JP2012513610A - 二段階内部パターン化に好適な多層光学フィルム - Google Patents

二段階内部パターン化に好適な多層光学フィルム Download PDF

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Abstract

反射性フィルムは、第１反射特性を提供する第１光学積み重ね体及び第２反射特性を提供する第２光学積み重ね体を含む。光学積み重ね体はまた、書き込み波長を含む光に曝露された際に、積み重ね体の構造的一体性を維持する一方でそれぞれ積み重ね体を吸収加熱するのに好適な第１吸収特性及び第２吸収特性を有する。吸収加熱は、第１反射特性及び第２反射特性をそれぞれ第３反射特性及び第４反射特性に変えることができる。書き込み波長の光を少なくとも部分的に遮蔽する遮蔽層が、また光学積み重ね体の間に提供されて、光学積み重ね体のいずれか選択された１つを吸収加熱することを可能にし得る。光学積み重ね体の反射特性はしたがって、書き込み波長を含む光線の適切な供給によりいずれかの所望のパターンで別個に修正され得る。

Description

（関連出願の相互参照）
本出願は、２００８年１２月２２日に出願された米国特許仮出願第６１／１３９，７３６号「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｕｓｉｎｇ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」及び２００９年３月６日に出願された米国特許仮出願第６１／１５７，９９６号「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｍｉｒｒｏｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」及び２００９年３月６日に出願された米国特許仮出願第６１／１５８，００６号「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｓｕｉｔａｂｌｅ ｆｏｒ Ｂｉ−Ｌｅｖｅｌ Ｉｎｔｅｒｎａｌ Ｐａｔｔｅｒｎｉｎｇ」の利益を主張し、これらの開示は本明細書において参照によって組み込まれる。
（発明の分野）
本発明は一般的に、その反射特性が、フィルム内に、すなわちフィルムの内部に配置される層間の境界面から反射する光の建設的及び破壊的干渉によって大部分が決定されるようなフィルムに対する特定の用途を有する光学フィルムに関する。本発明はまた、関連するシステム及び方法に関連する。
多層光学フィルム、すなわち層間の境界面における反射光の建設的及び破壊的干渉の結果として、光を選択的に反射及び透過するために、異なる屈折率及び好適な厚さの多数の別個の層を含むフィルムが既知である。いくつかの場合において、このようなフィルムは、二酸化チタンなどの高屈折率無機材料及び二酸化ケイ素などの低屈折率無機材料の交互の層をガラス基材又は他の剛性の基材上に真空蒸着することによって形成される。
他の場合において、このようなフィルムは、交互の層構成の異なる有機高分子材料をダイを通じて共押出し、押出品を冷却してキャストウェブを形成し、ウェブを好適な最終厚さまで薄くするためにキャストウェブを伸張することによって形成される。いくつかの場合において、伸張はまた、交互の高分子材料の一方又は両方を複屈折性（すなわち、所与の材料が一方向に沿った偏光において、異なる方向に沿った偏光の屈折率とは異なる屈折率を有する）にするような方法で実行されてもよい。
この複屈折性は、第１面内方向（場合によってｘ軸又は遮蔽軸と称される）に沿って隣接する層の間に大きな屈折率不整合を、かつ第２面内方向（場合によってｙ軸又は透過軸と称される）に沿って隣接する層の間に実質的な屈折率整合を有する最終的なフィルムを生じることがあり、ここで第１方向に沿って偏光された垂直入射光は高度に反射し、第２方向に沿って偏光された垂直入射光は高度に透過する。米国特許第３，６１０，７２９号（Ｒｏｇｅｒｓ）、同第４，４４６，３０５号（Ｒｏｇｅｒｓら）及び同第５，４８６，９４９号（Ｓｃｈｒｅｎｋら）を参照。このようなフィルムは典型的には反射性偏光子と称される。
複屈折性はまた、一方の又は両方の面内方向に沿った隣接する層間の屈折率差から著しく異なる、面外方向に沿った（すなわち、フィルムと垂直な軸に沿った）隣接する層間の屈折率差を生じ得る。この後者の場合の例は、任意の偏光の垂直入射光は高度に反射されるが、面外方向（ｚ）に沿った隣接する層の屈折率が実質的に整合しており、それによっていわゆる「ｐ偏光」の光（入射面において偏光される光）に関する境界面の反射率が実質的に一定であるように、両方の面内方向（ｘ及びｙ）に沿った隣接する層間で実質的に同じ大きさの屈折率不整合を有するフィルムである。例えば、米国特許第５，８８２，７７４号（Ｊｏｎｚａら）を参照されたい。Ｊｏｎｚａらはとりわけ、隣接するミクロ層間の屈折率におけるｚ軸の不整合（より簡潔にｚ屈折率不整合すなわちΔｎｚ）が、ブリュースター角（境界面におけるｐ偏光の反射率がゼロになる角度）が非常に大きいか又は存在しない多層積み重ね体の構成を可能にするためにどのように調整され得るかを教示する。これはひいては、その境界面におけるｐ偏光に関する反射率が、入射角の増加に伴って緩慢に減少するか又は入射角と独立しているか又は入射角が垂直方向から遠ざかるにつれて増加する、多層ミラー及び偏光子の構成を可能にする。結果として、ミラーの場合における任意の入射方向及び偏光子の場合における選択された方向において、広範な帯域幅にわたり、ｓ偏光（入射面と垂直に偏光された光）及びｐ偏光の両方に関して高い反射率を有する多層フィルムが達成され得る。
多層光学フィルムにパターンを付与してしるしを形成することもまた既知である。米国特許第６，０４５，８９４号（Ｊｏｎｚａら）「Ｃｌｅａｒ ｔｏ Ｃｏｌｏｒｅｄ Ｓｅｃｕｒｉｔｙ Ｆｉｌｍ」、同第６，５３１，２３０号（Ｗｅｂｅｒら）「Ｃｏｌｏｒ Ｓｈｉｆｔｉｎｇ Ｆｉｌｍ」及び同第６，７８８，４６３号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）「Ｐｏｓｔ−Ｆｏｒｍａｂｌｅ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ Ｆｏｒｍｉｎｇ」を参照されたい。所望のパターンを生成するために、選択された領域又はゾーンのフィルムを薄化するためエンボス加工ダイなどにより、フィルムに圧力が選択的に適用される。５％超又は約１０％超の厚さ低減を生じ得る選択的薄化は、選択された領域のフィルムの厚さ全体にわたって有効であり、それによってフィルムの内部の実質的に全ての光学的に薄い層（「ミクロ層」）（これらのミクロ層は観察される反射及び透過特性を司る）はまた選択された領域においてフィルムの隣接領域に対して薄化される。このミクロ層の薄化は、より短いミクロ層を通じた光学距離の差の結果として、ミクロ層に関する任意の反射帯域をより短い波長にシフトする。反射帯域におけるシフトはパターンが容易に知覚されるように、エンボス加工領域と非エンボス加工領域との間の反射する色又は透過する色における差として観察者に顕在化する。
例えば、‘４６３ Ｍｅｒｒｉｌｌらの特許は、４１８の内部ミクロ層（２０９のミクロ層の２つのパケットそれぞれ）を含む多層高分子フィルムが選択された領域でエンボス加工された、エンボス加工されたカラーシフトセキュリティフィルムを記載する。エンボス加工前及びエンボス加工後の非エンボス加工領域において、ミクロ層は垂直入射における７２０ｎｍから４５°視野における６４０ｎｍまで、６０°視野における更に短い波長まで（垂直における透明な外観から４５°におけるシアン、６０°における鮮明なシアンに対応する）、入射角（観察角）と共にその短波長帯域端がシフトする反射帯域を生成する屈折率及び厚さを有した。これらの非エンボス加工領域において、フィルムは３．４ミル（８６．４マイクロメートル）すなわち、０．００３４インチ（０．０８６ｍｍ）の厚さを有した。フィルムはその後、１４９℃のロールと予備加熱されたエンボス加工プレートとの間でエンボス加工されて、フィルムを選択された領域において約３．０ミル（７６．２マイクロメートル）まで薄化した。エンボス加工された領域は、７２０ｎｍからより短い波長への帯域端シフトの指標である、垂直入射における鮮明な金色を呈した。エンボス加工された領域における観察された色は斜めの観察角においてシアン又はより深い青色に変化した。
既知のエンボス加工技術は、フィルムの１つの領域又はゾーン（例えば、エンボス加工領域）を別の領域（例えば、非処理領域）に対して修正するが、これらは、エンボス加工ツールの圧力は、エンボス加工領域におけるフィルムの全ての内側層を透過するため、限定的な適用性を有する。更に、このような圧力は典型的には、フィルムの外側表面において最も大きい深さ分布を有し、深さの増加と共に単調に及び滑らかに減少し、フィルムの他の内部又は表面層を実質的に処理することなく、フィルムの内部を選択的に処理する能力を有さない。エンボス加工技術はしたがって、当業者が、フィルムの１つの内部が１つの領域において選択的に修正され、フィルムの異なる内部が異なる内部が異なる領域において選択的に修正される二段階パターン化を効果的に実践することを可能にしない。
本明細書において、とりわけ、異なる群の内部層の反射特性が別個に修正されて二段階内部パターン化を提供することを可能にするように設計された多層光学フィルムを記載する。例えば、多層光学フィルムは、２つのミクロ層パケットを含む場合があり、各ミクロ層パケットの反射特性は、別個に修正することができる。フィルムはまた、その反射特性が他の２つのミクロ層パケットとは別個に修正され得る第３ミクロ層パケットなどの、他の別個に処理可能な内部層を含み得る。
代表的な実施形態において各ミクロ層パケット又は他の群の内部層の反射特性の修正は、選択的加熱によるフィルムの少なくともいくらかの内部層の複屈折性の低減又は排除によって達成される。加熱は、多層光学フィルムの光線を方向付けることによって少なくとも部分的に提供される場合があり、光線は、多層光学フィルムの内側層の少なくともいくらかが吸収性となる書き込み波長を含む。ｘ及びｙ（面内）方向において、選択された面内領域又はゾーンのみが光に曝露されるように、適切に光線を成形する及び／又は操作することによって、加熱がフィルムの選択される面内領域又はゾーンにパターン方式で適用され得る。ｚ（厚さ）方向において、以下で更に記載されるように、方向付けられた光線の好適な供給特性と組み合わせて、多層光学フィルムの好適な設計により、フィルムの異なる選択される内部に加熱が適用され得る。少なくともいくつかの場合において、内部パターン化は、フィルムへの圧力の任意の選択的な適用なくして及び／又はフィルムの任意の顕著な薄化なくして達成され得る。
選択的な複屈折性の低減は、適切な量のエネルギーを選択された面内ゾーンに慎重に供給し、内部の内側層のいくらかを、既存の光学的複屈折性を低減するか又は排除する材料内の緩和を生成するために十分高いが、フィルム内の層構造の物理的一体性を維持するために十分低い温度まで選択的に加熱することによって実行され得る。複屈折性の低減は部分的であってもよく又はこれは完全であってもよく、この場合、第１（非処理）ゾーンの複屈折性である内側層のいくつかが第２（処理）ゾーンにおいて光学的に等方性にされる。選択的な加熱は、少なくとも部分的には光又は他の放射エネルギーのフィルムの第２ゾーンへの選択的供給によって達成され得る。光は、紫外線、可視若しくは赤外線波長、又はこれらの組み合わせを含み得る。ほとんどのレーザー源に妥当するように、典型的には光は波長λにおいて実質的に単色であり又はＬＥＤ光源に妥当するように、波長λにおいて生じる中央又はピークを有する比較的狭い帯域であってもよく、いずれの場合においても、この波長における光は所望のパターンでフィルムを修正するか又は情報を「書き込む」ために使用され得るため、λは「書き込み波長」と称されることがある。供給される光の少なくともいくらかがフィルムによって吸収されて所望の加熱を提供し、吸収される光の量は、供給される光の強度、持続時間及び波長分布並びにフィルムの吸収特性の関数である。多層光学フィルムを内部パターン化するためのこのような技術は、既知の光強度光源及び電子的に処理可能な光線操作システムと適合し、したがって、画像特定的なエンボス加工プレート又はフォトマスクなどの専用ハードウェアを必要とすることなく、単純に光線を適切に操作することにより、フィルム内の事実上あらゆる所望のパターン又は画像の生成を可能にする。
強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置されて第１反射特性及び第２反射特性をそれぞれ提供する第１群の内側層及び第２群の内側層を含む多層光学フィルムが記載される。第１群の層は、書き込み波長を含む光に曝露された際に、第１群の層の構造的一体性を維持する一方で第１反射特性を第３反射特性に変えるのに十分な量で第１群の層を吸収加熱するのに好適な第１吸収特性を有する。同様に、第２群の層は、書き込み波長を含む光に曝露された際に、第２反射特性を第４反射特性に変える一方で第２群の層の構造的一体性を維持するために十分な量で第２群の層を吸収加熱するのに好適な第２吸収特性を有する。フィルムはまた、好ましくは、第１群の内側層と第２群の内側層との間に配置される第１遮蔽層を含み、遮蔽層は、書き込み波長の光を少なくとも部分的に遮蔽するように適合される。
第１遮蔽層は、好ましくは書き込み波長を含む第１光線がフィルムにおいて方向付けられて、第２反射特性を実質的に変えることなく第１反射特性を第３反射特性に変え得るように書き込み波長の光を遮蔽する。第１遮蔽層はまた好ましくは、書き込み波長を含む第２光線がフィルムにおいて方向付けられて、第１反射特性を実質的に変えることなく第２反射特性を第４反射特性に変え得るように書き込み波長の光を遮蔽する。いくつかの実施形態において、第１遮蔽層は書き込み波長において実質的に吸収性であり、いくつかの実施形態において第１遮蔽層は書き込み波長において実質的に反射性である。前者の場合において第１遮蔽層は、吸収剤を含んでもよく、これはまた、多層光学フィルムの選択される層に含まれ得る。後者の場合、その反射率が第１遮蔽層は入射角の関数である多層積み重ね体を組み込んでもよく、それによって遮蔽層は書き込み波長において第１光線を実質的に反射し、書き込み波長において第２光線を透過させ、第１及び第２光線は異なる入射角を有する。第１遮蔽層はまた、偏光の強力な関数である遮蔽特性を有し得る。すなわち、遮蔽層は例えば反射性偏光子又は吸収性偏光子であるか又はこれを含み得る。このような場合、遮蔽層は、書き込み波長における第１光線を実質的に遮蔽し（吸収又は反射によって）、書き込み波長における第２光線を実質的に透過させてもよく、第１光線及び第２光線はこれらの偏光状態のみ異なる。
多層光学フィルムはまた、強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置されて第５反射特性を提供する第３群の内側層を含んでもよく、第３群の層はまた、書き込み波長を含む光に曝露された際に、第３群の層の構造的一体性を維持する一方で第５反射特性を第６反射特性に変えるのに十分な量で第３群の層を吸収加熱するのに好適な第３吸収特性を有する。この場合、フィルムはまたひいては、第３群の内側層と第１群の内側層及び第２群の内側層の一方又は両方との間に配置される第２遮蔽層であって、第２遮蔽層は、書き込み波長の光を少なくとも部分的に遮蔽するように適合される、第２遮蔽層を含んでもよい。
二段階パターン化フィルムの作製方法がまた記載される。この方法において、強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置されて第１反射特性及び第２反射特性をそれぞれ提供する第１群の内側層及び第２群の内側層を有する多層光学フィルムが提供される。好ましくは、多層光学フィルムはまた、第１群の内側層と第２群の内側層との間に配置される遮蔽層を含む。本方法は、書き込み波長を含む第１光線をフィルムにおいて方向付けて、第２反射特性を実質的に変えることなく第１反射特性を第３反射特性に変える工程を含む。本方法はまた、書き込み波長を含む第２光線をフィルムにおいて方向付けて、第１反射特性を実質的に変えることなく第２反射特性を第４反射特性に変える工程を含む。方向付ける工程は、パターン式で実行されてもよく、二段階内部パターン化物品を提供し、ここで第３反射特性は第１パターンと関連し、第４反射特性は第２パターンと関連し、第１パターン及び第２パターンは重複するか、重複しないか又は部分的に重複する。
いくつかの場合において、多層光学フィルムはまた、強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置されて第５反射特性を提供する第３群の内側層含んでもよく、かつ本方法は更に、書き込み波長を含む第３光線をフィルムにおいて方向付けて、第１及び第２反射特性を実質的に変えることなく、第５反射特性を第６反射特性に変える工程を更に含む。
本方法において、第１及び第２光線はフィルムの同じ主表面において又は相対する主表面において方向付けられ得る。第１及び第２光線はまた、フィルムに対する同じ入射角で又は異なる入射角によって特徴付けられ得る。一実施例において、第１及び第２光線は両方とも同じ書き込み波長を有してもよく、両方ともフィルムの同じ主表面において、同じ入射角で（例えば、垂直入射）方向付けられてもよいが、異なる（例えば、垂直な）偏光状態で偏光されてもよい。多層光学フィルムの設計により、第３反射特性は、第１反射特性のピーク反射率よりも低いか又は高いピーク反射率を含み得る。同様に、第４反射特性は、第２反射特性のピーク反射率よりも低い又は高いピーク反射率を含み得る。第１、第２及び第３群の内側層、並びにこれらの群を分離する第１及び第２遮蔽層を含むいくつかのフィルム実施形態において、これら各群の層に選択的に書き込むか又はこれらを処理することができる第１、第２及び第３光線は全てフィルムの同じ主表面において方向付けられてもよく、かつ全て同じ書き込み波長を有してもよい。
強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置された第１及び第２群の内側層を含むパターン化多層光学フィルムがまた開示される。第１群の層は少なくともフィルムの第１ゾーンから第２ゾーンまで延び、第１ゾーンにおける第１反射特性及び第２ゾーンにおける第１反射特性とは異なる第３反射特性を提供する。第２群の層は、少なくともフィルムの第１ゾーンから第３ゾーンまで延び、第１ゾーンにおける第１反射特性及び第３ゾーンにおける第２反射特性とは異なる第４反射特性を提供する。重要なことに、第２群の層は、第１ゾーンだけではなく、また第２ゾーンの少なくとも一部において第２反射特性を提供する。更に、第１群の層は、第１ゾーンだけではなく、また第３ゾーンの少なくとも一部において第１反射特性を提供し得る。第１反射特性と第３反射特性との間の差及び／又は第２反射特性と第４反射特性との差は、フィルムの各ゾーンの間のフィルム厚さにおけるいかなる差にも実質的に起因しない場合がある。
関連する方法、システム、及び物品も述べられる。
本願のこれらの態様及び他の態様は、以下の詳細な説明から明らかとなろう。しかし、決して、上記要約は、請求された主題に関する限定として解釈されるべきでなく、主題は、手続処理の間補正することができるような特許請求の範囲によってのみ規定される。
二段階のしるしを形成するようにフィルムの異なる部分又はゾーンにおいて異なる反射特性を提供するために、その多段階において別個に内部パターン化された、多層光学フィルムのロールの斜視図。 多層光学フィルムの一部の概略側面図。 図１の多層光学フィルムの一部の概略断面図。 内部パターン化がフィルムの一段階においてのみ達成される、内部パターン化を有する別の多層光学フィルムの一部の概略断面図。 内部パターン化がフィルムの二段階で達成される、内部パターン化を有する別の多層光学フィルムの一部の概略断面図。 二段階内部パターン化のために適合された多層光学フィルムの概略断面図。 ４つの異なる内部パターン化多層光学フィルムの異なる製造段階における、２層光学反復単位の各層の各屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロット。 ４つの異なる内部パターン化多層光学フィルムの異なる製造段階における、２層光学反復単位の各層の各屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロット。 ４つの異なる内部パターン化多層光学フィルムの異なる製造段階における、２層光学反復単位の各層の各屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロット。 ４つの異なる内部パターン化多層光学フィルムの異なる製造段階における、２層光学反復単位の各層の各屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロット。 多層光学フィルムに関して本明細書において記載される技術を使用して達成され得る様々な変換を要約する概略図。 内部パターン化を達成するために多層光学フィルムを選択的に加熱するための構成の概略側面図。 二段階内部パターン化に適合された多層光学フィルムの概略側面図。図はまたフィルムの様々な内側層又は部分において方向付けられた放射線の異なる光線の相対的な強度を図示する。 図７Ａのものと同様の（又はいくつかの場合においては同一の）二段階内部パターン化に適合された多層光学フィルムの概略側面図。２つのミクロ層パケットに別個に書き込むか又はこれを処理するために、同じ入射角及び同じ書き込み波長を有するが異なる偏光を有する方向付けられた放射線の異なる光線が使用され、このような動作はフィルム構成体における回転非対称（偏光感応性）遮蔽層を含むことによって可能になる。 パターン化多層フィルムの異なる第２ゾーンの概略平面図。表されるゾーンを形成することができるフィルムに対し、光線の可能な経路がその上に重ねられている。 パターン化多層フィルムの異なる第２ゾーンの概略平面図。表されるゾーンを形成することができるフィルムに対し、光線の可能な経路がその上に重ねられている。 パターン化多層フィルムの異なる第２ゾーンの概略平面図。表されるゾーンを形成することができるフィルムに対し、光線の可能な経路がその上に重ねられている。 ３つの異なる多層光学フィルムに対して３つの曲線が提供されている、光線のフィルム内への伝搬の深さの関数として光線の相対強度を図示する理想化されたプロット。 ３つの曲線が図９Ａの３つの曲線と対応する、フィルム内の深さ及び軸位置の関数として局所的な吸収係数を図示する理想化されたプロット。 製作された異なるキャスト多層ウェブの％透過率対波長のグラフ。 図１０のキャストウェブの１つを使用して作製した１つの多層光学フィルムにおける％透過率対波長のグラフ。 図１１のフィルムに使用された同じキャストウェブを使用して作製した別の多層光学フィルムの％透過率対波長のグラフ。 図１０とは異なるキャストウェブの１つを使用して作製した２つの他の多層光学フィルムの％透過率対波長のグラフ。これらの２つの多層光学フィルムは後に図１２の多層光学フィルムと組み合わされて、これは遮蔽層として機能し、二段階内部パターン化が可能であることが実証された複合多層光学フィルムを提供する。
図中、同様の参照数字は同様の構成要素を示す。
少なくともいくつかの実施形態において、本明細書において記載される二段階内部パターン化技術は、パターン化を達成するためにフィルムの選択的薄化に依存しないパターン化技術を利用し得る。例えば、二段階内部パターン化は、選択された（処理）ゾーンにおいて層構造の物理的一体性を実質的に維持し、フィルムの反射特性を選択されたゾーンにおいて隣接するゾーンに対して変更する一方で少なくともいくらかの内部層の複屈折性が選択されるゾーンにおいて低減されるか排除されるが、隣接するゾーンではされないような方法で、いずれの圧力をも選択的に適用することなく、フィルムを好適な方向の放射線に曝露することにより、多層光学フィルムが少なくとも１つのゾーンにおいて選択的に加熱される、内部パターン化技術を利用する場合がある。フィルムの様々な処理及び非処理ゾーンは、実質的に同じ全体フィルム厚さを有してもよく又はいずれにせよ異なるゾーン間の反射特性における差は、ゾーン間のフィルム厚さの差のいずれにも実質的に起因しないことがある。２００８年１２月２２日に出願された米国特許出願第６１／１３９，７３６号「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｕｓｉｎｇ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」（代理人整理番号第６４８４７ＵＳ００２号）及びこれと同日付けで出願された国際出願番号第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６４８４７ＷＯ００３号）「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｕｓｉｎｇ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」（これらはそれぞれ、本明細書において参照として組み込まれる）を参照する。
図１は、内部層（図１に図示されない）の少なくともいくらかの空間的な選択的な複屈折性の減少を使用して内部パターン化された又は空間的に調整された多層光学フィルム１１０を表す。内部パターン化は、図示されるしるし「３Ｍ」を形成するように成形された別個のゾーン１１２、１１４、１１６を画定する。フィルム１１０は、本明細書において記載される方法は高容積のロールツーロールプロセスと有利に適合するため、ロールに巻かれた長い可撓性材料として図示される。しかしながら、この方法は可撓性ロール物品に限定されず、小さい断片又はサンプル並びに非可撓性フィルム及び物品に実施することができる。
「３Ｍ」のしるしは、異なるゾーン１１２、１１４、１１６が異なる反射特性を有するために、可視である。表される実施形態では、ゾーン１１２は第１フィルム反射特性を有し、ゾーン１１４は第１フィルム反射特性とは異なる第２フィルム反射特性を有し及びゾーン１１６は第１及び第２フィルム反射特性の両方とは異なる第３フィルム反射特性を有する。これらの「フィルム反射特性」は、別個の内部、例えば以下で更に記載されるフィルム別個の層パケットの反射特性から構成され、これらの組み合わせはひいては、フィルム自体の全体的な反射特性、すなわち「フィルム反射特性」を提供する。
例えば、ゾーン１１２における第１フィルム反射特性は、第１層パケットの第１反射特性及び第２層パケットの第２反射特性の組み合わせであり得る。このような場合、ゾーン１１４の第２フィルム反射特性はひいては、第１層パケットの（修正された）第３反射特性及び第２層パケットの（修正されていない）第２反射特性の組み合わせであり得、一方でゾーン１１６の第３フィルム反射特性は、第１層パケットの（修正されていない）第１反射特性及び第２層パケットの（修正された）第４反射特性の組み合わせであり得る。あるいは、ゾーン１１４の第２フィルム反射特性はひいては、第１層パケットの（修正された）第３反射特性及び第２層パケットの（修正されていない）第２反射特性の組み合わせであり得、一方でゾーン１１６の第３フィルム反射特性は、第１層パケットの（修正された）第３反射特性及び第２層パケットの（修正された）第４反射特性の組み合わせであり得る。別の実施形態において、ゾーン１１４の第２フィルム反射特性はひいては、第１層パケットの（修正された）第３反射特性及び第２層パケットの（修正された）第４反射特性の組み合わせであり得、一方でゾーン１１６の第３フィルム反射特性は、第１層パケットの（修正されていない）第１反射特性及び第２層パケットの（修正された）第４反射特性の組み合わせであり得る。
典型的に、必要ではないが、フィルム１１０は少なくとも部分的に光透過性であり、この場合、ゾーン１１２、１１４、１１６はまた、これらそれぞれの反射特性に対応する、異なる「フィルム透過特性」を有する。一般的に、当然ながら、透過率（Ｔ）＋反射率（Ｒ）＋吸収率（Ａ）＝１００％、すなわち、Ｔ＋Ｒ＋Ａ＝１００％である。いくつかの実施形態において、フィルムは、波長スペクトルの少なくとも一部にわたり低い吸収率を有する材料から全体的に構成される。このことは、熱供給性を促進するために吸収染料又は顔料を組み込むフィルムに対してさえも妥当し得るがこれは、ある吸収性材料がこれらの吸収率において、波長特定的であるためである。例えば、近赤外波長領域において選択的に吸収するが、可視スペクトルにおいてほとんど吸収しない赤外染料が利用可能である。スペクトルのもう一方の端部において、多層光学フィルムの文献において低損失であるとみなされる多くの高分子材料は可視スペクトルにわたって低損失を有するがまた、一定の紫外線波長において著しい吸収率を有する。したがって多くの場合、多層光学フィルム１１０は可視スペクトルなどの波長スペクトルの少なくとも限定された部分にわたり、少ないか又は極僅かな吸収率を有し得るが、この場合この限定された領域にわたる反射率及び透過率は、Ｔ＋Ｒ＝１００％−ＡでありＡは小さいために、相補的な関係性を有する。
Ｔ＋Ｒ≒１００％
上記で説明され、以下で更に説明されるように、第１、第２及び第３フィルム反射特性はそれぞれ、フィルムの表面又は他の表面機構に適用されるコーティングの結果ではなく、フィルム１１０の内部の構造的特徴の結果である。内側機構は複製又は偽造するのが困難であるため、開示されるフィルムのこの態様は、セキュリティ上の用途（例えば、フィルムが信頼性の指標として製品、パッケージ又は文書への適用を意図される場合）においてこれらを有益にする。
第１、第２及び第３フィルム反射特性は、観察者又は機械によるパターンの検出を可能にするために、少なくともいくつかの観察条件下において知覚可能な、なんらかの様式において互いに異なる。いくつかの場合において、パターンがほとんどの観察及び照明条件下において、人間の観察者にとって顕著であるように、可視波長における様々なフィルム反射特性の間の差異を最大化することが望ましい場合がある。他の場合において、様々なフィルム反射特性の間の微妙な差のみを提供するか又は一定の観察条件下においてのみ顕著な差異を提供することが望ましい場合がある。いずれにせよ、第１、第２及び第３反射特性の間における差異は、好ましくは、フィルムの異なる隣接するゾーンにおける多層光学フィルムの内側層の屈折率特性における差異に主に起因し得るが、隣接するゾーンの間の厚さの差異に主に起因することはない。
ゾーン間の屈折率の差異は、多層光学フィルムの設計により、反射特性における様々な差異を生成し得る（全体フィルム及び／又はその構成内側層の一部の）。いくつかの場合において、第１反射特性（全体フィルム及び／又はその構成内側層の一部の）は、所与の中央波長、帯域端及び最大反射率を有する第１反射帯域を含んでもよく、第２反射特性（全体フィルム及び／又はその構成内側層の一部の）は、中央波長及び／又は帯域端が第１反射帯域と同様であるが、第１反射帯域とは実質的に異なる最大反射率（より大きいか又はより小さい）を有する第２反射帯域を有することによって第１とは異なってもよく又は第２反射帯域は第２反射特性において実質的に不在であってもよい。これらの第１及び第２反射帯域は、フィルムの設計により、１つのみの偏光状態の光と関連してもよく又は任意の偏光状態の光と関連してもよい。
いくつかの場合において、第１反射特性及び第２反射特性は、これらの観察角への依存性において異なってもよい。例えば、第１反射特性は、垂直入射において所与の中央波長、帯域端及び最大反射率を有する第１反射帯域を含んでもよく、第２反射特性は、垂直入射において第１反射帯域のこれらの態様と非常に似た第２反射帯域を含んでもよい。しかしながら入射角が増加すると、第１反射帯域及び第２反射帯域の両方がより短い波長へとシフトし得るにもかかわらず、これらの各最大反射率は互いに大きくずれる場合がある。例えば、第１反射帯域の最大反射率は第１反射帯域の最大反射率は一定のままであるか又は入射角の増加に伴って増加し得るが、一方で第２反射帯域又は少なくともそのｐ偏光成分の最大反射率は入射角の増加に伴って減少し得る。
第１反射特性と第２反射特性との間の上記の差異が可視スペクトルの一部をカバーする反射帯域と関連する場合、この差異はフィルムの異なる面内ゾーンの間における色の差異として知覚され得る。
ここで図２を参照すると、概略的側面図における多層フィルム２１０の一部がその内側層を含むフィルムの構造を示すのが確認される。フィルムは局部的なｘ−ｙ−ｚデカルト座標との関連において図示され、フィルムはｘ及びｙ軸と平行に延び、ｚ軸はフィルム及びその構成層と垂直でありフィルムの厚さ軸と平行である。フィルム２１０は完全に平坦である必要はなく、平面からずれるように湾曲するかないしは別の形状であってもよく、これらの場合であってもフィルムの任意の小部分又は領域は、図示される局部的なデカルト座標系と関連し得る。フィルム２１０は一般的に、図１のフィルム１１０の、そのゾーン１１２、１１４、１１６の任意の一部を表すものとみなすことができるがこれは、フィルム１１０の個別の層が好ましくは各このようなゾーンから隣のゾーンへと連続的に延びるためである。
多層光学フィルムは異なる屈折率を有する個別の層を含み、それによって隣接する層の間の境界面においていくらかの光が反射する。場合により「ミクロ層」と称されるこれらの層は、多数の境界面で反射された光が、強め合う又は弱め合う干渉を受けて多層光学フィルムに所望の反射又は透過特性を提供するために十分に薄い。紫外、可視、又は近赤外の波長で光を反射するように設計される多層光学フィルムに対しては、各ミクロ層は、一般的に約１μｍ未満の光学的厚さ（物理的な厚さ×屈折率）を有する。しかしながら、多層光学フィルムの外側表面のスキン層、又はミクロ層の凝集性の一群（「積み重ね体」又は「パケット」として既知）を分離する、多層光学フィルム内に配置される保護境界層（ＰＢＬ）などの、より厚い層もまた含まれ得る。図２において、ミクロ層は「Ａ」又は「Ｂ」として標識され、「Ａ」層は１つの材料から構成され、「Ｂ」層は異なる材料から構成され、これらの層は図示される光学反復単位又は単位セルＯＲＵ １、ＯＲＵ ２〜ＯＲＵ ６を形成するように交互の配置で積み重ねられる。典型的に、完全に高分子材料から構成される多層光学フィルムは、高反射率が所望される場合、６光学反復単位よりもはるかに多くを含む。この代表的な実施例においてその上面がフィルム２１０の外側表面２１０ａと一致する最上部の「Ａ」層を除き、図２に図示される「Ａ」及び「Ｂ」の全てがフィルム２１０の内側層であることに留意する。図の底部における実質的により厚い層２１２は、図に示されるミクロ層の積み重ね体を、ミクロ層の別の積み重ね体又はパケット（図示されない）から分離する外側スキン層又はＰＢＬを表し得る。所望により、例えば、２つ以上の厚い接着剤層で又は圧力、熱又は他の方法の使用により２つ以上の別個の多層光学フィルムが一緒に積層され、積層体又は複合フィルムを形成し得る。
いくつかの場合において、ミクロ層は１／４波積み重ね体に対応する厚さ及び屈折率値を有し得る。すなわち、それぞれ同じ光学的厚さの２つの隣接するミクロ層を有する光学反復単位に構成されており（ｆ比＝５０％であり、ｆ比は構成層「Ａ」の光学的厚さ対完全な光学反復単位の光学的厚さの比である）、このような光学反復単位は、その波長λが光学反復単位の全体的な光学厚さの２倍である建設的干渉光により反射するために有効であり、本体の「光学的厚さ」とは、その物理的厚さにその屈折率を掛けたものである。他の場合において、光学反復単位のミクロ層の光学的厚さは互いに異なり、ｆ比は５０％超又は５０％未満であり得る。図２の実施形態において、「Ａ」層は、一般的に、「Ｂ」層よりも遥かに薄いものとして表される。それぞれ表される光学反復単位（ＯＲＵ １、ＯＲＵ ２など）は構成層「Ａ」及び「Ｂ」の光学的厚さの合計と等しい光学的厚さ（ＯＴ１、ＯＴ２など）を有し、各光学反復単位は、その波長λがその全体的な光学的厚さの２倍である光を反射する。多層光学フィルムで一般的に使用されるミクロ層積み重ね体又はパケットにより及び特に本明細書において記載される内部パターン化多層フィルムにより提供される反射性は、ミクロ層間のほぼ平滑で明確な境界面及び典型的な構成体において使用される低いヘーズ値の材料の結果として拡散性ではなく典型的には実質的に鏡面反射性の性質である。しかしながら、いくつかの場合において完成した物品は、例えば、スキン層及び／若しくはＰＢＬ層内の拡散材料を使用して、並びに／又は１つ以上の表面拡散性構造若しくは非平坦な表面を使用して、任意の所望の度合いの散乱を組み込むように調整され得る。
いくつかの場合において、層積み重ね体における光学反復単位の光学的厚さは、全て互いに同じであり、各光学反復単位の光学的厚さの２倍と等しい波長の中央に合わせた狭い反射帯域の高い反射性を提供し得る。他の実施形態では、光学反復単位の光学的厚さは、ｚ軸又はフィルムの厚さ方向に沿った厚さ勾配によって異なってもよく、これにより積み重ね体の一方の側（例えば、頂部）から積み重ね体の他方の側（例えば、底部）に１つ前進するにつれて、光学反復単位の光学的厚さは増加するか、減少するか又は他の何らかの機能的関係に従う。このような厚さ勾配はより広い反射帯域を提供し、実質的にスペクトルの平坦な透過性及び関心のより広い波長帯域にわたり、かつまた関心の全ての角度にわたる光の反射を提供するために使用され得る。米国特許第６，１５７，４９０号（Ｗｈｅａｔｌｅｙら）「Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍ Ｗｉｔｈ Ｓｈａｒｐｅｎｅｄ Ｂａｎｄｅｄｇｅ」に記載されるように、高い反射率と高い透過率との間の波長遷移における帯域端を急峻にするように調整された厚さ勾配もまた使用され得る。高分子多層光学フィルムに関し、反射帯域は、急峻な帯域端、加えて反射特性が適用される波長範囲にわたって本質的に一定である「フラットトップ」反射帯域を有するように設計され得る。５０％ではないｆ比を有する２つのミクロ層光学反復単位を有する多層光学フィルム、又は光学反復単位が３つ以上のミクロ層を含むフィルムなどの他の層配列も意図される。これらの代替的な光学反復単位設計が構成されて、一定の高次の反射を低減するか又は誘起することができ、これは所望の反射帯域が近赤外波長に存在するかこの付近まで延びる場合に有用であり得る。例えば、米国特許第５，１０３，３３７号（Ｓｃｈｒｅｎｋら）「Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ Ｆｉｌｍ」、同第５，３６０，６５９号（Ａｒｅｎｄｓら）「Ｔｗｏ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｎｇ Ｆｉｌｍ」、同第６，２０７，２６０号（Ｗｈｅａｔｌｅｙら）「Ｍｕｌｔｉｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｂｏｄｙ」及び同第７，０１９，９０５号（Ｗｅｂｅｒ）「Ｍｕｌｔｉ−ｌａｙｅｒ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ Ｗｉｔｈ Ｓｕｐｐｒｅｓｓｉｏｎ ｏｆ Ｈｉｇｈ Ｏｒｄｅｒ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎｓ」を参照。
厚さ勾配及び光学反復単位設計はしたがって、開示される多層光学フィルムを提供するために、その処理又は非処理ゾーンにおいて、１つの偏光状態の光に関して又は非偏光の光に対して、限定されたスペクトル帯域における実質的な反射率により、所望されるように調整され得る。例えば、実質的な反射率は、実質的に１つのスペクトル帯域のみにわたって（帯域は可視又はスペクトルの他の任意の所望の位置に配置される）、少なくとも５０％又は少なくとも６０、７０、８０又は９０％以上であり得る。帯域は、例えば、２００未満又は１５０又は１００又は５０ｎｍ以下の帯域幅を有してもよく、これは半値全幅（ＦＷＨＭ）反射率の全幅として測定され得る。上記のように、帯域は、光学反復単位が好適に設計されていれば、ゼロ次反射又は望ましい高次の反射と関連し得る。
上記のように、多層光学フィルムの隣接するミクロ層は、いくらかの光が隣接する層間の境界面において反射するように、異なる屈折率を有する。主軸ｘ、ｙ及びｚ軸に沿って偏光される光に関する、ミクロ層（例えば、図２の「Ａ」層）の１つの屈折率をそれぞれｎ１ｘ、ｎ１ｙ及びｎ１ｚと称する。同じ軸に沿った隣接するミクロ層（例えば、図２の「Ｂ」層）の屈折率をそれぞれ、ｎ２ｘ、ｎ２ｙ、ｎ２ｚと称する。ｘ、ｙ及びｚ軸は例えば、材料の誘電テンソルの主方向に対応し得る。典型的に及び説明の目的のために、異なる材料の主方向は一致するが、これは一般的に妥当する必要はない。これらの層間の屈折率の差をｘ方向に沿ってΔｎｘ（＝ｎ１ｘ−ｎ２ｘ）、ｙ方向に沿ってΔｎｙ（＝ｎ１ｙ−ｎ２ｙ）及びｚ方向に沿ってΔｎｚ（＝ｎ１ｚ−ｎ２ｚ）と称する。フィルム（又は所与のフィルムの積み重ね体の）のミクロ層の数及びこれらの厚さ分布と組み合わせたこれらの屈折率差の性質は、フィルムの（又は所与のフィルムの積み重ね体の）所与のゾーンにおける反射特性及び透過特性を制御する。例えば、隣接するミクロ層が１つの面内方向に沿って大きな屈折率不整合（Δｎｘ ｌａｒｇｅ）を有し、垂直な面内方向に沿って小さな屈折率不整合（Δｎｙ≒０）を有する場合、フィルム又はパケットは、垂直入射光に関して反射性偏光子として機能し得る。この点において、本出願の目的のため、反射性偏光子は、波長がパケットの反射帯域内にある場合に１つの面内軸（「遮蔽軸」と称される）に沿って偏光された垂直入射光を強力に反射し、垂直な面内軸（「透過軸」と称される）に沿って偏光されるこのような光を強力に透過する光学体とみなされ得る。「強力に反射する」及び「強力に透過する」は、意図される用途又は使用分野により異なる意味を有する場合があり、多くの場合反射性偏光子は遮蔽軸において少なくとも７０、８０又は９０％の反射率及び透過軸において少なくとも７０、８０又は９０％の透過率を有する。
本出願の目的のため、材料が関心の波長領域（例えば、スペクトルのＵＶ、可視及び／又は赤外部分の選択される波長又は帯域）にわたって異方性の誘電テンソルを有する場合、材料は「複屈折性」とみなされる。換言すると、材料は、材料の主軸屈折率（例えば、ｎ１ｘ、ｎ１ｙ、ｎ１ｚ）が全て同じではない場合、「複屈折性」とみなされる。
別の実施例では、隣接するミクロ層は両方の面内軸に沿って大きな屈折率不整合（Δｎｘ ｌａｒｇｅ及びΔｎｙ ｌａｒｇｅ）を有し得るが、この場合、フィルム又はパケットは軸上ミラーとして機能し得る。この点において、本出願の目的のため、ミラー又はミラー様フィルムは、波長がパケットの反射帯域内にある場合に、任意の偏光の垂直入射光を強力に反射する光学体とみなされ得る。再び、「強力に反射する」は意図される用途又は使用分野によって異なる意味を有する場合があるが、多くの場合において、ミラーは、関心の波長の任意の偏光の垂直入射光に関して少なくとも７０、８０又は９０％の反射率を有する。
先行の実施形態のバリエーションにおいて、隣接するミクロ層は、ｚ軸に沿って屈折率整合又は不整合（Δｎｚ≒０又はΔｎｚ ｌａｒｇｅ）を呈してもよく、不整合は、面内屈折率不整合と同じ又は反対の極性又は符合であり得る。このようなΔｎｚの調整は、斜めの入射光線のｐ偏光成分の反射率が入射角の増加に伴って増加するか、減少するか又は同じままであるかということにおいて、重要な役割を担う。更に別の実施例において、隣接するミクロ層は、両方の面内軸に沿った実質的な屈折率整合（Δｎｘ≒Δｎｙ≒０）、しかしながらｚ軸に沿って屈折率不整合（Δｎｚ ｌａｒｇｅ）を有することがあり、この場合フィルム又はパケットは、任意の偏光の垂直入射を強力に透過するが、波長がパケットの反射帯域内にある場合、漸増する入射角のｐ偏光を漸増的に反射する、いわゆる「ｐ偏光子」として機能し得る。
異なる軸に沿った可能な屈折率差の多くの置換を考慮し、層の総数及びこれらの厚さ分布並びに多層光学フィルム内に含まれるミクロ層パケットの数及び種類、可能な多層光学フィルム２１０及びそのパケットの種類は広範である。本明細書において引用される特許文献（特許又は非特許及び米国特許庁によって又はいずれかの別の国若しくは特許権利者によって公開される）、加えて以下の文献のいずれかに開示される多層光学フィルムを参照し、これらは全て本明細書において参照として組み込まれる：米国特許第５，４８６，９４９号（Ｓｃｈｒｅｎｋら）「Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ」、同第５，８８２，７７４号（Ｊｏｎｚａら）「Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍ」、同第６，０４５，８９４号（Ｊｏｎｚａら）「Ｃｌｅａｒ ｔｏ Ｃｏｌｏｒｅｄ Ｓｅｃｕｒｉｔｙ Ｆｉｌｍ」、同第６，１７９，９４９号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）「Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍ ａｎｄ Ｐｒｏｃｅｓｓ ｆｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ Ｔｈｅｒｅｏｆ」、同第６，５３１，２３０号（Ｗｅｂｅｒら）「Ｃｏｌｏｒ Ｓｈｉｆｔｉｎｇ Ｆｉｌｍ」、同第６，９３９，４９９号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）「Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ ａｎｄ Ａｐｐａｒａｔｕｓ ｆｏｒ Ｍａｋｉｎｇ Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅｌｙ Ｄｒａｗｎ Ｆｉｌｍｓ ｗｉｔｈ Ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ Ｕｎｉａｘｉａｌ Ｃｈａｒａｃｔｅｒ」、同第７，２５６，９３６号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）「Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｏｌａｒｉｚｉｎｇ Ｆｉｌｍｓ ｗｉｔｈ Ｄｅｓｉｇｎｅｄ Ｃｏｌｏｒ Ｓｈｉｆｔｓ」、同第７，３１６，５５８号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）「Ｄｅｖｉｃｅｓ ｆｏｒ Ｓｔｒｅｔｃｈｉｎｇ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｆｉｌｍｓ」、ＰＣＴ国際公開特許ＷＯ ２００８／１４４１３６（Ａ１）号（Ｎｅｖｉｔｔら）「Ｌａｍｐ−Ｈｉｄｉｎｇ Ａｓｓｅｍｂｌｙ ｆｏｒ ａ Ｄｉｒｅｃｔ Ｌｉｔ Ｂａｃｋｌｉｇｈｔ」、同第ＷＯ ２００８／１４４６５６（Ａ２）号（Ｗｅｂｅｒら）「Ｂａｃｋｌｉｇｈｔ ａｎｄ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｓｙｓｔｅｍ Ｕｓｉｎｇ Ｓａｍｅ」。
別個にパターン化されることを意図された各内側パケットのミクロ層の少なくともいくつかは、選択的な熱処理の前は複屈折性であり、かつまた熱処理の後の最終的なフィルム（例えば、図１のゾーン１１２、１１４、１１６）の少なくとも１つのゾーンにおいて複屈折である。したがって、特定の層パケットの光学反復単位内の第１層が複屈折性であってもよく（すなわち、ｎ１ｘ≠ｎ１ｙ又はｎ１ｘ≠ｎ１ｚ又はｎ１ｙ≠ｎ１ｚ）若しくはこのようなパケットの光学反復単位の第２層が複屈折性であってもよく（すなわち、ｎ２ｘ≠ｎ２ｙ又はｎ２ｘ≠ｎ２ｚ又はｎ２ｙ≠ｎ２ｚ）又は第１層及び第２層の両方が複屈折性であってもよい。更に、１つ以上のこのような層の複屈折性は、少なくとも１つの層において、隣接するゾーンよりも低減する。いくつかの場合において、これらの層の複屈折率はゼロまで低減してもよく、それによってこれらは１つのゾーンにおいて光学的に等方性であるが（すなわち、ｎ１ｘ＝ｎ１ｙ＝ｎ１ｚ又はｎ２ｘ＝ｎ２ｙ＝ｎ２ｚ）、隣接するゾーンでは複屈折性である。材料の選択及びプロセス条件により、両方の層が最初に複屈折性である場合、これらは、層の１つのみの複屈折性が実質的に低減するか、両方の層の複屈折性が低減し得るような方法で処理され得る。
代表的な多層光学フィルム及びこれらのミクロ層パケットは、高分子材料から構成され、共押出、キャスト、及び配向プロセスを使用して作製され得る。米国特許第５，８８２，７７４号第（Ｊｏｎｚａら）「Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍ」、同第６，１７９，９４９号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）「Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍ ａｎｄ Ｐｒｏｃｅｓｓ ｆｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ Ｔｈｅｒｅｏｆ」及び同第６，７８３，３４９号（Ｎｅａｖｉｎら）「Ａｐｐａｒａｔｕｓ ｆｏｒ Ｍａｋｉｎｇ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ」を参照する。多層光学フィルムは、前述の参照文献のいずれかに記載されるポリマーの共押出によって形成され得る。様々な層のポリマーは、好ましくは、著しい流れの障害なく共押出され得るように同様のレオロジー的特性（例えば、溶融粘度）を有するように選択される。押出条件は、各ポリマーを供給流及び溶解流として、連続的かつ安定した様式で、適切に供給、溶解、混合及びポンプ注入するように選択される。各溶解流を形成及び維持するために使用される温度は、温度範囲の最低における、凍結、結晶化又は不当に大きな圧力の低下を避け、範囲の最高における材料の分解を避けるような範囲内で選択され得る。
概要として、製作方法は、（ａ）最終的なフィルムに使用される第１ポリマー及び第２ポリマーと対応する樹脂の少なくとも第１流れ及び第２流れを提供する工程と、（ｂ）（ｉ）第１流路及び第２流路を含む勾配プレートであって、第１流路が流路に沿って第１位置から第２位置まで変化する断面積を有する勾配プレート、（ｉｉ）第１流路と流体連通する第１の複数の導管及び第２流路と流体連通する第２の複数の導管を有するフィーダーチューブプレートであって、各導管はその各独自のスロットダイに供給し、各導管は第１端部及び第２端部を有し、導管の第１端部は流路と流体連通し、導管の第２端部はスロットダイと流体連通するフィーダーチューブプレート、並びに（ｉｉｉ）任意により、上記導管の近位に位置する軸方向棒状ヒーターを含むものなどの、好適なフィードブロックを使用して、第１流れ及び第２流れを複数の層内に分割する工程と、（ｃ）複合的な流れを押出ダイに通過させて、各層が隣接する層の主表面とほぼ並行である多層ウェブを形成する工程と、（ｄ）多層ウェブを場合によりキャストホイール又はキャストドラムと称される冷却ロール上にキャストしてキャスト多層フィルムを形成する工程とを含み得る。このキャストフィルムは最終的なフィルムと同じ数の層を有してもよいが、キャストフィルムの層は典型的にはこれらの最終的なフィルムのものよりも遥かに厚い。更に、キャストフィルムの層は典型的には等方性である。
キャスト多層ウェブを製作する多くの別の方法が使用され得る。やはりポリマーの共押出を利用する１つのこのような別の方法が米国特許第５，３８９，３２４号（Ｌｅｗｉｓら）に記載される。
冷却後、多層ウェブが延伸又は伸張されてほぼ最終的な多層光学フィルムを生成し、この詳細は上記で引用された参照文献に見出すことができる。延伸又は伸張は２つの目標：これが層をこれらの所望の最終的な厚さまで薄化すること及びこれが層の少なくともいくらかが複屈折性となるように層を配向させること、を達成する。配向又は伸張は、クロスウェブ方向に沿って（例えば、幅出機により）、ダウンウェブ方向に沿って（例えば、長さ配向装置）又はこれらの任意の組み合わせにより、同時的又は順次的に達成され得る。一方向にのみに沿って伸張される場合、伸張は「非拘束」（フィルムは伸張方向と垂直な面内方向で寸法的に弛緩させられる）又は「拘束」（フィルムは拘束され、したがって伸張方向と垂直な面内方向において寸法的に弛緩させられない）であり得る。両方の面内方向に沿って伸張された場合、伸張は対称（すなわち、垂直な面内方向に沿って等しい）か又は非対称であり得る。あるいは、フィルムはバッチプロセスにおいて伸張されてもよい。いずれにせよ、順次的又は同時的な延伸変形、圧力又は歪み平衡、熱硬化及び他の処理作業がまたフィルムに適用され得る。
いくつかの場合において、二段階パターン化のために特に設計され、かつ従って第１ミクロ層積み重ね体などの内側層の第１群、第２ミクロ層積み重ね体などの内側層の第２群、並びに第１群の内側層と第２群の内側層との間に配置され得る反射性及び吸収性遮蔽層を含み得る多層光学フィルムが、様々な構成層の実質的に全部が共押出され、次にキャストされ、次に同時的に伸張される、単一のフィルム形成作業で作製され得る。あるいは、二段階パターン化に適合する多層光学フィルムは連続的な方法で作製されてもよく、２つ以上のフィルムが別個のフィルム形成作業で作製され、これらそれぞれ又はそのいくつかは共押出、キャスト及び伸張を含んでもよく、生じるフィルムはその後、選択的な加熱及びパターン化を担う方向付けられた放射線に曝露される前に積層されるかないしは別の方法で一緒に接合される。
多層光学フィルム及びフィルム体は、これらの光学的、機械的又は化学的特性のために選択された追加的な層及びコーティングを含むことができる。例えば、ＵＶ吸収層はフィルムの主要外側表面の一方又は両方に追加されて、フィルムをＵＶ光により生じる長期にわたる劣化から保護し得る。追加の層及びコーティングは、引っ掻き抵抗性層、引き裂き抵抗性層、及び硬化剤も含むことができる。例えば、米国特許第６，３６８，６９９号（Ｇｉｌｂｅｒｔら）を参照されたい。
いくつかの場合において、多層光学フィルムを構成する構成高分子材料の１つ、いくつか又は全ての自然の又は固有の吸収性が、吸収性加熱手順のために利用され得る。例えば、可視領域にわたって低損失である多くのポリマーは、一定の紫外及び／又は赤外波長において実質的により高い吸収性を有する。このような波長の光へのフィルムの部分の曝露は、このようなフィルムの部分を選択的に加熱するために使用され得る。その上、遮蔽層を構成する材料の自然の又は固有の吸収性が、内側層の群の間の書き込み波長の光の必要な遮蔽を提供するために利用され、１つのこのような群を別のこのような群とは別個にパターン修正することを可能にする。
他の場合において、吸収性染料、顔料又は他の剤が、多層光学フィルムの個別の層のいくつか又は全てに組み込まれて、上記の吸収加熱を促進する及び／又は遮蔽層の書き込み波長の光の必要な減衰を提供してもよい。いくつかの場合において、このような吸収剤はスペクトル選択的であり、それによってこれらはある波長領域において吸収するが別の波長領域において吸収しない。例えば、開示されるフィルムのいくつかは、偽造防止セキュリティラベルで又は液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）装置又は他のディスプレイ装置の構成要素として、可視領域における使用を意図され得るが、この場合、赤外又は紫外波長において吸収するが可視波長において実質的に吸収しない吸収剤が使用され得る。更に、吸収剤はフィルムの１つ以上の選択される層に組み込まれ得る。例えば、フィルムは保護境界層（ＰＢＬ）、積層接着剤層、１つ以上のスキン層などの光学的に厚い層によって分離される２つの別個のミクロ層パケットを含んでもよく、吸収剤はパケットの一方に組み込まれるが他方には組み込まれないことがあり又は両方のパケットに組み込まれるが一方において他方よりも濃度が高いことがある。
様々な吸収剤が使用され得る。可視スペクトルで機能する光学フィルム、染料、顔料又は紫外及び赤外（近赤外を含む）領域において吸収する他の添加剤が使用され得る。いくつかの場合において、フィルムの高分子材料が実質的により低い吸収性を有するスペクトル領域において吸収する剤を選択することが有利である場合がある。このような吸収剤を多層光学フィルムの選択される層に組み込むことにより、方向付けられた放射線が、フィルムの全体的厚さに対してよりも選択された層に優先的に熱を供給することができる。代表的な吸収剤は、これらが関心の選択される層の組へと埋め込まれ得るように溶融押出可能であり得る。この目的のために、吸収剤は、押出のために要求されるプロセス温度及び滞留時間において、好ましくは適度に安定である。いくつかの潜在的なＩＲ染料としては、Ｅｐｏｌｉｎ，Ｉｎｃ．から商標名Ｅｐｏｌｉｇｈｔ（商標）として入手可能なニッケル、パラジウム及びプラチナベースの染料のいずれかが挙げられる。他の好適な候補としては、ＣｏｌｏｒＣｈｅｍ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｒｐ．（Ａｔｌａｎｔａ，Ｇｅｏｒｇｉａ）から入手可能なＡｍａｐｌａｓｔ（商標）商標の染料が挙げられる。好適な吸収剤の更なる情報に関しては、米国特許第６，２０７，２６０号（Ｗｈｅａｔｌｅｙら）「Ｍｕｌｔｉｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｂｏｄｙ」を参照する。
いくつかの場合においては、吸収剤は非線形吸収剤であってもよく、すなわち、これは光エネルギー吸収係数が強度又はフルーエンスと独立である組成物であるか又はこれを含み得る（強度とは単位面積単位時間当たりのエネルギーを指し、フルーエンスは単位面積当たりのエネルギー密度又はエネルギーを指す）。非線形光吸収剤は、例えば、二光子吸収型又は逆可飽和吸収型であり得る。
二光子吸収プロセスは、光子エネルギーが材料の線形励起のために必要とされるエネルギーのおよそ半分に相当する、非線形光吸収プロセスである。吸収性材料の励起はしたがって、２つの低エネルギー光子の同時的な吸収を必要とする。有用な二光子吸収剤の例としては、大きな多光子断面積を呈するもの、例えば、ＰＣＴ国際公開特許ＷＯ ９８／２１５２１号（Ｍａｒｄｅｒら）及び同ＷＯ ９９／５３２４２（Ｃｕｍｐｔｓｏｎら）に記載される、Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ Ｂ（すなわち、Ｎ−［９−（２−カルボキシフェニル）−６−（ジエチルアミノ）−３Ｈ−キサンテン−３−イリデン］−Ｎ−エチルエタンアミニウムクロライド及びＲｈｏｄａｍｉｎｅ Ｂのヘキサフルオロアンチモネート塩）及び４種類の光増感剤が挙げられる。
逆可飽和吸収プロセスはまた、場合により、励起状態吸収とも称され、基底状態から励起状態への誘起のための断面積よりも遥かに大きい、吸収プロセスに含まれる励起状態のための吸収断面積によって特徴付けられる。合計光吸収率は基底状態吸収率及び励起状態吸収率の両方を含む。逆可飽和吸収材料の例としては、例えば、メタロフタロシアニン、ナフタロシアニン、シアニン、フラーレン、金属ナノ粒子、金属酸化物ナノ粒子、金属クラスター化合物、ポルフィリン、インダンスロン誘導体及びオリゴマー又はこれらの組み合わせが挙げられる。メタロフタロシアニンの例としては、例えば、銅フタロシアニン（ＣｕＰＣ）及び第ＩＩＩＡ族（Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ）及び第ＩＶＡ族（Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ）の金属又は半金属を含むフタロシアニンが挙げられる。ナフタロシアニンの例としては、例えば、ケイ素（ＳｉＮＣ）スズ（ＳｎＮＣ）及び鉛（ＰｂＮＣ）のフタロシアニン誘導体が挙げられる。シアニンの例としては、例えば、１，３，３，１’，３’，３’−ヘキサメチルインドカルボシアニンイオダイド（ＨＩＴＣＩ）が挙げられる。フラーレンの例としてはＣ６０及びＣ７０フラーレンが挙げられる。金属ナノ粒子の例としては、金、銀、アルミニウム及び亜鉛ナノ粒子が挙げられる。金属酸化物ナノ粒子の例としては、二酸化チタン、アンチモンスズ酸化物及び二酸化ジルコニウムナノ粒子が挙げられる。金属クラスターの実施例としては、鉄トリコバルト金属クラスター例えば、ＨＦｅＣｏ３（ＣＯ）１２及びＮＥｔ４ＦｅＣＯ３（ＣＯ）１２が挙げられる。ポルフィリンの例としては、テトラフェニルポルフィリン（Ｈ２ＴＰＰ）、亜鉛テトラフェニルポルフィリン（ＺｎＴＰＰ）及びコバルトテトラフェニルポルフィリン（ＣｏＴＰＰ）が挙げられる。インダンスロン誘導体の例としては、非置換インダンスロン、酸化インダンスロン、クロロインダンスロン及びインダンスロンオリゴマーが挙げられる。
ここで図３を参照すると、これはゾーン１１２及びゾーン１１６の境界の領域１１８の付近における、図１の多層光学フィルム１１０の一部の概略断面図を図示する。フィルム１１０のこの展開図において、狭い移行ゾーン１１５は、ゾーン１１２を隣接するゾーン１１６から分離するものとして見ることができる。このような移行ゾーンはプロセスの詳細によって存在してもしなくてもよく、かつこれが存在しない場合、ゾーン１１６は、有意に介在する機構なしに、ゾーン１１２と直接隣接してもよい。フィルム１１０の構成の詳細がまた見られ、フィルムはその相対する側に光学的に厚いスキン層３１０、３１２を含み、複数のミクロ層３１４及び別の複数のミクロ層３１６がスキン層３１０、３１２の間に配置される。ミクロ層３１４、３１６は全て、外側スキン層によりフィルム１１０の内側にある。ミクロ層３１４と３１６との間の空間は図面においては開いたままにされているが、好ましくはミクロ層３１４、３１６は、例えば、（ｉ）１つ以上の光学的に厚い保護境界層（ＰＢＬ）、（ｉｉ）１つ以上の他の光学的に厚い内側層又は（ｉｉｉ）第３の別個のミクロ層パケット（及び、任意により第４の別個のミクロ層パケットなど）（これらのいずれかが遮蔽層として機能し得る）によって互いに分離した２つ以上の別個のミクロ層パケットの部分である。ミクロ層３１４、３１６は好ましくはそれぞれ光学反復単位に構成された２つの交互の高分子材料を含み、各ミクロ層３１４、３１６は図示されるようにゾーン１１２から隣接するゾーン１１６まで横方向又は横断方向様式で連続的に延びる。ミクロ層３１４、３１６はそれぞれ、ゾーン１１２において、強め合う又は弱め合う干渉によって第１及び第２反射特性を提供し、ミクロ層３１４、３１６の少なくともいくらかはこのゾーンにおいて複屈折性である。この第１及び第２反射特性は組み合わされてゾーン１１２において、全体的な第１フィルム反射特性を有するフィルムを提供する。ゾーン１１５、１１６において、ミクロ層３１４、３１６加えて全体フィルム１１０は、先に、ゾーン１１２でこれらが有したのと同じ各反射特性を有してもよく、ミクロ層３１４、３１６の一方又は両方がこれに対する、ゾーン１１６におけるこれらの各ミクロ層のいくらかの複屈折性を低減させるか又は排除し、同時に、処理ゾーン１１６におけるこれらのミクロ層の構造的一体性を維持し、かつまたゾーン１１２におけるこれらのミクロ層の複屈折性を維持するために十分な量の選択的な熱の適用により処理され、その結果、フィルムはゾーン１１６において、第１フィルム反射特性とは異なる第２フィルム反射特性を有する。ゾーン１１６におけるミクロ層３１４及び／又は３１６の複屈折性の低減は、ゾーン１１２における第１フィルム反射特性とゾーン１１６における第２フィルム反射特性との間の差の主な原因となる。
図に示されるように、フィルム１１０は、ゾーン１１２における特徴的な厚さｄ１、ｄ２及びゾーン１１６における特徴的な厚さｄ１’、ｄ２’を有する。厚さｄ１、ｄ１’は各ゾーンにおける、フィルムの前部外側表面からフィルムの後部外側表面まで測定される物理的厚さである。厚さｄ２、ｄ２’は、フィルムの前面の最も近くに配置されるミクロ層（ミクロ層パケットの一端）から、フィルムの後面の最も近くに配置されるミクロ層（典型的には異なるミクロ層パケットの端部の）まで測定される物理的厚さである。したがって、ゾーン１１２におけるフィルム１１０の厚さとゾーン１１６におけるフィルムの厚さを比較しようとする場合、いずれの測定がより便利であるかによって、ｄ１とｄ１’又はｄ２とｄ２’の比較を選択してもよい。ほとんどの場合において、ｄ１とｄ１’との間の比較は、ｄ２とｄ２’との間の比較と実質的に同じ結果（比例的に）を生じ得る。（当然フィルムが外側スキン層を含み、ミクロ層パケットがフィルムの両方の外側表面で終わる場合、ｄ１及びｄ２は同じになる。）しかしながら、著しい不一致が存在する場合、例えば、スキン層がある場所と別の場所で有意な厚さの変化を経験するが、下部のミクロ層において対応する厚さの変化が存在しない場合、又はその逆の場合、スキン層は典型的に、ミクロ層パケットと比較してフィルムの反射特性に僅かな効果しか有さないという事実を考慮し、異なるゾーンにおける全体的なフィルム厚さをより代表するものとしてｄ２及びｄ２’パラメーターを使用することが望ましい場合がある。
当然、光学的に厚い層によって互いに分離する２つ以上の別個のミクロ層パケットを含む多層光学フィルムに関し、任意の所定のミクロ層パケットの厚さもまた、ｚ軸に沿ったパケットの最初のミクロ層から最後のミクロ層までの距離として測定し特徴付けることができる。この情報は、フィルム１１０の、異なるゾーン１１２、１１６の物理的特性を比較する、より徹底した分析においてより顕著となり得る。
上記のように、ゾーン１１６が熱の選択的な適用により処理され、それによってミクロ層３１４、３１６の少なくともいくらかが、これらの複屈折性を隣接するゾーン１１２のこれらの複屈折性と比較して一部又は全部を失い、その結果ゾーン１１６は、ミクロ層からの光の強め合う又は弱め合う干渉から生じる、ゾーン１１２の反射特性とは異なる反射特性を呈する。選択的な加熱プロセスは、ゾーン１１６に対する選択的な圧力の適用を含まないことがあり、これはフィルムに対する厚さの変化を実質的に生じないことがある（パラメーターｄ１／ｄ１’又はパラメーターｄ２／ｄ２’のいずれを使用しても）。例えば、フィルム１１０は、ゾーン１１６において、ゾーン１１２又は非処理のフィルムで観察される厚さの通常の変動を超えない範囲でゾーン１１２の平均厚さからずれる、平均厚さを呈することがある。したがって、ゾーン１１６の熱処理の前に、フィルム１１０は、ゾーン１１２又はゾーン１１２及びゾーン１１６の一部を包含するフィルムの領域にわたり、厚さの変動（ｄ１又はｄ２）Δｄを呈することがあり、ゾーン１１６はゾーン１１２の空間的な平均厚さｄ１、ｄ２（それぞれ）とΔｄを超えない範囲で異なる空間的な平均厚さｄ１’、ｄ２’を有し得る。パラメーターΔｄは、例えば、厚さｄ１又はｄ２の空間的分布における、１つ、２つ又は３つの標準偏差を表し得る。
いくつかの場合において、ゾーン１１６の熱処理は、ゾーン１１６におけるフィルム厚さに一定の変化を生じ得る。これらの厚さの変化は例えば、多層光学フィルムを構成する異なる材料の局部的な収縮及び／又は拡大から生じることがあり又は他のいくつかの熱により誘起される現象から生じることがある。しかしながら、このような厚さの変化は、生じる場合、処理ゾーン１１６の反射特性へのこれらの影響において、処理ゾーンにおける複屈折性の低減又は排除が担う主な役割と比較して、二次的な役割のみを担う。多くの場合において、フィルムに皺ができるのを避けるため、又は他の理由のために、内部パターン化を達成する選択的な熱処理の間、フィルムの縁部を張力下において保持することが望ましい場合がある。適用される張力の程度、及び熱処理の詳細はまた、処理ゾーンにおいてある程度の厚さの変化を生じ得る。
いくつかの場合において、フィルムの反射特性を分析することにより、複屈折性の変化から厚さの変化の効果を見分けることが可能である。例えば、非処理ゾーン（例えば、ゾーン１１２）のミクロ層が左帯域端（ＬＢＥ）、右帯域端（ＲＢＥ）、中央波長λｃ及びピーク反射率Ｒ１によって特徴付けられる反射帯域を提供する場合、これらのミクロ層の所与の厚さの変化（ミクロ層の屈折率は変化しない）は、Ｒ１とおよそ同じピーク反射率Ｒ２を有するが、非処理ゾーンの反射帯域のこれらの特徴に対して波長が比例的にシフトしたＬＢＥ、ＲＢＥ及び中央波長を有する処理ゾーンの反射帯域を生成し、このシフトが測定され得る。一方で、複屈折性の変化は典型的に、複屈折性の変化によって生じる光学的厚さの変化（通常は非常に小さい）の結果として、ＬＢＥ、ＲＢＥの波長及び中央波長の非常に小さなシフトのみを生成する。（光学的厚さは物理的厚さ×屈折率であることを想起されたい。複屈折性の変化はしかしながら、ミクロ層積み重ね体の設計によって、反射帯域のピーク反射率に大きな、又は少なくとも有意な影響を有する。したがって、いくつかの場合において、複屈折性の変化は、修正ゾーンの反射帯域においてＲ１と実質的に異なるピーク反射率Ｒ２を提供してもよく、当然Ｒ１及びＲ２は、同じ照明条件及び観察条件下で比較される。Ｒ１及びＲ２が百分率で表現される場合、Ｒ２はＲ１と少なくとも１０％又は少なくとも２０％又は少なくとも３０％異なってもよい。明確な例として、Ｒ１は７０％であり得、Ｒ２は６０％、５０％、４０％以下であり得る。あるいは、Ｒ１は１０％であり得、Ｒ２は２０％、３０％、４０％以上であり得る。Ｒ１及びＲ２はまた、これらの比率を取ることによって比較され得る。例えば、Ｒ２／Ｒ１又はその逆数は、少なくとも２、又は少なくとも３であり得る。
複屈折性の変化による、隣接する層間の屈折率の差の変化から生じる境界面反射率（場合により光学能と称される）の変化の指標となる程度の、ピーク反射率の有意な変化はまた、典型的には反射帯域の帯域幅における少なくともいくらかの変化を伴い、帯域幅はＬＢＥとＲＢＥとの間の分離を指す。
記載したように、いくつかの場合において処理ゾーン１１６におけるフィルム１１０の厚さ、すなわちｄ１’又はｄ２’は、選択的な圧力が熱処理中にゾーン１１６に実際に適用されなくても、非処理ゾーン１１２のフィルムの厚さとは若干異なる場合がある。この理由のために、図３はｄ１’をｄ１と僅かに異なるものとして、ｄ２’をｄ２と僅かに異なるものとして記載する。移行ゾーン１１５はまた、一般的に図示され、「突出部」又は他の検出可能なアーチファクトが、選択可能な熱処理の結果としてフィルムの外側表面に存在し得る。しかしながらいくつかの場合において、処理は、隣接する処理ゾーンと非処理ゾーンとの間に検出可能なアーチファクトを生じない場合がある。例えば、いくつかの場合において、ゾーン間の境界を横断するように指を滑らせる観察者がゾーン間に突出部、隆起部又は他の物理的アーチファクトを検出しない場合がある。
いくつかの場合において、処理ゾーンと非処理ゾーンとの間の厚さの差がフィルムの厚さを通じて比例的でない可能性がある。例えば、いくつかの場合において、外側スキン層が、処理ゾーンと非処理ゾーンとの間の、百分率の変化として表現される比較的小さな厚さの差を有する一方で、１つ以上の内部ミクロ層パケットが、同じゾーンの間でやはり百分率の変化として表現されるより大きな厚さの差を有し得る可能性がある。
図４は、内部パターン化を組み込む別の多層光学フィルム４１０の一部の概略断面図を図示し、内部パターン化がフィルムの一段階においてのみ達成される。フィルム４１０は、スキン層４１２、４１４の間に狭持された階層又は層４１６内に存在するミクロ層のパケットを含む。全てのミクロ層がフィルム４１０の内部にある。（別の実施形態では、一方又は両方のスキン層が省略され、この場合パケット内の一方の又は両方のＰＢＬ又は最も外側のミクロ層が外部層と成り得る。）ミクロ層はフィルムの少なくともいくつかのゾーン又は領域において複屈折性であり、フィルムの少なくとも隣接するゾーン間で横方向又は横断方向の様式で延びる少なくともいくつかのミクロ層を含む。ミクロ層は、フィルムの少なくとも第１の非処理ゾーン４２２の光の強め合う又は弱め合う干渉に関する第１反射特性を提供する。フィルム４１０は、やはり光の強め合う又は弱め合う干渉と関連するが第１反射特性とは異なる第２反射特性を提供するため、隣接するゾーン４２０、４２４において、これらのゾーンにいずれの圧力も選択的に適用することなく、選択的に加熱された。（この文脈において「第１反射特性」及び「第２反射特性」は、ミクロ層のパケットのみに又はフィルム全体に関するものとして解釈され得ることに留意する。）これらの反射特性の差は、反射光又は透過光において、処理ゾーンと非処理ゾーンとの間の色の差として観察者に知覚され得る。それぞれの色及びその間の差はまた、典型的には入射角と共に変化又はシフトする。フィルム４１０はゾーン４２０、４２２、４２４で実質的に同じフィルム厚さを有してもよく又はフィルム厚さはこれらのゾーン間で若干変化してもよいが、ゾーンの間のフィルム厚さのいずれかの差は、第１反射特性と第２反射特性との間の差の主な原因とはならない。ゾーン４２０、４２２、４２４は、階層又は層４１６内の平行線模様によって示されるように、フィルムの内部又は内側にあるパターンを形成する。平行線模様の領域のミクロ層の少なくともいくつかは、ゾーン４２２又は他の非処理ゾーンにおけるこれらの複屈折性と比較して低減した複屈折性（ゼロ複屈折性を含む）を有する。
図４Ａは、内部パターン化を有する別の多層光学フィルム４３０の一部の概略断面図であるが、二段階のフィルムで別個に達成される。図４Ａの一定の構成要素又は要素は図４におけるものと同じ参照番号、すなわち、スキン層４１２、４１４及びゾーン４２０、４２２及び４２４を有し、これらが図４の対応する構成要素と同じ又は同様であることを示し、これらは上記で既に説明されており、ここで繰り返される。更に、図４の階層又は層４１６は図４Ａにおいて、二段階パターン化を可能にするために３つの層又は階層４１６ａ〜ｃと置換されている。層４１６ａは図４の層４１６と同一であってもよく、同じ平行線模様の領域はまた、層４１６ａ内に含まれるミクロ層のパケット内における、平行線模様の無い領域に対して低減された複屈折性を示す。層４１６ａのミクロ層パケットは、平行線模様の無い領域内の第１反射特性及び平行線模様の領域の異なる第３反射特性を提供してもよい。層４１６ｃはこれがまたミクロ層のパケットを含む限りにおいて層４１６ａと同様であり得るが、このパケットは層４１６ｃの平行線模様の無い領域（例えば、ゾーン４３４）の第２反射特性及び平行線模様の領域（ゾーン４３２、４３６）の第４反射特性を提供する。ほとんどの用途において、層４１６ｃの第２反射特性は好ましくは層４１６ａの第１反射特性とは異なる。例えば、第１反射特性は第１反射帯域を含んでもよく、第２反射特性は（例えば、中央波長、ピーク波長、ＬＢＥ、ＲＢＥ及び／又は帯域幅などの特徴的な波長により）第１反射帯域とは異なる第２反射帯域を含み得る。同様に、第３反射特性及び第４反射特性は好ましくは、しかしながら必要ではないが、互いに異なる。
層４１６ａのミクロ層パケットは好ましくは、書き込み波長を含む好適に方向付けられた光に曝露された際に、これが、このような光に曝露された層４１６ａの部分（ゾーン４２０、４２４）において第１反射特性が第３反射特性へと変わる程度まで吸収加熱されることを可能にする、吸収特性を有する。同様に、層４１６ｃのミクロ層パケットは好ましくは、書き込み波長を含む異なる好適に方向付けられた光に曝露された際に、これが、このような異なる光に曝露された層４１６ｃの部分（ゾーン４３２、４３６）において第２反射特性が第４反射特性へと変わる程度まで層４１６ａとは別個に吸収加熱されることを可能にする、吸収特性を有する。層４１６ａ、４１６ｃのいずれか又は両方のこれらの吸収特性は、染料又は顔料などの好適な吸収剤をその構成層、例えば選択されるミクロ層に組み込むことによって達成され得る。
二段階パターン化多層光学フィルム４３０はまた、好ましくは層４１６ａ、４１６ｃの間に配置される遮蔽層４１６ｂを含む。遮蔽層４１６ｂは、書き込み波長を含む第１光線がフィルム４３０のゾーン４２０、４２４で方向付けられて層４１６ａの第１反射特性を第３反射特性に変えることができ、一方でこのようなゾーンにおいて層４１６ｃの第２反射特性を第４反射特性に変えないように、書き込み波長における十分な量の光を遮蔽する。遮蔽層４１６ｂはまた、書き込み波長を含む第２光線がフィルム４３０のゾーン４３２、４３６で方向付けられて層４１６ｃの第２反射特性を第４反射特性に変えることができ、一方でこのようなゾーンにおいて層４１６ａの第１反射特性を第３反射特性に変えないように、書き込み波長における十分な量の光を遮蔽し得る。遮蔽層は主に、書き込み波長の光を吸収することにより、書き込み波長の光を反射することにより又は吸収及び反射の組み合わせにより、この機能性を達成し得る。以下で更に記載される、遮蔽層の設計及び各書き込み可能な層４１６ａ、４１６ｃの閾値特性により、第１光線及び第２光線はフィルム４３０の同じ側又は主表面に入射してもよく又はこれらは反対側に入射してもよい。いくつかの設計において、第１光線及び第２光線はまた、フィルムに対して異なる入射角を有し得る。例えば、第１光線は実質的に垂直入射で供給されてもよく、第２光線はフィルムに対して大きく傾いた角度で供給されてもよい。
重要であり得る遮蔽層４１６ｂの別の態様は、面内特性が同じである又は互いに異なる度合いである。換言すると、遮蔽層は、入射光の偏光状態と独立であるか、これに弱く依存するか又は強く依存する遮蔽特性を有し得る。更に換言すると、遮蔽層は回転対称であってもよく又はこれは代わりに、垂直軸すなわちｚ軸を中心とした回転に関して異なる度合いの回転対称性を有してもよい。一方の極端な状態において、遮蔽層はｚ軸を中心に実質的に回転対称であってもよく、それによって書き込み波長における直線偏光垂直入射光は、遮蔽層のいずれの面内軸（例えば、ｘ軸又はｙ軸）と偏光が位置合わせされるかにかかわらず、同じ量で又は同じ程度遮蔽される。別の極端な状態において、遮蔽層は高度に回転非対称であってもよく、それによって書き込み波長における直線偏光垂直入射光は、一方の面内軸（例えば、ｘ軸）と位置合わせされる場合に強力に遮蔽され、垂直な面内軸（例えば、ｙ軸）と位置合わせされる場合に強力に透過する。したがって、遮蔽層は例えば反射性偏光子又は吸収性偏光子であるか又はこれを含み得る。このような場合、遮蔽層は書き込み波長における第１光線を実質的に遮蔽し（吸収又は反射により）、書き込み波長における第２光線を実質的に透過してもよく、第１光線及び第２光線はこれらの偏光状態のみ異なり、これらの入射角は同じであってもよい。このような回転非対称な遮蔽特性はまた電磁スペクトルの特定の反射帯域に限定される場合があり、これを超えると遮蔽層は任意の偏光の入射光を透過し、遮蔽しない。このような反射帯域はまた、本明細書において別に記載されるように、入射角と共にシフトしてもよい。
遮蔽層の詳細と無関係に、ミクロ層光学フィルム内の少なくとも２つのミクロ層パケットが、書き込み波長と称される単一の波長又は波長帯域を使用して別個にパターン化されるか又は「書き込まれ」得る。各段階のパターン（例えば、層４１６ａに関する段階のゾーン４２０、４２４及び層４１６ｃに関する段階のゾーン４３２、４３６）は、観察者又は平面図の視点から、所望により完全に重複しているか、完全に重複していないか又は部分的に重複している場合がある。別個のパターン化が、書き込み波長を少なくとも部分的に遮蔽する遮蔽層によって促進され得る。書き込み波長の光は例えば、レーザーによって供給される場合がある。遮蔽層は、多層光学フィルムが遮蔽層の一方の側でレーザー照射に供された際に不十分な光学能が他方の側に供給され、不十分な熱伝導が同様に可能にされ、それによって他方の側の書き込み可能なパケットが実質的に損なわれていないままであり、その初期反射特性の少なくとも一部を維持するような方法で吸収又は反射し得る。二段階の書き込み可能な多層光学フィルムの単純な構成はしたがって、３つのパケット又は層、例えば、第１の色を反射するか又は透過する第１のレーザー書き込み可能なミクロ層パケット、第２の色を反射するか又は透過する第２のレーザー書き込み可能なミクロ層パケット及び介在する遮蔽層を含む。本方法の単純な実施形態は、フィルムの第１側に最初にレーザー書き込みし、したがってこの第１側のパケットのみの反射特性を修正する工程と、次にフィルムの反対側又は第２側にレーザー書き込みし、したがってこの第２側のパケットのみの反射特性を修正する工程とを含み得る。
遮蔽層は、関心のレーザー波長（書き込み波長）へと微調整された多層反射性パケット（回転対称又は非対称）であるか又はこれを含み得る。例えば、遮蔽層はスペクトルの赤外（ＩＲ）部分のレーザー書き込み波長と重複する、垂直入射における反射帯域を有するミクロ層パケットであるか又はこれを含み得る。あるいは、遮蔽層は書き込み波長において吸収する染料又は顔料などの吸収剤を充填した内部層であるか又はこれを含み得る。この場合、第１及び／又は第２のレーザー書き込み可能なミクロ層パケットは一定量の同じ吸収剤又は一定量の異なる吸収剤を含み得る。
ＩＲ波長は多くの場合、放射処理中にフィルムを選択的に加熱するために特定の有用性を有するが、可視及び紫外線（ＵＶ）波長がまた、書き込み波長のために想到される。遮蔽層はしたがって、同様に、これらのスペクトル領域での使用のために調整され得る。
遮蔽層は書き込み波長における入射光を全て遮蔽する必要はない。むしろ、遮蔽層は、含まれる場合、入射光線の視点から遮蔽層の後ろ側に配置される書き込み可能な多層パケットの望ましくない処理又は修正を防ぐために十分なだけ入射エネルギーを遮蔽することのみを必要とする。典型的には、各書き込み可能なパケットは、パケットの最初の反射特性に対する生じる修正が（反射光又は透過光で）顕著であるか又は検出可能であるように、そのミクロ層の複屈折性を十分に変更するために必要な、書き込み可能なパケットに関連する第１の又は下限エネルギーレベルを有する。このより下限エネルギーレベルは、所与の書き込み可能なパケットの吸収特性の関数である。同様に、各書き込み可能なパケットはまた典型的には、それ以上においてそのミクロ層の複屈折性が実質的に完全に排除される（すなわち、それによってこれらの層が等方性となる）ような、これに関連する第２の又は上限エネルギー値を有する。各書き込み可能パケットに関し、これらの下限及び上限エネルギーレベルは、閾値フルーエンス及び走査速度（例えば、レーザープロセスシステムにおいて）に関連し得る。所与の走査速度において、光線強度又はフルーエンスを考慮し、これらの下限及び上限ＩＬ及びＩＵをそれぞれ指定することが便利である。
二段階書き込み可能多層光学フィルム４５０の更なる実施形態が図４Ｂに例示される。フィルム構成は、２つの外側表面４５２ａ、４５２ｂを含み、ここにおいて放射エネルギーは、第１反射性ミクロ層パケット４５４及び（別個に）第２反射性ミクロ層パケット４５６のパターン書き込みのために、フィルムに衝突し得る。遮蔽層４５８はパケット４５４と４５６との間に存在する。フィルム４５０は全体的に又は部分的に共押出され、後者の場合、別個に形成されたフィルムの積層によって形成され得る。追加的な介在層及び／又は層パケット４６０は任意により、書き込み可能な光学パケット４５４、４５６と、遮蔽層４５８との間に存在し得る。これらは接着剤層、熱吸収層、追加的な光学パケット層又は他の層を含み得る。所望の書き込み波長の放射エネルギーが表面４５２ｂに衝突するとき、第１反射性パケット４５４が良好に書き込まれる、例えば、パケットの選択された層は十分な量の複屈折性を失い、光学的反射性における所望の変化を達成するパワーの範囲が存在するが、この範囲において十分な量のパワーが遮蔽層４５８によって排除、捕捉ないしは別の方法で遮蔽され、それによって第２光学パケット４５６はそのように処理されない（書き込まれない）。同様に、所望の書き込み波長の放射エネルギーが表面４５２ｂに衝突するとき、第２反射性パケット４５６が良好に書き込まれるパワーの範囲が存在するが、この範囲において十分な量のパワーが遮蔽層４５８によって排除、捕捉ないしは別の方法で遮蔽され、それによって第１光学パケット４５４はそのように処理されない（書き込まれない）。
更なる例示として、表面４５２ａに衝突する書き込み波長におけるレーザー光を考慮し、各ミクロ層パケット４５４、４５６は上記のようにそれに関連する固有の上限下限エネルギー値ＩＵ、ＩＬを有し、これは構成ミクロ層の材料特性及びパケットの吸収特性の関数であることを想起されたい。レーザー光は、パケット４５６を通過した後に、部分的に吸収された光線が、これが遮蔽層４５８に到達した際に、パケット４５６のＩＵよりも高いフルーエンスを依然として有するように、パケット４５６のＩＵよりも十分に高いフルーエンス又は強度を有することを考慮する。しかしながら遮蔽層４５８は次に、光線が層４５８を出て下部のパケット４５４に到達した後にフルーエンスがパケット４５４の下限値ＩＬを下回るように、光線のフルーエンスを十分に低減させるように、反射又は吸収によって光線の強度を低減する。この場合におけるレーザー光は、パケット４５６の構成層の少なくともいくらかの複屈折性を実質的に排除することによってパケット４５６に良好に書き込むか又はこれを修正したが、レーザー光はパケット４５４に書き込まない又は実質的にこれを修正しなかった。パケット４５４の上限及び下限エネルギー値がパケット４５６のものとおよそ同じである場合、第２光線が上面４５２ａではなく下面４５２ｂに衝突するように単に第２光線を方向付けることにより、直前に記載したものと同様の第２レーザー光を利用して、上方パケット４５６に書き込むか又はこれを実質的に修正することなく、下方パケット４５４を選択的に書き込むか又はこれを修正することができる。
本明細書において記載される二段階書き込みは、関心の色効果を得るために使用され得る。例えば、図４Ｂを参照し、パケット４５４、４５６は２つの光学反射性パケットであってもよく、それぞれが、可視スペクトルの異なる部分を反射し、一方で遮蔽層４５８は、赤外領域にあるか、ないしは別の可視領域外にあり得る放射処理波長（書き込み波長）の一部を反射する第３光学パケットであり得る。この場合、フィルム４５０は２つの組み合わせた可視光反射パケット４５４、４５６の反射の組み合わせである、反射による色を示す。透過において、提供される色は実質的に反射光の「スペクトル補完」であり、強力に反射される波長は弱く透過し、弱く反射される波長は強力に透過する。上面４５２ａに入射するレーザー光の第１光線による第１書き込み操作により、パケット４５６の処理領域又はゾーンが全体的な可視領域にわたって実質的に透過性となる場合（すなわち、実質的に無色）、フィルム４５０のこれらのゾーンにおいて感知される残りの色は、依然として損なわれていないパケット４５４の元々の反射特性による。第１レーザー光線による処理が省略され、下面４５２ｂに入射する第２レーザー光線により処理が生じる場合、かつ第２光線によりパケット４５４の処理領域又はゾーンは実質的に無色になる場合、フィルム４５０の処理ゾーンにおいて感知される残りの色は、依然として損なわれていないパケット４５６の元々の反射特性による。パケット４５６が第１面内パターンによって処理され、パケット４５４が第２面内パターンによって処理されるようにして、第１及び第２書き込み操作の両方が利用される場合、並びに観察者の視点（例えば、平面図）からパターンが重複する場合、ここでは反射性パケット４５４、４５６の両方が実質的に非反射性状態へと書き込まれるか又は修正されるため、重複領域において透明となる。
第２の場合において、一方のパケットはフィルムの一方の側から別個に処理可能であり得るが、両方のパケットが、フィルムの他方の側を照射する際に処理されてもよい。例えば、パケット４５４、４５６の一方が書き込み波長において、他方よりも遥かに高い吸収率を有する場合及び遮蔽層が書き込み波長の光を弱くのみ反射するか又は吸収する場合、そのパワーがより低い吸収率のパケットを処理又は修正するために十分である書き込み波長の光線は、遮蔽層を通過した後でもより高い吸収率のパケットを処理するために十分なフルーエンスを有し得る。したがって、処理ゾーンの第１パターンは、同一の方法において両方のパケットに書き込まれるか又は処理される場合があり、処理ゾーンの第２パターンは、フィルムの他方の側から入射するより低いフルーエンスの第２光線を使用して、別個に書き込まれるか又はより高い吸収率のパケットにおいてのみ処理され得る。生じる二段階内部パターン化多層光学フィルムにおいて、より高い吸収率のパケットは、第１及び第２パターンの集合又は組み合わせに従ってパターン化され、一方でより低い吸収率のパケットは第１パターンにのみ従ってパターン化される。
直前に記載した第２の場合において、遮蔽層４５８は、帯域シフト反射体、例えば、干渉積み重ね体を有する多層光学フィルムによって形成される反射性ミラー又は偏光子（すなわち、ミクロ層のパケット）であるか又はこれを含み得る。例えば、ＩＲレーザーが使用されて放射エネルギーを供給する場合、遮蔽層は、その垂直入射における反射帯域が、レーザーのＩＲ書き込み波長の中央にあるか又は少なくともこれと重複するように微調整された、ＩＲ反射ミクロ層パケットであり得る。より低い濃度のＩＲ吸収剤若しくはより低い固有吸収率又は双方の組み合わせのいずれかにより、第１書き込み可能パケット、例えばパケット４５６は、第２のパケット、例えばパケット４５４よりも書き込み波長において低い吸収率を有する。この方法において、それぞれＩＵ，１及びＩＬ，１と称される第１書き込み可能パケットの上限値及び下限値ＩＵ、ＩＬは、それぞれＩＵ，２及びＩＬ，２と称される第２書き込み可能パケットの対応する閾値よりも高い、すなわち、ＩＵ，１＞ＩＵ，２かつＩＬ，１＞ＩＬ，２である。完全に別個の操作又はパターン化が所望される場合、特にフィルムは、一方のパケットの下限が他方のパケットの上限よりも高い、すなわち、ＩＬ，１＞ＩＵ，２であるように設計される。第１書き込み可能パケットは次に、第１光線が表面４５２ａ上に垂直に入射するようにしてより高いフルーエンスで選択的に処理されてもよく（下部の第２パケットを処理することなく）、第２書き込み可能パケットは第２光線が同じ表面４５２ａに斜めに入射するようにしてより低いフルーエンスで選択的に処理されてもよい（上方第１パケットを処理することなく）。（いくつかの場合において、両方のパケットが斜角において処理され得るが、その場合第２パケットは第１パケットよりも高い角度で処理され得る。）特に、第２パケットは、遮蔽層４５８の反射帯域がシフトし（垂直入射に対し）、これが書き込み波長ともはや実質的に重複しないように、十分に高い斜角で処理され得る。この方法において、斜光線は、上方第１パケット４５６の複屈折性を実質的に低減することなく複屈折性の所望の低減を生じ、及びしたがって第２パケット４５４のパターン化を生じるために十分なパワーで、下部の第２パケット４５４に到達し得る。あるいは、遮蔽層４５８が、反射性又は吸収性偏光子であるか又はこれを含む場合、第１パケット４５６は、表面４５２ａに入射する高いフルーエンスの第１垂直入射光線を使用して、選択的に処理されてもよく、この第１光線は、下部の第２パケットが処理されるのを防ぐために、遮蔽層の遮蔽軸（例えば、ｘ軸）に沿って直線的に偏光される。この場合、第２書き込み可能パケットは、やはり表面４５２ａに垂直に入射する第２光線で、低いフルーエンスで選択的に処理されてもよいが、第２光線は、遮蔽層の透過軸（例えば、ｙ軸）に沿って直線的に偏光される。遮蔽層の作用により、より低い（初期）フルーエンスの第２光線は、第２書き込み可能パケット内において、より高い（初期）フルーエンスの第１光線よりも高いフルーエンスを実際に有し、それによって第２光線は、複屈折性を低減させるために第２書き込み可能パケットを十分に加熱するが、第１光線はしない。
図４Ａ及び図４Ｂの実施形態の、代替的な実施形態において、二段階書き込み可能多層光学フィルムは、２つの別個の書き込み可能光学パケットだけではなく、３つ以上を含んでもよい。このような実施形態は、これらが少なくとも２つの別個の書き込み可能パケットを含むために、依然として二段階書き込み可能多層光学フィルムと称される。別個の遮蔽層が、隣接するかないしは別の方法で隣り合う書き込み可能パケットの各対の間に提供され得る。例えば、図４Ａを参照し、層４１６ｃと同様の別の書き込み可能な階層又は層並びに遮蔽層４１６ｂと同様の遮蔽層が、層４１６ｃとスキン層４１４との間又は層４１６ａとスキン層４１２との間に含まれ得る。図４Ｂを参照し、第１反射性ミクロ層パケット４５４と同様の別の書き込み可能パケット及び遮蔽層４５８と同様の別の遮蔽層がパケット４５４の下又はパケット４５６の上に追加されてもよい。様々な書き込み可能パケット及び遮蔽層はパケットが、例えば、フルーエンス、入射角、入射側（すなわち、光線がフィルムの頂面から入射するか又は底面から入射するか）及び／又は偏光において互いに異なる、方向付けられた光線で個別に書き込まれるか又は処理され得る（すなわち、選択的に加熱されてその個別のミクロ層の複屈折性を低減させる）ように調整される。製造目的における便利さのために、以下でより完全に記載される書き込み可能パケット及び遮蔽層のいくつかの組み合わせは、少なくとも３つの書き込み可能パケットが、その全てがフィルムの同じ側から入射し、その全てが書き込み波長を含む、３つの異なる方向付けされた光線によって、個別に処理されることを可能にする。
角度依存的な及び／又は偏光依存的な多層光学フィルムの書き込み又は処理は、図７、７Ａ及び７Ｂとの関連において以下に提供される。しかしながら、最初に、その反射特性が、任意の好適な方向付けされた光線によって供給される選択的な吸収加熱を使用して、パターン方式で修正され得る書き込み可能光学パケットのいくつかの具体的な実施例を記載する。記載される様々な種類の書き込み可能な光学パケットは、その１つが好ましくは隣接するか又は隣り合うパケットの各対の間に提供される好適な遮蔽層と、広範な種類の組み合わせにおいて組み合わされ、広範な種類の二段階多層光学フィルム構成を生成し得る。
したがって、図５Ａ〜Ｄの理想化されたグラフを参照する。これらのグラフは多層光学フィルムのパターン化のプロセス及びその選択されるミクロ層パケットのパターン化のプロセスを二段階パターン化との関連において説明することを助ける。これらはまた、ミクロ層の任意の所与の書き込み可能パケットに関する非処理及び処理ゾーンそれぞれにおける第１及び第２反射特性の異なる可能な組み合わせのいくつか、並びに組み合わせがどのように達成されるかを説明することを助ける。記載の目的のために、光学フィルムの非処理及び処理ゾーンの両方の反射特性は、以下の３つの種類：ミラー様反射特性、ウィンドー様反射特性及び偏光子様反射特性の１つに分類され得る。ミラー様反射特性は全ての偏向状態の垂直入射光に関して高い反射率（例えば、いくつかの場合において、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％、９５％又は９９％超）を呈し、ウィンドー様反射特性は全ての偏光状態の垂直入射光に関して低い反射率（例えば、いくつかの場合において２０％、１０％、５％、３％又は１％未満）を呈し、偏光子様反射特性は、一方の偏光状態の垂直入射光に関して高い反射率（例えば、いくつかの場合において、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％、９５％又は９９％超）及び異なる偏光状態の垂直入射光に関して低い反射率（例えば、いくつかの場合において３０％、２０％、１０％、５％、３％又は１％未満）を呈する。（反射性偏光子様特性は、あるいは一方の偏光状態の他方の偏光状態に対する反射率の差という観点から表現され得る）読者は、多層光学フィルム又は積み重ね体と関連する、本明細書において記載される反射率値は、特に指定されない限り、外側空気／ポリマー境界面におけるフレネル反射を含まないとみなされるべきことに留意する。
これらの異なる特性の境界又は限度（例えば、何が「高い」反射率であり、何が「低い」反射率であるか）及びこれらの間の区別は、最終用途及び／又はシステム要件に依存し得る。例えば、全ての偏光状態に関する中程度の反射率を呈する多層光学フィルム又はそのミクロ層パケットは、いくつかの用途の目的においてミラーとしてみなされ、他の用途の目的においてウィンドーとみなされ得る。同様に、垂直入射光の異なる偏光状態において、中程度で異なる水準の反射性を提供する多層光学フィルム又はそのミクロ層パケットは、正確な反射率値及び所与の最終用途の異なる偏光状態における反射率の差に対する感度によって、いくつかの用途において偏光子とみなされ、他の用途においてミラーとみなされ、更に他の用途においてウィンドーとみなされ得る。特に指定されない限り、ミラー、ウィンドー、及び偏光子の分類は、垂直入射光に関して特定される。読者は斜角の特性は、垂直入射における光学フィルムの特性と、いくつかの場合においては同じ又は同様であり、他の場合においては大幅に異なり得ることを理解する。
図５Ａ〜Ｄの各グラフにおいて、相対的屈折率値「ｎ」が垂直軸上にプロットされる。水平軸において、２層光学反復単位を特徴付ける６つの屈折率それぞれに位置又は印が提供される：「１ｘ」、「１ｙ」及び「１ｚ」はｘ、ｙ及びｚ軸に沿った第１層の屈折率を表し、これらは上記においてｎ１ｘ、ｎ１ｙ及びｎ１ｚと称された。同様に「２ｘ」「２ｙ」及び「２ｚ」はｘ、ｙ、及びｚ軸に沿った第２層の屈折率を表し、これらは上記においてｎ２ｘ、ｎ２ｙ及びｎ２ｚと称された。図面における菱形の記号（◇）は第１処理段階における材料の屈折率を表す。この第１段階は例えば、共押出され、急冷されたか又はキャストホイール上にキャストされたが、まだ伸張されるかないしは別の方法で配向されていないポリマー層に対応し得る。図面における白い（塗り潰されていない）円形の記号（○）は、第１段階より後の第２段階の処理における材料の屈折率を表す。第２段階は、フィルム内のミクロ層の間の境界面から強め合う又は弱め合う干渉によって光を反射する多層光学フィルムへと、伸張されるかないしは別の方法で配向されたポリマー層に対応し得る。図面における小さな塗り潰された円形の記号又は点（●）は、第１及び第２段階より後の第３段階の処理における材料の屈折率値を表す。以下でより詳細に記載されるように、第３段階は、押し出され、配向された後に、選択的に熱処理されたポリマー層に対応し得るこのような熱処理は典型的に、処理ゾーンと称される１つ以上の特定の部分又はゾーンに限定される。
所与の図面における様々な記号の垂直座標を比較することにより、読者は、光学フィルム、その製造方法並びにその処理及び非処理部分の光学特性に関する多くの情報を容易に確認することができる。例えば、読者は、一方又は両方の材料層が、選択的な熱処理の前又は後に複屈折性であるか又はあったか、複屈折性が一軸的であるか又は二軸的であるか及び複屈折性が大きいか又は小さいかを確認することができる。読者はまた、図５Ａ〜Ｄから、各３つの処理段階（キャスト状態、伸張状態及び処理状態）における、２層間の屈折率の差Δｎｘ、Δｎｙ、Δｎｚそれぞれの相対的な規模を確認することができる。
上記のように、最終的な内部パターン化多層光学フィルムの前駆物品は、高分子材料のキャストウェブであり得る。キャストウェブは、最終的なフィルムと同じ数の層を有する場合があり、層は最終的なフィルムにおいて使用されるものと同じ高分子材料から構成されてもよいが、キャストウェブはより厚く、その層は通常全て等方性である。いくつかの場合において、しかしながら図面に表されないが、キャストプロセスそれ自体が１つ以上の材料にあるレベルの配向及び複屈折性を付与し得る。図５Ａ〜Ｄにおける菱形の記号は、その後の伸張手順の後に、多層光学フィルムの光学反復単位内のミクロ層になるキャストウェブ中の２つのポリマー層の屈折率を表す。伸張後、層のうちの少なくともいくらかが配向されて複屈折性となり、配向された（しかしながら、依然としてパターン化されていない）多層光学フィルムが形成される。これは図５Ａ〜Ｄにおいて、菱形の記号によって表されるこれらの各元の値から垂直にずれ得る白丸によって例示される。例えば、図５Ａにおいて、伸張手順は、第２層の屈折率をｘ軸に沿って上げるが、その屈折率をｙ及びｚ軸に沿って下げる。このような屈折率のシフトは、正に複屈折のポリマー層を好適に一軸的にｘ軸に沿って伸張し、一方でフィルムをｙ軸及びｚ軸に沿って寸法的に弛緩させることによって得られる場合がある。図５Ｂにおいて、伸張手順は、第１層の屈折率をｘ軸及びｙ軸に沿って上げるが、その屈折率をｚ軸に沿って下げる。このような屈折率のシフトは、正に複屈折のポリマー層をｘ軸及びｙ軸に沿って好適に二軸的に伸張することによって得られる場合がある。図５Ｃにおいて伸張手順は、第１及び第２層の両方の複屈折率をｘ軸に沿って上げ、これらの各屈折率をｚ軸に沿って下げ、同じ屈折率をｙ軸に沿って維持する。いくつかの場合においてこの屈折率シフトは、ｘ軸に沿ってｙ軸と比較してより高度の伸張を使用して、正の複屈折ポリマー層をｘ軸及びｙ軸に沿って非対称に、二軸的に伸張することによって得られる場合がある。他の場合において、これは、ｘ軸に沿って一軸的に伸張し、一方でｙ軸においてフィルムを拘束する（拘束した一軸伸張）ことによっておよそ得られる場合がある。図５Ａ及び図５Ｂにおいて、白丸（図５Ａのｎ２ｘ、ｎ２ｙ及びｎ２ｚ並びに図５Ｂのｎ１ｘ、ｎ１ｙ及びｎ１ｚ）の少なくとも２つが異なる屈折率ｎの値を有するため、配向しているが非処理の状態（白丸）の層の一方が複屈折性であることに留意する。これらの示された実施形態において、他のポリマー層は伸張後、キャスト状態及び配向しているが非処理の状態に関し、同じ屈折率値（図５Ａにおけるｎ１ｘ＝ｎ１ｙ＝ｎ１ｚ、図５Ｂにおけるｎ２ｘ＝ｎ２ｙ＝ｎ２ｚ）によって示されるように、等方性に留まる。
第１反射特性を提供するために光学反復単位に構成されたミクロ層を有する少なくとも部分的な複屈折性多層光学フィルムを形成した後、フィルムは上記の選択的な加熱に備えた状態となる。ミクロ層の少なくともいくらかにおいて複屈折性を低減又は排除し、一方で第１（非処理）ゾーンにおいてその複屈折性を不変に留めるため、加熱は多層光学フィルムの第１ゾーンに隣接する第２ゾーンにおいて選択的に実行され、ミクロ層パケット内の少なくとも１つの複屈折材料の一部又は全体において選択的に溶解及び脱配向するように調整される。選択的加熱はまた、第２ゾーンの層の構造的一体性を維持するために実行される。処理された第２ゾーンにおける複屈折材料は、全体的に、すなわち、完全に脱配向され、その後複屈折ミクロ層は等方性状態に戻り（例えば、キャストウェブの）、一方で光学的に薄いままである。これは図５Ａ及び図５Ｂに見られ、熱処理により第１層（図５Ｂ）又は第２層（図５Ａ）の屈折率（小さい黒点参照）が、これらのキャストウェブ状態における値に戻る（菱形の記号参照）。菱形の記号が、等方性状態（例えば、キャストウェブ）の層の屈折率を表し、小さい黒点が最終的な内部パターン化フィルムにおける処理又は選択的に加熱したゾーンのミクロ層の屈折率を表し、白丸が最終的な内部パターン化フィルムの非処理ゾーンにおけるミクロ層の屈折率を表すことを想起されたい。
処理第２ゾーンの複屈折材料が部分的にのみ、すなわち不完全に脱配向している場合、複屈折ミクロ層は、加熱前の複屈折状態よりも低いが、等方性ではない複屈折状態へと緩和する。この場合、複屈折材料の処理第２ゾーンにおける屈折率は、図５Ａ〜Ｄに図示される菱形の記号と白丸との間のいずれかの値を得る。このような不完全な複屈折性緩和のいくつかの例は、譲受人共通の国際出願番号第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６５８４８ＷＯ００２号、「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｗｉｔｈ Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔ Ｌａｙｅｒｓ」により詳細に説明され、本明細書において参照として組み込まれる。
図５Ａにおいて、比較的低い屈折率を有する第１高分子材料が選択され、より高い屈折率を有し、正の応力−光学係数を有する第２高分子材料が選択される。材料は、好適な数の層で、交互の層構成で共押出され、菱形の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブはその後、好適な条件下でｘ軸に沿って一軸的に伸張されて、第２高分子材料中において複屈折性を誘起し、一方で第１高分子材料は等方性に留まる。屈折率値ｎ２ｘが更に増加してｎ１ｘとの大きな屈折率差Δｎｘを形成する。屈折率値ｎ２ｙ及びｎ２ｚは減少して、それぞれｎ１ｙ及びｎ１ｚとの小さな屈折率差Δｎｙ及びΔｎｚを形成する。例えば、値Δｎｙ及びΔｎｚはゼロであり得る。屈折率のこの組は、適切な数の層を有するミクロ層パケットにおいて実施される際、遮蔽軸であるｘ軸及び透過軸であるｙ軸を有する反射性偏光子を提供し得る。反射性偏光子は、ミクロ層の層厚さ分布によって広帯域又は狭帯域であり得る。
この反射性偏光子フィルムは、その後上記のように第２ゾーンにおいて内部パターン化され、一方で反射性偏光フィルムを第１ゾーンにおいて損なわれていない状態に留め得る。放射エネルギーを第２ゾーンへと選択的に供給して選択的に加熱することにより、複屈折層がその元の等方性状態に、又は脱配向が不完全な場合には中間的な複屈折状態へと緩和する。緩和が不完全である場合、第２ゾーンは、ミラー様フィルムとなり（ミクロ層パケットが適切な数の層を有する場合）、Δｎｘ≒Δｎｙ≒Δｎｚである。最終的なフィルムはしたがって、一体型フィルム内において、１つのゾーンにおける反射性偏光子及び隣接するゾーンにおけるミラー様フィルムを組み合わせ、１つのゾーンから次のゾーンへと連続的に延びるミクロ層を有する。このようなフィルムは、同日付けで出願された、同時係属で譲受人共通の、米国特許出願第ＸＸ／ＸＸＸ，ＸＸＸ号、「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｍｉｒｒｏｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」（代理人整理番号第６５０３８ＵＳ００２号）により完全に記載される。図５Ａにおいて、選択的熱処理プロセスは、多層反射性偏光子フィルムを、多層反射性ミラーフィルムに変えることができる（すなわち、偏光子→ミラー）。
図５Ｂにおいて、実質的に同じ屈折率を有する第１及び第２高分子材料が選択され、第１高分子材料は、正の応力−光学係数を有する。材料は、好適な数の層で、交互の層構成で共押出され、菱形の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブはその後、好適な条件下でｘ軸及びｙ軸に沿って二軸的に伸張されて、第１高分子材料中において複屈折性を誘起し、一方で第２高分子材料は等方性に留まる。屈折率値ｎ１ｘ、ｎ１ｙは増加して、ｎ２ｘ、ｎ２ｙとの実質的な屈折率差Δｎｘ、Δｎｙをそれぞれ形成する。屈折率値ｎ１ｚは減少して、Δｎｘ及びΔｎｙと反対の極性及び符合を有する、ｎ２ｚとの実質的な屈折率差Δｎｚを形成する。この屈折率の組は、適切な数の層を有するミクロ層パケットにおいて実施されるとき、ミラー様フィルムを提供することができる。フィルムによって提供される反射性は、ミクロ層の層厚さ分布によって広帯域又は狭帯域であり得る。
このミラー様フィルムは、その後上記のように第２ゾーンにおいて内部パターン化され、一方でミラー様フィルムを第１ゾーンにおいて損なわれていない状態に留め得る。放射エネルギーを第２ゾーンへと選択的に供給して選択的に加熱することにより、複屈折層がその元の等方性状態に、又は脱配向が不完全な場合には中間的な複屈折状態へと緩和する。緩和が完全である場合、第２ゾーンはウィンドー様フィルムとなり、Δｎｘ≒Δｎｙ≒Δｎｚ≒０である。最終的なフィルムはしたがって、一体型フィルム内において、１つのゾーンにおけるミラー様反射体及び隣接するゾーンにおける実質的ウィンドーを組み合わせ、１つのゾーンから次のゾーンへと連続的に延びるミクロ層を有する。この図５Ｂに関し、選択的な熱処理プロセスは、多層反射性ミラーフィルムを多層ウィンドーフィルムに変えることができる（ミラー→ウィンドー）。
図５Ａ及び図５Ｂに関し、光学材料の一方が伸張後（及び選択的熱処理後）に等方性のままである。これはしかしながら、一般的に妥当する必要はなく、本明細書において開示される選択的熱処理技術を使用して内部パターン化光学フィルムへと転換され得る多くの関心のかつ有用な多層光学フィルム設計が、光学反復単位の構成層のための２つの異なる光学材料を含み、キャストウェブが伸張ないしは別の方法で配向された際に、これらの構成材料層の両方（１つのみではなく）が複屈折性となる。このような多層光学フィルムは、このようなフィルムの光学反復単位が、伸張後に複屈折性である少なくとも２つの構成ミクロ層をそれぞれ含むため、本明細書において「二重複屈折性」光学フィルムと称される。このような二重複屈折性多層光学フィルムが選択的熱処理に曝露される場合、材料特性及び加熱条件によって処理ゾーンにおける多くの異なる反応が可能であり、例えば、両方の材料層が完全に緩和して等方性になってもよく又は一方の材料が完全に若しくは部分的に緩和し一方で他方の材料層がその複屈折性を維持するか又は両方の材料層が異なる程度で緩和してもよい（例えば、一方の材料層が完全に緩和して等方性になり、一方で他方の材料が部分的に緩和してその複屈折性の一部のみを維持する）。いずれにせよ、一方又は両方の材料層の複屈折性の変化は、フィルムの第１（非処理）ゾーンの反射特性と実質的に異なる、光学フィルムの第２（処理）ゾーンの反射特性を生じる。二重複屈折多層光学フィルムの更なる詳細及びこれらを内部パターン化するために使用される選択的加熱技術は、同日付けで出願され、本明細書において参照として組み込まれる以下の譲受人共通の国際出願に提供される：ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６５８４８ＷＯ００２号）「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｗｉｔｈ Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔ Ｌａｙｅｒｓ」及び国際出願番号第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６５８４９ＷＯ００２号「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」。選択的熱処理による内部パターン化のために好適な二重複屈折性多層光学フィルムのいくつかの例が、本出願において、図５Ｃ及び５Ｄに図示される。
図５Ｃにおいて、同じ又は同様の等方性屈折率を有し、同じ又は同様の応力−光学係数を有し（図５Ｃにおいて正として図示されるが、負の係数もまた使用され得る）、異なる溶解又は軟化温度を有する第１及び第２高分子材料が選択される。材料は、好適な数の層で、交互の層構成で共押出され、菱形の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。二軸的に延伸するのではなく、図５Ｃのキャストウェブは好適な条件下でｘ軸に沿って一軸的に伸張されて、第１及び第２高分子材料の両方において複屈折性を誘起する。伸張により屈折率値ｎ１ｘ及びｎ２ｘが同程度増加し、一方でｎ１ｚ及びｎ２ｚが同程度減少し、一方でｎ１ｙ及びｎ２ｙは比較的一定に留まる。各材料層は強力に二軸的に複屈折性であるが、これは３つの主軸方向全てに沿って実質的に整合した２つの材料層の屈折率を生じる（Δｎｘ≒０、Δｎｙ≒０、及びΔｎｚ≒０）。この屈折率の組は、適切な数の層を有するミクロ層パケットにおいて実施されるとき、垂直入射及び斜めの入射光に関してほとんど又はまったく反射率を有さない多層ウィンドー様フィルムを提供し得る。
この多層ウィンドーフィルムは、その後上記のように第２ゾーンにおいて内部パターン化され、一方でウィンドーフィルムを第１ゾーンにおいて損なわれていない状態に留め得る。放射エネルギーを第２ゾーンに選択的に供給することによる選択的な加熱により、複屈折層の少なくともいくらかが緩和し、より低い複屈折性となる。図５Ｃの場合、加熱はまた、第１材料層の溶解又は軟化点よりも高く、第２材料層の溶解又は軟化点よりも低い温度に注意深く制御される。このように、選択的加熱により第２ゾーンの第１複屈折層は、これらの元の等方性状態に、又は脱配向が不完全な場合は中間的な複屈折状態に緩和し、一方で第２ゾーンにおける第２複屈折性層はこれらの複屈折性を実質的に維持する。第１材料の緩和が完全である場合第２ゾーンは、一方の面内方向における比較的大きな屈折率差（Δｎｘ）、他方の面内方向における０又はほぼ０の屈折率差（Δｎｙ）及びΔｎｘと反対の極性又は符合の比較的大きな面外屈折率差（Δｎｚ）によって特徴付けられる。これらの屈折率関係は、適切な数の層を有するミクロ層パケットにおいて実施される際、第２ゾーンにおける反射性偏光子フィルムを提供し得る。この偏光子フィルムは、ｙ方向と平行な透過軸及びｘ方向と平行な遮蔽軸を有する。遮蔽状態の偏光においてこのフィルムによって提供される反射性は、ミクロ層の層厚さ分布によって広帯域又は狭帯域であり得る。いずれにせよ、遮蔽状態の偏光における偏光子フィルムの反射性は（ｓ偏光成分及びｐ偏光成分の両方に関し）、Δｎｚと反対の極性により、入射角の増加に伴って増加する。最終的なフィルムはしたがって、一体型フィルム内において、１つのゾーンにおける多層ウィンドーフィルム及び隣接するゾーンにおける反射性偏光子フィルムを組み合わせ、１つのゾーンから次のゾーンへと連続的に延びるミクロ層を有する。この図５Ｃに関し、選択的な熱処理プロセスは、多層ウィンドーフィルムを多層反射性偏光子フィルムに変えることができる（ウィンドー→偏光子）。
図５Ｄの実施形態は、米国特許第６，１７９，９４８号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）に記載される２工程延伸プロセスを使用する。このプロセスにおいて、キャストフィルムの伸張又は配向は、一組の層（例えば、各光学反復単位の第１材料層）が両方の延伸工程において実質的に配向し、一方で他方の組の層（例えば、各光学反復単位の第２材料層）が一方の延伸工程中においてのみ実質的に配向するように、注意深く制御された２工程延伸プロセスを使用して実行される。結果は、延伸後に実質的に二軸的に配向された一組の材料層を有し、かつ延伸後に実質的に一軸的に配置される材料層の別の組を有する多層光学フィルムである。この区別は、２つのプロセス延伸工程の温度、歪み速度及び歪み程度などの、１つ以上の好適に異なるプロセス条件を使用することにより、２つの材料の異なる粘弾特性及び結晶化特性に作用することによって達成される。したがって、例えば、第１延伸工程は第１材料を第１方向に沿って実質的に配向させ、一方で第２材料をこの方向に沿って多くても極僅かにのみ配向させ得る。第１延伸工程の後、１つ以上のプロセス条件が好適に変更され、それによって第２延伸工程において第１及び第２材料の両方が第２方向に沿って実質的に配向される。この方法により、第１材料層は本質的に二軸配向特性（例えば、屈折率は関係式ｎ１ｘ≒ｎ１ｙ≠ｎ１ｚを満たしてもよく、場合により一軸的複屈折材料と称される）を想定することができ、一方で全く同じ多層フィルム内の第２材料層は、本質的に一軸配向特性（例えば、屈折率は関係式ｎ２ｘ≠ｎ２ｙ≠ｎ２ｚ≠ｎ２ｘを満たし、場合により二軸的複屈折材料と称される）を想定することができる。
この背景により、図５Ｄは第１及び第２高分子材料が、同じ又は同様の等方性屈折率を有し、延伸後に両方が複屈折性となり、同じ極性の応力−光学係数（図面においてこれらは両方とも正として表されているが、かわりにこれらは両方とも負であってもよい）を有するように選択される実施形態を表す。第１及び第２材料は、上記の２工程延伸プロセスが実施され得るように、異なる溶解又は軟化温度を有し、異なる粘弾及び／又は結晶化特性を有する。材料は、好適な数の層で、交互の層構成で共押出され、菱形の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブはその後、第１材料がｘ軸及びｙ軸の両方に沿って同等に配向されるように、上記の２工程延伸プロセスを使用してｘ軸及びｙ軸に沿って二軸的に伸張され、ここで第２材料はｙ軸に沿って優先的に配向され、ｘ軸に沿ってより弱い配向である（いくつかの場合においては配向しない）。正味の結果は、その第１及び第２ミクロ層が両方とも複屈折性である多層光学フィルムであるが、第１材料層は、実質的な二軸配向特性を有し、第２材料層は非対称な二軸配向特性又は更に実質的な一軸配向特性を有する。示されるように、材料及びプロセス条件は、伸張により屈折率値ｎ１ｘ及びｎ１ｙが同程度増加し、一方でｎ１ｚが大きく減少するように選択される。また伸張により、屈折率値ｎ２ｙはｎ１ｘ及びｎ１ｙの値と同等かこれ近くの値まで増加し、屈折率ｎ２ｚが減少し、屈折率ｎ２ｘがほぼ同じままである（第２材料がｘ軸配向工程の間低い度合いで配向する場合、ｎ２ｘは図に示されるように僅かに増加し得る）。これは、１つの大きな面内屈折率不整合（Δｎｘ）、１つの著しくより小さい面内屈折率不整合（Δｎｙ≒０）及びΔｎｘと反対の極性の中間的な面外屈折率不整合（Δｎｚ）を有する２つの材料層の屈折率を生じる。第２材料がより二軸的に配向する場合、処理後のｘ方向の屈折率整合は、等方性屈折率が第２材料よりも高い第１材料と組み合わせることによって達成され得る。屈折率のこの組は、適切な数の層を有するミクロ層パケットにおいて実施される際、ｘ方向に沿った遮蔽軸及びｙ方向に沿った透過軸を有する第１反射性偏光フィルムを提供し得る。フィルムによって提供される反射性は（遮蔽軸と平行に偏光した光に関し）、ミクロ層の層厚さ分布により、広帯域又は狭帯域であり得る。
この第１多層反射性偏光子フィルムは、その後上記のように第２ゾーンにおいて内部パターン化され、一方で偏光子フィルムを第１ゾーンにおいて損なわれていない状態に留め得る。放射エネルギーを第２ゾーンに選択的に供給することによる選択的な加熱により、複屈折層の少なくともいくらかが緩和し、より低い複屈折性となる。この場合、加熱は第１材料層の溶解又は軟化点よりも高く、第２材料層の溶解又は軟化点よりも低い温度に注意深く制御される。このように、選択的加熱により第２ゾーンの第１複屈折層は、これらの元の等方性状態に、又は脱配向が不完全な場合は中間的な複屈折状態に緩和し、一方で第２ゾーンにおける第２複屈折性層はこれらの複屈折性を実質的に維持する。第１材料の緩和が完全である場合、第２ゾーンは、一方の面内方向における比較的大きな屈折率差（Δｎｘ）、他方の面内方向における０又はほぼ０の屈折率差（Δｎｙ）及びΔｎｘと反対の極性又は符合の比較的大きな面外屈折率差（Δｎｚ）によって特徴付けられる。これらの屈折率の関係は、適切な数の層を有するミクロ層パケットにおいて実施される際、第２ゾーンにおける第２反射性偏光子フィルムを提供し得る。特に、この第２偏光子は、ｘ方向と平行な透過軸及びｙ方向と平行な遮蔽軸を有し、すなわち、これは第１反射性偏光子と比較して垂直に向けられている。遮蔽状態の偏光に関し、この第２偏光子フィルムによって提供される反射は、ミクロ層の層厚さ分布によって、第１反射性偏光子が、垂直な偏光状態において広帯域又は狭帯域であるのと同じ程度において、広帯域又は狭帯域である。いずれにせよ、遮蔽状態の偏光における第２偏光子フィルムの反射性は（ｓ偏光成分及びｐ偏光成分の両方に関し）、第２ゾーンにおけるΔｎｚと反対の極性により、入射角の増加に伴って増加する。最終的なフィルムはしたがって、一体型フィルム内において、１つのゾーンにおける第１反射性偏光子フィルム及び隣接するゾーンにおける第２反射性偏光子フィルムを組み合わせ、第２反射性偏光子フィルムは第１反射性偏光子フィルムと垂直に配向され、１つのゾーンから次のゾーンへと連続的に延びるミクロ層を有する。この図５Ｄにおいて、選択的な熱処理プロセスは、第１多層反射性偏光子フィルムを第２多層反射性偏光子フィルムに変えることができる（偏光子１→偏光子２）。
上記のシナリオは、第１ゾーンの反射体の種類、第２ゾーンの反射体の種類、材料特性及び他の内部パターン化多層光学フィルムを生成するために使用され得る処理パラメーターの、多数の可能な組み合わせのいくつかのみを含み、限定とみなされるべきではない。正の複屈折性材料だけではなく、負の複屈折性材料及びこれらの組み合わせも使用され得る。複屈折性及び等方性ポリマーの組み合わせが使用される場合、複屈折性ポリマーは、等方性ポリマーの屈折率より低い、高い又は同等の事前伸張の等方性屈折率を有し得る。内部パターン化多層光学フィルムの第１及び第２ゾーンのための反射体の種類他の可能な組み合わせの説明（これらの様々な組み合わせは、本明細書において開示されるように二段階書き込み可能多層光学フィルムにおいて利用され得る）は、同日付けで出願された以下の譲受人共通の出願の１つ以上に見出され得る：国際出願番号第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６４８４７ＷＯ００３号）「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｕｓｉｎｇ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」、同第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６５０３７ＷＯ００３号）「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｍｉｒｒｏｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」、同第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６５８４８ＷＯ００２号）「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｗｉｔｈ Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔ Ｌａｙｅｒｓ」及び同第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６５８４９ＷＯ００２号）「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」。
図６は、多層光学フィルムに関して本明細書において記載された複屈折性緩和技術を使用して達成され得る様々な変換を要約する概略図である。したがって、図はまた、内部パターン化多層光学フィルムの第１（非処理）ゾーン及び第２（熱処理）ゾーンにおける反射体種類の様々な組み合わせを要約し、これらはひいては二段階書き込み可能多層光学フィルムの一部を形成し得る。図中の矢印は、第１反射特性から、第１反射特性と実質的に異なる第２反射特性への変換を表す。図６の図は、例示目的で提供され、限定として解釈されるべきではない。
矢印６１０ａは、多層ミラーフィルムから多層ウィンドーフィルムへの変換（例えば、図５Ｂとの関連において記載される）を表す。このような変換は、ミラーフィルムによって特徴付けられる１つ以上の第１（非処理）ゾーン及びウィンドーフィルムによって特徴付けられる１つ以上の第２（処理）ゾーンを有する内部パターン化多層光学フィルムを提供するために使用され得る。矢印６１０ｂは、多層ウィンドーフィルムから多層ミラーフィルムへの反対の転換を表す。このような変換は、ウィンドーフィルムによって特徴付けられる１つ以上の第１（非処理）ゾーン及びミラーフィルムによって特徴付けられる１つ以上の第２（処理）ゾーンを有する内部パターン化多層光学フィルムを提供するために使用され得る。
矢印６１２ａは、多層ウィンドーフィルムから多層偏光子フィルムへの変換（例えば、図５Ｃとの関連において記載される）を表す。このような変換は、ウィンドーフィルムによって特徴付けられる１つ以上の第１（非処理）ゾーン及び偏光子フィルムによって特徴付けられる１つ以上の第２（処理）ゾーンを有する内部パターン化多層光学フィルムを提供するために使用され得る。矢印６１２ｂは、多層偏光子フィルムから多層ウィンドーフィルムへの反対の転換を表す。このような変換は、偏光子フィルムによって特徴付けられる１つ以上の第１（非処理）ゾーン及びウィンドーフィルムによって特徴付けられる１つ以上の第２（処理）ゾーンを有する内部パターン化多層光学フィルムを提供するために使用され得る。
矢印６１４ａは、多層偏光子フィルムから多層ミラーフィルムへの変換（例えば、図５Ａとの関連において記載される）を表す。このような変換は、偏光子フィルムによって特徴付けられる１つ以上の第１（非処理）ゾーン及びミラーフィルムによって特徴付けられる１つ以上の第２（処理）ゾーンを有する内部パターン化多層光学フィルムを提供するために使用され得る。矢印６１４ｂは、多層ミラーフィルムから多層偏光子フィルムへの反対の転換を表す。このような変換は、偏光子フィルムによって特徴付けられる１つ以上の第１（非処理）ゾーン及びウィンドーフィルムによって特徴付けられる１つ以上の第２（処理）ゾーンを有する内部パターン化多層光学フィルムを提供するために使用され得る。
矢印６１６、６１８及び６２０は、１つの種類のミラーから別の種類のミラーへの、１つの種類のウィンドーから別の種類のウィンドーへの及び１つの種類の偏光子から別の種類の偏光子への（例えば、図５Ｄ参照）変換を表す。読者はまた、図６の図は例示目的で提供され、限定する様に解釈されるべきではないことを想起する。
図７において、開示される内部パターン化フィルムを提供するため、多層光学フィルムの第２ゾーンを選択的に加熱するために使用され得る構成７００が図示される。簡潔に、フィルム全体にわたって又は少なくともその第１ゾーンから第２ゾーンまで延びる少なくとも１つのミクロ層パケットを含む多層光学フィルム７１０が提供される。ミクロ層はフィルムの内側にあり、フィルムに第１反射特性を提供する。高放射光源７２０は、好適な波長、強度及び光線サイズの方向付けられた光線７２２を提供し、入射光のいくらかを吸収により熱に転換することにより、フィルムの照明された部分７２４を選択的に加熱する。好ましくは、フィルムの吸収は、適度な電力の光源で十分な加熱を提供するために十分に大きいが、フィルムの初期表面で過度の光が吸収されて表面に損傷を生じ得るほど大きくない。これは以下で更に記載される。いくつかの場合において、斜めに位置付けられる光源７２０ａ、方向付けられた光線７２２ａ及び照明される部分７２４ａによって示される斜角θで光源を配置することが望ましい場合がある。多層光学フィルム７１０が、所望の量の吸収及びこれに伴う加熱を阻害するような方法で方向付けられた光線７２２を実質的に反射する、垂直入射における反射帯域を有するミクロ層パケットを含む場合においてこのような斜めの照明が望ましいことがある。したがって、入射角の増加に伴う反射帯域のより短い波長へのシフトを利用し、方向付けられた光線７２２ａが（シフトした）反射帯域を避ける斜角θで供給され、所望の吸収及び加熱を可能にし得る。
いくつかの場合において、方向付けられた光線７２２又は７２２ａは、照明された部分７２４又は７２４ａが所望の最終的な第２ゾーンの形状を有するような様式の形状にすることができる。他の場合において、方向付けられた光線は所望の第２ゾーンよりも大きさが小さい形状を有してもよい。後者の状況において、処理されるゾーンの所望の形状をなぞるために、多層光学フィルムの表面にわたる所望の光線を走査するため、光線指向装置が使用される場合がある。ビームスプリッター、レンズ配列、ポッケルスセル、音響光学変調器などの装置及び当業者によって既知の技術及び装置による、方向付けられた光線の空間的及び時間的調節もまた利用され得る。
図７Ａは、多層光学フィルム７５０の側面図であり、これは、その構成ミクロ層パケットの少なくとも２つの別個の処理又はパターン化を可能にするように具体的に設計され、すなわち、これは、図４Ａ及び図４Ｂと関連して記載されるフィルムと同様の二段階内部パターン化のために設計されている。フィルム７５０の場合、第２ミクロ層パケット７５６を実質的に処理又はパターン化せずに第１ミクロ層パケット７５２を処理又はパターン化するために、書き込み波長の及び好適な強度又はフルーエンスの垂直入射光（図７Ａにおいて下付き「Ａ」によって表される）が使用される。第１パケット７５２を実質的に処理又はパターン化することなく第２パケット７５６を処理又はパターン化するために、書き込み波長の及び好適なフルーエンスの斜めの入射光（図７Ａにおいて下付き文字「Ｂ」によって示される）が使用される。
したがって、図７Ａにおいて、垂直入射放射エネルギーＩ０，Ａが第１書き込み可能ミクロ層パケット７５２に衝突する。この放射エネルギーＩ０，Ａは、所望により、直線的に偏光されてもよく又はこれは非偏光であってもよい。エネルギーＩ６，Ａのいくらかが第１外側表面から反射し、第１パケット７５２に入るより低いエネルギーＩ１，Ａを生じる。書き込み波長における吸収及び任意によりパケット７５２からのいくらかの反射が、パケット７５２を出る入射光の更により低いエネルギーＩ２，Ａを生じる。遮蔽層７５４は衝突する光のエネルギーＩ２，Ａを実質的に反射して反射光線Ｉ５，Ａを生じるミクロ層パケットであるか又はこれを含む。上記のようにこのミクロ層パケットは回転対称又は非対称であり得、これはミクロ層パケットが実質的にミラーであるか又は偏光子であるかを決定することに留意する。遮蔽層７５４が実質的に偏光子である場合、これは（いくつかの場合において）放射エネルギーＩ０，Ａ（並びにエネルギーＩ１，Ａ及びＩ２，Ａ）がこのような偏光子の遮蔽軸にそって直線的に偏光されるように調整されることが望ましい場合がある。あるいは、例えば、遮蔽層７５４が実質的にミラーである場合、放射エネルギーＩ０，Ａ（エネルギーＩ１，Ａ及びＩ２，Ａ）は偏光又は非偏光のいずれかであり得、これは、個別のミクロ層パケットの設計によって選択的加熱作業に影響を有して又は有さなくてもよい。Ｉ３，Ａ及びＩ４，Ａとして図中に表される、第２パケット７５６に入り、出る残存強度はそれぞれ、第２書き込み可能パケット７５６の処理、例えば、複屈折性の低減を所望のレベルに制限するために十分に低減される。遮蔽層７５４が、選択される初期衝突エネルギーＩ０，Ａに対して十分強力である場合、これらの残存強度は両方とも下限ＩＬ，２より低く、第２パケット７５６における複屈折性の著しい低減は生じない。
斜めの入射光線に関し、放射エネルギーＩ０，Ｂが第１書き込み可能パケット７５２に衝突する。この放射エネルギーＩ０，Ｂは、上記に従い、直線的に偏光され得るか又はこれは非偏光であり得る。エネルギーＩ６，Ｂのいくらかが第１外側表面から反射し、第１パケット７５２に入るより低いエネルギーＩ１，Ｂを生じる。ｐ偏光が供給され、ブリュースター角付近で斜めに処理されて、外側表面からの反射損失を制限するように、レーザー偏光を配置することが有利であり得る。入射エネルギー強度Ｉ１，Ｂは、所望のレベルにおける第１書き込み可能パケットの複屈折性を維持するために、第１パケットの変化が十分に低いレベルに維持されるように、十分に低い。Ｉ１，ＢがＩＬ，１より低いとき、２つのパケットの完全に別個の操作が可能である。斜角は、遮蔽層７５４の反射帯域が書き込み波長を実質的に避けるようにシフトするように選択され、遮蔽層７５４を通じた入射光線Ｉ２，Ｂの実質的な通過を可能にする一方で多くても非常に弱い反射光線Ｉ５，Ｂのみを提供する。したがって、光線Ｉ３，Ｂは、所望のレベルの処理を得るために十分な強度で第２パケット７５６に入り、出射光線Ｉ４，Ｂは依然として、第２書き込み可能パケット７５６の後部又は遠位部分を処理するために十分な強度である。第２パケットの複屈折性の完全な排除のために、Ｉ４，Ｂは少なくとも約ＩＵ，２であるべきである。
図７Ｂは、二段階内部パターン化のために適合される別の多層光学フィルム７６０の概略側面図である。フィルム７６０はいくつかの場合において、フィルム７５０の遮蔽層７５４が十分に回転非対称である場合、例えばこれが反射性偏光子である場合、フィルム７５０と同一であり得る。いずれにせよ、図７Ｂのフィルム７６０は、フィルム７５０と同様に、その構成ミクロ層パケットの少なくとも２つの別個の処理又はパターン化を可能にするように具体的に設計され、すなわち、これは、図４Ａ及び図４Ｂと関連して記載されるフィルムと同様の二段階内部パターン化のために設計されている。フィルム７６０は、実質的に回転非対称な遮蔽層７６４を組み込み、遮蔽層７６４は好ましくは遮蔽軸及び透過軸を有する多層反射性偏光子である。このような遮蔽層は、好適な強度又はフルーエンスの書き込み波長の垂直入射光の第１光線を可能にし、これは遮蔽層の遮蔽軸に沿って実質的に直線的に偏光され（この第１光線は図７Ｂにおいて、「遮蔽軸」偏光に関し、下付き文字「Ｂ」によって示される）、第２ミクロ層パケット７６６を実質的に処理又はパターン化することなく第１ミクロ層パケット７６２を処理又はパターン化するために使用される。回転非対称な遮蔽層はまた、好適なフルーエンスの第２光線を可能にするが、第２光線はまた垂直入射であり、また書き込み波長を含むが、第１光線と垂直に、かつ好ましくは遮蔽層７６４と平行に偏光され（この第２光線は図７Ｂにおいて、「透過軸」偏光に関し下付き文字「Ｐ」によって示される）、第１パケット７６２を実質的に処理又はパターン化することなく第２パケット７６６を処理又はパターン化する。
図７Ｂを更に参照し、第１パケット７６２（これはまた、フィルムのパケットを処理するか又は書き込むために使用される入射光の視点から「前部」パケットと称され得る）は下限ＩＬ，１及び上限ＩＵ，１を有し、一方で第２パケット７６６（これは、同様の理由で「後部」パケットと称され得る）は下限ＩＬ，２及び上限ＩＵ，２を有する。第１パケット及び第２パケットは同様に、各パケットを横断するエネルギーの一部γ１及びγ２を吸収する。偏光感応性遮蔽層７６４は、遮蔽偏光状態においてそこに衝突する書き込み波長の光の一部βＢを通し、そこに衝突する書き込み波長の光の一部βＰを通し、ここでβＰは、βＢよりも大きい。本記載の目的のために、遮蔽層７６４は反射性偏光子であるものと想定する。好ましくは、遮蔽層の吸収は極僅かであり、その結果反射する書き込み波長の光の量は、したがって、遮蔽状態及び透過状態においてそれぞれ、１−βB及び１−βPである。
図７Ｂに図示される様々な光線は、これらの通路の様々な点における２つの伝搬する書き込み光線の強度及びフルーエンス状態を表す。図に示されるものの他に、様々な外部及び内部表面からの追加的な反射がまた一般的に存在するため、図に示される光線は、例示のみを意図される。ここに記載される関係式は、説明目的のための第１近似であることを意図される。光線１，Ｂは、外側表面からの第１反射の後の、第１初期書き込み波長光線の残りであり、すなわち、Ｉ１，Ｂは（１−Ｒ）Ｉ０，Ｂであり、式中Ｒは外側表面から反射する一部である。光線Ｉ２，Ｂは、第１パケット７６２を横断した後のＩ１，Ｂの残りの吸収されていない部分である。したがって、Ｉ２，Ｂは、積（１−γ１）Ｉ１，Ｂである。遮蔽層７６４から反射された光線Ｉ５，Ｂは、（１−βＢ）Ｉ２，Ｂであり、これは、フィルム７６０の前面に再び到達した後にＩ６，Ｂまで低減する。したがって、Ｉ６，Ｂは（１−γ１）（１−βＢ）Ｉ２，Ｂである。遮蔽層における吸収が無いと、第２パケット７６６に入るＩ３，Ｂは、βＢ Ｉ２，Ｂである。最後に、第２パケットの後部における光線Ｉ４，Ｂは次に（１−γ２）βＢ Ｉ２，Ｂである。
第２書き込み波長光線Ｉ０，Ｐは、第１光線Ｉ０，Ｂと同様の方法でフィルム７６０を伝搬するが、ただし当然ながら、βＰとβＢとの間の差のために、遮蔽層７６４は第１光線よりも第２光線をより透過させる。（更に、書き込み可能パケット７６２、７６６の一方又は両方がまた回転非対称であり得る限りにおいて、これらもまた異なる偏光状態を異なる様式で透過させる）この記載の単純化のために、パケット７６２、７６６は回転対称であるものと想定する。第１パケット７６２を遮蔽偏光状態において完全に書き込むために（第１光線を使用して）任意の点における合計フルーエンスは、前方の移動する光線と後方に反射する光線の合計、例えば、Ｉ２，Ｂ＋Ｉ５，Ｂ及びＩ１，Ｂ＋Ｉ６，Ｂ又は前部パケットの中央部分の同様の量である。したがって、これらの合計は、ＩＵ，１より大きいべきである。その上、Ｉ３，ＢはＩＬ，２より小さいべきである。透過状態での第２パケット７６６への書き込みに関し（第２光線Ｉ０，Ｐを使用して）、十分かつ完全な別個の操作Ｉ２，Ｐ＋Ｉ５，Ｐ及びＩ１，Ｐ＋Ｉ６，Ｐは、ＩＬ，１より小さいべきであり、一方でＩ４，Ｐは、ＩＵ，２より大きいべきである。
更に図７Ｂのフィルム７６０を参照して、これはまた、第２又は後部パケットを阻害することなく第１又は前部パケットを処理するために、様々な遮蔽状態の条件の強さ条件から、第１近似：
（ＩＬ，２／ＩＵ，１）＞βＢ／（２−βＢ）
から得られる。遮蔽状態が強くなり、βＢが０に近づくとこの拘束は、後部が、前部に衝突する遮蔽状態と完全に隔離されるために、理論上のものになる。偏光子が非効率になり、βＢが１（unity）に近づくと、ＩＬ，２はＩＵ，１に近づき別個の処理性を提供する。しかしながら、この制限において、前部パケットの後部においてフルーエンスがこのときＩＵ，１よりも十分大きくなくてはならず、一方で後部パケットの前部において、ＩＬ，２よりも十分に小さくなくてはならないため、操作のウィンドーは非常に小さくなる。これは同様に、前部パケットを阻害することなく後部パケットを処理するため、透過状態条件における様々な条件の強さにより、第１近似：
（ＩＵ，２／ＩＬ，１）＜βＰ／（２−βＰ）
から得られる。透過状態が完全に透過性となり、βＰが１に近付くと、前部パケットＩＬ，１書き込み下限は単に、後部パケットの書き込み上限ＩＵ，２を超える必要がある。透過状態が部分的に反射性になると、前部パケットの書き込み下限は、１よりも大きい因数（例えば、（２−βＰ）／βＰ）により後部パケットの書き込み上限を超えるべきである。最後に、各パケットの書き込み閾値は、このパケットの吸収率と緊密に関連することに留意するべきである。
図４Ａ、４Ｂ、７Ａ及び７Ｂはそれぞれ、２つの書き込み多層パケットを有する多層光学フィルムを表す。しかしながら、上記のように、二段階内部パターン化はまた、３つ以上の個別の書き込み可能多層光学パケットを内部に有するフィルムを包含し得る。このような場合、２つ以上の遮蔽層及び３つ以上の書き込み可能ミクロ層パケットが使用され得る。追加的な遮蔽層は、両面照射処理を可能にする種類又は可能な片面照射処理に対して角シフト反射帯域を利用する種類のものであり得る。フィルム７５０（図７Ａ参照）のものに対する１つの代替的な実施形態において、第２遮蔽層（反射性多層パケットを含む）が第２書き込み可能パケット７５６の上に配置され、第３書き込み可能パケットがその後第２遮蔽層の上に配置される。したがって、第２書き込み可能パケット７５６がここでは、２つの遮蔽層の間に狭持される。第２遮蔽層は、第１遮蔽層７５４のものよりも広い反射帯域を有してもよく、それによって図７Ａに表される斜角での下からの入射光が、第３パケットが第２パケット７５６を処理するために使用される斜角において実質的に修正又は処理されないように、第２遮蔽層によって依然として十分に遮蔽される。この別の実施形態の第１の２つのパケット７５２、７５６はしたがって、図７Ａに表されるように別個に処理され得、一方で第３書き込み可能パケットは、第２パケットにおいて使用されるものよりも更に高い斜角で処理され得る。第２パケットと第１パケットとの間の関係と同様に、第３書き込み可能パケットはこの時、第２パケットよりも更に高い吸収率を有する場合がある。あるいは、第１の２つのパケット７５２、７５６は図７Ａにおいて表されるように処理されてもよく、一方で第３パケットは構成体の反対側の側から処理されてもよい（すなわち、図７Ａの頂部からの入射光線を使用して）。追加的な書き込み可能及び遮蔽層がまた追加され得る。例えば、二段階内部パターン化可能フィルムが、図７Ａに図示される種類の２つのフィルムをその間に狭持される、構成フィルムを実質的に隔離する第３遮蔽層と一緒に積層することによって、４つの個別の書き込み可能ミクロ層パケットを含む場合があり、第１パケットは下からの垂直入射光で処理され、第２パケットは下からの斜めの入射光で処理され、第２パケットは下からの斜めの入射光によって処理され、第３パケットは上からの垂直入射光で処理され、第４パケットは上からの斜めの入射光で処理される。
いくつかの実施形態において、二段階パターン化可能フィルム内の書き込み可能パケットは、フィルムの同じ側から、同じ書き込み波長で別個に書き込むか又は処理することができる。このような処理に適合する１つのフィルム構成は、一対のパケットの間の偏光（回転非対称）遮蔽層及び別のパケットの対の間の帯域シフト遮蔽層を利用する。１つのこのようなフィルム構成は、図４Ｂのフィルム４５０から始まり、ここで遮蔽層４５８は反射性偏光子であり、それによって遮蔽層の遮蔽軸に沿って直線的に偏光される（高フルーエンス）第１垂直入射光線は第１又は前部パケット４５６を処理するか又はこれに書き込むことができ、遮蔽層の透過軸に沿って直線的に偏光される（低フルーエンス）第２垂直入射光線は第２パケット４５４を処理するか又はこれに書き込むことができる。入射角と共にシフトする反射帯域を提供する第２遮蔽層（本明細書において帯域シフト遮蔽層と称される）がその後このフィルムに追加され、第２ミクロ層パケット４５４の下に定置される。このような第２遮蔽層は、好適に設計されたミクロ層のパケットであるか又はこれを含み得る。他の書き込み可能パケット（４５６及び４５４）に加え、第３書き込み可能パケットがその第２遮蔽層の下に定置される。（３つの書き込み可能パケットは所望により、全て同じ波長選択的吸収剤を組み込み得るが、パケットの異なる書き込み閾値を提供するために異なる濃度である。）この新しい構成において、前の後部書き込みパケット４５４はここで遮蔽層の間に狭持され得る。前部（４５６）及びここで中央（４５４）パケットが、同じ書き込み波長であるが異なる偏光の第１及び第２垂直入射光線を使用して、先と同じように処理され得る。この実施形態の第２遮蔽層（帯域シフト遮蔽層）は好ましくは、第３又は後部パケットが第１及び第２光線によって影響されないように、垂直入射における両方の偏光状態を十分に遮蔽するように設計される。この第３パケットは、パケット４５６又は４５４のいずれよりも低い書き込み閾値を有するように設計され、第３の方向付けられた光線（これは好ましくは第１及び第２光線と同じ書き込み波長を含む）で、第２遮蔽層が第３光線を高度に透過させるように、第２遮蔽層の反射帯域を書き込み波長から遠ざけるようにシフトさせるために十分な斜角で処理される。（偏光）遮蔽層４５８の反射帯域がまた斜角において十分にシフトする場合、遮蔽層４５８は任意の偏光状態において高度に透過性であり得、この場合第３の方向付けられた光線は所望により、偏光又は非偏光のいずれかであり得る。
上の段落で直前に記載されたものに対する代替的な手法において第２遮蔽層及び第３書き込み可能パケットはまた、図４Ｂの第２書き込み可能パケット（４５４）の下に定置される。第１の２つのパケット（４５６及び４５４）は、同じ書き込み波長であるが異なる偏光の第１及び第２垂直入射光線を使用して処理される。第３パケットは第１及び第２光線に対し、フィルムの反対側から入射する（すなわち、図の頂部からではなく底部から）第３の方向付けられた光線（これは好ましくは第１及び第２の光線と同じ書き込み波長を含む）で処理され得る。１つ以上の追加的な書き込み可能及び遮蔽層の追加による、更なる実施形態が想到される。例えば、図７ａに図示される種類の２つのフィルムが、反対側からの処理のために、このようなフィルムの間に配置される遮蔽層と組み合わされ、処理効果を反対側から隔離することができる。開示される二段階パターン化可能フィルムのより更なる組み合せ及びバリエーションもまた想到され得る。
図８Ａ〜Ｃは、パターン化多層フィルムの異なる第２ゾーンの概略平面図を提供し、表されるゾーンを形成することができるフィルムに対し、方向付けられた光線の可能な経路がその上に重ねられている。図８Ａにおいて、光線が多層光学フィルム８１０で方向付けられ、経路８１６に沿って始点８１６ａから終点８１６ｂまで制御された速度で走査され、任意の形状のゾーン８１４においてフィルムを選択的に加熱してこれを第１ゾーン８１２から区別する。図８Ｂ及び図８Ｃは同様である。図８Ｂにおいて、光線が多層光学フィルム８２０で方向付けられ、経路８２６に沿って始点８２６ａから制御された速度で走査され、矩形のゾーン８２４においてフィルムを選択的に加熱してこれを隣接する第１ゾーン８２２から区別する。図８Ｃにおいて、光線が多層光学フィルム８３０で方向付けられ、不連続な経路８３６〜８４２などに沿って制御された速度で走査され、フィルムを矩形ゾーン８３４内で選択的に加熱してこれを隣接する第１ゾーン８３２から区別する。各図８Ａ〜Ｃにおいて、加熱は、第２ゾーンにおける少なくともいくらかの内側ミクロ層の複屈折性を低減又は排除し、一方で第１ゾーンにおけるこれらの層の複屈折性を維持するために十分であり、第２ゾーンにおけるミクロ層の構造的一体性を維持しながら、第２ゾーンへのいずれの選択的な圧力の適用もなく達成される。
方向付けられた光線はまた、破線、点線ないしは別の方法により断続的な又は不連続な経路を生成するように調節されてもよい。調節は完全であってもよく、光線強度は１００％すなわち「完全にオン」から０％すなわち「完全にオフ」まで変化する。あるいは、調節は部分的であってもよい。更に、調節は、光線強度の急峻な（例えば、段階的な）変化を含んでもよく及び／又はこれは光線強度のより漸増的な変化を含んでもよい。
図９Ａ及び９Ｂは、多層光学フィルムの吸収率が、最適な局部的加熱を提供するためにどのように調整され得るか又はされるべきかという問題に対処する。図９Ａ及び図９Ｂのグラフは、同じ水平方向の縮尺でプロットされ、これは放射光線がフィルムを伝搬する際のその深さ又は位置を表す。０％の深さはフィルムの前面に対応し、１００％の深さがフィルムの後面に対応する。図９Ａは放射光線の相対的強度Ｉ／Ｉ０を垂直軸に沿ってプロットする。図９Ｂは、フィルム内の各深さにおける局部的吸収係数（放射光線の選択される波長又は波長帯域）をプロットする。
３つの異なる多層光学フィルムの実施形態に関し、３つの曲線が各図においてプロットされる。第１実施形態において、フィルムは、方向付けられた光線の波長において、その厚さ全体にわたり、実質的に均一で低い吸収率を有する。この実施形態は、図９Ａの曲線９１０及び図９Ｂの曲線９２０としてプロットされる。第２実施形態において、フィルムは、その厚さ全体にわたり、実質的に均一かつ高い吸収率を有する。この実施形態は、図９Ａの曲線９１２及び図９Ｂの曲線９２２としてプロットされる。第３実施形態において、フィルムはその厚さの領域９１５ａ及び９１５ｃ全体にわたり比較的低い吸収率を有するが、その厚さの領域９１５ｂにおいて中間的な吸収率を有する。
第１実施形態は、多くの場合において低すぎる吸収係数を有する。方向付けられた光線は、曲線９１０の一定の傾斜によって示されるように、深さの関数として均一に吸収され、これはいくつかの場合において望ましい場合があるが、１００％の深さにおける曲線９１０の高い値によって示されるように、極僅かな光が実際に吸収され、これは高い割合の方向付けられた光が無駄になることを意味する。それでもなお、いくつかの場合においてこの第１実施形態は、いくつかのフィルムの処理において依然として非常に有用であり得る。第２実施形態は、多くの場合において高すぎる吸収係数を有する。実質的に全ての方向付けられた光線が吸収され、無駄がないが、高吸収率により過剰な量の光がフィルムの前面で吸収されて、これがフィルムの表面に損傷を生じ得る。吸収率が高すぎると、フィルムの前面又はその付近における層を損傷することなく、関心の内側層に適切な量の熱を供給することができない。第３実施形態は、例えば、フィルムの選択される内側層内に吸収剤を組み込むことによって達成され得る不均一な吸収特性を利用する。吸収率のレベル（局部的な吸収係数によって制御される）は、望ましくは中間的なレベルに設定され、それによって方向付けられた光線の適切な部分がフィルムの調整された吸収領域９１５ｂに吸収されるが、吸収率は、反対側の端部と比較して過剰な量の熱が領域９１５ｂの入射端部に供給されるほど高くはない。多くの場合において、吸収領域９１５ｂの吸収率は依然として適度に弱く、例えば、この領域における相対的な強度特性９１４は、例えば９１５ａ及び９１５ｃなどの他の領域よりも単純により急な傾斜を有し、より直線として見える場合がある。以降で更に記載されるように、吸収率の適切さは、この吸収率を、所望の効果を達成するための入射する方向付けられた光線のパワー及び持続時間に対して調和させることによって決定される。
第３実施形態の基本的な実施例において、多層フィルムは、２つの厚いスキン層とその間のミクロ層の１つ以上のパケットの構成を有してもよく（２つ以上のミクロ層パケットが含まれる場合、保護境界層によって分離される）、フィルムは２つの高分子材料Ａ及びＢのみで構成されてもよい。その吸収率を中程度のレベルまで増加させるために吸収剤が高分子材料Ａに組み込まれるが、ポリマーＢには吸収剤は組み込まれない。両方の材料Ａ及びＢが、ミクロ層パケットの交互の層に提供されるが、スキン層及び保護境界層は、存在する場合、ポリマーＢのみから構成される。このような構成体は、弱い吸収性材料Ｂの使用のために、フィルムの外側表面、すなわちスキン層において低い吸収率を有するが、また光学的に厚いＰＢＬ（存在する場合）においても低い吸収率を有する。この構成体は、交互のミクロ層（より弱い吸収性材料Ｂの交互のミクロ層と）中のより強い吸収性材料Ａの使用により、ミクロ層パケット内のより高い吸収率を有する。このような構成体は、外側表面層ではなく、フィルムの内側層、特に内側ミクロ層パケットに熱を優先的に供給するために使用され得る。好適に設計されたフィードブロックでは、多層光学フィルムは３つ以上の異なる種類の高分子材料（Ａ、Ｂ、Ｃなど）を含む場合があり、フィルムの選択される内側層、パケット又は領域に熱を供給するように広範な種類の異なる吸収特性を提供するため、吸収剤が、１つ、いくつか又は全ての材料に組み込まれ得るということに留意されたい。他の場合では、ＰＢＬ又は更にスキン層（存在する場合）に吸収剤を含むことが有用であり得る。いずれの場合においても、充填量又は濃度は同じ又は異なる（ミクロ層内におけるよりも高い又は低い、のいずれか）場合がある。
先行の実施形態のものと同様の吸収特性が、多層光学フィルムにおいて使用される様々な本来の材料の固有の吸収特性を使用して得ることができる。したがって、多層フィルム構成体は、フィルムの様々な層又はパケットにおいて異なる吸収特性を有する異なる材料を含んでもよく、これらの様々な層又はパケットはフィルム形成中に一緒に形成されていてもよく（例えば、共押出により）又は例えば積層によって後に組み合わせられる別個の前駆フィルムとして形成されていてもよい。
ここで先行の教示及び開示の態様について反復及び補足する。
先行の開示はとりわけ、その最初の製造の後の、非接触の放射手段によって変えることができる、「書き込み可能な」多層光学フィルムを記載するものとみなすことができる。多層光学フィルム（ＭＯＦ）は、交互の層の少なくとも２つの材料及び第１の選択される入射角において可視スペクトル帯域などのスペクトルの選択される部分を反射するように微調整されたこのような層の少なくとも１つの光学パケットを含んでもよく、更に任意により、選択される光学パケットのいずれか又は両方の層内に分散する、本記載の目的のために第３材料と称され得る吸収剤を含み、これは第２の選択される入射角においてＭＯＦ反射帯域によって主に反射されないか又はＭＯＦの他の材料によって有意に吸収されない電磁放射を優先的に吸収する。これらの層内の複屈折性を低減するか又は排除するための吸収性材料を含む光学パケット内の少なくとも１つの複屈折性材料を部分的に又は全体的に、選択的に溶解又は脱配向させるために、特定のスペクトル帯域の方向付けられた放射エネルギー処理を使用したプロセスがまた開示される。処理は、フィルム面にわたる、選択された空間位置に適用される。処理後に空間的に調整された光学的変動を有する最終的な光学フィルム自体がまた開示される。開示されるフィルムは、最初に均一にキャストされ、延伸した光学体が、所与の用途の個別の要件に適合するように空間的に調整されるビジネスプロセスにおいて使用され得る。
特定の関心の一態様は、パルス赤外線レーザー光源又は他の好適な高発光光源での続く処理により、選択された内側光学層の複屈折性を選択的に排除する一方で、他の内側又は表面層を比較的不変に留めることにより、例えば近赤外線吸収染料又は他の吸収剤を含む多層光学フィルムの制御された空間的パターン化である。
初期又は第１反射特性とは異なる第２反射特性を提供するために、その内部ミクロ層の少なくともいくらかの複屈折性が、フィルムの１つ以上のゾーンにおいて低減され得る、本明細書において開示されるフィルム（選択的熱処理の前及び選択的熱処理の後の両方）は、ＳＴＯＦ（空間的に調整された光学フィルム）と称され得る。
フィルム、方法及びビジネスプロセスは、空間的に制御されたレベルの配向が所望される任意の用途において一般的に有用であり得る。関心の領域としては、例えば、ディスプレイ、装飾及びセキュリティ用途が挙げられる。いくつかの用途は、複数の領域に跨る場合がある。例えば、いくらかの物品は、例えば、しるしの形態の従来的なパターン化を含むフィルム、基材又は他の層と組み合わせた、本明細書において開示される内部パターン化フィルムを組み込み得る。得られる物品は、セキュリティ用途において有用であり得るが、その型はまた装飾的であるとみなすこともできる。このような物品の選択的な熱処理は、内部パターン化フィルムの設計によって、他のフィルムの従来的なパターンの部分を選択的に阻害するか（反射率を増加させることにより）又は曝露する（反射率を低減させることにより）、内部パターン化フィルムにおけるゾーンを生成し得る。開示される内部パターン化フィルムの色シフト特性はまた、例えば、米国特許第６，０４５，８９４号（Ｊｏｎｚａら）「Ｃｌｅａｒ ｔｏ Ｃｏｌｏｒｅｄ Ｓｅｃｕｒｉｔｙ Ｆｉｌｍ」及び同第６，５３１，２３０号（Ｗｅｂｅｒら）「Ｃｏｌｏｒ Ｓｈｉｆｔｉｎｇ Ｆｉｌｍ」に開示されるように、色付き又は白黒の背景のしるしと組み合わせて利用され得る。
更にセキュリティ用途に関し、開示されるフィルムは、ＩＤカード、運転免許証、パスポート、アクセス制御パス、金融取引カード（クレジット、デビット、プリペイド又は他の）、ブランド保護又はＩＤラベルなどを含む様々なセキュリティ構成体において使用され得る。フィルムは、セキュリティ構成体の他の層又は部分の内側又は外側層として積層されるかないしは別の方法で接着され得る。フィルムがパッチとして含まれるとき、これは、カード、ページ又はラベルの主表面の一部のみを被覆し得る。いくつかの場合において、セキュリティ構成体の基材又は唯一の要素としてフィルムを使用することが可能であり得る。フィルムは、ホログラム、セキュリティ印刷画像（凹版、オフセット、バーコードなど）、再帰反射性機構、ＵＶ又はＩＲ活性化画像などの、セキュリティ構成体の多くの機構の１つとして含まれ得る。いくつかの場合において、開示されるフィルムはこれらの他のセキュリティ機構と組み合わせて層化され得る。フィルムは、例えば、署名、画像、個人用コード番号などの個人化可能な機構をセキュリティ構成体に提供するために使用され得る。個人化可能な機構は、個人用文書ホルダー又は特定の製品、例えば、製造者タグ、ロット認証タグ、不正開封防止コードなどの場合、に関連し得る。個人化可能機構は線及び点のパターンを含む様々な走査パターンで作製され得る。パターンは、フィルム構成によって、書き込み可能パケットにおいて同じ又は異なる場合がある。
例えば、最初に知覚可能な色を呈し、その後処理又はパターン化の際に透明となる第１書き込み可能パケットの場合を想定する。１つ以上のこのような色付きパケットが使用され得る。セキュリティ構成体に含まれるフィルム構成体を形成するための第２多層光学フィルムパケットの追加を想定する。第１パケットのパターン化又は書き込みは、組み合わせた２つのパケットの色特性を表す背景の第２のパケットの色における設計又は画像を生じる。スペクトル帯域が十分に狭いとき、前景（パターン化領域）及び背景の両方が、観察角によってカラーシフトし得る。透過光又は反射光の観察を選ぶため、例えば、白又は黒の背景などの背景を有する知覚される色のバリエーションがセキュリティ機構として使用され得る。例えば、文書、例えばパスポートにおけるフィルムのページ又は紙葉をめくって、フィルムを文書の異なる背景又は部分を背に見ることができる。
フィルムは顕在的な（例えば、通常の観察者に対して明確に可視である）及び潜在的な機構の両方をセキュリティ構成体に提供し得る。例えば、書き込み可能な（色付き）反射性偏光子層は、偏光分析器によって可視の潜在的機構（例えば、分析器の偏光状態によって色を変えるか又は消える機構）を提供することができる。赤外反射パケットがパターン化されて赤外線検出可能な（例えば、機械で読取り可能な）個人化されたコード化機構を作製することができる。
セキュリティ用途のための特に関心のフィルム構成体は、米国特許第６，０４５，８９４号（Ｊｏｎｚａら）に記載されるような、例えば、６５０〜８００ｎｍのより低い（左）反射帯域端（フィルム構成による）を有する遠赤外線又は近赤外線反射体であり、これは垂直入射からすれすれの入射までの、観察角の変化により、透明から色付きの外観を提供することができる。設計されたカラーシフトを有する光学偏光フィルムを含む、他の関心の構成体が、米国特許第７，０６４，８９７号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）に記載される。本出願のパターン化方法を使用し、‘８９４号のＪｏｎｚａの参照文献に記載されるもの及び‘８９７号のＨｅｂｒｉｎｋの参照文献に記載されるものなどのフィルムを作製することができ、これらは例えばレーザーで書き込み可能である。例えば、スペクトルの可視、ＵＶ又はＩＲ部分における反射パケットの変更により、個人化情報がこのようなフィルムに書き込まれる場合があり、フィルムの変えた部分（処理ゾーン）は、フィルムの非処理部分よりも低い反射率を有し得る。
最後に、セキュリティ用途に関してここで記載される機構の多くが装飾用途において同様に有用であることに留意すべきである。例えば、個人化ロゴがしたがって、消費者物品内に埋め込まれ得る。
積層構成体が上記で記載されたが、異なる光学特性を有する別のフィルム又は基材となんらかの方法で接合されるか又は組み合わせられる本明細書において開示される、第１のＳＴＯＦ型フィルムを組み込むこれらの及び他の種類の光学体は、更なる記載に値する。この二段階パターン化用途の目的のために「別のフィルム又は基材」が、第２のＳＴＯＦ型フィルムであるか又はこれを含み得る。しかしながら、１つ以上の吸収性偏光子、色付き光透過性フィルム（例えば、着色された単一の層ポリマー）、リターディングフィルム、ガラスプレート、白色又は色付きカードストックなど及びこれらの組み合わせなどの他の光学的構成要素がまた含まれ得る。第１及び第２のＳＴＯＦ型フィルムは最初に同じ又は同様の種類の反射特性（例えば、偏光子、ミラー又はウィンドー）又は実質的に異なる特性を有し得る。
第１フィルムは、第１の複数の層、例えば、交互のミクロ層の積み重ね体又はパケットを含み、これは強め合う又は弱め合う干渉によって第１反射特性を提供する。この第１の複数の層は、そのミクロ層の少なくともいくらかの複屈折率がフィルムの１つ以上のゾーンにおいて低減され、このようなゾーンにおいて第１反射特性とは異なる第２反射特性を提供し得るように調整される。第２フィルムは、第２の複数の層、例えば、第１のこのような積み重ね体とは異なる交互のミクロ層の第２の積み重ね体又はパケットを含み、これは第３の反射特性を提供する。第３の、第４の及び追加的な複数の層並びに又は、例えば１つ以上の厚い基材などの他の機能的な層がまた所望により含まれ得る。第２フィルムは、積層プロセス（例えば、好適な光透過性接着剤層で）又は他の好適な手段により、第１フィルムに接合され得る。
このような光学体において、第１及び第２反射特性は、本明細書において開示される広範な種類の反射特性の組み合わせのいずれかから選択され得る。第３反射特性、すなわち、第２の複数の層の反射特性はまた、本明細書において開示される反射特性のいずれかから選択され得る。第１及び第３反射特性は、これに関連する第１及び第３反射帯域をそれぞれ有してもよく、いくつかの実施形態においてこれらの帯域は波長の実質的な重複を有ない場合があり、一方で他の実施形態では、これらは部分的に又は完全に重複する場合がある。
１つのこのような関心の光学体は、第１及び第３反射特性が重複する反射帯域を有するものであり、第１の複数の層は、多層ミラー様フィルムであり、第２の複数の層は多層反射性偏光子である。ミラー様フィルムにおいてこのような物品に衝突する光は実質的に反射される。ミラー様フィルムの反射率が十分に高い場合、ミラーフィルムから偏光子フィルムへと光がほとんど又はまったく透過しないため、下部の反射性偏光子の存在は物品の全体的な反射率にほとんど又は全く影響しない場合がある。しかしながら、ミラーフィルムは本明細書において開示されるように１つ以上の第２ゾーンにおいて選択的に熱処理され、このようなゾーンにおいてその層の少なくともいくらかの複屈折性を緩和し、第２反射特性を提供し得る。第２反射特性は、多層ウィンドー様フィルムであり得る。この場合、第１フィルムの処理領域（第２ゾーン）は、光が第２フィルムへと透過することを可能にする。結果は、非処理（第１ゾーン）におけるミラーフィルムの機能及び処理（第２）ゾーンにおける反射性偏光子フィルムの機能を有し得る内部パターン化物品である（第１フィルムのウィンドー様部分が下部の偏光子フィルムを曝露するため）。このようなフィルムは、国際出願番号第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６５０３７ＷＯ００３号）「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｍｉｒｒｏｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」に開示される一体型ミラー／偏光子フィルムの代替としていくつかの用途において使用され得る。所望により、第２フィルムもまた、選択的に加熱されて、第２フィルムの処理ゾーンにおいて第３反射特性を第４反射特性に転換してもよい。第４反射特性は、ウィンドー様特性又は第３反射特性とは異なる他の任意の特性であり得る。第１及び第２フィルムの処理は、第１フィルムの処理ゾーン及び第２フィルムの処理ゾーンが任意の所望の空間的関係を有する（例えば、これらが実質的に一致するか、補完的であるか、重複するか、重複しないかないしは別の方法で所望の通りであり、これらのフィルムの非処理ゾーンと同様である）ようなものであり得る。
別の関心の光学体は、第１及び第３反射特性が重複する反射帯域を有するようなものであり、第１の複数の層が第１多層偏光子フィルムであり、第２の複数の層が第２多層反射性偏光子である。これらの偏光子フィルムは、構成において同一であってもなくてもよく、任意の所望の配向に構成されてもよく、例えば、これらの反射性透過軸が平衡であるか若しくは垂直であり得又は任意の他の相対的な配向角度を有し得る。偏光子フィルムが垂直に配向される場合が特に関心の対象である。第１の反射性偏光子特性を有する第１の複数の層が、本明細書において開示されるように１つ以上の第２ゾーンにおいて選択的に熱処理され、このようなゾーンにおいてその層の少なくともいくらかの複屈折性を緩和し、第２反射特性を提供し得る。第２反射特性は、多層ウィンドー様フィルムであり得る。この場合、第１フィルムの処理領域（第２ゾーン）は、全ての偏光状態の光が第２フィルムへと透過することを可能にする。第２フィルムもまた、第１フィルムへの積層の後に、選択的に熱処理されて、その処理領域における多層ウィンドー様特性をまた形成する。第１フィルムの処理領域が第２フィルムの処理領域と補完的になるように構成することにより（例えば、格子模様の類似物により、前のゾーンがパターンの暗い正方形を構成してもよく、後ろのゾーンがパターンの明るい正方形を構成してもよい）生じる物品は第１フィルムの非処理ゾーン（その下に第２フィルムのウィンドー様処理ゾーンが存在する）における第１反射性偏光子フィルムの機能及び第１フィルムの処理ゾーン（これはウィンドー様であるがその下に第２フィルムの非処理ゾーンが存在する）における第２反射性偏光子フィルムの機能を有してもよい。このようなフィルムは、国際出願番号第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６５８４９ＷＯ００２号）「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」に開示される一体型偏光子／偏光子フィルムの代替としていくつかの用途において使用され得る。
多層光学フィルムは、放射吸収性材料を含み得る光学的干渉層の少なくとも１つの選択されるパケットによって形成される少なくとも１つの状態の直線偏光の、少なくとも１つの選択される反射帯域を含み得る。パターン化方法は、選択される材料層の組みにおける複屈折性の排除又は低減を可能にし、したがって選択されたスペクトル帯域にわたる光学積み重ね体の干渉特性を変更する。この方法において、フィルムは、例えば、ピクセルで構成されたディスプレイなどの所望の用途のために空間的に調整され得る。光学フィルムはしたがって、空間的に変化するカラーフィルターに作製されてもよく、あるいは透過性、反射性ミラー及び／若しくは反射性偏光子の間で変化するか又はカラーフィルタリング及びこれらの反射状態、又はこれらの状態の強さ若しくは質の組み合わせであるように作製されてもよい（例えば、強いミラーから弱いミラー又は偏光子若しくは部分偏光子からミラーへ）。１つの有用な用途は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）装置において使用されるカラーフィルターであり得る。別の用途は、波長選択的透過率又は反射率以外の又はこれの他の目的のためにフィルム及び同様の光学体の内側又は内部に構造体をつくるか又は「書き込む」ための開示される材料及び技術を使用することであり得る。フィルム内の光案内構造に影響を与えるために、本明細書において記載される光学特性の空間的な調整及び材料が使用されてもよく、例えば、案内部材をフィルムに通し、表面まで断続的に引く。異方性及び選択的吸収性材料とレーザー書き込みプロセスとの組み合わせが、より長いレーザーパルス幅、より少ない開口及び潜在的により高い書き込み速度などの追加的なプロセス利益を有する、高機能光学構造を生成し得る。
特に有用な種類の構成体は、光学的機能層の２つ以上の組を含む高分子光学体であり、各組は同様の機能を有するが（例えば、光学変換、これが反射するか又は透過するか）、各特定の組が含まれてスペクトル帯域の特定の部分に作用する。少なくとも１つの組が放射吸収剤を有し、少なくとも他の１つ組が有さない。いくつかの場合において、２つ以上の組が放射吸収剤を含み得る。例えば、多層光学フィルムは２つ以上の光学干渉パケットを含み得る。これらのパケットは（光学的機能層の組）は交互の材料の多くの層を含み得る。１つの光学パケットは放射吸収剤を含む場合があり、別のものは含まない場合がある。
様々な光学吸収剤が使用され得る。可視スペクトルで機能する光学フィルムでは、紫外線及び赤外線吸収染料、顔料又は他の添加剤が有用であり得る。構成体のポリマーによって大きく吸収されない、吸収のスペクトル領域を選択することが望ましい場合がある。この方法において、方向付けられた放射線は、光学体の厚さ全体を通じ、選択された関心の領域に集中させることができる。吸収剤は望ましくはこれらが関心の選択される層の組へと埋め込まれ得るように溶融押出可能である。この目的のために、吸収剤は、押出のために要求されるプロセス温度及び滞留時間において、適度に安定であるべきである。
開示されるフィルム及び光学体は、選択される関心の用途において、光学体によって通常変換されるスペクトル帯域外の選択されるスペクトル領域内で放射処理され得る。放射処理は、選択されるスペクトル帯域の光をフィルムの選択される位置に十分な強度において収束させることができる、任意の様々な手段によって達成され得る。放射処理のための特に好適な手段はパルスレーザーである。これは増幅したパルスレーザーであり得る。いくつかの状況において、レーザーは微調整可能であり得る。例えば、可視帯域において動作可能に反射性である光学フィルムは、近赤外線又は近紫外線において、ポリマーがそこで特に吸収性で無い場合、吸収剤を有してもよい。多層光学フィルムに関し、処理のための吸収帯域の選択はフィルムの光学帯域に関連して選択され得る。好ましくは、この方向付けられた放射エネルギーの選択された入射角に関して、フィルムは方向付けられた放射エネルギーを反射するべきではないが、反射率が十分に低い場合、処理は依然として可能であり得る。レーザーからの放射エネルギーは多くの場合、実質的に偏光している。外側表面において、ブリュースター角と一致する角度に衝突する光線を配置し、エネルギー損失を最小化することが有用であり得る。ＭＯＦ反射帯域もまた高い入射角においてより短い波長にシフトするため、垂直入射角における帯域配置のみにより期待されるよりも短い吸収波長が使用され得る。
例えば、屈折率１．７５（６３２ｎｍの波長）及び約６０°の対応するブリュースター角、約８００ｎｍの急峻な垂直入射右帯域端を有する二軸配向スキン層を有するＭＯＦミラーフィルムは、ブリュースター角において約７００ｎｍを超える方向付けられた光線を許容し、垂直入射において反射されるにもかかわらず、この波長を使用した処理を可能にし得る。この右帯域端は、全ての関心の角度における反射を確実にするために部分的に選択される。８８０ｎｍにおいて、反射帯域は依然として、すれすれの入射における約７００ｎｍまでカバーする。この帯域位置において、この場合におけるブリュースター角付近において７５０ｎｍまでカバーする。帯域端と方向付けられた放射の波長との間に、いくらかのヘッドルームがあることが望ましい場合がある。光線が潜在的な層のいずれかによって方向付けられることが所望される場合、これは、光学帯域を超える方向付けられたエネルギーに関し、この場合、約７５０〜８００ｎｍ（真空）の実際的な下限を設ける。あるいは、フィルムにおける介在する波長帯域が特定の関心のエネルギーを遮蔽しないように、フィルムの好ましい側を通じて放射エネルギーを方向付けることを選択してもよい。例えば、５３２ｎｍにおける緑色のレーザーが、これが緑色の反射性パケットを通じて垂直入射で透過する必要がない限り又はこの光線が帯域シフトによってこのパケットにもはや反射されないように十分な斜角でこれを透過し得る場合、青色のパケットを処理するために使用されてもよい。
近紫外線がパターン化に使用される場合（これはまた材料吸収特性に依存する）、より長い波長の反射帯域を有するパケットの帯域シフトが光線を阻害し得る。垂直入射の方向付けられた放射線は次に、フィルムの固定された左帯域端に対して最も高い波長を有する場合があり、斜角の処理が帯域シフトによって阻害され得る。左帯域端のシフトはまた、光線真空波長よりも高い帯域シフト反射帯域を有する構成体で使用される他の可視又はＩＲ光線においても関連がある。
フィルムの厚さを通じて吸収された放射エネルギー及び厚さを通じて生じる熱パルスの管理は、本開示の一態様である。フィルム厚さの選択された部分にわたる選択的な層において材料の複屈折性の低減又は排除を生じる制御された溶解は、均一な効果を確実にするために、方向付けられた放射線の適度に低いレベルの吸収を必要とする。選択される層の材料は、過剰なイオン化又は熱分解のいずれかを生じるため、時間パルス又は熱的見地のいずれからも、過熱するべきではない。例えば、純粋に熱容量が要因となる場合を想定すると、２５℃から所望される３００℃にした材料は、２７５℃加熱される。選択される層が方向付けられた放射線の１０％を吸収する場合、方向付けられた放射線源に最も近い前部は、後部が所望の３００℃まで加熱されるために、約３３０℃まで加熱される必要がある。フィルムの最も熱い部分と有害な温度又はイオン化条件との間の十分なヘッドルームが維持されるべきである。例えば、過熱を防ぐため、厚さを通じた温度の制御が、１つの材料のみから複屈折性を選択的に排除するために重要であり得る。いくつかの場合において、予備加熱が所望され得る。レーザーエネルギーの視点から、プロセスの有効性が、レーザー曝露前及びその間にフィルムを予備加熱することによって増加し得る。フィルムの予備加熱温度は、室温より高いが、光学パケットに使用されるポリマーの融解温度よりも低いべきである。典型的に、フィルムがその厚さを通じて予備加熱されると、大量の方向付けされた放射線が、熱的なヘッドルームと同じレベルだけ吸収され得る。例えば、２００℃の選択されるフィルム領域の後部が、１００℃の差で３００℃まで加熱される場合、光線の入射エネルギーの約１０％が吸収される場合、前部は３１０℃までのみ過熱される。この場合、選択される領域は方向付けられた放射線の約２３％まで吸収することができ、また結果として約３３０℃まで加熱し、前部において１３０℃の温度上昇、後部において１００℃上昇してやはり所望の３００℃に到達する。予備加熱の量は、選択された領域を超えた顕著な融解を生じる、冷却中の熱パルスの流出を防ぐために制御される必要があり得る。一般的に予備加熱が高いほど、フィルム厚さの残部が溶解に近付く。これらの選択されない部分は、熱パルスが広がるにつれて融解しやすくなる場合がある。方向付けられた放射線によって誘発される最大温度、その様々な層厚さによるフィルム構成の不均衡、フィルムを通じた予備加熱勾配及び方向付けられた放射線の経路は全て、フィルム及びプロセスを最適化するために一緒に考慮される必要があり得る。実際、材料をその融解領域まで加熱するためだけではなくまた融解を実際に生じさせるために十分なエネルギーが好ましくは吸収されるため、熱管理は更により複雑である。融解が実際に生じ得ること、望ましくない融解を防ぐため、例えば別のミクロ層パケットの複屈折性層を融解することなく一方のミクロ層パケットの複屈折性層を融解するため、厚さ又はｚ軸に沿って熱波が適切に含まれることを確実にするため、方向付けられた放射線のエネルギーパルスの管理は、時間的要因を含むべきである。特に、パルスの順序及び持続時間は慎重に制御される必要があり得る。
レーザー源の出力、走査速度及び光線形状（レーザー源が選択的な過熱に使用される場合）及び染料の充填（又は実際に何らかの吸収剤が使用される場合は別の吸収剤の充填）が組み合わせられて、断熱条件下でフィルムの処理領域に透過される効果的なエネルギーを提供する。実際に熱的条件は一般的に断熱性ではないが、およそのレーザープロセス条件は、フィルム構成体の仕様、背景温度並びに適切な材料の様々な熱容量、融解熱及び融解点の情報での、断熱条件を想定した変換ために必要とされるエネルギーを決定することによって推定することができる。ＩＲ吸収剤又は他の吸収剤の分散は重要な考察事項であり得る（染料溶解限度及び溶解構造を含む）。非溶解の染料及び顔料、粒径及び形状分布が重要であり得る。例えば、過剰な大きさの吸収性粒子は、これらの周囲のフィルムマトリックスと比較して過熱する場合があり、分解、しわ、気泡、層剥離又は他の損傷などのフィルムの欠陥を生じる。表面及び埋め込まれた埃及び同様の粒子状物質がまた無作為的な又は予期しない欠陥を生じ得るため、フィルム透明性もまた重要であり得る。他の考察事項としては、レーザー源の光線形状及び周波数（パルス源が使用される場合）、走査パターン、フィルムの搭載（例えば接着剤での積層による又は他の手段によるカード又は他の基材への）及び熱伝導（例えば、フィルム内の様々な熱伝導率及びフィルムからの熱伝導係数によって制御される）が挙げられる。
フィルム面にわたって吸収される放射エネルギーの管理はまた、所望の空間的特徴を確実にするために重要であり得る。光線の寸法及び収束もまた重要なプロセス制御法である。いくつかの場合において、光線がその最小寸法に収束する位置にフィルムを定置することが望ましい場合があるが、他の場合においては、光線が所望の程度焦点から外れる位置に意図的に定置され得る。フィルムを走査する方法及び領域の処理中に方向付けられた光線の経路がそれ自体にどれだけ早く重複する又は折り返し得るかは、表面粗さ、平滑度、ヘーズ、皺及び他の現象を変えることができる。上記のフィルム予備加熱に関し、光線は、現在照射されているフィルムの部分が最近照射されたフィルムの部分に近くなるような方法で制御され得、それによってレーザー自体によって提供される熱は、現在照射されているフィルムの部分を予備加熱するものと考えることができる。これは、例えば、光線が第１経路に沿って走査され、直後に（第１経路に沿って近接する部分が依然として高温である間に）第１経路に隣接するか又は更に若干重複している第２経路に沿って走査される場合に生じ得る。
方向付けられた放射線の持続時間などの、時間に関する態様もまた重要であり得る。比較的短いパルス動作が多くの場合有利であることが見出された。例えば、いくつかの典型的な場合において、レーザー曝露の持続時間によって決定される加熱時間は、好ましくは１０ナノ秒〜１０ミリ秒の範囲であることが見出された。上方の曝露持続時間は、所与の用途において許容され得る、厚さを通じたフィルムの他の部分への熱拡散の程度の関数である。持続時間がより短いと、エネルギーの関心の所望のフィルム領域への供給はより小さく、例えば、ほとんどが所望のパケット内に含まれる瞬間的な熱パルスを形成することが可能であり得る。熱拡散の詳細は、材料、特定の材料配向条件における不均等な熱伝導性、密度、熱容量、関心の領域の厚さ、光線持続時間などの関数である。代表的な実施形態において、光学パケットによって吸収されるエネルギーは、光学パケットの光学反復単位を融解するために十分な密度及び持続時間であるが、フィルムの構成成分を蒸発させる、有意に化学的に修正する又は焼灼するには不十分な密度及び持続時間である。
レーザー曝露が第２ゾーンにおけるパケット複屈折性を修正するために、高密度（高出力／単位面積）及び高エネルギー密度の両方が望ましいが必要ではない。これらの特性は、パケット内の材料による方向付けられた放射線の吸収により生じる熱の実質的な量が、処理に必要な時間を低減することによってパケット内に留まるのを確実にすることを助ける。熱拡散はパケット内におけるエネルギー濃度を低減し、それによってプロセスの効率を低減し得る。この点において、僅かな量の熱のみがパケットの外側、第１（非処理）ゾーン内へと横方向に又は（処理）第２ゾーン内でフィルムの他の層に放散することが多くの場合望ましい。第２ゾーンにおいてフィルムの厚さの一部のみを加熱することが望ましい場合において、第２ゾーン内の吸収性パケットの外側に放散する熱が多いほど、プロセスが非効率となる。
冷却方法もまた、慎重に考慮される必要があり得る。いくつかの場合においては急冷が有用であり得る。フィルムの一方又は両方の側面からの冷却が望ましいことがある。
方向付けられた放射線の適度に低いレベルの吸収がまた、最終用途において重要であり得る。環境曝露がフィルムを不当に加熱しないことが望ましい。特に、直射日光に曝露された際に近赤外線吸収が、フィルムの加熱を生じ得る。好ましくは、予測される光束がフィルムの温度を不当に上昇させない。例えば、通常使用においてフィルムのガラス転移温度未満のシステムの温度を維持することが望ましい場合がある。エネルギー吸収の量は、所与のレベルの予備加熱から必要な温度差を達成するために、パルスから捕捉されなくてはならないエネルギーの量に部分的に関連する。
システムにおける望ましい吸収はしたがって光束レベルの調和、熱拡散（流出）、予備加熱及び冷却によって最適化され得、望ましい均一性及び処理程度を達成する一方で、色、灰色度又は環境放射線吸収などの最終用途の懸念を最小化する。
フィルムの機能層若しくは機能領域の間にエネルギー吸収緩衝層又は領域を組み込むことが有用であり得る。これらの緩衝領域は、加熱されて更に部分的に又は全体的に融解し、一方でフィルムの別の機能領域を熱拡散（流出）による加熱から保護し得る。一実施例において、この緩衝領域は、光学層において使用されるものと同様の又は異なる材料のパケットの間の層（例えば、ＰＢＬ）であり得る。別の実施例において、より低い融解温度の材料が、より高い融解温度の材料の機能層の間で「熱減速バンプ」として使用され得る。多層光学フィルムにおいて、１つの単純な例は、いわゆる低融解ＰＥＮ（ＬｍＰＥＮ）（例えば、９０％／１０％ナフタレート／テレフタレートカルボキシレート副単位を含み得る）などの、より低融解の配向されたｃｏＰＥＮ保護境界層（ＰＢＬ）によって分離される、光学パケットを含むＰＥＮ：ＰＭＭＡ又はＰＥＮ：等方性ｃｏＰＥＮミラー構成体である。
ポリマーフィルムにおける材料層の融点及び／又は軟化点（例えば、ガラス転移温度）が、示差走査熱量計（ＤＳＣ）技術を使用して測定及び分析され得る。このような技術において、試験前に、例えば、２００ｍＴｏｒｒ（２６．７Ｐａ）未満の真空下で、約４８時間にわたり、６０℃で最初に好適に乾燥され得る。約５ｍｇのサンプルがその後計量され、気密密閉したアルミニウムＴｚｅｒｏパン内に密封され得る。加熱−冷却−加熱ランプ（ramp）がその後、好適な温度範囲（例えば、３０〜２９０℃）にわたって行われ得る。２０℃／分の一定の加熱速度又は他の好適な加熱速度がランプに使用され得る。走査後、第１加熱の熱トレースが、軟化工程の変化及び融解ピークについて分析され得る。分析は融解温度及び融解温度と関連する特徴的な帯域幅の両方を示すことがあり、帯域幅は半値幅（ＰＷＨＨ）と称される。ＰＷＨＨの有限な値は、単一の正確な温度ではなく有限な範囲の温度にわたって融解し得るという事実を反映している。ＰＷＨＨは、その異なる材料が互いに近い（ピーク）融解温度を有する物品にとって重要になり得る。ＤＳＣ技術は、多層光学フィルムにおける使用のために好適な３つの代表的な材料：ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）；実施例７に記載のＰＥＮのナフタレート系コポリマー、米国特許出願公開第ＵＳ２００９／０２７３８３６号（Ｙｕｓｔら）のいわゆるＰＥＮ−ＣＨＤＭ１０（本明細書において「ＰＥＮ−Ｇｂ」と称される）；及び２０％のジメチル２，６−ナフタレンジカルボキシレート（ＮＤＣ）が４，４’ビフェニルジカルボン酸ジメチルエステルと置換されたＰＥＮ系ポリマー（本明細書においてＰＥＮＢＢ２０と称される）の融解温度及びＰＷＨＨを測定するために使用された。これらの材料のサンプルが測定され、ＰＥＮ、ＰＥＮ−Ｇｂ及びＰＥＮＢＢ２０サンプルに関してそれぞれ２６１、２４８及び２３９℃の融点を呈した。サンプルのＰＷＨＨもまた測定された。ＰＥＮサンプルのＰＷＨＨは７℃であるが、ポリマーのプロセス条件によってこれは５〜１０℃の範囲であり得る。ＰＥＮ−ＧｂサンプルのＰＷＨＨは６℃であるが、プロセス条件によってこれは５〜１５℃の範囲であり得る。ＰＥＮＢＢ２０サンプルのＰＷＨＨは１０．４℃であるが、プロセス条件によってこれは５〜１５℃の範囲であり得る。一般的にポリマーフィルムのＰＷＨＨは、融点より低い好適な温度で好適な時間にわたってフィルムを熱処理することによって低下させることができる。
一般的に、方向付けられた放射線の任意の特定の波長帯域に関し、厚さ方向に沿ったフィルムの残部の吸収力が、これらの非選択部分の望ましくない過熱及び望ましくない変更を防ぐため、この放射線においてフィルムの選択部分に対して十分に低くなるように調整され得る。フィルム押出プロセスは、フィルムの選択部分の活性の吸収性材料の、フィルムのこの部分から別の機能的部分への移動が有意な程度で生じないことを確実にするように設計され得る。また、このような移動を阻害する緩衝層（例えば、化学的非親和性により）が使用され得る。層接触などのための滞留時間を含む処理方法もまた使用され得る。
方向付けられた放射線処理は、シート化の後あるいはガラスプレート又はプラスチック若しくは紙のカードストックなどの別の基材に取り付けた後に、別個であるが依然としてロール形態の、フィルム製造の後又は更にその間に直接達成され得る。正確性のレベルは、プロセスの変動に対して調整されるべきである。例えば、ロールプロセスにおいて、ウェブの細動が十分に対処されるべきである。方向付けられた放射線処理は、おそらくはニップの間で、フィルムが張力下にある間にローラーを移動する際に達成され得る。ローラーを連続的に清浄化し、及び別の方法で擦り傷などの審美的欠陥を防ぐため、フィルムとローラーとの間に保護フィルムが定置され得る。別の実施例において、フィルムは、シート化後に固定した基材上に取り付けられるか又はセミバッチ方式で、一時的な裏材上に取り付けられるか若しくは固定され得る。例えば、フィルムロールの部分が、保護フィルムと連続的に接触してプレート上を摺動し得る。フィルムロールの運搬は停止することができ、プレート上の指定部分が所望により僅かに引っ張られる場合があり、その後方向付けられた放射線処理が、プレートによって支持される指定部分にわたって適用される。最終的なロール部分がその後、連続的な運搬によりプレート処理ゾーン外に移動されてもよく、これによってロールの連続的な部分が処理され、ロール全体が処理されるまで続き得る。
本明細書において記載される内側パターン化方法はまた、例えば、焼灼、表面非晶質化技術、収束法、エンボス加工、熱成形などの既知の技術と組み合わされてもよい。
様々な溶融押出可能な吸収性添加物が、様々な供給源から入手可能である。添加物は、有機、無機又は混成であり得る。これらは染料、顔料、ナノ粒子等であり得る。いくつかの潜在的なＩＲ染料としては、Ｅｐｏｌｉｎ，Ｉｎｃ．から商標名Ｅｐｏｌｉｇｈｔ（商標）として入手可能なニッケル、パラジウム及びプラチナベースの染料のいずれかが挙げられる。他の好適な候補としては、ＣｏｌｏｒＣｈｅｍ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｒｐ．（Ａｔｌａｎｔａ，Ｇｅｏｒｇｉａ）から入手可能なＡｍａｐｌａｓｔ（商標）商標の染料が挙げられる。線形及び非線形吸収性添加物の両方が考慮され得る。
いくつかの要因の組み合わせが、本出願に特に好適な染料を作り得る。押出プロセスを通じた熱安定性が特に望ましい。一般的に、押出プロセスは望ましくは、溶解させ、かつ好適な管理可能な圧力低下において溶解粒の運搬を可能にするために十分に熱い。例えば、ポリエステル系システムは、最高約２８０℃において非常に高い安定性を必要とする場合がある。これらの要件は、例えば、約２５０℃の処理により、ｃｏＰＥＮなどの様々なポリマーのコポリマーを使用して低減され得る。ポリプロピレン及びポリスチレンなどのオレフィン系は典型的にはより要求が少ない。特定の多層光学フィルム構成体における樹脂の選択は、潜在的な吸収性材料の候補の選択を狭める場合があり、染料の移動傾向、所望の材料層において均一に分散する能力、染料の様々な材料に対する化学的親和性なども同様である。
キャストウェブ１、２及び３
用語「キャストウェブ」は、続く延伸及び配向の前、初期キャストプロセスの後の、キャスト及び形成された多層体を指す。第１多層ポリマーウェブ又はキャストウェブは、ナフタレート系コポリマーを使用して構成された。第１のこのようなコポリマーは、ＰＥＮ−Ｇｂと称され、第２のこのようなコポリマーはｃｏＰＥＮ ５５／４５ ＨＤと称される。第１コポリマー、ＰＥＮ−Ｇｂは実施例７に記載される、米国特許出願公開第ＵＳ２００９／０２７３８３６号（Ｙｕｓｔら）の、いわゆるＰＥＮ−ＣＨＤＭ１０である。ＰＥＮ−Ｇｂはしたがって、参照される米国特許出願の表１により、３８．９ｌｂｓ（１７．６ｋｇ）のＮＤＣ（例えば、ＢＰ Ａｍｏｃｏ（Ｎａｐｅｒｖｉｌｌｅ，Ｉｌｌｉｎｏｉｓ）から入手可能なジメチル２，６−ナフタレンジカルボン酸）と２０．８ｌｂｓ（９．４ｋｇ）のＥＧ（例えば、ＭＥ Ｇｌｏｂａｌ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ）から入手可能なエチレングリコール）及び２．２３ｌｂｓ（１．０１ｋｇ）のＣＨＤＭ（例えば、Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ（Ｋｉｎｇｓｐｏｒｔ，Ｔｅｎｎｅｓｓｅｅ）から入手可能なシクロヘキサンジメタノール）の比率の初期モノマー量で作製されコポリマーである。第２コポリマーｃｏＰＥＮ ５５／４５ ＨＤは、米国特許第６，３５２，７６１号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）の実施例１０に記載されるように、５５モル％ナフタレンジカルボキシレート、４５モル％テレフタレートをカルボキシレートとして、並びに９５．８モル％エチレングリコール、４モル％ヘキサンジオール及び０．２トリメチロールプロパンをグリコールとして含む、コポリエチレンナフタレートである。
多層ポリマーウェブは、米国特許第６，８３０，７１３号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）に一般的に記載される共押出プロセスを使用して形成された。様々なポリマーは例えば、８５℃で６０時間にわたりほぼ乾燥され、その後一軸押出又は二軸押出構成のいずれかの別個の押出成形機内に送達された。光学層を形成する第１及び第２ポリマーはそれぞれ最終押出成形機ゾーン温度を有するその独自の押出成形機で共押出され、フィルム厚さを通じて層厚さ勾配を提供する勾配供給プレートを使用する１５１交互層フィードブロックを含むメルトトレーンを通じて供給される。これらの層は、最終的な多層フィルムのいわゆる光学積み重ね体又はミクロ層パケットを形成する。層の流れの質を改善するため、２つのより厚いいわゆる保護境界層（ＰＢＬ）が光学積み重ね体の最外層に隣接し、フィードブロックの壁部における最高剪断速度から光学積み重ね体を保護する。ＰＢＬもまた、押出成形機の１つによって供給される。これらの実施例の目的のため、ＰＢＬを供給する材料は材料１と称され、他方が材料２と称され、押出成形機についても同様である。各ＰＢＬは光学積み重ね体の厚さの約４％である。ダイ設定値温度でダイ内で拡散する前に、材料３で押出成形機３によって供給される追加的なスキン層が、ダイ内で流れる間の追加的な層安定性のために、頂部及び底部で共押出多層流れに接合される。これらの記載される実施例において、材料３は、材料１又は２と同じであってもよい（実施例に関連して使用される用語「材料１」、「材料２」及び「材料３」は本文献（例えば、図５Ａ〜Ｄに関連して）で別に使用される用語「第１材料」及び「第２材料」に関連していずれかの所定の方法で解釈されるべきではなく、例えば、本実施例の「材料１」は図５Ａ〜Ｄの「第１材料」に対応してもよく、あるいは本実施例の「材料２」がそのような「第１材料」に対応してもよい。第１キャスト多層ウェブの場合において、材料１は第１コポリマー、いわゆるＰＥＮ−Ｇｂであり、材料２は第２コポリマー、いわゆるｃｏＰＥＮ ５５／４５ ＨＤであり、材料３はまたＰＥＮ−Ｇｂであった。多層構成体がダイからキャストされ、急冷され、静電気的にキャストホイールに固定されて、第１キャスト多層光学ウェブのロールを形成した。この第１キャストウェブは、少なくとも１０ｃｍの幅を有する使い捨てコアの上に、中央部分の上に幅寸法において所望のおよその厚さ（又はキャリパー）で巻かれた。第１の構成体の他の詳細は、以下の表Ａに提供される。
Figure 2012513610
キャストウェブ２及び３は、キャストウェブ１と同様の方法で作製されたが、ただし吸収剤が材料２の押出成形機供給に追加され、キャストホイール速度は、キャストウェブの全体厚さを調節するように調節された。吸収剤は続く書き込みプロセスにおいて放射エネルギーを補足するために使用されるＩＲ染料であった。ＩＲ染料は、いわゆる「マスターバッチ」の材料２に混合され、このマスターバッチはその後未加工材料２に対する規定の割合で、押出成形機供給流れに組み込まれた。キャストウェブ２及び３において、規定の割合は１：１３（１部マスターバッチ：１３部未加工材料）。キャストウェブ１と丁度同じように、キャストウェブ２及び３において、材料１はいわゆるＰＥＮ−Ｇであり、材料２はいわゆるｃｏＰＥＮ ５５／４５ ＨＤであり、材料３もまたＰＥＮ−Ｇであった。
樹脂の最小の劣化を確実にするために必要に応じて追加的な真空を適用し又は適用せずに、二軸押出成形機内に規定の重量比で染料及びポリマー樹脂を供給することにより、多層押出成形の前にマスターバッチが作製された。押出品はその後、供給のためにペレットに細断された。これらの実施例のキャストウェブ２及び３において使用される染料は、プラチナ系染料、Ｅｐｏｌｉｎ，Ｉｎｃ．（Ｎｅｗａｒｋ，ＮＪ）から入手可能なＥｐｏｌｉｔｅ（商標）４１２１であった。この染料におけるピーク吸収波長は約８００ｎｍである。Ｅｐｏｌｉｔｅ（商標）４１２１染料と混合されるマスターバッチにおいて、公称最終ゾーン押出成形温度は２４０℃〜２６０℃であった。典型的なマスターバッチ公称染料濃度はポリマーにおいて１．０重量％染料であった。
キャストウェブ２及び３における押出成形及びプロセスの詳細は以下の表Ｂに提供される。キャストウェブ２とキャストウェブ３との間の厚さの差が、キャストホイールの速度を単に変えることによって達成されたことに留意する。
Figure 2012513610
表面屈折率（キャストウェブの外側におけるＰＥＮＧｂの）が、Ｍｅｔｒｉｃｏｎプリズム結合器を使用して測定された。屈折率は、キャスト（ＭＤ）、幅（ＴＤ）及び厚さ方向においてそれぞれ１．６３８、１．６３９及び１．６３４の値を有し、本質的に等方性であった。ｃｏＰＥＮ ５５／４５ ＨＤ層の屈折率は、全ての方向において公称１．６１０であった。キャストウェブ１、２及び３の透過特性はまた、Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ ９５０分光光度計を使用して測定された。結果が図１０に提供され、波長に対して％透過率がプロットされ、曲線１０１０はキャストウェブ１のものであり、曲線１０１２はキャストウェブ２のものであり、曲線１０１４はキャストウェブ３のものである。キャストウェブ２及び３における吸収剤によって提供される赤外線吸収は約８００ｎｍにおいて容易に明らかであり、キャストウェブ２の吸収は、キャストウェブ２がキャストウェブ３よりも厚いために、キャストウェブ３よりも強い。ＩＲ染料は、約５３０ｎｍで二次吸収率ピークを有し、これはキャストウェブ２及び３にバラ色の色相を提供する。
キャストウェブ１、２及び３を使用して作製される複屈折性多層フィルム
多層キャストウェブはその後、複屈折性ミクロ層を含む多層光学フィルムを形成するように延伸又は伸張された。ＫＡＲＯ ＩＶ（Ｂｒｕｅｋｎｅｒから入手可能）などの実験用伸張機が本実施例に使用された。キャストウェブが一般的に予備加熱され（予備加熱時間及び温度で）、その後初期歪み速度（％歪み速度により提供される）に対応する把持部の均一な分離速度で公称延伸比率まで（最初の把持部の分離と最後の把持部の分離の比率）まで、２つの垂直な面内方向（「ｘ」方向及び「ｙ」方向と称される）で伸張された。規定の持続時間（ヒートセット時間）にわたり高温（ヒートセット温度）で延伸した後、フィルムのいくつかがその後ヒートセットされた。キャストウェブ１、２及び３を伸張するために使用されたプロセス条件が選択され、その結果、生じる多層光学フィルム（以下で多層光学フィルム１、２、３、４、５、６及び７と称される）において、ＰＥＮＧｂミクロ層は正の複屈折性であり、ｃｏＰＥＮ ５５／４５ ＨＤミクロ層は、約１．６１０の屈折率で実質的に等方性に留まった。
多層フィルム１及び２は、キャストウェブ１からこの方法で、以下の条件で作製された。
Figure 2012513610
放射エネルギープロセスの前及び／又は後に、様々な物理的及び光学的方法を使用して最終フィルムが分析され得る。スキン層（配向されたＰＥＮ Ｇｂ材料から構成される）の外側の屈折率は、示される場合、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ（Ｐｉｓｃａｔａｗａｙ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から入手可能なプリズム結合器を使用して、６３２．８ｎｍで測定された。要約すると、これらの値は、１．６９〜１．７５の範囲のｎｘ及びｎｙ、１．５０〜１．５２の範囲のｎｚ（以下に記載される多層光学フィルム３〜６の全てに関して）、ｎｘ＝１．７２３、ｎｙ＝１．７３３、ｎｚ＝１．５０７（以下に記載される多層光学フィルム６に関して）かつｎｘ＝１．８４１、ｎｙ＝１．６０２、ｎｚ＝１．５１８（以下に記載される多層光学フィルム７に関して）と測定された。
様々なキャストウェブ及び最終フィルムの透過率帯域特性が、Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ ９５０分光光度計で測定された。透過光及び／又は反射光の知覚を導く条件下において、色特性がまた視覚的に観察された。
図１１はフィルム１の典型的なスペクトルを例示し、曲線１１１０及び１１１２が、フィルムにおける異なる位置で取られた。両方の曲線は、フィルム１において非常に典型的である。曲線の間の差は、押出成形、フィルムキャスト及び延伸の間のダウンウェブ及びクロスウェブにおける流れの変動による、厚さの変動加えて層外形の変動の結果であり得る。約８５％の基準透過率に対する５０％の半最小値における左帯域端及び右帯域端によって画定される、反射帯域の主要部分は一般的に５６０ｎｍ〜６７０ｎｍに存在する。１００％からの基準透過率の低下は、構成体の２つの主要表面（前及び後）からの表面反射の結果である。
図１２は、フィルム２の典型的なスペクトルを例示し、曲線１２１０及び１２１２は、フィルム上の同じ位置における、２つの垂直な主軸（線形）偏光状態の垂直入射偏光源を使用して取られた。曲線の間の僅かな差は、配向されたＰＥＮＧｂ層の２つの面内主軸屈折率の間における僅かな差を生じる僅かに偏倚した伸張を反映している。フィルム１に対してフィルム２のより長い波長反射帯域は、フィルム２のより小さい延伸比率（フィルム１の４×４に対して３．２×３．２）と一致するがこれは、より小さい延伸比率が、より厚いフィルム及びより厚い構成層、したがってより長い波長動作を生じるためである。フィルム２は従って、垂直入射においてＩＲ反射フィルムとして効果的に機能し、８００ｎｍの書き込み波長において高い反射率を有する。このようなフィルムは、同じＩＲ染料の濃度を有する２つの書き込み可能ミクロ層パケットを分離するために使用されることがあり、これによってこれらは、構成体の一方の側上へのＩＲ光線（例えば、８００ｎｍ）垂直入射を使用して一方のパケットを処理し、かつ構成体の反対側上へのＩＲ光線（例えば、８００ｎｍ）垂直入射を使用して他方のパケットを処理することによって別個に処理することができる。レーザーエネルギーが十分に制御されて、フィルムの一方の側上に入射する場合、フィルム２の反射性パケットはフィルムの反対側上の書き込み可能パケットを保護することができ、これは光線の強度をこのような保護される書き込み可能パケットに関連する閾値エネルギー未満に低減することによる。図１２のスペクトルは、短い可視波長での干渉積み重ね体からの弱い二次反射の存在を示す。これらの二次反射は、当該技術分野において説明される光学的厚さの伸張な調整（例えば、ｆ比を調節する）ことによって更に低減され得る。この方法において、フィルム２又はその僅かな修正は、可視波長領域において実質的に透明である遮蔽層を提供し得る。
キャストウェブ２及び３はその後また、延伸又は伸張され、複屈折性ミクロ層を含む他の多層光学フィルムを形成する。フィルム３〜７と称される、生じる多層光学フィルム及びこれらのプロセス条件が表Ｄに記載される。
Figure 2012513610
Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ ９５０分光光度計によって測定されるフィルム５及び６の典型的な透過率スペクトルが、それぞれ曲線１３１０及び曲線１３１２として図１３に表される。フィルム３及び４のスペクトルは図示されないが、これらはそれぞれフィルム５及び６のスペクトルと同様であった。
内部パターン化を有する多層フィルム
二段階パターン化フィルム１
３つのフィルム積層された積み重ね体が、連続的にフィルム５をフィルム２に手で積層し、次にフィルム６をフィルム２の反対側に積層することによって形成され、各場合において３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）から入手可能な３Ｍ（商標）８１４１ Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅを使用する。生じる多層フィルム（フィルム５、２及び６の複合体）は、透過光においてオレンジ色の外観を有した。このフィルムは２つの内側書き込み可能ミクロ層パケット、すなわちフィルム５及び６のパケットをそれぞれ含み、またその間に配置される遮蔽層、すなわちフィルム２を含んだ。この場合における遮蔽層（フィルム２）は、垂直入射において赤外線領域に配置されるが、斜角においてより短い波長にシフトする反射帯域を有するミクロ層パケットを含んだ。
別個にパターン化されるこのフィルムの２つの内部ミクロ層パケットの能力が次に、８００ｎｍの書き込み波長を有する赤外線レーザー光源を使用して確認された。特に、フィルムは最初に、複合フィルムのフィルム５の側にほぼ垂直に入射するＣｏｈｅｒｅｎｔ Ｍｉｃｒａ超高速発振器レーザー（波長＝８００ｎｍ、パルス速度＝７０ＭＨｚ）で処理された。３０ｍｍ／秒の走査速度、約１０マイクロメートルのスポット直径及び０．２５ワットの平均レーザー出力が使用された。一辺およそ５ｍｍ（約２５ｍｍ２の総面積）の正方形のゾーンが重複する掃引によって完全に処理されて、このゾーンにおけるフィルム６構成要素の反射率に実質的に影響することなく、処理された正方形のゾーンにおけるフィルム５構成要素の反射率を実質的に低減させた。
複合フィルムが次に反転されて、再び同じＭｉｃｒａ超高速発振器レーザーにより、再びほぼ垂直入射で、かつ同じ走査速度及び平均出力で処理されたが、今回は方向付けられた放射線が構成体のフィルム６の側に衝突した。この第２処理は、やはり一辺５ｍｍ（約２５ｍｍ２の総面積）の第２の正方形ゾーンで適用されたが、この第２正方形ゾーンは、第１の正方形ゾーンに対して平面図においてオフセット又はシフトされ、両側からの処理の別個の及び一緒の評価を可能にした。第２ゾーンが重複する掃引によって完全に処理されて、フィルム５構成要素の反射率に実質的に影響することなく、処理された正方形のゾーンにおけるフィルム６構成要素の反射率を実質的に低減させた。したがって、フィルムの一領域（Ｉ）では第１ゾーンの一部が存在し、第２ゾーンのいずれの部分も存在せず、フィルムの別の領域（ＩＩ）では第２ゾーンの一部が存在し第１ゾーンのいずれの部分も存在せず、フィルムの別の領域（ＩＩＩ）では第１ゾーンの一部及び第２ゾーンの一部が両方とも存在し、並びにフィルムの更に別の領域（ＩＶ）第１ゾーン又は第２ゾーンのいずれの部分も存在しなかった。フィルムのこれらの４つの領域は、透過光において顕著に異なる外観を有し、本明細書において二段階パターン化フィルム１と称される生じるフィルムの二段階内部パターン化を確認する。具体的に、二段階パターン化フィルム１は、この領域におけるフィルム５の低減した反射率により領域（Ｉ）において透過光において黄色の外観、この領域におけるフィルム６の低減した反射率により領域（ＩＩ）においてマゼンタの外観、この領域におけるフィルム５及びフィルム６の両方の低減した反射率により領域（ＩＩＩ）において無色の外観、並びに領域（ＩＶ）において元のオレンジ色の外観を呈した。
キャストウェブ４、５及び６
多層ポリマーウェブが、キャストウェブ１〜３と同様の方法で形成されたが、２７５交互層フィードブロックが使用された。多層構成体がダイからキャストされ、急冷され、静電気的にキャストホイールに固定されて、中央部分の上の幅寸法における所望のおよその厚さ（又はキャリパー）を有するキャスト多層光学ウェブを形成した。本明細書においてキャストウェブ４、５及び６と称されるこれらのウェブの構成体の他の詳細が以下の表Ｅに提供される。先行のキャストウェブ実施例において使用されたＰＥＮ、ＣｏＰＥＮ ５５／４５ ＨＤ及びＰＥＮＢＢ２０に加え、９０／１０ ＣｏＰＥＮが使用された。この９０／１０ ＣｏＰＥＮは、米国特許第６３５２７６１号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）「Ｍｏｄｉｆｉｅｄ Ｃｏｐｏｌｙｅｓｔｅｒｓ ａｎｄ Ｉｍｐｒｏｖｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍｓ」に一般的に記載されるように、１０モル％のＤＭＴ（ジメチルテレフタレート）のＮＤＣ（ジメチル２，６−ナフタレンジカルボキシレート）との置換を含む。スキンに使用されるＳＡ１１５ＢはＥａｓｔｍａｎ（Ｋｉｎｇｓｐｏｒｔ，ＴＮ）から入手可能である。
これらのキャストウェブに関連し、樹脂の最小限の分解を確実にするために必要に応じて追加的な圧力を適用し、規定の重量比の染料及びポリマー樹脂ＰＥＮＢＢ２０又はｃｏＰＥＮ ５５／４５ ＨＤを二軸押出成形機内に供給することによって、多層共押出する前にマスターバッチが作製された。押出品はその後、供給のためにペレットに細断された。キャストウェブ４及び５で使用された染料は、Ｅｐｏｌｉｎ，Ｉｎｃ．（Ｎｅｗａｒｋ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から入手可能なＥｐｏｌｉｇｈｈｔ（商標）４１２１であった。マスターバッチ公称染料濃度はポリマーにおいて１．０重量％染料であった。
Figure 2012513610
以下に記載される多層光学フィルム９、１０及び１１の所望の最終厚さを達成するために、キャストウェブ厚さが調節された。
キャストウェブ４、５、６を使用して作製される複屈折性多層フィルム９、１０、１１
多層キャストウェブがその後フィルムライン上で連続的に延伸されて、フィルムの連続的なロールに巻かれた。キャストウェブが一般的に予備加熱されてキャストウェブ材料のガラス転移より高い温度で機械方向（ｘ方向）に沿ってＬｅｎｇｔｈ Ｏｒｉｅｎｔｅｒ（Ｌ．Ｏ．）を約３．８の延伸比率へと伸張された。フィルムが次に予備加熱されて、従来的な幅出し機において、１３０℃で、約４．２の延伸比率へと横方向（ｙ方向）で延伸された。キャストウェブ４から作製される最終的な多層光学フィルム９は透明でありおよそ２２マイクロメートルの厚さであった。このフィルムは、潜在的な青色反射帯域を有するいわゆる「二重複屈折性」フィルムを表す。レーザー処理された際フィルムは青色反射体となり、白色背景から透過光を見た際に黄色く見えた。キャストウェブ５から作製した最終的な多層光学フィルム１０は、約７３５ｎｍの反射左帯域端及び約４４マイクロメートルの最終的な厚さを有する、いわゆる透明−シアンフィルムであった。このフィルムは白い背景から透過光で見た際にわずかなバラ色の色相を有して透明に見えた。斜めから見た際に、このフィルムは白い背景からの透過光でシアンに見えた。キャストウェブ６から作製した最終的な多層光学フィルム１１は、白い背景から透過光で見た際にシアンに見える赤色反射体であった。
多層光学フィルム９の外側スキン層（配向されたＰＥＮ材料から構成される）の屈折率は、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ（Ｐｉｓｃａｔａｗａｙ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から入手可能なプリズム結合器を使用して、６３２．８ｎｍで測定された。これらのフィルムに関し、内側ＰＥＮミクロ層の屈折率は、外側ＰＥＮスキン層の測定された屈折率と実質的に同じである。ＰＥＮスキンの測定された屈折率ｎｘ、ｎｙ及びｎｚはそれぞれ、１．７３１、１．７５４及び１．４９５であった。固有であるが不活性の反射帯域にわたる透過率の変動は、表面反射のみにより測定されるもの（すなわち、光学帯域が存在しない場合）に対し、１０％未満であった。多層光学フィルム１０は、約７５０ｎｍ〜８６０ｎｍの反射帯域を有し、両方の偏光状態における透過率は、帯域の主要中央部分において５％未満（例えば、９５％超の反射率）であった。多層光学フィルム１１は、約５９０ｎｍ〜６８０ｎｍの反射帯域を有し、両方の偏光状態における透過率は、帯域の主要中央部分において５％未満（例えば、９５％超の反射率）であった。
二段階パターン化フィルム２
多層光学フィルム９は、感圧性接着剤を使用して、フィルム１０に、及びその後フィルム１１に積層された。この実施例において構成体のフィルム９の側が光源に最も近く定置された。この方法において、反射性帯域シフト遮蔽層によって分離されるより低い吸収性の第１パケット加えてより大きい吸収性の第２パケットを含む構成体が形成された。
回転の中心がレーザーの焦点に非常に近くなるように、構成体はＮｅｗｐｏｒｔ回転軸に取り付けられたＡｅｒｏｔｅｃｈ ＸＹ線形ステージ上に取り付けられた。この方法により、ステージは、レーザー処理のための入射角を制御することができた。構成体は次に、Ｃｏｈｅｒｅｎｔ Ｍｉｃｒａ超高速発振器レーザー（波長＝８００ｎｍ、４０フェムト秒のパルス幅及び６０〜８０ＭＨｚの反復速度）により、８４０ミリワットで処理され、本明細書において二段階式パターン化フィルム２と称される二段階パターン化フィルムを形成した。光線は、Ｔｈｏｒｌａｂｓの１インチ（２．５４ｃｍ）光線チューブ内に搭載されたＥｄｍｕｎｄｓ Ｏｐｔｉｃｓ７５ｍｍ焦点距離平凸レンズで収束された。サンプルは、処理の均一性を改善するために、選択されたレベルの焦点外れによって意図的に処理された。
構成体のフィルム９部分が、垂直入射で、２０ｍｍ／秒の走査速度、１０マイクロメートルの走査間隔及びおよそ３ｍｍの焦点外れで処理された。これらの条件下で構成体のフィルム９部分は処理ゾーンにおいて活性の青色反射体となった。構成体のフィルム１１部分は、これらの条件下で非処理のままであった。したがって、フィルム９は二段階構成の、個別に処理可能な透明−ミラーの層の組を例示し、このような処理は垂直入射処理によって達成され、遮蔽層はその後ろの別の非処理層の処理を防いだ。
構成体のフィルム１１部分は非処理状態において赤色反射体として開始した。フィルム１１部分が、垂直入射から６０度で、８０ｍｍ／秒の走査速度、２７マイクロメートルの走査間隔及びおよそ３．５ｍｍの焦点外れで処理された。これらの条件下で、フィルム１１部分は、処理ゾーンにおいて透明になり、フィルム９は非処理のままであった。したがって、フィルム１１は二段階構成の、個別に処理可能なミラー−透明の層の組を例示し、このような処理は非垂直角プロセスによって達成された。
この二段階パターン化フィルム２構成体はまた２組の層における二段階の吸収率の使用を例示した。最後に、フィルム１０は、非垂直入射角での放射エネルギー処理を可能にするように帯域シフトした８００ｎｍの放射エネルギー遮蔽層を例示した。
更に想到される二段階パターン化フィルム実施形態
図７のものと同様であるが、キャストウェブ３よりも厚い初期キャストウェブを使用するＩＲ偏光子が作製され得る。キャストウェブはキャストウェブ３よりも約２倍厚く、すなわちキャストウェブ２と３の中間の厚さである。キャストウェブ自体は、ＩＲ吸収剤の存在を含まず、それによって遮蔽層として使用される生じるＩＲ偏光子は、書き込み波長による処理に比較的影響されない。この予測的ＩＲ偏光子は本明細書においてフィルム８と称される。
３フィルム積層積み重ね体は、フィルム８がフィルム５’と６’との間に配置されるように、連続的にフィルム５と同様のフィルム（フィルム５’と表される）をフィルム８に手で積層し、次にフィルム６と同様のフィルム（フィルム６’）を積層することによって形成され得、積層はやはり好ましくは３Ｍ（Ｍａｐｌｅｗｏｏｄ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）から入手可能な３Ｍ ８１４１ Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅを使用する。生じる構成体は、透過光の観察を導く条件下においてオレンジ色を有する。フィルム５’及び６’は、各閾値を適切に調整するために使用されるＩＲ吸収剤の量において、それぞれフィルム５及び６とは異なる。フィルム５’又は６’の一方は、より高い濃度のＩＲ吸収染料（例えば、Ｅｐｏｌｉｔｅ（商標）４１２１）を有するように調整され、それによってこれはより低い書き込み閾値を有し、書き込み波長におけるより低いフルーエンスで処理され得る。このより高い濃度のフィルム（したがってより高い吸収率を有する）が後部書き込み可能パケットとして選択される。書き込みプロセスは、フィルムの他方の側における（より低いＩＲ吸収剤濃度のフィルム５’又は６’を有する側）書き込み波長を含む方向付けられた光線によって実行される。
ＩＲ偏光フィルム８は、図１２に表されるフィルム２のものと同様の、その遮蔽状態の偏光の透過率スペクトルを有するものと予測される。このフィルムはこの遮蔽状態に沿って偏光されるレーザー受容性光学フィルム上に書き込むために使用されるレーザーエネルギーの実質的な部分を遮蔽する。垂直な透過状態の偏光において、スペクトルは、例えば、図１２の５００〜７００ｎｍ及び１０００ｎｍ超の曲線の部分によって表されるように、比較的平坦であり基準表面反射の典型例であるものと予測される。この方法において、同じ濃度のＩＲ染料を有する書き込み可能光学パケットは、光源に最も近い前部パケットを、高いフルーエンスを有しＩＲ遮蔽偏光子（フィルム８）の遮蔽状態に沿って偏光される第１光線で処理し、一方で遮蔽層の後ろの後部パケットを同じ書き込み波長であるが、ＩＲ遮蔽偏光子の透過状態に沿って偏光される第２光線で処理することにより個別に処理され得る。レーザーエネルギーが遮蔽状態において十分に制御される場合、反射性パケットは必要な閾値エネルギーがこれに接触するのを防ぐことによって後部パケットを保護する。レーザーエネルギーが透過状態において十分に制御される場合、フルーエンスは前部パケットの閾値未満、後部パケットの閾値超に維持され、それによって後部パケットは別個に書き込まれる。図１２はまた、干渉積み重ね体からの二次反射の存在を示す。これらは、当該技術分野において説明される光学厚さの慎重な調整によって抑えられる場合がある。この方法により、遮蔽層は可視光において本質的に透明にされ得る。
フィルム５’が前部パケットとして使用され、フィルム６’が書き込み波長において前部パケットよりも高い吸収率を有する後部パケットとして使用される、直前に記載されたものと同様の実施形態をまた考察する。生じたフィルムは、光がフィルム８の遮蔽軸に沿って偏光され、フィルム５’の反射特性を５ｍｍの正方形の領域において実質的に低減させるように構成された、Ｍｉｃｒａフェムト秒発振器を使用してフィルム５’側から最初に処理され得る。構成体が再び、同じ側からＭｉｃｒａ超高速発振器で処理され得るが、ここではフィルム８の垂直な透過状態にあり、より低いフルーエンスであり、フィルム６’の反射特性が実質的に低減された５ｍｍの正方形を生成した。この第２処理領域は、意図的に部分的に重複され、両方の偏光からの処理の別個の及び一緒の評価を可能にした。これは、フィルム５’の反射の低減により黄色く見える領域、フィルム６’の反射の低減によりマゼンタに見える領域及びこの領域における両方のフィルムの反射の低減により構成体の両側面のレーザー曝露が重複する無色に見える領域を生じる。
本出願の教示は、以下の譲受人共通の出願のいずれか又は全ての教示と組み合わせて使用され得、これらは本明細書において参照として組み込まれる：２００９年５月６日に出願された、米国特許仮出願第６１／１５７，９９６「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｍｉｒｒｏｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」（代理人整理番号第６５０３７ＵＳ００２号）、２００８年１２月２２日に出願された米国特許出願第６１／１３９，７３６号「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｕｓｉｎｇ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」（代理人整理番号第６４８４７ＵＳ００２号）。
本出願の教示は同日付けで出願される以下の譲受人共通の出願のいずれか又は全ての教示と組み合わせて使用され得る：国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６４８４７ＷＯ００３号）「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｕｓｉｎｇ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」、同第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６５０３７ＷＯ００３号）「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｍｉｒｒｏｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」、同第第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６５８４８ＷＯ００２号）「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｗｉｔｈ Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔ Ｌａｙｅｒｓ」及び同第第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／ＸＸＸＸＸＸ号（代理人整理番号第６５８４９ＷＯ００２号）「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」。
別段の指示がない限り、本明細書及び「特許請求の範囲」において使用する、数量、特性の測定値などを表す全ての数値は、「約」という語で修飾されるものとして理解されるべきである。したがって、そうでない旨の指示がない限り、上記の明細書及び「特許請求の範囲」において記載された数値パラメーターは、本出願の教示を利用する当業者が得ようと求める望ましい特性に応じて変化しうる概算値である。均等論を「特許請求の範囲」の範疇に適用することを制限しようとする試みとしてではなく、各数値パラメーターは少なくとも、記録された有効数字の桁数を考慮して、又通常の四捨五入を適用することによって解釈されるべきである。本発明の広範な範囲を示す数値範囲及びパラメーターは近似であるにもかかわらず、いかなる数値も本明細書で述べられる具体的な例で示される程度に、これらは妥当に可能な限り精確に報告される。しかしながら、いかなる数値も試験及び測定の限界に関連する誤差を含み得る。
本発明の範囲及び趣旨から逸脱することなく本発明の様々な改変及び変形が当業者には明らかであり、本発明が本明細書に記載された例示的な実施形態に限定されるものではないことは理解されるはずである。本明細書において参照された公開及び非公開の特許出願並びに他の特許及び非特許文献は、これらが先行の開示に矛盾しない範囲において参照として組み込まれる。

Claims (29)

  1. 強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置されて第１反射特性を提供する第１群の内側層であって、前記第１群の層はまた、書き込み波長を含む光に曝露された際に、前記第１群の層の構造的一体性を維持する一方で前記第１反射特性を第３反射特性に変えるのに十分な量で前記第１群の層を吸収加熱するのに好適な第１吸収特性を有する、第１群の内側層と、
    強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置されて第２反射特性を提供する第２群の内側層であって、前記第２群の層はまた、前記書き込み波長を含む光に曝露された際に、前記第２群の層の構造的一体性を維持する一方で前記第２反射特性を前記第４反射特性に変えるのに十分な量で前記第２群の層を吸収加熱するのに好適な第２吸収特性を有する、第２群の内側層と、
    前記第１群の内側層と前記第２群の内側層との間に配置された第１遮蔽層であって、前記第１遮蔽層が前記書き込み波長の光を少なくとも部分的に遮蔽するように適合された第１遮蔽層とを含む、多層光学フィルム。
  2. 前記第１遮蔽層は、前記書き込み波長を含む第１光線が前記フィルムにおいて方向付けられて、前記第２反射特性を実質的に変えることなく前記第１反射特性を前記第３反射特性に変え得るように前記書き込み波長の光を遮蔽する、請求項１に記載のフィルム。
  3. 前記第１遮蔽層は、前記書き込み波長を含む第２光線が前記フィルムにおいて方向付けられて、前記第１反射特性を実質的に変えることなく前記第２反射特性を前記第４反射特性に変え得るように前記書き込み波長の光を遮蔽する、請求項２に記載のフィルム。
  4. 前記第１遮蔽層が前記書き込み波長において光を実質的に吸収する、請求項１に記載のフィルム。
  5. 前記第１遮蔽層が、前記書き込み波長において光を選択的に吸収する吸収剤を含む、請求項１に記載のフィルム。
  6. 前記第１反射特性は、垂直入射光に関して第１波長において配置される第１反射帯域を含み、前記吸収剤は前記第１波長において光を実質的に透過させる、請求項５に記載のフィルム。
  7. 前記第１遮蔽層が前記書き込み波長において光を実質的に反射する、請求項１に記載のフィルム。
  8. 前記第１遮蔽層は前記書き込み波長を含む第１光線を実質的に反射し、前記書き込み波長を含む第２光線を実質的に透過させ、前記第１及び第２光線は異なる入射角を有する、請求項１に記載のフィルム。
  9. 前記第１吸収特性は、第１エネルギー閾値を含み、前記第２吸収特性は前記第１エネルギー閾値とは異なる第２エネルギー閾値を含む、請求項１に記載のフィルム。
  10. 前記第１及び第３反射特性は、可視光において異なる外観を提供し、前記書き込み波長は７００ｎｍを超える、請求項１に記載のフィルム。
  11. 強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置されて第５反射特性を提供する第３群の内側層であって、前記第３群の層はまた、前記書き込み波長を含む光に曝露された際に、前記第３群の層の構造的一体性を維持する一方で前記第５反射特性を前記第６反射特性に変えるのに十分な量で前記第３群の層を吸収加熱するのに好適な第３吸収特性を有する、第３群の内側層と、
    前記第３群の内側層と前記第１群の内側層及び前記第２群の内側層の少なくとも一方との間に配置される第２遮蔽層であって、前記第２遮蔽層は、前記書き込み波長の光を少なくとも部分的に遮蔽するように適合される、第２遮蔽層とを更に含む、請求項１に記載のフィルム。
  12. 前記第１遮蔽層は回転非対称である、請求項１に記載のフィルム。
  13. 強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置された第１群の内側層であって、前記第１群の層は複屈折性である少なくともいくらかの第１層を含み、前記第１群の層はまた、書き込み波長を含む光に曝露された際に、前記第１群の層の構造的一体性を維持する一方で前記少なくともいくらかの第１層の前記複屈折性を低減又は排除するのに十分な量で前記第１群の層を吸収加熱するのに好適な第１吸収特性を有する第１群の内側層と、
    強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置された第２群の内側層であって、前記第２群の層はまた複屈折性である少なくともいくらかの第２層を含み、前記第２群の層はまた、前記書き込み波長を含む光に曝露された際に、前記第２群の層の構造的一体性を維持する一方で前記少なくともいくらかの第２層の前記複屈折性を低減又は排除するのに十分な量で前記第２群の層を吸収加熱するのに好適な第２吸収特性を有する第２群の内側層と、
    前記第１群の内側層と前記第２群の内側層との間に配置された第１遮蔽層であって、前記遮蔽層が前記書き込み波長の光を少なくとも部分的に遮蔽するように適合された第１遮蔽層とを含む、多層光学フィルム。
  14. 前記第１遮蔽層は、前記書き込み波長を含む前記第１光線が前記フィルムにおいて方向付けられて、前記少なくともいくらかの第２層の前記複屈折性を実質的に低減することなく、前記少なくともいくらかの第１層の前記複屈折性を低減又は排除し得るように前記書き込み波長の光を遮蔽する、請求項１３に記載のフィルム。
  15. 前記第１遮蔽層は、前記書き込み波長を含む前記第２光線が前記フィルムにおいて方向付けられて、前記少なくともいくらかの第１層の前記複屈折性を実質的に低減することなく、前記少なくともいくらかの第２層の前記複屈折性を低減又は排除し得るように前記書き込み波長の光を遮蔽する、請求項１４に記載のフィルム。
  16. 前記第１遮蔽層は回転非対称である、請求項１３に記載のフィルム。
  17. 強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置されて第１反射特性を提供する第１群の内側層を有し、強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置されて第２反射特性を提供する第２群の内部層を有する多層光学フィルムを提供する工程と、
    書き込み波長を含む第１光線を前記フィルムにおいて方向付けて、前記第２反射特性を実質的に変えることなく前記第１反射特性を第３反射特性に変える工程と、
    前記書き込み波長を含む第２光線を前記フィルムにおいて方向付けて、前記第１反射特性を実質的に変えることなく前記第２反射特性を第４反射特性に変える工程とを含む、パターン化フィルムの作製方法。
  18. 前記第１光線は前記フィルムの第１主表面において方向付けられ、前記第２光線は前記第１主表面の反対側の前記フィルムの第２主表面において方向付けられる、請求項１７に記載の方法。
  19. 前記第１光線が前記フィルムの第１主表面において方向付けられ、前記第２光線が前記フィルムの同じ第１主表面において方向付けられる、請求項１７に記載の方法。
  20. 前記第１光線が第１入射角において方向付けられ、前記第２光線が前記第１入射角とは異なる第２入射角において方向付けられる、請求項１７に記載の方法。
  21. 前記第１光線を前記フィルムにおいて方向付ける工程が、第１ゾーンにおいて前記フィルムを選択的に加熱して前記第１ゾーンにおいて前記第１反射特性を前記第３反射特性に変え、前記第２光線を前記フィルムにおいて方向付ける工程が前記第１ゾーンとは異なる第２ゾーンにおいてフィルムを選択的に加熱し、前記第２ゾーンにおいて前記第２反射特性を前記第４反射特性に変える、請求項１７に記載の方法。
  22. 前記第１反射特性が第１ピーク反射率を有する第１反射帯域を含み、前記第３反射特性が前記第１ピーク反射率よりも低い第３ピーク反射率を有する第３反射帯域を含む、請求項１７に記載の方法。
  23. 前記第１反射特性が第１ピーク反射率を有する第１反射帯域を含み、前記第３反射特性が前記第１ピーク反射率よりも高い第３ピーク反射率を有する第３反射帯域を含む、請求項１７に記載の方法。
  24. 前記多層光学フィルムが、強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置されて第５反射特性を提供する第３群の層を更に含み、
    前記書き込み波長を含む第３光線を前記フィルムにおいて方向付けて、前記第１又は第２反射特性を実質的に変えることなく前記第５反射特性を第６反射特性に変える工程を含む、請求項１７に記載の方法。
  25. 前記第１、第２及び第３光線が全て、前記多層光学フィルムの同じ側において方向付けられる、請求項２４に記載の方法。
  26. 強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置された第１群の内側層であって、前記第１群の前記層は前記フィルムの第１ゾーンから第２ゾーンまで延びる、第１群の内側層と、
    強め合う又は弱め合う干渉によって光を選択的に反射するように配置された第２群の内側層であって、前記第２群の層は前記フィルムの第１ゾーンから第３ゾーンまで延びる、第２群の内側層とを含む、パターン化多層光学フィルムであって、
    前記第１群の層は前記第１ゾーンにおける第１反射特性及び前記第２ゾーンにおける前記第１反射特性とは異なる第３反射特性を提供し、
    前記第２群の層は前記第１ゾーンにおける第２反射特性及び前記第３ゾーンにおける前記第２反射特性とは異なる第４反射特性を提供し、
    前記第２群の層は、前記第２ゾーンの少なくとも一部において前記第２反射特性を提供する、パターン化多層光学フィルム。
  27. 前記第１群の層は、前記第３ゾーンの少なくとも一部における前記第１反射特性を提供する、請求項２６に記載のフィルム。
  28. 前記フィルムが前記第１ゾーンにおいて第１厚さを有し、前記フィルムは前記第２ゾーンにおいて第２厚さを有し、前記第１反射特性と前記第３反射特性との間の差は、前記第１厚さと前記第２厚さとの間のいかなる差にも実質的に起因しない、請求項２６に記載のフィルム。
  29. 前記フィルムは前記第３ゾーンにおいて第３厚さを有し、前記第２反射特性と前記第４反射特性との間の差は、前記第１厚さと前記第３厚さとの間のいかなる差にも実質的に起因しない、請求項２７に記載のフィルム。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012513611A (ja) * 2008-12-22 2012-06-14 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 並列する偏光子／偏光子ゾーンを有する多層光学フィルム
JP2013533985A (ja) * 2010-06-30 2013-08-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 空間的に選択的な複屈折性の減少を有する拡散反射光学フィルム
JPWO2019069758A1 (ja) * 2017-10-03 2020-09-17 東レ株式会社 積層フィルム

Families Citing this family (112)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080271739A1 (en) 2007-05-03 2008-11-06 3M Innovative Properties Company Maintenance-free respirator that has concave portions on opposing sides of mask top section
US9770611B2 (en) 2007-05-03 2017-09-26 3M Innovative Properties Company Maintenance-free anti-fog respirator
US9749607B2 (en) 2009-07-16 2017-08-29 Digimarc Corporation Coordinated illumination and image signal capture for enhanced signal detection
US8975011B2 (en) 2010-06-30 2015-03-10 3M Innovative Properties Company Multi-layer articles capable of forming color images and method of forming color images
KR101841310B1 (ko) 2010-06-30 2018-03-22 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 공간 선택적 복굴절 감소를 갖는 지연기 필름 조합물
JP2013539543A (ja) 2010-06-30 2013-10-24 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 空間選択的な複屈折低減を有するフィルムを使用するマスク加工
US8975012B2 (en) 2010-06-30 2015-03-10 3M Innovative Properties Company Multi-layer articles capable of forming color images and methods of forming color images
EP2589041B1 (en) 2010-06-30 2018-04-25 3M Innovative Properties Company Light directing film
US9222650B2 (en) 2010-09-02 2015-12-29 3M Innovative Properties Company Switchable light-duct extraction
US9353930B2 (en) 2011-04-08 2016-05-31 3M Innovative Properties Company Light duct tee extractor
WO2012162057A2 (en) 2011-05-20 2012-11-29 3M Innovative Properties Company Laser-personalizable security articles
WO2012162041A2 (en) 2011-05-20 2012-11-29 3M Innovative Properties Company Laser-personalizable security articles
CA2838842C (en) 2011-06-09 2019-09-24 Case Western Reserve University Optical information storage medium
US11211091B2 (en) 2011-06-09 2021-12-28 Case Western Reserve University Optical information storage medium
US9081147B2 (en) * 2012-01-03 2015-07-14 3M Innovative Properties Company Effective media retarder films with spatially selective birefringence reduction
CN104412133A (zh) * 2012-06-28 2015-03-11 可隆工业株式会社 增亮膜及含有该增亮膜的背光单元
US8830548B2 (en) 2012-07-31 2014-09-09 General Electric Company Stacked film threshold component, device, and method of manufacture
KR102139501B1 (ko) * 2012-08-21 2020-07-30 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 관찰 장치
CN111999793A (zh) * 2012-08-24 2020-11-27 3M创新有限公司 可变折射率光提取层及其制备方法
KR101633237B1 (ko) * 2012-09-24 2016-06-23 데이진 가부시키가이샤 1 축 연신 다층 적층 필름, 그것으로 이루어지는 편광판, 액정 표시 장치용 광학 부재 및 액정 표시 장치
EP2904435A4 (en) * 2012-10-01 2016-10-05 Arkema France OPTICAL DIFFUSER OF LIGHT AND ITS MEASURING METHOD
US9497379B2 (en) 2013-08-22 2016-11-15 California Institute Of Technology Variable-illumination fourier ptychographic imaging devices, systems, and methods
US9864184B2 (en) 2012-10-30 2018-01-09 California Institute Of Technology Embedded pupil function recovery for fourier ptychographic imaging devices
KR20150080919A (ko) 2012-10-30 2015-07-10 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 만곡된 광 덕트 추출
CN104769355B (zh) 2012-10-30 2017-10-20 3M创新有限公司 矩形光管道提取
US10652444B2 (en) 2012-10-30 2020-05-12 California Institute Of Technology Multiplexed Fourier ptychography imaging systems and methods
WO2014070656A1 (en) 2012-10-30 2014-05-08 California Institute Of Technology Fourier ptychographic imaging systems, devices, and methods
US9709349B2 (en) 2012-11-15 2017-07-18 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Structures for radiative cooling
US9477099B2 (en) * 2012-11-21 2016-10-25 Essilor International (Compagnie Generale D'optique) Transparent optical element with dual light-polarizing effect
US8889241B2 (en) 2012-12-07 2014-11-18 General Electric Company Stacked film reflective layers for multi-layer optical data storage
TW201435830A (zh) 2012-12-11 2014-09-16 3M Innovative Properties Co 不顯眼之光學標籤及其方法
WO2014110101A1 (en) * 2013-01-14 2014-07-17 3M Innovative Properties Company Filters to enhance color discrimination for color vision deficient individuals
US10406845B2 (en) 2013-03-15 2019-09-10 Gemalto Sa Flexible hinge material comprising cross-linked polyurethane material
US20140265301A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 3M Innovative Properties Company Security feature utlizing hinge material and biodata page
EP2984404A1 (en) 2013-04-10 2016-02-17 3M Innovative Properties Company Remote illumination light duct
WO2014168823A1 (en) 2013-04-11 2014-10-16 3M Innovative Properties Company Illuminated light duct joint
US9279921B2 (en) * 2013-04-19 2016-03-08 3M Innovative Properties Company Multilayer stack with overlapping harmonics for wide visible-infrared coverage
EP3017242A1 (en) 2013-05-31 2016-05-11 3M Innovative Properties Company of 3M Center Luminaire for crosswalk
USD746974S1 (en) 2013-07-15 2016-01-05 3M Innovative Properties Company Exhalation valve flap
AU2014290207B2 (en) 2013-07-15 2017-05-11 3M Innovative Properties Company Respirator having optically active exhalation valve
JP2016534389A (ja) 2013-07-31 2016-11-04 カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー 開口走査フーリエタイコグラフィ撮像
US9864120B2 (en) 2013-09-05 2018-01-09 3M Innovative Properties Company Patterned marking of multilayer optical film by thermal conduction
US20160230957A1 (en) 2013-10-03 2016-08-11 3M Innovative Properties Company Remote illumination system
US9841606B2 (en) * 2013-11-04 2017-12-12 Massachusetts Institute Of Technology Optical filters with engineered birefringence
AU2014355397B2 (en) * 2013-11-26 2017-05-11 Hoya Lens Thailand Ltd. Spectacle lens
CN105793748B (zh) 2013-12-06 2017-06-09 3M创新有限公司 具有嵌入式吸收元件的多层反射偏振片
US20160320554A1 (en) 2013-12-19 2016-11-03 3M Innovative Properties Company Modular distribution system
US9841598B2 (en) 2013-12-31 2017-12-12 3M Innovative Properties Company Lens with embedded multilayer optical film for near-eye display systems
US9635378B2 (en) 2015-03-20 2017-04-25 Digimarc Corporation Sparse modulation for robust signaling and synchronization
US10424038B2 (en) 2015-03-20 2019-09-24 Digimarc Corporation Signal encoding outside of guard band region surrounding text characters, including varying encoding strength
US9307159B2 (en) * 2014-03-04 2016-04-05 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Polarization image processing apparatus
JP2017507373A (ja) * 2014-03-07 2017-03-16 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 多層光学フィルムを組み込む光源
US11468557B2 (en) 2014-03-13 2022-10-11 California Institute Of Technology Free orientation fourier camera
CN106164746A (zh) 2014-04-09 2016-11-23 3M创新有限公司 作为组合器的具有薄膜的近眼显示系统
WO2015160564A2 (en) 2014-04-15 2015-10-22 3M Innovative Properties Company Luminaire for crosswalk, method for making, and method for controlling
USD752773S1 (en) 2014-04-15 2016-03-29 3M Innovative Properties Company Bollard luminaire window
WO2015161050A2 (en) 2014-04-18 2015-10-22 3M Innovative Properties Company Structural lighting element
US10088251B2 (en) 2014-05-21 2018-10-02 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Radiative cooling with solar spectrum reflection
EP3180650A4 (en) * 2014-08-13 2018-08-08 3M Innovative Properties Company Head-mounted display system and components
DE102014216458A1 (de) 2014-08-19 2016-02-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Element mit einer Beschichtung zur Beeinflussung von Heizstrahlung und optische Anordnung
US9586385B2 (en) * 2014-08-27 2017-03-07 3M Innovative Properties Company Inorganic multilayer lamination transfer films
TW201618961A (zh) 2014-08-27 2016-06-01 ３Ｍ新設資產公司 電多層層壓轉印膜
EP3215891B1 (en) 2014-11-07 2019-08-21 3M Innovative Properties Company Optical device including switchable diffuser
WO2016106379A1 (en) * 2014-12-22 2016-06-30 California Institute Of Technology Epi-illumination fourier ptychographic imaging for thick samples
US9600754B2 (en) * 2014-12-23 2017-03-21 Digimarc Corporation Machine-readable glass
AU2016209275A1 (en) 2015-01-21 2017-06-29 California Institute Of Technology Fourier ptychographic tomography
US10168525B2 (en) 2015-01-26 2019-01-01 California Institute Of Technology Multi-well fourier ptychographic and fluorescence imaging
CA2979392A1 (en) 2015-03-13 2016-09-22 California Institute Of Technology Correcting for aberrations in incoherent imaging system using fourier ptychographic techniques
US9754341B2 (en) 2015-03-20 2017-09-05 Digimarc Corporation Digital watermarking and data hiding with narrow-band absorption materials
US10783601B1 (en) 2015-03-20 2020-09-22 Digimarc Corporation Digital watermarking and signal encoding with activable compositions
GB201508114D0 (en) 2015-05-12 2015-06-24 3M Innovative Properties Co Respirator tab
WO2016187591A1 (en) 2015-05-21 2016-11-24 California Institute Of Technology Laser-based fourier ptychographic imaging systems and methods
KR20170063806A (ko) * 2015-09-03 2017-06-08 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 확대 디바이스
KR20180059866A (ko) * 2015-10-02 2018-06-05 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광학 필터
CN108351554B (zh) * 2015-11-16 2021-08-20 3M创新有限公司 具有单包双轴双折射反射型偏振器的显示器层合件
CN105487291A (zh) * 2016-01-08 2016-04-13 京东方科技集团股份有限公司 一种背光模组、其制备方法及显示装置
US10060793B2 (en) * 2016-01-19 2018-08-28 Xerox Corporation Spectral and spatial calibration illuminator and system using the same
US10568507B2 (en) 2016-06-10 2020-02-25 California Institute Of Technology Pupil ptychography methods and systems
US11092795B2 (en) 2016-06-10 2021-08-17 California Institute Of Technology Systems and methods for coded-aperture-based correction of aberration obtained from Fourier ptychography
JP2019520966A (ja) * 2016-06-23 2019-07-25 メディセム インスティテュート エス．アール．オー． 光調節可能なハイドロゲルおよび生体類似型眼内レンズ
KR102169582B1 (ko) * 2016-09-13 2020-10-23 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 경사 각도에서의 낮은 색에 대해 조정된 두께 프로파일을 갖는 단일 패킷 반사 편광기
US20180133988A1 (en) * 2016-11-17 2018-05-17 Polymerplus Llc Polymeric gradient optical element and methods of fabricating
WO2018102193A1 (en) * 2016-11-29 2018-06-07 3M Innovative Properties Company Optical stack
EP3559712A1 (en) 2016-12-20 2019-10-30 3M Innovative Properties Company Multilayer film including hidden fluorescent features
CN113640911A (zh) 2017-03-06 2021-11-12 3M创新有限公司 显示器组件、光学叠堆、光学系统及偏振分束器
US11156757B2 (en) 2017-03-06 2021-10-26 3M Innovative Properties Company High contrast optical film and devices including the same
CN110869110B (zh) 2017-07-14 2022-11-18 3M创新有限公司 用于输送多个液体流的适配器
KR20200066672A (ko) * 2017-10-09 2020-06-10 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광학 컴포넌트 및 광학 시스템
JP7269926B2 (ja) 2017-10-27 2023-05-09 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 光センサシステム
KR20200074181A (ko) 2017-10-27 2020-06-24 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광학 시스템
US11358355B2 (en) 2017-10-27 2022-06-14 3M Innovative Properties Company Shaped optical films and methods of shaping optical films
US10754140B2 (en) 2017-11-03 2020-08-25 California Institute Of Technology Parallel imaging acquisition and restoration methods and systems
US10896307B2 (en) 2017-11-07 2021-01-19 Digimarc Corporation Generating and reading optical codes with variable density to adapt for visual quality and reliability
US10872392B2 (en) 2017-11-07 2020-12-22 Digimarc Corporation Generating artistic designs encoded with robust, machine-readable data
US11062108B2 (en) 2017-11-07 2021-07-13 Digimarc Corporation Generating and reading optical codes with variable density to adapt for visual quality and reliability
JP7326726B2 (ja) * 2017-11-15 2023-08-16 東レ株式会社 積層フィルム
US11435660B2 (en) * 2017-11-22 2022-09-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Photomask and method of fabricating a photomask
CN111417873B (zh) * 2017-12-01 2021-11-09 3M创新有限公司 具有均一左谱带边缘的薄型多层反射器
US20190252637A1 (en) * 2018-02-13 2019-08-15 Innolux Corporation Foldable display device
KR20210033993A (ko) 2018-07-20 2021-03-29 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 중합체 광학 반사기 및 불연속 투명 코팅을 포함하는 광학 필름
CN112534184A (zh) 2018-07-24 2021-03-19 3M创新有限公司 图案化波长选择性图像
WO2020035768A1 (en) 2018-08-15 2020-02-20 3M Innovative Properties Company Optical element including microlens array
JP7400724B2 (ja) * 2018-09-27 2023-12-19 東洋紡株式会社 多層積層フィルム
WO2020069261A1 (en) 2018-09-28 2020-04-02 Corning Incorporated High hardness articles including an optical layer and methods for making the same
CN113454399A (zh) 2018-12-27 2021-09-28 天酷系统股份有限公司 冷却面板系统
US11359841B2 (en) 2019-04-17 2022-06-14 SkyCool Systems, Inc. Radiative cooling systems
JP7275946B2 (ja) * 2019-07-10 2023-05-18 セイコーエプソン株式会社 光学フィルター、及び電子機器
CN112439310B (zh) * 2019-09-05 2023-08-11 中石油吉林化工工程有限公司 一种丙烯腈装置急冷塔用水的补充方法
KR20210075280A (ko) 2019-12-12 2021-06-23 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
FR3108989B1 (fr) * 2020-04-02 2022-04-01 Bnl Eurolens Procédé de traitement d’un article optique miroité
TWI747575B (zh) * 2020-10-26 2021-11-21 南亞塑膠工業股份有限公司 具有疊層結構的高分子薄膜
US11468281B2 (en) * 2020-11-27 2022-10-11 Thales Dis France Sa Data carrier with tamper-indication

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08263841A (ja) * 1994-12-22 1996-10-11 Landis & Gyr Technol Innov Ag 光学的機械的に読み取り可能な情報保持体
JP2001194695A (ja) * 1999-10-25 2001-07-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光導波路デバイス及びこれを用いた多波長光源及びこれを用いた光学システム
JP2002286928A (ja) * 2001-01-18 2002-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd カラーフィルター、カラーフィルター形成材料およびカラーフィルターの製造方法
JP2004512984A (ja) * 2000-11-04 2004-04-30 レオナード　クルツ　ゲーエムベーハー　ウント　コンパニー　カーゲー 積層体、とくに積層ホイルおよび積層体の偽造証明特性を向上させる方法
JP2005529004A (ja) * 2002-05-08 2005-09-29 レオナード　クルツ　ゲーエムベーハー　ウント　コンパニー　カーゲー 少なくとも一部分に紙材料を含む基材を備えた多層体およびそのような多層体にレーザ誘起マークを作成する方法
JP2006512619A (ja) * 2002-12-31 2006-04-13 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 入射角に依存する設計されたカラーシフトを呈し、法線入射光に対して可視スペクトル内に反射帯域を実質的に有していない光学偏光フィルム

Family Cites Families (108)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3610729A (en) 1969-06-18 1971-10-05 Polaroid Corp Multilayered light polarizer
US4446305A (en) * 1981-03-02 1984-05-01 Polaroid Corporation Optical device including birefringent polymer
US4551819A (en) 1982-04-14 1985-11-05 University Of Utah Optical recording method and apparatus utilizing polymeric birefringent materials
US4864537A (en) 1982-04-14 1989-09-05 University Of Utah Polymers and dye combinations and methods for their use in optical recording
US4417948A (en) 1982-07-09 1983-11-29 International Business Machines Corporation Self developing, photoetching of polyesters by far UV radiation
US4568632A (en) 1982-10-07 1986-02-04 International Business Machines Corporation Patterning of polyimide films with far ultraviolet light
US4879176A (en) 1987-03-16 1989-11-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Surface modification of semicrystalline polymers
US4822451A (en) 1988-04-27 1989-04-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for the surface modification of semicrystalline polymers
US4902378A (en) 1988-04-27 1990-02-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymer with reduced internal migration
US5486949A (en) 1989-06-20 1996-01-23 The Dow Chemical Company Birefringent interference polarizer
JP3002757B2 (ja) * 1990-07-04 2000-01-24 キヤノン株式会社 画像形成方法、記録媒体、及び可視化像の再生方法
US5103337A (en) * 1990-07-24 1992-04-07 The Dow Chemical Company Infrared reflective optical interference film
US5302259A (en) 1991-04-30 1994-04-12 Reginald Birngruber Method and apparatus for altering the properties in light absorbing material
US5360659A (en) 1993-05-24 1994-11-01 The Dow Chemical Company Two component infrared reflecting film
US5389324A (en) 1993-06-07 1995-02-14 The Dow Chemical Company Layer thickness gradient control in multilayer polymeric bodies
EP1275988A3 (en) 1993-09-10 2006-03-22 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Polarizing element, and polarizing plate
US5781317A (en) * 1993-09-14 1998-07-14 Nippondenso Co., Ltd. Method of producing holographic optical element and device therefor
CA2137632A1 (en) 1993-12-17 1995-06-18 Douglas S. Dunn Ablative flashlamp imaging
EP0734325B1 (en) 1993-12-17 1997-12-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ablative imaging by proximity lithography
US5882774A (en) * 1993-12-21 1999-03-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Optical film
EP0735952B1 (en) * 1993-12-21 2000-03-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Multilayered optical film
JPH08276659A (ja) * 1995-04-05 1996-10-22 Toppan Printing Co Ltd 情報記録媒体、情報カード、情報再生方法および情報再生装置
JPH08334618A (ja) 1995-06-02 1996-12-17 Nitto Denko Corp 位相差フィルム及びその製造方法並びに積層偏光板
BR9609314A (pt) * 1995-06-26 1999-07-06 Minnesota Mining & Mfg Película de multicamadas
CN1119674C (zh) 1995-06-26 2003-08-27 美国3M公司 透明的多层装置及包含该装置的制品
US6737154B2 (en) 1995-06-26 2004-05-18 3M Innovative Properties Company Multilayer polymer film with additional coatings or layers
JPH0976529A (ja) 1995-09-14 1997-03-25 Brother Ind Ltd インクジェットプリンタのインク吸収装置
FR2740526B1 (fr) * 1995-10-30 1998-01-16 Manuli Automobile France Sa Joint d'etancheite composite pour raccordement etanche entre une extremite de tube et une piece, et ensemble piece/tube comportant un tel joint
JPH09183287A (ja) 1995-12-28 1997-07-15 Nippon Kayaku Co Ltd 物品及び真正品の判別方法
US5808798A (en) 1996-03-27 1998-09-15 Minnesota Mining And Manufacturing Co. Nonpolarizing beamsplitter
JP3879195B2 (ja) 1996-09-05 2007-02-07 セイコーエプソン株式会社 液晶装置及び液晶装置の製造方法
DE19706029C2 (de) 1997-02-17 1999-09-16 Bayer Ag Flüssigkristall-Display mit Phasenkompensationsschicht
US5926241A (en) 1997-02-24 1999-07-20 Rockwell International Corporation Photo-patterned compensator with thin film having optically birefringent and isotropic regions and method of manufacturing for a liquid crystal display
US6072629A (en) * 1997-02-26 2000-06-06 Reveo, Inc. Polarizer devices and methods for making the same
JP3325825B2 (ja) 1997-03-29 2002-09-17 彰二郎 川上 ３次元周期構造体及びその作製方法並びに膜の製造方法
JPH10288764A (ja) 1997-04-15 1998-10-27 Seiko Epson Corp 表示装置
GB2328180B (en) 1997-08-14 2001-08-01 Thomas De La Rue Ltd Security device
US6099758A (en) * 1997-09-17 2000-08-08 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Broadband reflective polarizer
KR100607739B1 (ko) * 1997-12-16 2006-08-01 고수다르스체니 노크니 첸트르 로시스코이 페데라치 편광기와 액정디스플레이
US6531230B1 (en) 1998-01-13 2003-03-11 3M Innovative Properties Company Color shifting film
US6024455A (en) * 1998-01-13 2000-02-15 3M Innovative Properties Company Reflective article with concealed retroreflective pattern
US6179948B1 (en) * 1998-01-13 2001-01-30 3M Innovative Properties Company Optical film and process for manufacture thereof
US6157490A (en) 1998-01-13 2000-12-05 3M Innovative Properties Company Optical film with sharpened bandedge
US6788463B2 (en) * 1998-01-13 2004-09-07 3M Innovative Properties Company Post-formable multilayer optical films and methods of forming
US6207260B1 (en) 1998-01-13 2001-03-27 3M Innovative Properties Company Multicomponent optical body
US6045894A (en) 1998-01-13 2000-04-04 3M Innovative Properties Company Clear to colored security film
CN1104325C (zh) 1998-01-13 2003-04-02 美国3M公司 改性共聚聚酯和改进的多层反射薄膜
US6808658B2 (en) 1998-01-13 2004-10-26 3M Innovative Properties Company Method for making texture multilayer optical films
AU3359999A (en) * 1998-07-31 2000-02-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Post-formable multilayer optical films and methods of forming
US6096247A (en) 1998-07-31 2000-08-01 3M Innovative Properties Company Embossed optical polymer films
JP3288976B2 (ja) 1998-08-07 2002-06-04 彰二郎 川上 偏光子とその作製方法
JP4290797B2 (ja) 1999-02-22 2009-07-08 大日本印刷株式会社 真正性識別方法並びに真正性識別体
JP2001051122A (ja) 1999-06-01 2001-02-23 Autocloning Technology:Kk 複屈折性周期構造体、位相板、回折格子型の偏光ビームスプリッタ及びそれらの作製方法
US6410453B1 (en) * 1999-09-02 2002-06-25 Micron Technology, Inc. Method of processing a substrate
AU2515200A (en) 1999-09-20 2001-04-24 3M Innovative Properties Company Optical films having at least one particle-containing layer
US6449093B2 (en) 1999-10-12 2002-09-10 3M Innovative Properties Company Optical bodies made with a birefringent polymer
TW473654B (en) 1999-12-24 2002-01-21 Ind Tech Res Inst Micro-retarder
JP4504498B2 (ja) 2000-03-10 2010-07-14 大日本印刷株式会社 セキュリティ製品、セキュリティ情報付き物品、真贋判定方法、及び、セキュリティ製品の製造方法
US6590707B1 (en) 2000-03-31 2003-07-08 3M Innovative Properties Company Birefringent reflectors using isotropic materials and form birefringence
EP1174514A1 (en) 2000-07-20 2002-01-23 ARTEMIS Pharmaceuticals GmbH Recombinant influenza viruses with bicistronic vRNAs coding for two genes in tandem arrangement
JP2002048915A (ja) 2000-08-07 2002-02-15 Ricoh Co Ltd 偏光素子及びその製造方法
US6630289B1 (en) 2000-08-22 2003-10-07 The Hong Kong University Of Science And Technology Photo-patterned light polarizing films
US6628877B2 (en) 2001-01-02 2003-09-30 Clark-Mxr, Inc. Index trimming of optical waveguide devices using ultrashort laser pulses for arbitrary control of signal amplitude, phase, and polarization
US6506480B2 (en) 2001-02-16 2003-01-14 3M Innovative Properties Company Color shifting film with a plurality of fluorescent colorants
US6693657B2 (en) 2001-04-12 2004-02-17 Engelhard Corporation Additive for YAG laser marking
US6916440B2 (en) 2001-05-31 2005-07-12 3M Innovative Properties Company Processes and apparatus for making transversely drawn films with substantially uniaxial character
DE60336184D1 (de) 2002-02-06 2011-04-14 Merck Patent Gmbh Doppelbrechender Film und seine Verwendung
US6991695B2 (en) 2002-05-21 2006-01-31 3M Innovative Properties Company Method for subdividing multilayer optical film cleanly and rapidly
US7396493B2 (en) 2002-05-21 2008-07-08 3M Innovative Properties Company Multilayer optical film with melt zone to control delamination
JP3803307B2 (ja) 2002-06-25 2006-08-02 日立電線株式会社 光導波路の製造方法
JPWO2004008196A1 (ja) 2002-07-13 2005-11-10 有限会社オートクローニング・テクノロジー 偏光解析装置
US6943930B2 (en) * 2002-09-12 2005-09-13 Eastman Kodak Company Method and system for fabricating optical film using an exposure source and reflecting surface
US6949212B2 (en) 2002-11-27 2005-09-27 3M Innovative Properties Company Methods and devices for stretching polymer films
US7094461B2 (en) 2002-12-31 2006-08-22 3M Innovative Properties Company P-polarizer with large z-axis refractive index difference
EP1611189B1 (en) 2003-04-08 2014-03-26 Merck Patent GmbH Polymerised liquid crystal film with retardation or orientation pattern
DE10318157A1 (de) * 2003-04-17 2004-11-11 Leonhard Kurz Gmbh & Co. Kg Folie und optisches Sicherungselement
US20040227994A1 (en) 2003-05-16 2004-11-18 Jiaying Ma Polarizing beam splitter and projection systems using the polarizing beam splitter
JP4264506B2 (ja) 2003-06-24 2009-05-20 独立行政法人産業技術総合研究所 高分子配向制御方法、それを用いた複屈折フィルム、機能性材料、記録材料、素子ならびに記録方法
US6974662B2 (en) 2003-08-04 2005-12-13 Eastman Kodak Company Thermal base precursors
US7187396B2 (en) 2003-11-07 2007-03-06 Engelhard Corporation Low visibility laser marking additive
US7019905B2 (en) * 2003-12-30 2006-03-28 3M Innovative Properties Company Multilayer reflector with suppression of high order reflections
US20050196530A1 (en) 2004-02-06 2005-09-08 Caspar Jonathan V. Thermal imaging process and products made therefrom
KR20070017179A (ko) * 2004-05-22 2007-02-08 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 다층 광학 필름을 포함하는 카드 및 라미네이트
JP4446444B2 (ja) 2004-11-22 2010-04-07 日東電工株式会社 偽造防止機能付シートの製造方法、物品、認証カード、バーコードラベル、及び認証システム
EP1869507A2 (en) * 2005-04-06 2007-12-26 3M Innovative Properties Company Diffuse reflective polariziing films with orientable polymer blends
WO2006110402A1 (en) * 2005-04-08 2006-10-19 3M Innovative Properties Company Heat setting optical films
JP4909535B2 (ja) 2005-06-23 2012-04-04 日東電工株式会社 積層反射体、認証カード、バーコードラベル、認証システム、及び、認証領域形成システム
JP4974543B2 (ja) 2005-08-23 2012-07-11 株式会社フォトニックラティス 偏光イメージング装置
US7815355B2 (en) 2005-08-27 2010-10-19 3M Innovative Properties Company Direct-lit backlight having light recycling cavity with concave transflector
US7678526B2 (en) 2005-10-07 2010-03-16 3M Innovative Properties Company Radiation curable thermal transfer elements
KR101309394B1 (ko) * 2005-12-23 2013-09-17 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 열가소성 실리콘 블록 공중합체를 포함하는 다층 필름
EP1976678A1 (en) 2006-01-18 2008-10-08 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Optical micro-array for e.g. micro sensors
JP2007271808A (ja) 2006-03-30 2007-10-18 Fujifilm Corp 液晶用キラル剤、液晶性組成物、及び重合体、並びに、光記録媒体用フィルタ、光記録媒体、及び液晶カラーフィルタ
US20070247573A1 (en) 2006-04-19 2007-10-25 3M Innovative Properties Company Transflective LC Display Having Narrow Band Backlight and Spectrally Notched Transflector
US20080085383A1 (en) * 2006-10-06 2008-04-10 3M Innovative Properties Company Processes for improved optical films
JP5183165B2 (ja) * 2006-11-21 2013-04-17 富士フイルム株式会社 複屈折パターンを有する物品の製造方法
JP4773930B2 (ja) 2006-11-27 2011-09-14 帝人デュポンフィルム株式会社 二軸延伸多層積層フィルムおよび識別媒体
US7826009B2 (en) * 2006-12-21 2010-11-02 3M Innovative Properties Company Hybrid polarizer
KR101299728B1 (ko) 2007-01-24 2013-08-22 삼성전자주식회사 2차원/3차원 영상 호환용 고효율 디스플레이 장치
JPWO2008105156A1 (ja) 2007-02-28 2010-06-03 株式会社フォトニックラティス 偏光イメージング装置，及び微分干渉顕微鏡
US7973998B2 (en) * 2007-05-18 2011-07-05 Serious Materials, Inc. Temperature activated optical films
EP2153275A4 (en) 2007-05-20 2010-09-08 3M Innovative Properties Co LAMP COVER ASSEMBLY FOR A DIRECT LIGHTING TAIL LIGHT
KR101464795B1 (ko) 2007-05-20 2014-11-27 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광 재순환 중공 공동형 디스플레이 백라이트
KR101265393B1 (ko) 2007-07-11 2013-05-20 라벤브릭 엘엘씨 열적 절환식 반사형 광학 셔터
JP5227596B2 (ja) 2008-01-22 2013-07-03 富士フイルム株式会社 複屈折パターンを有する物品の製造方法
US8012571B2 (en) 2008-05-02 2011-09-06 3M Innovative Properties Company Optical film comprising birefringent naphthalate copolyester having branched or cyclic C4-C10 alkyl units
WO2009140088A1 (en) 2008-05-15 2009-11-19 3M Innovative Properties Company Multi-layer articles capable of forming color images
EP2376956A4 (en) * 2008-12-22 2017-11-01 3M Innovative Properties Company Internally patterned multilayer optical films using spatially selective birefringence reduction

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08263841A (ja) * 1994-12-22 1996-10-11 Landis & Gyr Technol Innov Ag 光学的機械的に読み取り可能な情報保持体
JP2001194695A (ja) * 1999-10-25 2001-07-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光導波路デバイス及びこれを用いた多波長光源及びこれを用いた光学システム
JP2004512984A (ja) * 2000-11-04 2004-04-30 レオナード　クルツ　ゲーエムベーハー　ウント　コンパニー　カーゲー 積層体、とくに積層ホイルおよび積層体の偽造証明特性を向上させる方法
JP2002286928A (ja) * 2001-01-18 2002-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd カラーフィルター、カラーフィルター形成材料およびカラーフィルターの製造方法
JP2005529004A (ja) * 2002-05-08 2005-09-29 レオナード　クルツ　ゲーエムベーハー　ウント　コンパニー　カーゲー 少なくとも一部分に紙材料を含む基材を備えた多層体およびそのような多層体にレーザ誘起マークを作成する方法
JP2006512619A (ja) * 2002-12-31 2006-04-13 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 入射角に依存する設計されたカラーシフトを呈し、法線入射光に対して可視スペクトル内に反射帯域を実質的に有していない光学偏光フィルム

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012513611A (ja) * 2008-12-22 2012-06-14 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 並列する偏光子／偏光子ゾーンを有する多層光学フィルム
JP2013533985A (ja) * 2010-06-30 2013-08-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 空間的に選択的な複屈折性の減少を有する拡散反射光学フィルム
JPWO2019069758A1 (ja) * 2017-10-03 2020-09-17 東レ株式会社 積層フィルム
JP7238404B2 (ja) 2017-10-03 2023-03-14 東レ株式会社 積層フィルム

Also Published As

Publication number Publication date
US20110255167A1 (en) 2011-10-20
US20160170113A1 (en) 2016-06-16
KR20110114593A (ko) 2011-10-19
US9651725B2 (en) 2017-05-16
EP2376956A4 (en) 2017-11-01
EP2373480A4 (en) 2017-07-26
EP2376956A1 (en) 2011-10-19
CN102334050B (zh) 2015-04-15
CN102325830A (zh) 2012-01-18
EP2373725A1 (en) 2011-10-12
JP2014219689A (ja) 2014-11-20
JP2015043107A (ja) 2015-03-05
US20150192719A1 (en) 2015-07-09
US20110249334A1 (en) 2011-10-13
CN102317819A (zh) 2012-01-11
CN102325830B (zh) 2014-09-10
EP2374032B1 (en) 2020-02-26
JP2012513611A (ja) 2012-06-14
JP2012513623A (ja) 2012-06-14
US8982462B2 (en) 2015-03-17
US20110255163A1 (en) 2011-10-20
US20110249332A1 (en) 2011-10-13
KR20110100660A (ko) 2011-09-14
US20140308491A1 (en) 2014-10-16
KR101762452B1 (ko) 2017-07-27
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