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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013084282A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
WO2013084283A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
JP2015141429A (ja) * 2014-01-27 2015-08-03 信越ポリマー株式会社 透明電極静電容量センサ及びその製造方法
WO2016167228A1 (ja) * 2015-04-15 2016-10-20 日立化成株式会社 感光性導電フィルム、導電パターンの形成方法、導電パターン付き基材、及びタッチパネルセンサ
JP2018100988A (ja) * 2015-04-24 2018-06-28 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及びプリント配線板の製造方法
US20180107112A1 (en) * 2015-05-11 2018-04-19 Hitachi Chemical Company, Ltd. Transfer-type photosensitive refractive index adjustment film, method for forming refractive index adjustment pattern, and electronic component
JP6869263B2 (ja) * 2016-12-05 2021-05-12 旭化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、樹脂パターンの製造方法及び硬化膜パターン製造方法
WO2018134883A1 (ja) * 2017-01-17 2018-07-26 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、タッチパネル電極の保護膜及びタッチパネル
WO2018179102A1 (ja) * 2017-03-28 2018-10-04 日立化成株式会社 転写型感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法、硬化膜及びタッチパネル
JP7210091B2 (ja) * 2017-03-28 2023-01-23 株式会社レゾナック 転写型感光性フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及びタッチパネル
JP7593405B2 (ja) * 2020-08-07 2024-12-03 株式会社レゾナック 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及びプリント配線板の製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03281622A (ja) * 1990-03-30 1991-12-12 Hitachi Ltd 光硬化性ジアリルフタレート樹脂組成物及びそれを用いたプリント回路板
JP3901543B2 (ja) * 2002-02-26 2007-04-04 株式会社カネカ 感光性樹脂組成物及び感光性カバーレイフィルム
KR20080053199A (ko) * 2006-12-08 2008-06-12 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 보호막용 열경화성 조성물, 경화물, ｔｆｔ 액티브매트릭스 기판, 및 액정 표시 장치
JP5013913B2 (ja) * 2007-03-23 2012-08-29 富士フイルム株式会社 離画壁用感光性樹脂膜の形成方法、感光性転写材料、離画壁付基板、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
TW200910005A (en) * 2007-07-26 2009-03-01 Fujifilm Corp Photosensitive composition, photosensitive resin transfer film, and method for producing a photospacer, and substrate for a liquid crystal display device and liquid crystal display device
JP2009073022A (ja) * 2007-09-20 2009-04-09 Fujifilm Corp 転写用積層材料及び画像形成方法
JP4968410B2 (ja) * 2009-10-15 2012-07-04 東洋紡績株式会社 導電性ペースト、導電性膜、タッチパネル、及び導電性薄膜の製造方法
JP2011227467A (ja) * 2010-03-31 2011-11-10 Toray Ind Inc 感光性黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス基板
CN102844708B (zh) * 2010-04-14 2015-11-25 东丽株式会社 负型感光性树脂组合物、使用该组合物的保护膜及触摸面板构件
JP5627273B2 (ja) * 2010-04-15 2014-11-19 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JPWO2011129312A1 (ja) * 2010-04-16 2013-07-18 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、およびタッチパネル用部材
JP5617329B2 (ja) * 2010-04-28 2014-11-05 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性樹脂組成物およびタッチパネル用絶縁膜
JP5729329B2 (ja) * 2011-03-31 2015-06-03 Jsr株式会社 感放射線性組成物、並びに硬化膜及びその形成方法

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