JP2012513624A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012513624A5
JP2012513624A5 JP2011543666A JP2011543666A JP2012513624A5 JP 2012513624 A5 JP2012513624 A5 JP 2012513624A5 JP 2011543666 A JP2011543666 A JP 2011543666A JP 2011543666 A JP2011543666 A JP 2011543666A JP 2012513624 A5 JP2012513624 A5 JP 2012513624A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
linked
polymerizable monomer
transition temperature
glass transition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011543666A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2012513624A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US12/342,163 external-priority patent/US7887992B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2012513624A publication Critical patent/JP2012513624A/ja
Publication of JP2012513624A5 publication Critical patent/JP2012513624A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2011543666A 2008-12-23 2009-12-23 感光性ペーストおよびそれを用いたパターン生産方法 Pending JP2012513624A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/342,163 US7887992B2 (en) 2008-12-23 2008-12-23 Photosensitive paste and process for production of pattern using the same
US12/342,163 2008-12-23
PCT/US2009/069358 WO2010075485A1 (en) 2008-12-23 2009-12-23 Photosensitive paste and process for production of pattern using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012513624A JP2012513624A (ja) 2012-06-14
JP2012513624A5 true JP2012513624A5 (enExample) 2013-02-14

Family

ID=41683381

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011543666A Pending JP2012513624A (ja) 2008-12-23 2009-12-23 感光性ペーストおよびそれを用いたパターン生産方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7887992B2 (enExample)
JP (1) JP2012513624A (enExample)
KR (1) KR20110098846A (enExample)
CN (1) CN102308257A (enExample)
TW (1) TW201030116A (enExample)
WO (1) WO2010075485A1 (enExample)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8129088B2 (en) * 2009-07-02 2012-03-06 E.I. Du Pont De Nemours And Company Electrode and method for manufacturing the same
JP2012073494A (ja) * 2010-09-29 2012-04-12 Taiyo Holdings Co Ltd 感光性樹脂組成物
US9081278B2 (en) * 2012-03-22 2015-07-14 Toray Industries, Inc. Photosensitive conductive paste and method of producing conductive pattern
CN103198877A (zh) * 2013-03-06 2013-07-10 东南大学 一种空气中可烧结感光银包铜电极浆料及其制备方法
US20160179234A1 (en) * 2013-07-03 2016-06-23 Amosense Co., Ltd. Touch sensor for touch screen panel, manufacturing method thereof, and touch screen panel including same
CN109572231B (zh) * 2018-11-16 2020-04-24 潮州三环（集团）股份有限公司 热敏打印头及其制备方法
CN110335700B (zh) * 2019-06-28 2021-11-26 乾宇电子材料(苏州)有限公司 高温烧结型黄光导电浆料、导电线路及制备方法
JP2024033515A (ja) * 2022-08-30 2024-03-13 株式会社村田製作所 感光性ペースト、配線パターンの形成方法、電子部品の製造方法および電子部品

Family Cites Families (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2850445A (en) 1955-01-19 1958-09-02 Oster Gerald Photopolymerization
US2875047A (en) 1955-01-19 1959-02-24 Oster Gerald Photopolymerization with the formation of coherent plastic masses
US3074974A (en) 1957-12-06 1963-01-22 Monsanto Chemicals Method for the preparation of diglycidyl ether of tetrachlorobisphenol-a
US3097097A (en) 1959-02-12 1963-07-09 Gisela K Oster Photo degrading of gel systems and photographic production of reliefs therewith
NL254306A (enExample) 1959-08-07
GB1090142A (en) 1965-02-26 1967-11-08 Agfa Gevaert Nv Photochemical insolubilisation of polymers
US3479185A (en) 1965-06-03 1969-11-18 Du Pont Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
US3380381A (en) 1965-08-06 1968-04-30 Western Printing Mach Co Rotary press printing cylinder for clamping flexible plates
US3549367A (en) 1968-05-24 1970-12-22 Du Pont Photopolymerizable compositions containing triarylimidazolyl dimers and p-aminophenyl ketones
US4162162A (en) 1978-05-08 1979-07-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Derivatives of aryl ketones and p-dialkyl-aminoarylaldehydes as visible sensitizers of photopolymerizable compositions
US5032490A (en) 1989-08-21 1991-07-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive aqueous developable copper conductor composition
US5679721A (en) 1995-02-27 1997-10-21 Domco Industries Ltd. Curable coating composition for sheet goods
JPH1055758A (ja) * 1996-06-03 1998-02-24 Dainippon Printing Co Ltd 厚膜パターン形成方法
JPH09329891A (ja) * 1996-06-12 1997-12-22 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物、そのフィルム及びその硬化物
JP3806199B2 (ja) * 1996-11-18 2006-08-09 大日本印刷株式会社 パターン形成方法
US5851732A (en) * 1997-03-06 1998-12-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Plasma display panel device fabrication utilizing black electrode between substrate and conductor electrode
JP3686749B2 (ja) 1997-11-04 2005-08-24 太陽インキ製造株式会社 パターン状無機質焼成被膜及びプラズマディスプレイパネルの製造方法
JP3947287B2 (ja) * 1997-12-27 2007-07-18 大日本印刷株式会社 感光性導体ペーストおよびこれを用いた転写シート
JP2001100405A (ja) * 1999-09-30 2001-04-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd 感光性銀ペースト及びそれを用いた画像表示装置
GB2360292B (en) * 2000-03-15 2002-04-03 Murata Manufacturing Co Photosensitive thick film composition and electronic device using the same
JP2002082449A (ja) * 2000-06-30 2002-03-22 Murata Mfg Co Ltd 厚膜パターンの形成方法及びそれに用いられる感光性ペースト
US6939922B2 (en) * 2001-03-30 2005-09-06 Rohm And Haas Company Coating and coating composition
FR2826580B1 (fr) * 2001-06-29 2005-09-30 Oreal Utilisation du tripeptide lys-pro-val (kpv) pour favoriser le renouvellement epidermique et la micro-cicatrisation cutanee superficielle et/ou ameliorer l'aspect esthetique des plaies et cicatrices
JP2003043676A (ja) * 2001-07-30 2003-02-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd 感光性銀ペースト及びそれを用いた画像表示装置
JP3614152B2 (ja) * 2001-08-07 2005-01-26 株式会社村田製作所 感光性導電ペースト、それを用いた回路基板及びセラミック多層基板の製造方法
US6994948B2 (en) 2001-10-12 2006-02-07 E.I. Du Pont De Nemours And Company, Inc. Aqueous developable photoimageable thick film compositions
US6762009B2 (en) * 2001-10-12 2004-07-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous developable photoimageable thick film compositions with photospeed enhancer
JP4061958B2 (ja) * 2002-04-24 2008-03-19 東レ株式会社 感光性セラミックス組成物及びその現像方法
JP3757886B2 (ja) * 2002-01-25 2006-03-22 株式会社村田製作所 光反応性樹脂組成物、それを用いた回路基板およびセラミック多層基板の製造方法
JP2004063247A (ja) 2002-07-29 2004-02-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラズマディスプレイパネルの製造方法
JP3975932B2 (ja) * 2003-02-12 2007-09-12 株式会社村田製作所 光反応性樹脂組成物、回路基板の製造方法、およびセラミック多層基板の製造方法
JP4211782B2 (ja) * 2003-11-25 2009-01-21 株式会社村田製作所 厚膜パターンの形成方法、電子部品の製造方法
JP4271048B2 (ja) 2004-01-28 2009-06-03 東京応化工業株式会社 感光性無機ペースト組成物、これを用いたプラズマディスプレイ前面板製造用シート状未焼成体、および、プラズマディスプレイ前面板の製造方法
CN1957425A (zh) * 2004-05-21 2007-05-02 Tdk株式会社 透明导电材料、透明导电膏、透明导电膜和透明电极
KR100637174B1 (ko) * 2004-10-06 2006-10-20 삼성에스디아이 주식회사 Ｐｄｐ 전극 형성용 포지티브형 감광성 페이스트 조성물,이를 이용하여 제조된 ｐｄｐ 전극 및 이를 포함하는 ｐｄｐ
JP2006133378A (ja) 2004-11-04 2006-05-25 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた感光性ドライフィルム
CN1848303B (zh) * 2005-03-09 2011-05-04 E.I.内穆尔杜邦公司 黑导电组合物、黑电极及利用它们的制品
US7381353B2 (en) 2005-03-09 2008-06-03 E.I. Du Pont De Nemours And Company Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof
WO2007064688A2 (en) 2005-11-30 2007-06-07 Ashland Licensing And Intellectual Property Llc Prepregs and cured in place solid surfaces prepared therefrom
US7645564B2 (en) * 2006-03-03 2010-01-12 Haixin Yang Polymer solutions, aqueous developable thick film compositions, processes of making and electrodes formed thereof
JP4765820B2 (ja) 2006-08-03 2011-09-07 東レ株式会社 感光性ペーストおよびそれを用いた電子部品の製造方法
WO2008096782A1 (ja) 2007-02-06 2008-08-14 Jsr Corporation 感光性樹脂組成物、転写フィルムおよびパターン形成方法
JP5060137B2 (ja) 2007-02-06 2012-10-31 積水化学工業株式会社 セラミックグリーンシート用セラミックペースト、セラミックグリーンシート及び積層セラミックコンデンサ
JP5272349B2 (ja) * 2007-02-26 2013-08-28 東レ株式会社 電子放出源用ペースト及び電子放出素子
KR20080083518A (ko) * 2007-03-12 2008-09-18 삼성에스디아이 주식회사 감광성 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 플라즈마디스플레이 패널 및 그 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012513624A5 (enExample)
CN103819583B (zh) 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
JP2009265642A5 (enExample)
JP2015232706A5 (ja) トナーおよびトナーの製造方法
JP2005511809A5 (enExample)
JP2012067283A5 (enExample)
JP2014058672A5 (enExample)
JP2014085643A5 (enExample)
WO2009063829A1 (ja) アダマンタン誘導体、その製造方法及びアダマンタン誘導体を含む硬化性組成物
WO2000071544A1 (en) Chromene compounds
JP2015521226A5 (enExample)
JP2014015631A5 (enExample)
ES2570137T3 (es) Composición de agente antiadherente
JP2009048182A5 (enExample)
JP2015034281A5 (enExample)
JP2019014707A5 (enExample)
JP2016117885A5 (enExample)
JP2013200577A5 (enExample)
JP2016011993A5 (enExample)
JP2016142758A5 (enExample)
CN105622834B (zh) 一种光固化低介电常数含氟聚丙烯酸酯丙烯酸酯的制备方法
CN102504268A (zh) 一种新型含磷阻燃剂及其制备方法
CN105561802B (zh) 一种uv固化聚氧化乙烯半互穿网络气体分离膜的制备方法
JP2006276598A5 (enExample)
TWI611261B (zh) 低溫固烤之感光性樹脂組成物及其用途