシリカに塗布した触媒を入れて８０℃で２時間反応させ、反応物の常圧蒸留により２.５ｇ(収率７１.５％)のペンタクロロジシランと０.３７ｇ(収率１２.５％)のテトラクロロジシランとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.０ｇ(０.０１５ｍｏｌ)のヘキサクロロジシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを含んだ固形シリコン樹脂１.０ｇを３.０ｇのシリカに塗布した触媒を入れて８０℃で２時間反応させ、反応物の常圧蒸留により２.５ｇ(収率７１.５％)のペンタクロロジシランと０.３７ｇ(収率１２.５％)のテトラクロロジシランとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、ペンタクロロジシランは、δ５.３８ｐｐｍ(ｓ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈのピークを確認した。１,１,２,２-テトラクロロジシランは、δ４.９２ｐｐｍ(ｄ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈのピークを確認した。
実施例５４:ヘキサクロロジシロキサンとメチルジクロロシランとの反応(触媒:テトラブチルホスホニウムクロライドが結合されたシリコン樹脂を球状活性炭素に塗布した固体)
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.３ｇ(０.０１５ｍｏｌ)のヘキシルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを含んだシリコン樹脂１.０ｇを３.０ｇの球状活性炭素に塗布した固体触媒を入れて８０℃で４時間反応させ、反応物の常圧蒸留により２.７ｇ(収率７０.６％)のペンタクロロジシロキサンと０.５ｇ(収率１５.５％)のテトラクロロジシロキサンとを得た。
実施例１と同様の方法で、２５ｍｌのステンレススチール管に４.３ｇ(０.０１５ｍｏｌ)のヘキシルトリクロロシラン、９.７ｇ(０.０８４ｍｏｌ)のメチルジクロロシランと０.４ｇ(０.００１４ｍｏｌ)のテトラブチルホスホニウムクロライドを含んだシリコン樹脂１.０ｇを３.０ｇの球状活性炭素に塗布した固体触媒を入れて８０℃で４時間反応させ、反応物の常圧蒸留により２.７ｇ(収率７０.６％)のペンタクロロジシロキサンと０.５ｇ(収率１５.５％)のテトラクロロジシロキサンとを得た。
得られた生成物は、３００ＭＨｚの水素核磁気共鳴分析の結果、ペンタクロロジシロキサンは、δ５.７８ｐｐｍ(ｓ、１Ｈ)でＳｉ-Ｈのピークを確認した。１,１,２,２-テトラクロロジシロキサンは、δ５.３２ｐｐｍ(ｓ、２Ｈ)でＳｉ-Ｈのピークを確認した。
Claims (9)
- 次の一般式（１）で表される有機クロロヒドロシラン:
ａが１であるとき、Ｒ３は、塩素、炭素数２〜１８の直鎖アルキル基、イソプロピル、イソブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ネオペンチル、２-エチルヘキシル、イソ-オクチル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロヘキセニルメチル、９-アントラセニル、９-アントラセニルメチル、２-(２-ピリジル)エチル、２-(４-ピリジル)エチル、ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２、ジフェニルメチル、２-(ビシクロヘプチル)、５-[(ビシクロヘプテニル)エチル]、１１-アセトキシウンデシル、１１-クロロウンデシル、フェニル基、ベンジル基、２-フェニルエチル基、１-ナフチル基、ＣＨ３(Ｃ=Ｏ)Ｏ(ＣＨ２)ｋ(ここで、ｋ=２、３、１０である。)、Ｒ４-Ｐｈ-(ＣＨ２)ｌ(ここで、ｌ=０、１、２、３であり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン元素である。)、Ｃｌ-(ＣＨ２)ｍ(ここで、ｍ=１〜１２である。)、ＮＣ-(ＣＨ２)ｎ(ここで、ｎ=２〜１１である。)、ＣＨ２=ＣＨ-(ＣＨ２)ｏ(ここで、ｏ=０〜２０である。)、Ａｒ１-ＣＨ(Ｍｅ)-ＣＨ２(ここで、Ａｒ１はＣ１〜Ｃ４のアルキル基あるいはハロゲン元素が置換されたフェニル基、ビフェニル基、ビフェニルエーテル基、ナフチル基である。)、Ａｒ２Ｏ-(ＣＨ２)ｐ(ここで、ｐ=３〜１８であり、Ａｒ２は、フェニル基、ビフェニル基、ビフェニルエーテル基、ナフチル基、フェナントリル基である。)、Ｃｌ３Ｓｉ-(ＣＨ２)ｑ-(ここで、ｑ=０〜１２であり、Ｃｌ３Ｓｉは例えばＣｌ２ＨＳｉである。)、Ｃｌ３Ｓｉ-(ＣＨ２)ｒ-Ａｒ３-(ＣＨ２)ｒ-(ここで、ｒは０又は１であり、Ａｒ３は、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基であり、Ｃｌ３Ｓｉは例えばＣｌ２ＨＳｉである。)、２,２,５,５-テトラクロロ-４-トリクロロシリル-２,５-ジシリルシクロヘキシル基(ここで、Ｃｌ３Ｓｉは例えばＣｌ２ＨＳｉである。)であり、
ａが２であるとき、Ｒ３は、塩素、炭素数２〜１８の直鎖アルキル基、イソプロピル、イソブチル、２-エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２-(ビシクロヘプチル)、ネオペンチル基、イソ-オクチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキセニルメチル基、２-(２-ピリジル)エチル基、２-(４-ピリジル)エチル基、５-[(ビシクロヘプテニル)エチル]、１１-アセトキシウンデシル、１１-クロロウンデシル、フェニル基、ベンジル基、２-フェニルエチル基、１-ナフチル基、ナフチルメチル基、１-ナフチル基、ジフェニルメチル基、ＣＨ３(Ｃ=Ｏ)Ｏ(ＣＨ２)ｋ(ここで、ｋ=２、３、１０である。)、Ｒ４-Ｐｈ-(ＣＨ２)ｌ(ここで、ｌ=０、１、２、３であり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン元素である。)、Ｃｌ-(ＣＨ２)ｍ(ここで、ｍ=１〜１２である。)、ＮＣ-(ＣＨ２)ｍ-(ここで、ｍ=２〜１１である。)、ＣＨ２=ＣＨ-(ＣＨ２)ｏ-(ここで、ｏ=０〜２０である。)、Ａｒ１-ＣＨ(Ｍｅ)-ＣＨ２-(ここで、Ａｒ１はＣ１〜Ｃ４のアルキル基あるいはハロゲン元素が置換されたフェニル基、ビフェニル基、ビフェニルエーテル基、ナフチル基である。)、Ａｒ２Ｏ-(ＣＨ２)ｐ-(ここで、ｐ=３〜１８であり、Ａｒ２は、フェニル基、ビフェニル基、ビフェニルエーテル基、ナフチル基、フェナントリル基である。)、又は、Ａｒ４-(ＣＨ２)ｑ-(ここで、ｑは０あるいは１であり、Ａｒ４はビフェニル基又はアントラセニル基である。)である。 - 四級有機ホスホニウム塩触媒下で次の一般式（２）で表されるシラン化合物と次の一般式（３）で表される有機クロロシランとを反応させ、上記の請求項１に記載の一般式（１）で表される有機クロロヒドロシランの製造方法:
- 上記四級有機ホスホニウム塩触媒は、次の一般式（４）又は（５）で表されることを特徴とする請求項２に記載の製造方法:
- 上記四級有機ホスホニウム塩触媒は、上記一般式（３）で表される有機クロロシラン１モルに対し０.０５〜０.５モルが含まれることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
- 上記四級有機ホスホニウム塩触媒は、シリコンレジン、シリカ、無機錯体、および有機高分子からなる群より選ばれる１種以上の担体上に固定化された構造を有することを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
- 上記一般式（２）で表されるシラン化合物は、上記一般式（３）で表される有機クロロシラン１モルに対し１〜２０モルの範囲で反応することを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
- 上記反応は２０〜２００℃の温度範囲で行われることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
- 上記反応は、反応溶媒が存在しない状態、又は芳香族炭化水素溶媒の存在下で行われることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
- 上記反応はバッチ法や連続工程で行われることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
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