KR20150095853A - 카바졸 케톡심 에스테르 고-감광도 광개시제 - Google Patents
카바졸 케톡심 에스테르 고-감광도 광개시제 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20150095853A KR20150095853A KR1020157018755A KR20157018755A KR20150095853A KR 20150095853 A KR20150095853 A KR 20150095853A KR 1020157018755 A KR1020157018755 A KR 1020157018755A KR 20157018755 A KR20157018755 A KR 20157018755A KR 20150095853 A KR20150095853 A KR 20150095853A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- photoinitiator
- ester type
- carbazolyl
- ketoxime ester
- Prior art date
Links
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 16
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 title claims abstract description 10
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 title abstract description 13
- -1 carbazolyl ketoxime ester Chemical class 0.000 claims description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000001316 cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002757 morpholinyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 abstract description 11
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 9-ethylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(CC)C3=CC=CC=C3C2=C1 PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 0 CC=C[C@@](C(CC(C(*)=NO)=O)c1c2)N(*)c1ccc2C([Al])=O Chemical compound CC=C[C@@](C(CC(C(*)=NO)=O)c1c2)N(*)c1ccc2C([Al])=O 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 2
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- SZQVEGOXJYTLLB-UHFFFAOYSA-N 3-cyclopentylpropanoyl chloride Chemical compound ClC(=O)CCC1CCCC1 SZQVEGOXJYTLLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- ZDMTZAQPYMLCNA-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC1=2)C(=NO)C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC1=2 Chemical compound C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC1=2)C(=NO)C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC1=2 ZDMTZAQPYMLCNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKIHYKYUZSQWGX-UHFFFAOYSA-N C1(CCCC1)CCC(=O)C=1C=CC=2N(C3=CC=C(C=C3C2C1)C(C1=CC=CS1)=O)CC Chemical compound C1(CCCC1)CCC(=O)C=1C=CC=2N(C3=CC=C(C=C3C2C1)C(C1=CC=CS1)=O)CC MKIHYKYUZSQWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEVRZDUPHZSOX-WPWMEQJKSA-N [(e)-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)carbazol-3-yl]ethylideneamino] acetate Chemical compound C=1C=C2N(CC)C3=CC=C(C(\C)=N\OC(C)=O)C=C3C2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1C SEEVRZDUPHZSOX-WPWMEQJKSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- VGGRCVDNFAQIKO-UHFFFAOYSA-N formic anhydride Chemical compound O=COC=O VGGRCVDNFAQIKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- OWFXIOWLTKNBAP-UHFFFAOYSA-N isoamyl nitrite Chemical compound CC(C)CCON=O OWFXIOWLTKNBAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 150000004893 oxazines Chemical class 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 230000002165 photosensitisation Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D409/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
- C07D409/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
- C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
- C07D209/86—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
- C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
- C07D209/88—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
- C07D405/06—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
본 발명은 화학식 I로 나타낸 구조를 갖는 카바졸 케톡심 에스테르 고-감광도 광개시제에 관한 것이다. 상기 광개시제는 바람직한 적용 성능을 갖고; 높은 감광도를 가지며, 특히 LED 또는 LDI와 같은 노광 광원하에 고도로 감광성이어서, 상기 광개시제는 기존 제품보다 분명히 더 우수하다.
화학식 I
화학식 I
Description
본 발명은 광개시제의 기술 분야에 관한 것이며, 특히 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제에 관한 것이다.
광-경화는 단량체, 올리고머 또는 중합체의 매트릭스를 광 유도하에 경화시키는 공정을 나타내며, 이 기술은 최신 마이크로-전자 기술, 예를 들면, 광경화 잉크, 액정 패널의 포장재, 감광성 인쇄판, 컬러 필터, 포토레지스트 등에서 광범위하게 사용된다. 광-경화 기술의 요점은 광-경화성 중합 가능한 단량체 및 적합한 광개시제에 있다. 특정 파장을 갖는 광원의 조사하에, 광개시제는 활성 그룹을 발생시켜, 이는 중합 가능한 단량체의 불포화 그룹을 여기시켜 중합 반응이 일어나도록 하고, 그렇게 함으로써 물질의 경화를 초래한다.
광개시제는 광-경화성 조성물(즉, 감광성 조성물)의 감광성에 영향을 미치는 매우 중요한 인자이다. 현재, 광개시제에 관한 다수의 연구들과 보고들이 존재한다. 그러나, 이들 광개시제는 일반적으로 낮은 광감지 활성(photosensing activity)을 가지며, 적용 가능한 광원의 타입 측면에서 심각한 한계를 갖는다. 이들 중의 대부분은 단지 자외선 여기에 대해서만 적합하다. 예를 들면, 제CN101508744A호에 기재된 카바졸릴 옥심 에스테르 타입 광개시제, 시판 중인 옥심 에스테르 타입 광개시제 OXE-02, 제CN101565472A호에 기재된 케톡심 에스테르 타입 광개시제, 시판 중인 케톡심 에스테르 타입 광개시제 OXE-01 등과 같은 옥심 에스테르 타입 광개시제가 존재하며, 이들 모두는 노광 광원으로서 (고압, 중간압 및 저압 수은 램프를 포함하는) 수은 램프를 사용하는 용도에 대한 요건만을 충족한다.
환경 및 안전에 대한 인식 및 요구의 증가 뿐만 아니라 광중합 기술의 개발과 함께, LED, LDI 등과 같은 저-에너지, 고-안전성, 에너지-절감형 환경 친화적인 노광 램프 광원이 이 분야에서 기술의 적용 및 개발에 있어서 트렌드가 되었다. 이러한 상황하에, LED, LDI 등과 같은 저-에너지 및 장-파장-출력 노광 광원에 매치시킬 수 있는 광개시제를 연구하고 개발하는 것은, 실용적이면서 경제적인 중요한 의미를 갖는다. 현재, 최신 광개시제 중의 어느 것도 LED, LDI 등과 같은 노광 광원과 잘 매치될 수 없으며, 낮은 감광도(즉, 광감지 활성)를 나타낸다.
이를 고려해서, 본 발명은 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제를 기술하며, 이러한 타입의 광개시제는 수은 램프의 광원과 매치될 수 있을 뿐만 아니라 LED, LDI 등과 같은 저-에너지 및 장-파장-출력 노광 광원과도 잘 매치될 수 있고, 매우 높은 감광도를 갖는다.
본 발명의 목적은 매우 뛰어난 감광성을 갖고 LED, LDI 등과 같은 노광 광원하에 매우 높은 감광도를 나타내는 신규한 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제를 제공하는 것이다.
상기한 기술적 효과를 달성하기 위해, 본 발명은 다음의 기술적 해결방안을 사용한다:
화학식 I로 나타내어지는 구조를 갖는, 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제:
[화학식 I]
위의 화학식 I에서,
R2는 C1~C20 직쇄 또는 측쇄 알킬 그룹이고;
R3은 C1~C10 알킬 그룹, C3~C8 사이클로알킬 그룹, 또는 C1~C4 알킬 그룹 및 C3~C8 사이클로알킬 그룹으로 이루어진 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 알킬 그룹에 의해 임의로 치환된 페닐 그룹(즉, 치환체가 존재하거나 부재할 수 있다)이고;
Ar은 임의의 치환체를 갖는 S 또는 O-함유 헤테로사이클릭 그룹(즉, 치환체가 존재하거나 부재할 수 있다), 또는 O, S 또는 N 원자-함유 치환체를 갖는 치환된 아릴 그룹이다.
또한, 상기한 화학식 I로 나타내어지는 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제 화합물에서, R1에서, 바람직하게는 n은 1 또는 2이고 m은 3 또는 4이다.
R2는 바람직하게는 C1~C5 직쇄 또는 측쇄 알킬 그룹, 보다 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필 또는 n-부틸, 특히 바람직하게는 에틸이다.
R3은 바람직하게는 C1~C3 직쇄 또는 측쇄 알킬 그룹, 보다 바람직하게는 메틸이다.
Ar에서, 임의의 치환체를 갖는 상기 S 또는 O-함유 헤테로사이클릭 그룹은 바람직하게는 0 내지 2개의 치환체, 특히 0 내지 2개의 메틸 또는 에틸 그룹을 갖고; 상기 S 또는 O-함유 헤테로사이클릭 그룹은 바람직하게는 푸라닐 또는 티에닐이다. 상기 치환된 아릴 그룹 중의 상기 O, S 또는 N 원자-함유 치환체는 바람직하게는 알킬티오 그룹, 알콕시 그룹, 알킬아미노 그룹, 피페라지닐 그룹, 모르폴리닐 그룹 등이다.
게다가, 상기한 화학식 I로 나타내어지는 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 화합물에서, Ar은 바람직하게는 다음의 구조들로부터 선택된다:
본 발명의 목적은, 출발 원료로서 카바졸을 사용하여, 상기한 화학식 I로 나타내어지는 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제를 제조하는 방법을 추가로 제공하는 것으로, 당해 방법은,
(1) 카바졸을 유기 용매에 용해시키고, 브로모알칸 R2-Br과 치환 반응시켜 중간체 a, 즉, 9-R2-카바졸을 수득하는 치환 반응 단계(여기서, 이의 반응 공정은 다음과 같다):
(2) 상기 중간체 a(9-R2-카바졸)를 유기 용매에 용해시키고, 삼염화알루미늄의 촉매 작용하에 아실화 반응시켜 중간체 b, 즉, 3-R1-아세틸-6-Ar-아실-9-R2-카바졸을 수득하는 아실화 반응 단계(여기서, 이의 반응 공정은 다음과 같다):
(3) 상기 제조된 중간체 b(3-R1-아세틸-6-Ar-아실-9-R2-카바졸)를 산화 반응시켜 중간체 c, 즉, 1-(6-Ar-아실-9-R2-카바졸-3-일)-2-R1-1,2-디온-2-옥심을 제조하는 산화 반응 단계(여기서, 이의 반응 공정은 다음과 같다):
(4) 상기 제조된 중간체 c(1-(6-Ar-아실-9-R2-카바졸-3-일)-2-R1-1,2-디온-2-옥심)와 R3-포름산 무수물 또는 R3-포밀 클로라이드 간에 에스테르화 반응을 수행하여 상기 목적하는 생성물, 즉, 화학식 I로 나타내어지는 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제를 제조하는 에스테르화 반응 단계(여기서, 이의 반응 공정은 다음과 같다):
를 포함한다.
상기한 제조 방법에서 사용되는 원료들은 모두 선행 기술에 공지되거나, 시판 중이거나, 공지된 합성 방법으로 제조되는 화합물이며, 각각의 상기 반응 단계의 반응 원칙은 당업계의 숙련가에 의해 용이하게 이해될 것이다.
또한, 본 발명의 목적은, 상기한 화학식 I로 나타내어지는 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제의 제조에 사용되는, 하기 구조를 갖는 중간체 화합물(즉, 상기한 중간체 c)을 추가로 제공하는 것이다:
여기서, 상기한 바와 같은 R1, R2 및 Ar의 정의는 화학식 I에서와 동일하다.
본 발명의 화학식 I로 나타내어지는 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 화합물은 감광성(광-경화성) 조성물 중에서 광개시제로서 사용될 수 있으며, 특히 뛰어난 감광성을 갖는다. 본원에서, 상기 감광성 조성물 중의 다른 성분들은 특별히 제한되지 않으며, 널리 공지되고 당업계에서 통상적으로 사용되는 성분들(예를 들면, 전체 내용이 인용에 의해 본 명세서에 포함된 제CN101059655A호에 기재된 내용 참조), 예를 들면, 광중합 가능한 아크릴 수지일 수 있다.
본 발명의 유리한 효과: 본 발명의 카바졸릴 케톡심 타입 광개시제는 뛰어난 적용 성능 및 매우 높은 감광성을 가지며, 특히 LED, LDI 등과 같은 노광 램프 광원하에서 매우 높은 광감지 활성을 나타내며, 이는 시판 중인 Irgacure369, OXE-01 등과 같은 최신 광개시제보다 분명히 더 우수하고, 제CN101565472A호에 기재된 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제보다도 우수하다. 한편, 본 발명의 제조 방법은 간단하고, 제조 공정시에 오염된 폐기물을 생성하지 않으며, 높은 생성물 순도를 갖고, 공업적 제조에 적합하다.
이하에서는, 본 발명은 구체적인 실시예들과 함께 예시될 것이지만, 본 발명의 범위가 이에 제한되는 것으로 이해되지 않아야 한다.
제조 실시예
실시예 1:
아래에 나타낸 1-[6-(2-티오펜카보닐)-9-에틸카바졸-3-일]-3-사이클로펜틸-프로판-1,2-
디온
-2-
옥심
아세테이트의 제조
단계 1: 9-에틸카바졸의 제조
카바졸 40g, 테트라에틸암모늄 브로마이드 1.5g 및 톨루엔 200mL를 500mL 4구 플라스크에 첨가하고, 새로 제조한 50% NaOH 수용액 140g을 교반하에 첨가한 다음, 브로모에탄 31.2g을 약 30분 내에 적가한 후, 6시간 동안 가열 환류시키면서 반응을 수행하였다. 실온으로 냉각시킨 후, 물 층을 분리하여 제거하고, 물질 액체 층을 물로 3회 세척한 다음 무수 MgSO4로 건조시키고, 흡인 여과하고, 감압하에 농축시켜 용매를 제거하고, 잔류물을 무수 에탄올로 재결정화시켜 백색 니들상 결정 70g을 수율 75% 및 상대 순도 99%로 수득하였다.
단계 2: 3-(3-
사이클로펜틸프로피오닐
)-6-(2-
티오펜카보닐
)-9-
에틸카바졸의
제조
9-에틸카바졸 30g, AlCl3(미분됨) 21.6g 및 디클로로메탄 150mL를 500mL 4구 플라스크에 첨가하고, 교반시키고, 보호를 위해 아르곤 가스를 공급한 다음 빙욕으로 냉각시켰다. 온도가 0℃로 감소되었을 때, 2-티에닐 포밀 클로라이드 23.2g과 디클로로메탄 21g의 혼합 액체를, 상기 온도를 10℃ 이하로 제어하면서 적가하기 시작하여, 상기 적가를 약 1.5시간 내에 완료하였다. 2시간 동안 계속 교반한 다음 AlCl3(미분됨) 21.6g, 및 사이클로펜틸프로피오닐 클로라이드 27.2g과 디클로로메탄 20g의 혼합 액체를, 온도를 10℃ 이하로 제어하면서 첨가하고, 상기 적가를 약 1.5시간 내에 완료하였다. 온도가 15℃로 증가하였을 때, 2시간 동안 계속 교반하고, 상기 반응을 중단시켰다. 상기 반응 액체를, 얼음 400g과 진한 염산 65mL로 조제한 묽은 염산에 붓고, 하부 층 중의 물질 액체를 분별 깔대기를 사용하여 분리하고, 상부 층은 디클로로메탄 50mL로 추출하였다. 상기 추출물과 상기 물질 액체를 합한 다음, NaHCO3 10g과 물 200g으로 조제한 NaHCO3 용액으로 세척하고, pH 값이 중성으로 될 때까지 물 200mL로 3회 추가로 세척하였다. 무수 MgSO4 30g으로 건조시켜 물을 제거하고, 디클로로메탄을 회전에 의해 증발시켰다. 증발 후, 회전 증발 플라스크 중의 조 생성물은 고체 분말 형태를 나타내며, 이를 석유 에테르 200mL에 붓고, 이를 정상 기압하에 증발시켜, 흡인 여과시 담황색 분말상 고체를 수득하였으며, 오븐에서 70℃에서 2시간 동안 건조시킨 후 생성물 46.2g을 수율 70% 및 순도 95.2%로 수득하였다.
단계 3: 1-[6-(2-
티오펜카보닐
)-9-
에틸카바졸
-3-일]-3-
사이클로펜틸
-프로판-1,2-디온-2-
옥심의
제조
단계 2의 생성물 19.1g, 테트라하이드로푸란 100mL, 진한 염산 19g 및 이소펜틸 니트라이트 8g을 250mL 4구 플라스크에 첨가하고, 표준 온도에서 5시간 동안 교반한 다음 상기 반응을 중단시켰다. 물질들을 2000mL 비이커에 붓고, 물 1000mL를 첨가한 후 교반하고, 디클로로메탄 200g을 추출에 사용하였다. 상기 추출물을, 무수 MgSO4 50g을 첨가하여 건조시킨 다음 흡인 여과시켰다. 상기 여액을 감압하에 회전 증발에 의해 제거하고, 오일상 점성 물질을 회전식 보틀에서 수득하였다. 상기 점성 물질을 석유 에테르 150mL에 붓고, 교반하여 침강시킨 다음, 흡인 여과시켜, 황색 분말상 고체를 수득하고, 70℃에서 5시간 동안 건조시킨 후, 생성물 14.8g을 수율 74% 및 상대 순도 95%로 수득하였다.
상기 생성물의 구조를 수소 핵자기 공명 분광법으로 측정하였으며, 구체적인 특징적 결과는 다음과 같다:
1H-NMR (CDCl3, 500MHz) : 1.468~1.497(3H, t, -CH3), 1.537~1.893(9H, m, 사이클로펜탄), 2.706~2.722(2H, d, -CH2-), 4.401~4.444(2H, q, -CH2-), 7.285~8.542(9H, m, 방향족 환).
단계 4: 1-[6-(2-
티오펜카보닐
)-9-
에틸카바졸
-3-일]-3-
사이클로펜틸
-프로판-1,2-디온-2-
옥심
아세테이트의 제조
단계 3의 생성물 14.8g과 디클로로메탄 100g을 250mL 4구 플라스크에 첨가하고, 실온에서 5분 동안 교반한 다음, 아세트산 무수물을 약 30분 내에 적가하였다. 2시간 동안 계속 교반한 다음, 5% NaHCO3를 첨가하여 pH 값을 중성으로 조절하였다. 분별 깔대기로 층 분리를 수행한 다음, 물 200mL로 2회 세척하고, 무수 MgSO4 50g으로 건조시키고, 용매를 회전에 의해 증발시켜 점성 액체를 수득하였다. 메탄올로 재결정화를 수행하여 베이지색 고체 분말을 수득하고, 이를 여과하고, 70℃에서 5시간 동안 건조시켜 생성물 11g을 순도 98%로 수득하였다.
상기 생성물의 구조를 수소 핵자기 공명 분광법으로 측정하였으며, 구체적인 특징적 결과는 다음과 같다:
1H-NMR (CDCl3, 500MHz) : 1.468~1.497(3H, t, -CH3), 1.537~1.893(9H, m, 사이클로펜탄), 2.281(3H, s, -CH3), 2.706~2.722(2H, d, -CH2-), 4.401~4.444(2H, q, -CH2-), 7.285~8.542(9H, m, 방향족 환).
질량 분광법 MS, m/z: 523(M+Na)+.
실시예
2 내지 11:
실시예 1에 예시된 방법을 참조하여, 실시예 2 내지 11의 화합물을 상응하는 시약들로부터 제조하였다. 목적 화합물들 및 이들의 1H-NMR 데이터가 표 1에 열거되어 있다.
성능에 대한 시험
상기한 실시예들에서 생성물들을 예시함으로써, 본 발명의 광개시제의 성능을 시험하였으며, 이를 시판 중인 광개시제 Irgacure369(2-페닐-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1), OXE-01(1-(4-페닐티오페닐)-옥탄-1,2-디온-2-벤조산 옥심 에스테르) 및 물질 A(제CN101565472A호에 기재된 케톡심 에스테르 타입 광개시제(1-(4-페닐티오페닐)-(3-사이클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산 옥심 에스테르)와 비교하였다.
1. 자외선 흡광 파장에 대한 시험
시험 방법: 광개시제 생성물 0.001g을 정확하게 칭량하고, 100mL 용적 플라스크에 넣고, 여기에 아세토니트릴을 100mL 표시까지 첨가하여 농도 10-5g/mL의 용액을 조제하고, 분광광도계를 사용하여 자외선 흡광 시험을 수행하였다. 시험 결과들이 표 2에 나타내어져 있다.
상기 표의 데이터로부터, 본 발명에 예시된 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제가, 통상의 광개시제 및 최신 케톡심 에스테르 타입 광개시제와 비교하여, 더 긴 자외선 흡광 파장을 갖고, 장파장을 갖는 광원에 매치시키기에 더욱 용이하다는 것을 알 수 있다.
2. 감광도에 대한 시험
시험 방법 A: 단량체로서의 단일 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트를 단일 광개시제와 균일하게 혼합하고, 수득된 혼합물을 페드레일(pedrail) 타입 노광에 적용하였으며, 여기서, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트:광개시제는 50g:2g이고; 코팅 두께는 24㎛이고; 램프 광원은 LED 램프이고, 출력 파장은 390nm이고, 전력은 2W/㎠이었으며, 감광도의 크기는, 코팅된 필름이 완전히 경화될 때까지 상기 페드레일을 통과하는데 요구되는 횟수로서 판단하였다. 시험 결과들이 표 3에 나타내어져 있다.
표 3의 시험 결과로부터, 본 발명에 의해 기재된 화학식 I로 나타내어지는 광개시제는 장파장 출력을 갖는 LED 램프의 조사하에 Irgacure369, OXE-01 및 물질 A보다 더 높은 감광도를 나타낸다는 것을 명백히 알 수 있다. 즉, 본 발명의 광개시제, 카바졸 케톡심 에스테르 타입 화합물은 보다 뛰어난 광감지(광-경화) 성능을 갖는다.
요약하면, 본 발명의 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제는 뛰어난 적용 성능, 및 특히 LED, LDI 등과 같은 저에너지 및 장파장 출력을 갖는 노광 램프 광원하에 매우 높은 감광성을 갖고, 매우 높은 감도를 나타내며, 이는 시판 중인 Irgacure369, OXE-01 등과 같은 최신 광개시제보다 분명히 더 우수하고, 또한 제CN101565472A호에 기재된 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제보다도 우수하다.
Claims (9)
- 화학식 I로 나타내어지는 구조를 갖는, 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제:
화학식 I
위의 화학식 I에서,
R1은 이고, n은 1 내지 5이고, m은 1 내지 6이고;
R2는 C1~C20 직쇄 또는 측쇄 알킬 그룹이고;
R3은 C1~C10 알킬 그룹, C3~C8 사이클로알킬 그룹, 또는 C1~C4 알킬 그룹 및 C3~C8 사이클로알킬 그룹으로 이루어진 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 알킬 그룹에 의해 임의로 치환된 페닐 그룹이고;
Ar은 임의의 치환체를 갖는 S 또는 O-함유 헤테로사이클릭 그룹, 또는 O, S 또는 N 원자-함유 치환체를 갖는 치환된 아릴 그룹이다. - 제1항에 있어서, R1에서, n이 1 또는 2이고, m이 3 또는 4인, 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제.
- 제1항에 있어서, R2가 C1~C5 직쇄 또는 측쇄 알킬 그룹, 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필 또는 n-부틸인, 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제.
- 제1항에 있어서, R3이 C1~C3 직쇄 또는 측쇄 알킬 그룹, 바람직하게는 메틸인, 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제.
- 제1항에 있어서, Ar에서, 임의의 치환체를 갖는 상기 S 또는 O-함유 헤테로사이클릭 그룹이 0 내지 2개의 메틸 또는 에틸 그룹을 치환체로서 갖고; 상기 S 또는 O-함유 헤테로사이클릭 그룹이 푸라닐 또는 티에닐인, 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제.
- 제1항에 있어서, Ar에서, 치환된 아릴 그룹에서 O, S 또는 N 원자-함유 치환체가 알킬티오 그룹, 알콕시 그룹, 알킬아미노 그룹, 피페라지닐 그룹 또는 모르폴리닐 그룹인, 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제.
- 출발 원료로서 카바졸을 사용하여, 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 따르는 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제를 제조하는 방법으로서,
(1) 카바졸을 유기 용매에 용해시키고, 브로모알칸 R2-Br과 치환 반응시켜 중간체 a, 즉, 9-R2-카바졸을 수득하는 치환 반응 단계(여기서, 이의 반응 공정은 다음과 같다):
;
(2) 상기 중간체 a를 유기 용매에 용해시키고, 삼염화알루미늄의 촉매 작용하에 아실화 반응시켜 중간체 b, 즉, 3-R1-아세틸-6-Ar-아실-9-R2-카바졸을 수득하는 아실화 반응 단계(여기서, 이의 반응 공정은 다음과 같다):
;
(3) 상기 제조된 중간체 b를 산화 반응시켜 중간체 c, 즉, 1-(6-Ar-아실-9-R2-카바졸-3-일)-2-R1-1,2-디온-2-옥심을 제조하는 산화 반응 단계(여기서, 이의 반응 공정은 다음과 같다):
;
(4) 상기 제조된 중간체 c와 R3-포름산 무수물 또는 R3-포밀 클로라이드 간에 에스테르화 반응을 수행하여 상기 목적하는 생성물, 즉, 화학식 I로 나타내어지는 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제를 제조하는 에스테르화 반응 단계(여기서, 이의 반응 공정은 다음과 같다):
를 포함하는, 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 따르는 카바졸릴 케톡심 에스테르 타입 광개시제를 제조하는 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310050577.9A CN103130919B (zh) | 2013-02-08 | 2013-02-08 | 一种咔唑酮肟酯类高感光度光引发剂 |
CN201310050577.9 | 2013-02-08 | ||
PCT/CN2014/071445 WO2014121701A1 (zh) | 2013-02-08 | 2014-01-26 | 一种咔唑酮肟酯类高感光度光引发剂 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150095853A true KR20150095853A (ko) | 2015-08-21 |
KR101742473B1 KR101742473B1 (ko) | 2017-06-01 |
Family
ID=48491415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020157018755A KR101742473B1 (ko) | 2013-02-08 | 2014-01-26 | 카바졸 케톡심 에스테르 고-감광도 광개시제 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9815823B2 (ko) |
JP (1) | JP6082821B2 (ko) |
KR (1) | KR101742473B1 (ko) |
CN (1) | CN103130919B (ko) |
WO (1) | WO2014121701A1 (ko) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103130919B (zh) | 2013-02-08 | 2015-02-25 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种咔唑酮肟酯类高感光度光引发剂 |
JP6365118B2 (ja) * | 2013-09-20 | 2018-08-01 | 三菱ケミカル株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを硬化させてなる硬化物、ブラックマトリックス及び画像表示装置 |
TWI668210B (zh) | 2013-11-28 | 2019-08-11 | 塔可馬科技股份有限公司 | 光起始劑及包括該光起始劑之光敏性組合物 |
CN103833872B (zh) * | 2014-03-18 | 2016-04-06 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
CN103819583B (zh) | 2014-03-18 | 2016-05-18 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
JP6401529B2 (ja) * | 2014-07-15 | 2018-10-10 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物 |
CN106478843B (zh) * | 2016-09-21 | 2017-12-26 | 同济大学 | 一种含噻吩环的双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
CN106632740B (zh) * | 2016-09-28 | 2018-09-18 | 江苏博砚电子科技有限公司 | 一种用于光阻材料的光引发剂及其制备和应用 |
JP6724699B2 (ja) * | 2016-09-30 | 2020-07-15 | コニカミノルタ株式会社 | 中間転写ベルト、画像形成装置および中間転写ベルトの製造方法 |
US20220121113A1 (en) | 2019-01-23 | 2022-04-21 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore |
CN110117262B (zh) * | 2019-04-30 | 2023-04-11 | 同济大学 | 2-苯乙烯基苯并恶唑或苯并噻唑基酮肟酯类化合物及其制备方法和应用 |
JP2023517304A (ja) | 2020-03-04 | 2023-04-25 | ベーアーエスエフ・エスエー | オキシムエステル光開始剤 |
CN114149517B (zh) * | 2020-09-07 | 2022-12-30 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 含噻吩结构的肟酯光引发剂、制备方法及光敏树脂组合物 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4166355B2 (ja) | 1999-03-08 | 2008-10-15 | 出光興産株式会社 | 蛍光変換膜用樹脂組成物、蛍光変換膜およびカラー化有機エレクトロルミネッセンス素子 |
US6770407B2 (en) | 2001-03-26 | 2004-08-03 | Shipley Company, L.L.C. | Methods for monitoring photoresists |
TW200910005A (en) | 2007-07-26 | 2009-03-01 | Fujifilm Corp | Photosensitive composition, photosensitive resin transfer film, and method for producing a photospacer, and substrate for a liquid crystal display device and liquid crystal display device |
JP5458301B2 (ja) | 2009-02-10 | 2014-04-02 | 三菱化学株式会社 | ジベンゾピロメテンホウ素キレート化合物及びその製造方法、並びにこれを用いた太陽電池、光重合性組成物、光記憶媒体、発光素子、光学フィルター、及び医療診断用蛍光色素 |
CN101508744B (zh) | 2009-03-11 | 2011-04-06 | 常州强力电子新材料有限公司 | 咔唑肟酯类光引发剂 |
CN101525393B (zh) * | 2009-04-02 | 2011-04-27 | 优缔精细化工(苏州)有限公司 | 一种肟酯光引发剂及其制备方法 |
CN101565472B (zh) | 2009-05-19 | 2011-05-04 | 常州强力电子新材料有限公司 | 酮肟酯类光引发剂 |
CN101891845B (zh) | 2010-07-15 | 2013-08-07 | 常州强力电子新材料有限公司 | 咔唑肟酯类化合物在可光聚合丙烯酸酯类组合物中作为光引发剂的用途 |
JP2012058728A (ja) * | 2010-08-10 | 2012-03-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
CN101923287B (zh) | 2010-08-31 | 2011-11-30 | 常州强力电子新材料有限公司 | 一种含有二苯硫醚基酮肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 |
CN102020727B (zh) | 2010-11-23 | 2013-01-23 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种高感光度咔唑肟酯类光引发剂、其制备方法及应用 |
JP5121912B2 (ja) * | 2010-11-24 | 2013-01-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置 |
JP5981159B2 (ja) * | 2011-02-22 | 2016-08-31 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置 |
CN102492060B (zh) | 2011-11-28 | 2013-06-26 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种二苯硫醚肟酯类光引发剂、其制备方法及应用 |
CN102778814B (zh) | 2012-07-05 | 2014-04-23 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种含有酮肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 |
CN103130919B (zh) * | 2013-02-08 | 2015-02-25 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种咔唑酮肟酯类高感光度光引发剂 |
CN103293855B (zh) * | 2013-05-20 | 2015-12-23 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种丙烯酸酯类光固化组合物 |
CN103389621B (zh) * | 2013-07-26 | 2016-03-16 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种磺酸肟酯类光产酸剂 |
-
2013
- 2013-02-08 CN CN201310050577.9A patent/CN103130919B/zh active Active
-
2014
- 2014-01-26 KR KR1020157018755A patent/KR101742473B1/ko active IP Right Grant
- 2014-01-26 US US14/648,120 patent/US9815823B2/en active Active
- 2014-01-26 WO PCT/CN2014/071445 patent/WO2014121701A1/zh active Application Filing
- 2014-01-26 JP JP2015553001A patent/JP6082821B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101742473B1 (ko) | 2017-06-01 |
US9815823B2 (en) | 2017-11-14 |
JP6082821B2 (ja) | 2017-02-15 |
CN103130919B (zh) | 2015-02-25 |
US20150307481A1 (en) | 2015-10-29 |
JP2016509099A (ja) | 2016-03-24 |
CN103130919A (zh) | 2013-06-05 |
WO2014121701A1 (zh) | 2014-08-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101742473B1 (ko) | 카바졸 케톡심 에스테르 고-감광도 광개시제 | |
JP5647738B2 (ja) | 高感光度のカルバゾールオキシムエステル系光開始剤、その製造方法及び使用 | |
KR101860511B1 (ko) | 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도 | |
TWI406847B (zh) | 肟酯化合物及使用其之感光性樹脂組成物 | |
JP5430746B2 (ja) | ケトオキシムエステル系光開始剤 | |
EP3514135B1 (en) | Fluorene photoinitiator, preparation method therefor, photocurable composition having same, and use of same in photocuring field | |
WO2016206602A1 (zh) | 一种用于uv-led光固化的增感剂及其制备方法和应用 | |
CN109776419B (zh) | 含有吡唑啉基团的硫鎓盐及其制备方法和应用 | |
JP2009067754A (ja) | クロメン化合物 | |
JP7059384B2 (ja) | ジブチルフルオレニル誘導体及びその光開始剤としての使用 | |
CN110330501B (zh) | 长波长香豆素肟酯类化合物及其制备和应用 | |
JP2022528738A (ja) | 新規ジアロイルカルバゾール化合物、及び増感剤としてのその使用 | |
JP6999039B2 (ja) | フッ素含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、それを含む光硬化組成物およびその適用 | |
CN112552897B (zh) | 一种三芳基乙烯类光致变色材料、方法及作为3d打印墨水应用 | |
TWI745897B (zh) | 一種含有醯基哢唑衍生物和哢唑基肟酯的光引發劑組合物及其在光固化組合物中的應用 | |
CN109456242B (zh) | 硫鎓盐光引发剂、其制备方法、包含其的光固化组合物及其应用 | |
CN115707681B (zh) | 萘系增感剂、其制备方法以及光固化组合物和光固化产品 | |
CN112824432B (zh) | 可聚合的芴类光引发剂、包含其的光固化组合物及其应用 | |
CN112409295B (zh) | 芴类引发剂、包含其的光固化组合物及其应用 | |
JP2014159390A (ja) | 新規な光重合開始剤及びこれらを用いた感光性樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200221 Year of fee payment: 4 |