JP6396804B2 - 選択される空間において複屈折性が低減された、有効媒質位相差フィルム - Google Patents

選択される空間において複屈折性が低減された、有効媒質位相差フィルム Download PDF

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Description

本発明は全体的に、位相差フィルムであるか、又はこれを含む光学フィルムに特に使用される、光学フィルム、並びに関連する物品、システム、及び方法に関する。
場合により位相差プレートとも称される位相差フィルムは既知である。位相差フィルムは、垂直入射非変更がフィルムを透過する際に、一方の直線偏光状態が、直交する直線偏光状態に対して遅延するか、又は「位相ずれ」する。遅延した偏光状態の光は、「遅軸」と称されるフィルムと称されるフィルムの面内軸に沿って偏光しているということができ、他方の変更状態の光は、直交する面内の「速軸」に沿って偏光しているということができる。遅延フィルムは、所望の良の遅延又は「位相差」をもたらすように調整され、位相差は、光の設計波長の割合において、測定又は指定されてもよい。例えば、１／４波長位相差により光は遅軸に沿って偏光し、速軸に沿って偏光された光に対して１／４波長だけ位相ずれする（遅延する）。同様に、１／２波長位相差により光は遅軸に沿って偏光し、速軸に沿って偏光された光に対して１／２波長だけ位相ずれする（遅延する）。これらの場合において、言及される「波長」とは、可視スペクトルの中央の波長であってもよい（例えば、５６０ｎｍ）。又は位相差は、２つの変更状態の光が位相差フィルムから出る際に、遅延した偏光の波長が、他方の偏光の波長から遅れる物理的、又は光学的距離として、測定されてもよい。（光学距離は、物理的距離に適切な屈折率を乗じたものである）直前に言及した１／４波及び１／２波において、位相差はそれぞれ、１４０ｎｍ（＝５６０／４）、及び２８０ｎｍ（＝５６０／２）である。
位相差フィルムは、相互に垂直な主軸、ｘ、ｙ、及びｚ軸に沿った、その屈折率の間の特定の関係を有するように設計され得、ｘ軸及びｙ軸は、フィルムの面にあるものと想定され、ｚ軸は、フィルムの面と垂直であり、フィルムの厚さ軸と並行であるものと想定される。位相差フィルムは、これらの主軸に沿った屈折率により特徴づけることができる。この点において、その電界がｘ、ｙ、及びｚ軸と並行に振動する位相差フィルムの屈折率を、それぞれｎｘ、ｎｙ、及びｎｘとすることもできる。ｎｘ、ｎｙ、及ｎｚが互いに全て等しいか、実質的に等しい場合、フィルムは実質的に等方性であり、有意な位相差を生じない。この等方性の場合において、フィルムは、位相差フィルムとしてではなく、いずれかの偏光状態を他のいずれかの偏光状態に対して遅延又は位相ずれさせない、ウィンドーフィルムとして機能する。他の場合において、フィルムは一軸的に複屈折してもよく、これは主屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの２つが、互いに同じであるか、又は実質的に同じであり、残りの屈折率は他の２つと有意に異なることを意味する。実質的に等しい、２つの屈折率は、常屈折率と称され、他の屈折率は、異常屈折率と称される。面内屈折率（ｎｘ又はｎｙ）がｎｚと等しいか、又は実質的に等しく、残りの面内屈折率（ｎｙ又はｎｘそれぞれ）が実質的に異なる場合、一軸的な複屈折フィルムは、「ａプレート」位相差フィルムと称される。一方で、２つの面内屈折率ｎｘ及びｎｙが互いに等しいか、実質的に等しく、ｎｚが実質的に異なる場合、一軸的な複屈折フィルムは、「ｃプレート」位相差フィルムと称される。これらの屈折率の関係の結果として、ｃプレート位相差フィルムは、フィルムに垂直入射する光に関しては有意な位相差をもたらさないが、フィルムに斜めに入射する光に関しては位相差をもたらす。一方、ａプレート位相差フィルムは、垂直入射光、及び斜め入射光の両方に、位相差をもたらす。
更に他の場合において、フィルムは、二軸的に複屈折であってもよく、これは３つの主屈折率全てが互いに有意に異なることを意味する。二軸的複屈折位相差フィルムは、垂直入射光、及び斜め入射光の両方に、位相差をもたらす。
位相差フィルムが第１光位相差をもたらすことができ、選択される領域に第２光位相差をもたらすように１つ以上の選択されるフィルムの領域又はゾーンにおいて熱加工され得、一方で非加工領域において第１光位相差をもたらす、一群の物品を開発した。位相差フィルムは好ましくは吸収特性を備え、それによってフィルムを好適な放射（エネルギー）ビームに選択的に暴露することによって、ビームが選択される領域においてフィルムを吸収加熱することができる。典型的には、放射ビームは、電磁スペクトルの、紫外線（ＵＶ）、可視、又は赤外線（ＩＲ）部分の光を含むか、又はこれから本質的になる。ポリマー材料の一体層などの、均一な光学媒体から構成されるのではなく、位相差フィルムは、可視光線において、有効光学媒質をもたらすように構成された連続的な極薄層の積み重ね体からなる。積み重ね体内の極薄層は、非常に薄く、可視光線はこの積み重ね体を通じて、あたかもこれが非層状媒質であるかのように、すなわち、これが、ｘ、ｙ、及びｚ軸に沿って「有効屈折率」を有する有効媒質であるかのように、伝搬する（有効屈折率は、構成極薄層の固有の屈折率の関数である）。連続的な極薄層の積み重ね体はその後、偏光状態にかかわらず、実質的に全ての可視波長に関して、いずれの有意な反射帯域ももたらさない。加熱プロセスは、極薄層積み重ね体の構造的一体性がプロセス領域において実質的に変更されないような方法で実行され得る。
したがって、本出願はとりわけ、第１光学位相差をもたらし、可視光線において有効光学媒質をもたらすように構成された連続的な極薄層の有効媒質積み重ね体を含む、位相差フィルムを含む、光学物品を開示する。極薄層は、それぞれが、１９０ｎｍ未満の光学厚さを有する複数の光学的反復ユニットへと構成され、極薄層は、異なる第１及び第２極薄層を含む。第１極薄層は、第１の固有の複屈折性を呈する第１ポリマー材料を含み、第２極薄層は、第１ポリマー材料とは異なる、第２ポリマー材料を含む。位相差フィルムはまた、第１放射線に暴露した際に、有効媒質積み重ね体の構造的を維持する一方で、第１の光位相差を、光位相差とは異なる第２の光位相差に変更するのみ十分な量だけ、有効媒質積み重ね体を吸収加熱するために好適な、第１吸収特性を有する。光学物品の第１及び第２光位相差の一方若しくは両方が、有効媒質積み重ね体の対応する光位相差に実質的によることがあり、又は一方若しくは両方が、１つ以上の光学的に厚い保護境界層及び／若しくは１つ以上の光学的に厚いスキン層などの、光学物品の他の層のものと組み合わせた有効光学媒質の対応する光位相差による場合もある。
隣接する極薄層の積み重ね体は、第２極薄層と交互する第１極薄層を含んでもよく、光学反復ユニットのそれぞれが、第１極薄層の１つ、及び第２極薄層の１つを含み、かつ本質的にこれらからなる場合がある。第２ポリマー材料は、いくつかの場合において、実質的に等方性である。
位相差フィルムの有効媒質積み重ね体は、いくつかの場合において、実質的に複屈折性を呈さないことがある。このような場合において、構造性複屈折による位相差は、１０ｎｍなどの閾値より小さく、又は構造性複屈折による位相差は、所与の割合、例えば、５％の平均面外（ｚ屈折率）複屈折率（例えば、以下の等式（１０ａ）及び（１０ｂ）に関して以下に記載される）よりも小さい。ここで、読者は、積み重ね体が実質的に構造性複屈折を呈さないからといって、積み重ね体も複屈折性を全く呈さないとは必ずしも言えないことに注意する。積み重ね体は、あらゆる場合において、主軸ｘ、ｙ、及びｚ軸に沿った、有効屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚによって特徴付けられる。積み重ね体がなんらかの複屈折性を呈するかどうかは、有効屈折率ｎｘ、ｎｙ、及びｎｚが互いに等しいか、又は実質的に等しいかどうかを判定することによって決まる。これらが実質的に等しいと、積み重ね体は複屈折性を呈さず、そうでない場合は積み重ね体は複屈折性を呈する。構造性複屈折は、存在する場合、積み重ね体の有効屈折率の値に寄与する。
いくつかの場合において、第２極薄層の第２ポリマー材料は、第１の固有の複屈折性と異なる第２の固有の複屈折性を呈する。第２の固有の複屈折性は、第１の固有の複屈折性と同じ符号であってもよく、又は逆の符号であってもよい。第１の固有の複屈折性と反対である第２の固有の複屈折性の例として、第１ポリマー材料は、ｎ１ｘ＞ｎ１ｙを有してもよく、この場合、第２ポリマー材料は、ｎ２ｘ＜ｎ２ｙを有する。
第２の光位相差（すなわち、位相差板の加工領域の位相差）は、第１光位相差（すなわち、位相差板の非加工領域の位相差）よりも大きいことがある。例えば、第１光位相差は、可視光線においてごく僅かな位相差（例えば、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲において２０ｎｍ未満）であり得、第２光位相差は、可視光線において有意な位相差（例えば、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲において９５ｎｍ未満）であり得る。
位相差フィルムが第１放射線に暴露された際に、第２極薄層の第２の固有の複屈折性を実質的に変えることなく、第１極薄層の第１の固有の複屈折を変更するために吸収加熱が十分であるように、第２極薄層の第２ポリマー材料は、第１ポリマー材料とは異なる融点を有する。第１及び第２極薄層は、位相差フィルムが第１放射線とは異なる第２放射線に暴露される際に、有効媒質積み重ね体が、有効媒質積み重ね体の構造的一体性を依然として維持する一方で、第１の光位相差を第１及び第２の光位相差とは異なる第３光位相差へと変更するために十分な量だけ加熱されるように、構成されている。第２放射線によってもたらされる、局所的加熱は、積み重ね体の第１及び第２極薄層の両方の、固有の複屈折性を変更又は緩和するのに十分であり得る。
第１極薄層、第２極薄層、又は第１及び第２極薄層の両方が、放射エネルギー吸収剤を含み得る。有効媒質積み重ね体は例えば、少なくとも１０、２５、５０、又は１００の連続的な極薄層を含み得る。光学物品は、拡散屈折層、及び偏光子を更に含み、偏光子は、拡散反射層と位相差フィルムとの間に配置され得る。
ＩＤ文書、パスポート、車両ナンバープレート、製品パッケージ、ＩＤバッジ、免許、カード、パス、ラベル、証明書、株、権利証書、流通証券、及び／又は通貨は、開示される光学物品のいずれかを含んでもよく、光学物品の位相差フィルムは、第１光位相差を有する１つ以上の第１領域、及び第２位相差を有する１つ以上の第２領域によって画定されるしるしを含み得る。
第１光位相差を有する位相差フィルムをもたらす工程と、位相差フィルムの領域を第１放射線に暴露する工程とを含む、方法が開示される。位相差フィルムは、可視光線に対して有効光学媒質をもたらすように構成された連続的な極薄層の有効媒質積み重ね体を含み、極薄層は、異なる第１及び第２極薄層を含み、第１極薄層は第１の固有の複屈折性を呈する第１ポリマー材料及び第２ポリマー材料を含む第２極薄層を含む。極薄層は、それぞれが、１９０ｎｍ未満の光学厚さを有する複数の光学的反復ユニットへと構成される。暴露は、暴露領域において、第１光位相差を、第１光位相差とは異なる第２光位相差へと変更するために十分な量だけ位相差フィルムを吸収加熱するために、実行される。方法は、第２光位相差が、第１光位相差よりも大きいように、実施され得る。
いくつかの場合において、第１光位相差を有する位相差フィルムの非暴露領域（未処理領域）は、ウィンドーフィルムであってもよく、第２光位相差を有する位相差フィルムの暴露領域（処理領域）は、ｃプレート位相差板であり得る。いくつかの場合において、第１光位相差を有する位相差フィルムの非暴露領域は、ウィンドーフィルムであってもよく、第２光位相差を有する位相差フィルムの暴露領域は、ａプレート位相差板であり得る。
いくつかの場合において、第１光位相差は、可視光線においてごく僅かな位相差（例えば、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲において２０ｎｍ未満）であり得、第２光位相差は、可視光線において有意な位相差（例えば、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲において９５ｎｍ未満）であり得る。第２光位相差は、３８０〜７８０の波長領域における少なくとも１つの波長において、１／４波プレートと対応してもよい。第２光位相差は、３８０〜７８０の波長領域における少なくとも１つの波長において、１／２波プレートと対応してもよい。
暴露工程は、第１光位相差を有する１つ以上の第１領域、及び第２光位相差を有する１つ以上の第２領域によって画定されるしるしをもたらすように実行され得る。方法は、位相差フィルムをセキュリティ文書に取り付ける工程を含み得る。方法は、暴露工程後に、少なくとも１つの偏光子を使用して位相差フィルムを点検する工程を含み得る。
有効媒質積み重ね体は、第２極薄層と交互する第１極薄層を含み得る。第２ポリマー材料は、いくつかの場合においては等方性であるが、いくつかの場合においてこれは第１複屈折性と異なる第２複屈折性を呈してもよく、第１及び第２ポリマー材料は、異なる融点を有してもよい。このような場合において、暴露工程は、第２極薄層におけるよりも第１極薄層における固有の複屈折性を優先的に低減するために実行され得る。更に、第２暴露工程は、フィルムの１つ以上の第２領域又はゾーンにおいて実行されてもよい。第２暴露工程において、フィルムの第２領域は、第２放射線に暴露されてもよく、第２放射線は第１極薄層及び第２極薄層の両方において固有の複屈折性を実質的に低減させ、第１及び第２光位相差とは異なる第３光位相差をもたらす。結果的に、位相差フィルムは、好適なしるし又はパターンを形成するために、その異なる領域又はゾーンにおいて３つの異なる光位相差を有し得る（フィルムの未処理領域又はゾーンにおける第１光位相差、第１放射線により処理されるフィルムの領域における第２光位相差、及び第２放射線で処理されたフィルムの領域における第３光位相差）。
関連する方法、システム及び物品もまた記載される。
これらの、及び本出願の他の態様が、発明を実施するための形態から明らかになる。しかしながら、いずれの場合において、上記の要約が請求される主題に対する制限とみなされるべきではなく、この主題は、係属中に補正され得る、添付の請求項によってのみ規定される。
しるしを形成するために、異なる光学特性を異なる領域又はゾーンにもたらすために、異なる領域又はゾーンにパターンが付された、光学的位相ずれフィルムのロールの斜視図である。 代表的な位相差フィルムの一部の概略側面図又は断面図である。 図２の位相差フィルム、特に、可視光に有効な光学媒体をもたらすように構成された、連続する極薄層の有効媒質積み重ね体の内部の概略側面図である。 パターン付き、又は処理された領域の境界における、図１の光学フィルムの一部の概略断面図である。 内側パターンを組み込む、別の光学位相差フィルムの一部の概略断面図である。 光学的位相差ＳＴＯＦフィルムに関して本明細書において記載される技術を使用して、達成され得る、様々な変形を要約する概略図である。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。 内側パターン化を達成するために、光学的位相差ＳＴＯＦフィルムを選択的に加熱するための構成の概略側面図である。 内側にパターン化された光学位相差フィルムの異なる第２ゾーンの概略図であり、示されるゾーンを形成することができる、フィルムに対する光線の可能な経路が、重ねて描かれている。 内側にパターン化された光学位相差フィルムの異なる第２ゾーンの概略図であり、示されるゾーンを形成することができる、フィルムに対する光線の可能な経路が、重ねて描かれている。 内側にパターン化された光学位相差フィルムの異なる第２ゾーンの概略図であり、示されるゾーンを形成することができる、フィルムに対する光線の可能な経路が、重ねて描かれている。 光線がフィルムへと伝搬する際の、深さの関数としての、光線の相対的強度を示す、理想化されたプロットであり、３つの異なる光学フィルムに関して３つの曲線が提示されている。 フィルム内の深さ又は軸方向位置の関数としての、局所的吸収係数を示す、理想化されたプロットであり、３つの曲線は、図９Ａの３つの曲線に対応している。 偽造防止の目的のために、セキュリティ文書に適用される積層物品の概略側面図又は断面図であり、積層物品は、本明細書において開示されるパターン付き位相差フィルムを含んでいる。 製造されたサンプルのための、波長の関数としての、測定される透過率のグラフである。
図面においては、同様の参照番号は、同様の要素を示す。
開示されるいくつかの実施形態において、本明細書において開示されるパターン化技術は、パターン化を達成するために、フィルムの選択的薄化に依存せずに、パターン化技術を利用することができる。例えば、内側パターン化技術が使用されてもよく、選択されるゾーンにおいて、隣接するゾーンに対し、フィルムの光学的位相差（及び／又はフィルムの別の光学的特性）を変更するように、フィルム内の少なくとも１つの材料の複屈折が選択される領域又はゾーンにおいて低減又は排除され、隣接する領域又はゾーンではされず、一方で、選択される（処理される）ゾーンにおいてフィルムの物理的一体性を実質的に維持するような方法により、圧力のいずれかの選択的な適用なしに、フィルムを好適に向けられた放射線に暴露することにより、光学的位相差フィルムは少なくとも１つの領域又はゾーンにおいて選択的に加熱される。フィルムの様々な処理ゾーン及び未処理ゾーンは、実質的に同じ全体的フィルム厚さを有してもよく、又はいずれにせよ異なるゾーンの間の光学的位相差が、ゾーンの間のフィルム厚さのいずれかの差に実質的に依存しないことがある。更に、異なるゾーンの間の光学的位相差の差が実質的に、表面の質感、粗さ、又はフィルムの他の表面効果によらないことが好ましい。以下の特許文献を参照する：米国特許出願公開番号第２０１１／０２４９３３４号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｗｉｔｈ Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔ Ｌａｙｅｒｓ」、同第２０１１／０２５５１６３号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）、「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｕｓｉｎｇ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」、２０１０年６月３０日出願の米国仮特許出願番号第６１／３６０１２７（代理人整理番号６６４７３ＵＳ００２）、「Ｒｅｔａｒｄｅｒ Ｆｉｌｍ Ｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｓ Ｗｉｔｈ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」、２０１１年６月２９日出願の国際特許出願ＰＣＴ／ＵＳ２０１１／０４２３６４（代理人整理番号６６４７３ＷＯ００３）、「Ｒｅｔａｒｄｅｒ Ｆｉｌｍ Ｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｓ Ｗｉｔｈ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」。
以下の記載により、可視光線に関して位相差プレートとして機能し、光学フィルムのための所望の種類及び量の位相差をもたらすために、連続的な極薄層の有効媒質積み重ね体を組み込む、透明な光学フィルムについて記載する。これらの光学フィルムは、フィルムの元来の位相差が処理領域において修正されるように、パターンにより処理されるように構成されるか、又はパターンにより処理されており、処理領域及び未処理領域は一緒に、しるし、又は異なる位相差の他の所望のパターンを形成する。これらのしるし、又はパターンは、偏光を使用してフィルムを観察することによって肉眼で可視となり得る。理論に束縛されることなく、処理領域の修正された位相差を主に司る機構は、有効媒質積み重ね体における極薄層の少なくともいくつかの固有の複屈折の、熱により生じる弛緩であるものと考えられる。この点において固有の複屈折とは、光学フィルムに存在する、（別個のものとしてみなされる）特定の光学物質の複屈折を指す。代表的な光学フィルムの構成、処理、及び動作を記載するため、複屈折、構造性複屈折、屈折率、有効屈折率、誘電率、及び光学的位相差などの、他の光学的概念を参照し、これらはここで更に詳細に記載される。
材料は、この材料が、関心の波長範囲（例えば、スペクトルの可視部分における選択される波長、又は帯域）において、異方性誘電率テンソルを有する場合には、「複屈折性である」とみなすことができる。換言すると、材料の主屈折率（例えば、ｎ１ｘ、ｎ１ｙ、ｎ１ｚ）が全て同じでない場合に、「複屈折性」とみなすことができる。主複屈折率は、２つの主屈折率の間の差である。所与の材料又は層の「複屈折率」は、他に特別に指定されない限り、その最大主屈折率と、その最小主屈折率との間の差を指すことがある。極僅かな量の複屈折率は一般的に無視することができる。位相差フィルムの文脈において、極僅かであるとみなすことができる、複屈折率の量は、合計厚さ、又はこのような材料を通じて伝搬する光の光学経路長さに依存することがあり、合計厚さ又は経路長さが小さいほど、複屈折率は極僅かであり、無視できるものとみなすことができ、逆もまた同様である。
媒体の主位相差は、主複屈折率に、媒体の厚さを乗じたものである。位相差（複屈折率など）は、符号を有する数量であり、光学フィルム又は本体の個別の成分の個別の位相差の合計は、互いに相殺又は補完することができるが、単純化するため、本明細書において値が報告されるとき、位相差の符号又は極性が記載内容において重要である場合を除き、位相差の絶対値又は振幅が一般的に使用される。可視スペクトルにおいて動作するように設計された位相差プレートは、５０ｎｍ〜８００ｎｍ、より典型的には９５ｎｍ〜３９０ｎｍの範囲である、主位相差を有する。様々な媒体が、これらの対応する主光学軸が実質的に一致するように積層されるとき、組み合わせの位相差は、個別の媒体の位相差の合計である。用途により、主軸は、対応する主軸の間の最大の角の開きが、１０°、５°、又は３°以下であるときは、実質的に一致するものとみなされ得る。例えば、共押出しされた極薄層の積み重ね体が、２つの外側スキン層の間に配置される、フィルム構成体は、２つの外側スキン層の位相差、及び極薄層積み重ね体の位相差の合計と等しい、合計位相差を有する。フィルム構成体が保護境界層（ＰＢＬ）などの他の内側層を含むとき、これらの追加的な層もまた、光学フィルムの全体的な位相差に影響し得る。積み重ね体における個別の極薄層に対し、スキン層及びＰＢＬ層はそれぞれ、一般的に光学的に厚く、例えば可視光の波長よりも大きな光学的厚さを有する。いくつかの場合において、共押出しされた内部極薄層の積み重ね体を、フィルムの光位相差が極薄層の厚さの光位相差と等しくなるようにする場合、スキン層及び／又はＰＢＬ層に実質的に等方性の材料を使用することが有利であり得る。他の場合において、光学的に厚いスキン及び／又はＰＢＬ層はまた、かなりの位相差をもたらし、フィルムの全体的性能に寄与する。
本明細書の他所において記載されるように、位相差プレート又はフィルムは、正確に、３つの主屈折率の２つが、実質的に等しい場合に、一軸的であると称することができる。２つの等しい屈折率と関連する２つの軸は、常軸と称され、これらは、光学特性が等方性である平面を画定する。他の２つとは異なる主屈折率成分と関連する残りの軸は、異常軸と称される。一軸的位相差板はしたがって、２つの実質的に等しい、非ゼロ複屈折率を有し、常軸と異常軸との間に関連する位相差を有する。常軸における複屈折率は、実質的にゼロである。ａプレート位相差板、フィルム平面に異常軸を備える一軸的位相差板である。このような位相差板において、面内位相差は、唯一の無視できない位相差のみである。一方でｃプレート位相差板は、フィルム平面と垂直な異常軸を備える一軸的位相差板である。このような位相差板において、面外位相差（以下のパラメータＲth参照）は、唯一の無視できない位相差である。
１／４波プレート、１／２波プレートなどは、ａプレート、又は二軸的位相差板である。１／２波プレートは、関心の真空波長の半分と等しく、１／４波プレートは、関心の真空波長の１／４と等しい主面内位相差を有する。したがって、例えば、６３２ｎｍの真空波長を有する可視赤色光において、１／２波プレートは３１６ｎｍの位相差を有し、１／４波プレートは約１５８ｎｍの位相差を有する。５６０ｎｍの真空は超を有する可視光線において、１／２波プレートは約２８０ｎｍの位相差を有し、１／４波プレートは、約１４０ｎｍの位相差を有する。
材料は場合により、「正」又は「負」の複屈折材料として特徴付けられる。この点における用語「正」及び「負」は、材料加工の観点、又は静的機能の観点に関する文脈によって、二重の意味を有することがある。
材料加工の観点から、ポリマー材料などの材料は、材料の屈折率が伸張方向で増加する場合、正の複屈折性を有すると称することができる。伸張は通常、フィルムの平面内で生じるため、このような材料の、ｚ又は厚さ方向における屈折率は、このような伸張においては、典型的には減少する。同様に、材料加工の観点から、材料の屈折率が伸長方向減少する場合、材料は、負の屈折性を有すると称することができる。このような材料のｚ又は厚さ方向における屈折率は、典型的にはこのような伸張においては、典型的には増加する。一軸方向に延伸される材料は、フィルムが完全に一軸的に延伸されるとき、誘電率テンソルにおいて一軸的な対称性を呈し、２つの等しい、又は実質的に等しい主屈折率を有する。この場合、主伸張方向に沿って位置合わせされる面内方向は、誘電率テンソルの異常軸となり、垂直な面内方向及び厚さ方向（ｚ軸）は、誘電率テンソルの等しい常軸となる。完全な一軸方向の延伸は、例えば、米国特許番号第６，９３９，４９９号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）、同第６，９４９，２１２号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）、米国特許出願公開番号第２００８／００８３９９８号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）、及び同第２００８／００８５３８３（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）に記載されるように、伸張の主軸に沿った材料の寸法が増加する際に、フィルム又は材料が垂直面内方向（すなわち、伸長方向と垂直な面内方向）（厚さ方向と同様に）に寸法的に収縮させることによって達成され得る。完全に一軸方向に延伸したフィルムは、ａプレート（一軸方向）位相差フィルムを形成してもよい。しかしながら、いくつかの場合において、一軸方向に伸張する材料は、例えば、従来的な幅出機で、又は長さ配向装置を使用して、寸法的な収縮により拘束される場合があり、これは主屈折率において３つの異なる値を生じ、二軸方向の位相差板を生成する。二軸方向幅出機、又は一軸方向ａプレートのいずれか一方が、１／４波又は１／２波プレートを作製するために使用され得る。いくつかの場合において、連続的に又は同時に、二軸方向に延伸される材料又はフィルムは、誘電率テンソルにおいて一軸的な対称性対称性を呈することがあり、最終的な面内主屈折率は、等しいか、又はほぼ等しい。この場合、厚さ方向又はｚ軸は、異常軸となり、フィルムはｃプレート一軸位相差フィルムである。いくつかの場合において、フィルムの平面における二軸方向の伸張は、不均衡である場合があり、例えば、フィルムはｘ方向においてｙ方向におけるよりも伸張しているか、又はその逆であってもよく、これもやはり、主屈折率において３つの実質的に異なる値を生じ得る。このようなフィルムはしたがって、二軸方向の位相差板であり得る。このような非対称な軸方向の延伸は、例えば、１／４波、及び１／２波プレートを作製するために使用され得る。
静的機能の観点から、異常軸と関連する屈折率が常軸に関連する屈折率よりも大きい場合、一軸方向位相差板は正に複屈折性であると称することができる。したがって、正のｃプレートは、負に複屈折の材料を等しく二軸方向に配向することによって形成され得、負のｃプレートは、正の複屈折材料を等しく二軸方向に配向することによって形成され得る。同様に、正のａプレートは、正の複屈折材料を位置軸方向に配向することによって形成され、負のａプレートは、負の複屈折材料を完全に位置軸方向に配向することによって形成され得る。
上記のように、その個別の層が全て、光の波長の所与の割合よりも小さい層状媒体に当たるとき、光が、これが非層状の媒体、又は「有効媒質」であるかのように、層状の媒体又は積み重ね体を通じて伝搬する。積み重ね体の層は、典型的には、反復的なパターン（例えば、ある材料から構成される「Ａ」層、及び異なる材料から構成される「Ｂ」層の、交互ＡＢＡＢＡＢ．．．の構成）で構成されるが、他の反復パターンが使用されてもよい。パターンの基礎を形成する層の最小の群は、光学的反復単位と称され、単純なＡＢＡＢＡＢ．．．積み重ね体の場合は、単一のＡＢ対が、光学的反復単位である。「有効媒質」条件とは、光学的反復単位の光学厚さであり得、各光学反復単位の光学的厚さは、光の波長の半分未満である。例えば、約３８０〜７８０ｎｍの波長範囲内の光などの、可視光に関し、この「有効媒質」の条件は、１９０ｎｍ未満の各光学反復単位の光学的厚さとして表現され得る。この条件を満たす積み重ね体の層は、極薄層と称される。これらの層が均一な光学的厚さであるとき、各層の光学的厚さは、９５ｎｍ未満である。
有効媒質理論を使用して概算され得る、有効媒質の屈折率は、本明細書において、有効屈折率と称される。有効媒質が、異なる屈折率を有する異なる光学材料の個別の層から作製されても、層積み重ね体は全体として、位相差に関して、有効媒質限界において計算される有効屈折率の単一のセットを有するかのように挙動する。この限界において、面内屈折率は、誘電率に関する、直列モデルにより、加重成分平均であり、一方で面に垂直な屈折率は、誘電率に関する並行モデルにより加重成分平均である。材料の誘電定数「Ｅ」は、関係式Ｅ＝ｎ2による、材料の屈折率「ｎ」に関連する。Ｅはテンソル量であるため、誘電率の等式が３つの主方向に関して作られ得る。誘電率テンソルが、斜めの又は主方向の形態で記述されるとき、これらの主方向における屈折率は、主誘電率値の平方根として、導かれ得る。「ｘ」及び「ｙ」がフィルム平面における主方向であり、「ｚ」はフィルム平面と垂直な主方向であるものと想定すると、有効媒質理論により、有効誘電率に関し、以下の等式がもたらされる。
Ｅx＝ｆ1・Ｅ1x＋ｆ2・Ｅ2x （１）
Ｅy＝ｆ1・Ｅ1y＋ｆ2・Ｅ2y （２）
Ｅz＝（（ｆ1／Ｅ1z）＋（ｆ2／Ｅ2z））-1 （３）
ここで、Ｅは、ｘ、ｙ、及びｚ軸に沿ってＥx、Ｅy、及びＥzの値をそれぞれ有する、有効媒質の誘電率である。同様に、Ｅ1x、Ｅ1y、及びＥ1zが材料「１」により構成される層の、誘電率のｘ、ｙ、ｚ成分であり、Ｅ2x、Ｅ2y、及びＥ2zは、材料「２」により構成される層の、誘電率のｘ、ｙ、ｚ成分である。これらの等式は、材料「１」及び「２」の交互する層から本質的になる、有効媒質を想定している。所定の材料が「ｉ」（ｉ＝１又は２）が等方性であるとき、成分主誘電率Ｅix、Ｅiy、Ｅizは全て実質的に等しい。上記の等式のパラメータｆ1及びｆ2は、積み重ね体又は光学的反復単位における厚さ単位の、２つの材料の相対的な量又は比率を表す。これらのパラメータｆ1及びｆ2は、これらの２つの材料「１」及び「２」の層のみが積み重ね体内に存在する場合に、足して１になる。
ｆ1＋ｆ2＝１ （４）
等式（１）〜（４）は、有効媒質理論により示されるように、一般的に異方性であり得る層から形成される直列及び並列平均の、標準的、一般的結果の形態である。
関係式Ｅ＝ｎ2に基づき、有効屈折率ｎのＸ、Ｙ、及びＺ成分に関して、等式（１）〜（３）に相当するものが、Ｘ、Ｙ、及びＺ成分に関して記載され得る。
ｎx＝ｓｑｒｔ｛Ｅx｝＝ｓｑｒｔ｛ｆ1・Ｅ1x＋ｆ2・Ｅ2x｝ （１ａ）
ｎy＝ｓｑｒｔ｛Ｅy｝＝ｓｑｒｔ｛ｆ1・Ｅ1y＋ｆ2・Ｅ2y｝ （２ａ）
ｎz＝ｓｑｒｔ｛Ｅz｝＝ｓｑｒｔ｛（（ｆ1／Ｅ1z）＋（ｆ2／Ｅ2z））-1｝ （３ａ）
ここで「ｓｑｒｔ」は、平方根関数を示す。
等式（１）〜（４）は、積み重ね体が本質的に交互する材料層「１」及び「２」からなることを想定しているが、これらは他の積み重ね体構成に容易に応用可能であり、例えば、３つ異常の異なる材料層が各光学的反復単位を形成する。例えば、２つの異なる正の複屈折材料の層は、等式（１）及び（２）を使用して一緒に平均値を求められ、この有効結果は、第３の負の複屈折材料と共に再び平均値を求められる。あるいは、等式は、等式（１）及び（２）のパターンによる、面内の直列平均を使用して、及び等式（３）のパターンによる厚さを通じた並列平均を使用して、割合ｆ1、ｆ2、ｆ3などにより単純に応用することができる。したがって、例えば、積み重ね体が、材料層「１」、「２」及び「３」の反復パターンからなる場合、等式（４）は、ｆ1＋ｆ2＋ｆ3＝１となり、等式（１）は、Ｅx＝ｆ1・Ｅ1x＋ｆ2・Ｅ2x＋ｆ3・Ｅ3xとなり、等式（３）は、Ｅz＝（（ｆ1／Ｅ1z）＋（ｆ2／Ｅ2z）＋（ｆ3／Ｅ3z））-1となる。
所与の光学物品若しくは層、又は他の部分が、３つの主複屈折に対応する３つの主位相差を有する場合がある：面内（ｘ、ｙ）複屈折と関連する面内位相差、及び２つの面外（ｘ、ｚ及びｙ、ｚ）複屈折に関連する２つの面外位相差。従来的な、位相差プレートの参照数量又はパラメータ（特に位相差プレートがに軸方向の特性である場合（他の場合でも適用可能））は、平均の面外（又は厚さ）複屈折の絶対値であり、これはＮthと標識される。
Ｎth＝（（ｎx＋ｎy）／２）−ｎz （５ａ）
この平均の面外複屈折と関連する複屈折性と関連する位相差（Ｒthと標識される）は、以下に示される：
Ｒth＝Ｄth・｜Ｎth｜， （５ｂ）
Ｄthは、所与の屈折率の位相差媒質の実際の厚さである。
本明細書において記載される一定の数量及びパラメータは、多くの又は殆どの場合において極僅かであるとみなされ得る。例えば、小さいがゼロではない位相差は、実質的にゼロであるとみなされ得る。例えば、小さいがゼロではない複屈折は、実質的にゼロであるとみなされ得る。更に、有効媒質は、小さいがゼロではない構造性複屈折を有することがあるが、これは依然、実質的にゼロであるものとみなすことができる。
位相差に関し、可視光を含む用途において、主位相差は典型的には、その振幅又は絶対値が１０ｎｍ以下である場合に、極僅かであるとみなされる（すなわち、実質的にゼロ）。このような場合において、更に高い値、例えば、１５、２０、３０、又は更に５０ｎｍは、極僅かであるものとみなされ得る。
複屈折に関し、材料の所与の厚さの対応する位相差が極僅かである場合、複屈折率は典型的には、極僅かであるとみなされる（すなわち実質的にゼロ）（複屈折率と関連する主屈折率が互いに実質的に等しいとみなされ得ることも意味する）。読者は、材料の屈折率が分散を呈し得る（すなわち、屈折率は異なる波長において異なり得る）ために、位相差もまた異なる波長において異なり得ることを想起する。いくつかの場合において、特に、約３８０〜７８０ｎｍの可視スペクトルの殆ど又は全部において、この効果は小さく、無視することができる。それでも、１つ以上の特定の可視波長において、又はいくつかの場合において、可視波長帯域の殆ど又は全部において、複屈折率が上記の条件を満たす場合（材料の所与の厚さの対応する位相差が極僅かである）、複屈折率は、用途における要求によって、このような波長において極僅かとみなすことができる。
構造性複屈折に関し、最初に、層状有効媒体の文脈において、構造性複屈折が何を意味するかを、定量化する必要がある。構造性複屈折とは、分子距離規模よりも大きく、光の波長よりも小さな、材料構造から生じる、光学的異方性を指す。例えば、規則的な周期性を備えるナノ層構造は、構造性複屈折を有する。本明細書の他所において示され、記載される連続的な極薄層の有効媒質積み重ね体などの、単純な層状媒体の場合、構造性複屈折は、厚さ方向Ｅz（及び厚さ方向ｎzにおける対応する有効屈折率）の有効誘電率のみに作用し、有効誘電率及び有効屈折率のｘ及びｙ成分には作用しない。構造性複屈折の不在下において、有効媒質の有効誘電率Ｅのｚ成分の等式の形態は（有効媒質が、材料「１」及び材料「２」のみによる、交互する極薄層から構成される場合）、上記の等式（１）及び（２）の加重平均の形態と同じである。すなわち、構造性複屈折の不在下において、有効媒質の有効誘電率のｚ成分は、以下によりベースライン値である。
Ｅz,ベースライン＝ｆ1・Ｅ1z＋ｆ2・Ｅ2z （６）
有効媒質の対応する有効屈折率のｚ成分のベースライン値は以下である。
ｎz,ベースライン＝ｓｑｒｔ｛Ｅz,ベースライン｝＝ｓｑｒｔ｛ｆ1・Ｅ1z＋ｆ2・Ｅ2z｝ （６ａ）
構造性複屈折の効果はしたがって、等式（３）によるｚ方向の実際の有効誘電率と、等式（６）のベースライン値との間の差を計算することによって数量化することができる。
ΔＥz,form＝Ｅz−Ｅz,ベースライン, （７ａ）
これは次のように単純化できる：
ΔＥz,form＝−（ｆ1・ｆ2・（Ｅ2z−Ｅ1z）2）／（ｆ1・Ｅ2z＋ｆ2・Ｅ1z） （７ｂ）
ここで、用語ΔＥz,formは、有効媒体の有効誘電率（ｚ方向）の複屈折部分を表す。構造性複屈折は、実際の有効誘電率（ｚ方向）を、等式（６）のベースラインの計算においてもたらされる、単純な平均を使用して得られる結果よりも低く、低減させる効果を有することに留意する。有効媒質の有効屈折率（ｚ方向）の構造性複屈折を表す類似の用語Δｎz,formは以下である：
Δｎz,form＝ｎz−ｎz,ベースライン， （８ａ）
用語ｎzは、等式（３ａ）による、ｚ方向に有効屈折率であり、ｎz,baselineは、等式（６ａ）により示される。等式（８ａ）は以下のように書き直すことができる：
Δｎz,form＝ΔＥz,form／（ｓｑｒｔ｛Ｅz｝＋ｓｑｒｔ｛Ｅz,baseline｝） （８ｂ）
ここで、構造性複屈折と関連する位相差である、パラメータＲformを画定することができる。
Ｒform＝Ｄth・｜Δｎz,form，｜ （９）
ここで、Ｄthはまた、等式（５ｂ）のような位相差媒質の実際の厚さである。これを踏まえ、以下のいずれかの条件が満たされる際に、可視光線を含む場合において、構造性複屈折は極僅かであるとみなし得ることと結論することができる：
Ｒform＜Ｒ閾値， （１０ａ）
又は
Ｒform＜０．０５・Ｒth． （１０ｂ）
パラメータＲ閾値は、典型的には１０ｎｍであるが、いくつかの場合においてこれは、例えば、１５、２０、３０、又は更に５０ｎｍなど、より高くてもよい。等式（１０ｂ）のパラメータＲthは、上記において、等式（５ｂ）でもたらされている。設計目的のため、構造性複屈折が極僅かである場合、有効媒質の有効誘電率のｚ成分を計算するために、等式（３）ではなく、等式（６）が使用されてもよい。
ここで図１に戻り、フィルム１０の構成フィルム又は層（図１に図示せず）の少なくとも一部を空間的な選択的複屈折低減を使用して、パターン化又は空間的に調節された、空間的に調節された光学フィルム（ＳＴＯＦ）１１０が見られる。パターン化は、図示される「３Ｍ」のしるしを形成するように成形された別個のゾーン１１２、１１４、１１６を画定するが、規則的又は不規則的、反復的又は非反復的な、他のいずれかのパターンが生成されてもよい。本明細書において記載される方法は、大容積のロールツーロールプロセスと有利に適合可能であるため、フィルム１１０は、ロールへと巻かれた長い可撓性材料として図示される。
しかしながら、方法は、可撓性ロールの商品に限定されず、小さな部品、又はサンプル、並びに非可撓性フィルム及び物品において実施することができる。「３Ｍ」のしるしは、他の光学的構成要素又は装置の補助により検出可能であるがこれは、異なるゾーン１１２、１１４、１１６が、異なる光学的特性を有し、特に、これらが異なる光学的位相差を有するためである。ゾーン１１２は第１の光位相差を有し、ゾーン１１４は、第１の光位相差とは異なる第２の光位相差を有し、ゾーン１１６は、第３の光位相差を有する。第３の光位相差は、第１及び第２の位相差とは異なることがあり、又はこれは第２の位相差と実質的に同じであってもよい。フィルム１１０のいずれかの特定の位置又はゾーンにおいて、これらの光学的又は光位相差は、フィルム１１０の構成要素の位相差、例えば、連続的な極薄層の１つ以上の内部有効媒質の位相差、及び任意によりまた、１つ以上の光学的に厚いスキン層及び／又はＰＢＬ層の位相差から作製されてもよい（本明細書の他所において記載される）。
いくつかの場合において、フィルム１１０は、可視スペクトルにおいて、反射又は吸収を殆ど、又は全く生じない、パターン状の位相差のみをもたらし得る。このような場合、フィルム１１０は、人間の観察者の肉眼には、実質的に均一な（パターンのない）ウィンドーフィルムに見えることがある。ここで「ウィンドーフィルム」とは、実質的に透明、清澄で、かつ屈折率が等方性である（有効屈折率を含む）、フィルムを指す。しかしながら、パターンを有する位相差は、例えば、交差偏光装置の間にフィルム１１０を配置することによって、このような観察者にとって可視となり得る。いくつかの場合において、反射及び／又は吸収は、可視スペクトル外の波長（例えば、赤外線波長）における１つ以上の遮断層によりもたらされることがある。
代表的な場合において、フィルム１１０は、少なくとも一部光透過性であり、好ましくは、可視スペクトルの一部又は全部において、少なくとも５０、６０、７０又は８０％以上の透過率を有する。一般的に透過率（Ｔ）＋反射率（Ｒ）＋吸収率（Ａ）＝１００％、すなわち、Ｔ＋Ｒ＋Ａ＝１００％である。フィルムが拡散粒子、又は表面を含む場合において、透過率Ｔは、半球透過率を表し（すなわち、２π内の立体角内のその伝播方向にかかわらず、光源と反対のフィルムの側面においてフィルムから出る全ての光）、Ｒは同様に半球反射率を表す（すなわち、２π内の立体角内の伝搬方向にかかわらず、光源と同じ側フィルムの側面においてフィルムから出る全ての光）。いくつかの実施形態において、フィルムは、波長スペクトルの少なくとも一部にわたって低い吸収率を有する材料から、全体的に構成される。これは、熱供給を促進する吸収染料又は顔料を組み込むフィルムについても妥当することがあるがこれは、いくつかの吸収性材料は、その吸収性において波長特定的であるためである。例えば、近赤外線波長領域を選択的に吸収するが、可視スペクトルをほとんど吸収しない、赤外線染料が利用可能である。スペクトルの他端において、光学フィルムの文献において、低損失であるとみなされている多くのポリマー材料が、可視スペクトルにおいて低損失を有するが、また、一定の紫外線波長において有意な吸収率を有する。したがって、多くの場合において、フィルム１１０は、可視スペクトルなどの波長スペクトルの、少なくとも限定的な部分において、小さい又は極僅かな吸収率を有することがあり、この場合、この限定的な領域における反射率及び透過率は、相補的な関係式を有するがこれは、Ｔ＋Ｒ＝１００％−Ａであるためであり、Ａは小さいために、
Ｔ＋Ｒ≒１００％である。
本明細書の他所で記載されるように、異なるパターン付きゾーン（例えば、ゾーン１１２、１１４、１１６）の開示される光学物品（例えば、フィルム１１０）の異なる光学的位相差はそれぞれ、極薄層、及び任意により光学フィルムの内側にあるバルク材料（例えば、スキン層及び／又はＰＢＬ層などのもの）などの構造的特徴の結果であって、フィルムの表面に適用されるコーティング、又は他の表面特徴によるものではない。開示フィルムの態様は、これをセキュリティ用途において有利なものとするが（例えば、権限の表示のために、フィルムが製品、パッケージ、又は文書に適用されるように意図されるとき）、これは内部機構が複写又は偽造困難であるためである。
以下で更に記載されるように、第１、第２及び第３の光学的位相差は、観察者又は機械によるパターンの検出を可能にするように、少なくともいくつかの観察条件によって認識可能であるように、互いに異なっている。これらの差異は、主にフィルムの異なる隣接する光学フィルムの内部機構の屈折率特性の差異によるのであって、主に隣接するゾーンの間の厚さにも、表面に関する機構にもよらないことが、好ましい。
図２は、空間的に調整された（又は調整可能な）光学フィルム（ＳＴＯＦ）２１０の一部の概略側面、又は断面図である。フィルム２１０は、図示されるように、前面又は上面２１０ａ及び後面又は下面２１０ｂを有する。フィルムの平面を画定するｘ及びｙ軸、加えてフィルムの厚さ軸と並行に向けられたｚ軸を備える、デカルトｘ ｙ ｚ座標系に関連して示されるフィルム２１０は、位相差層２１２（本明細書において位相差積み重ね体とも称され得る）を含み、これは外側スキン層２１８と２２０との間に配置された、保護境界層（ＰＢＬ）２１４と２１６との間に配置されている。これらの構成要素は、好ましくは、本明細書の他所で記載される共押出し及び配向技術を使用して、かつ任意により、積層又はコーティング技術などの他の好適な技術と組み合わせて、層状構成で互いに接続されて、図示されるようなフィルム２１０を生成する。フィルム２１０は典型的には、ｚ方向において比較的限定的な厚さを有し、典型的には面内ｘ及びｙ方向に沿って延びる。フィルム２１０は典型的には可撓性であるために十分に薄いが、厚く、実質的に剛性の実施形態もまた想到される。フィルム２１０の空間的パターン化は、ほぼｘ−ｙ平面に沿って画定される。
位相差層２１２は本明細書の他所に記載されるように、可視光線に対する有効光学媒質をもたらすように構成された、連続的な極薄層の有効媒質積み重ね体であることを示すように、灰色に影を付けられている。フィルム２１０は、フィルムの平面内の位置の関数としての、その光学的位相差により特徴づけることができる。軸２０３は、１つのこのような位置を表すために示される。例えば、外側の点２０１から外側の点２０２まで、又はその逆の、軸２０３に沿った光の伝搬は一般的に、光の２つの垂直な偏光成分の間の位相差を伴う。いくつかの場合において、例えば、ＰＢＬ層及びスキン層が等方性であるとき、又はＰＢＬ及び／若しくはスキン層が個別に有意な位相差を有するが、その個別の位相差を互いに実質的に相殺するように配向されているとき、フィルム２１０の位相差は、実質的に完全に位相差層２１２によることがある。他の場合において、フィルム２１０の位相差は、位相差層２１２の位相差と、ＰＢＬ及び／又はスキン層の位相差との組み合わせであり得る。
図２の実施形態の基本構成は、外側スキン層２１８、２２０、２つの内側ＰＢＬ ２１４、２１６、及び位相差層２１２である内側コアを含む、共押出しされ、配向された多層ＳＴＯＦの構成である。フィルム製造の間、内側ＰＢＬは、多層フィードブロック内のコアの外側層として共押出しされてもよく、したがって、コアと最外スキン層との間に位置付けられる。いくつかの場合において、最外層２１８、２２０は、省略されてもよい。コア、すなわち、位相差層２１２は、少なくとも２組の交互する材料層を本質的に含むか、又はこれらからなる。コアは、このような交互する層の少なくとも１つのパケット又は積み重ね体を本質的に含むか、又はこれらからなる。共押出しプロセスにおいて、パケットの倍加が使用されるとき、フィードブロックを出る基本の光学コア層が切断されて、再積層され、追加的なパケットを形成する。フィルム２１０はひいては、光学的に厚いＰＢＬにより互いに分離される、複数のこのようなパケット又は積み重ね体を含むことがある。いくつかの場合において、別個のフィードバックから作製される別個のパケットを統合することによって、複数のパケットが光学フィルムに含まれる場合がある。いくつかの場合において、フィルム構成は典型的に、スキン層及び少なくとも１つのパケットを含み、各パケットは保護境界層により、スキン層、又は他のパケットから分離される。
フィルム作成中、共押出し及びキャスティングの後、キャストされた材料は、典型的には、フィルムの少なくとも１つのパケット内の層のセットの少なくとも１つにおいて固有の複屈折を形成するように、伸張させることによって配向される。複屈折の形成に加えて、配向手順はまた、構成体の長さ及び／又は幅を増加させ、厚さを減少させ、仕上げたフィルム２１０及びその構成要素が、所望の厚さとなるようにする。配向後、フィルムの少なくとも１つのパケットが、１つ以上の設計波長（例えば、可視波長領域、又はそのうちのいずれかの波長）において測定した際に、２つの面内主屈折率、及び１つの面外主屈折率によって表される、有効な屈折率の異方性のセットを備える、位相差層２１２として機能するために好適な有効媒質を形成するために十分に薄い層を含む。本明細書において記載される波長は、真空における波長を指す。各主屈折率は同様に、分散曲線を有し、すなわち、主屈折率はそれぞれ、波長の関数であり、典型的には波長の増加に伴って単調に減少する。これらの分散曲線は、標準関数により、例えば、関心の帯域に関して少なくとも３つの測定される波長に適合する、いわゆるコーシーの関係により、近似値を求めることができる。実際、屈折率は、アッベ屈折計、及びプリズム結合器（例えば、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｐｉｓｃａｔａｗａｙ，ＮＪから入手可能）を含む、様々な装置を使用して測定され得る。可視光線のための有効媒質として実質的に機能するため、パケットの個別の極薄層、又はパケットのこのような層の光学的反復ユニットの光学的厚さは、本明細書の他所において記載されるように十分に小さくなくてはならない。例えば、個別の層の光学的厚さは、所望のは超帯域の最も短い波長における、波長の１／４未満であることが好ましい。光学的厚さは、層の屈折率と、層の物理的厚さの積である。例えば、３８０〜７８０ｎｍの可視帯域において、有効媒質積み重ね体の最も厚いコア層の光学厚さ（したがって、極薄層を含むが、ＰＢＬを含まない）は好ましくは９５又は１００ｎｍ未満である。例えば、５０ｎｍ未満の光学的厚さなど、より薄いことが望ましい場合がある。有効媒質積み重ね体において使用され得る、高度に配向されたポリエステル材料の屈折率は、可視帯域内の短い波長において、２又は少なくとも１．５より僅かに大きい場合がある。個別の極薄層の物理的厚さはしたがって、約７０ｎｍ以下、いくつかの場合においては、５０又は２５ｎｍ以下であり得る。このような極薄層から作製されるパケットはしたがって、有効媒質を形成することができ、典型的な多層光学フィルム偏光子、及びミラーとは異なり、実質的に全ての可視波長において、かつ変更状態にかかわらず、強め合う又は弱め合う光干渉と関連する実質的な反射帯域（これはフィルムを通じた可視光の透過を変更する）をもたらさないことがある。
有効媒質コア（位相差層２１２）、保護境界層２１４、２１６、及びスキン層２１８、２２０の屈折率特性は一緒に、任意の入射角でフィルム２１０に入射する光に、全体的な位相差をもたらす。本明細書の他所に記載されるように、位相差はフィルムを透過する光の２つの垂直な偏光状態の間の光学経路長さの差であり、典型的にはｎｍで記載される。位相差プレートの速軸は、最も低い面内屈折率の方向であり、遅軸は、これと垂直であり、最も高い面内屈折率の方向である。垂直入射光において、位相差は、この波長（すなわち、面内複屈折）の屈折の面内主屈折率の差異の合計と、様々な層（例えば、スキン層、ＰＢＬ、及びコアパケット）の物理的厚さの積である。位相差が所与の波長の半分と等しい場合、フィルム２１０又はその一部が１／２波長プレートと称される。例えば、その速軸及び遅軸が偏光軸対して４５°となるように斜めに位置合わせされる１／２波プレートに入る、垂直な直線偏光は、水平な直線偏光として１／２波プレートを出る。位相差プレートの有効性はまた、例えば、従来的な分光光度計を使用して、位相差プレートが前方偏光子と後方偏光子との間に配置される、サンドイッチ構成の透過率測定により直接測定することができる。所定の波長において、前方偏光子と後方偏光子が位置合わせされた透過状態軸を有するときにサンドイッチ構成を通じて殆ど又は全く透過率を有さず、前方偏光子及び後方偏光子が垂直な透過状態軸を有するときにサンドイッチ構成を通じて高い透過率を有し、かつ位相差フィルムの速軸及び遅軸が偏光軸に対して４５°に向けられているときに、フィルムは、１／２波長（又はより高い）プレートとして機能する。
しるし、又は他の面内パターンを形成するように、異なる（ｘ，ｙ）位置において、異なる光学的位相差を呈し得るように、選択される領域で光学フィルム２１０を選択的に処理するため、位相差層２１２は、その構成層の１つ以上において吸収特性を備え、この吸収特性は、フィルム２１０のいずれかの所望の位置又は領域が処理され得るように、ｘ，ｙ平面を通じて連続的に延びていることが好ましい。好ましくは、吸収特性は、位相差層２１２の１つ以上の構成層に組み込まれる染料又は顔料などの吸収剤の結果であるが、いくつかの場合においては、有効媒質積み重ね体において使用される所与のポリマー材料の固有の又は自然の吸収性によるものであり得る。吸収特性は、光学フィルム２１０がレーザーなどの好適な放射ビームに暴露されるときに、有効媒質積み重ね体を吸収により加熱するように調整される。ビームに暴露されるフィルムの領域又はゾーンに実質的に局地化され得る、吸収加熱は、フィルムの暴露領域において、光位相差を異なる光位相差へと変更するために十分であり、一方で有効媒質の構造的一体性を維持する。放射ビームは、フィルム２１０の上面２１０ａ上に、又は下面２１０ｂ上に、必要に応じて衝突し得る。放射ビームは、偏光若しくはコリメートされるか、又はその両方であり得る（例えば、レーザー源から）。放射ビームは、書き込み波長（例えば、書き込み帯域幅）を含む。
吸収加熱は、位相差層２１２の複屈折及び位相差を修正することにより、光学フィルム２１０にパターンを付けるために有効である。これはひいては、位相差層２１２の有効媒質積み重ね体を設計することによって促進され、これにより構成極薄層の少なくともいくつかが固有の複屈折を有し、このような固有の複屈折は例えば、フィルム配向手順によってもたらされる。吸収加熱は、極薄層の少なくともいくつかの固有の複屈折を緩和させるのに十分な高さであるが、有効媒質積み重ね体の構造的一体性を維持するのに十分な低さである。したがって、位相差層２１２は、選択される波長（典型的には３５０ｎｍ〜２５００ｎｍ）に対して選択的に吸収性であり、したがって、このような放射エネルギーの適用による複屈折率低減の影響を受けやすいように調整され得る。構成光学材料の１つ以上の固有の吸収性が使用され得るが、典型的には、染料又は顔料などの放射吸収剤が、有効媒質積み重ね体パケットを形成するポリマー層の少なくとも１つのセットで共押出しされる。代表的な吸収剤はしたがって、関心の層のセットに埋め込むことができるように、溶融押出可能であり得る。この目的のため、吸収剤は好ましくは、押出のために必要な処理温度、及び滞留時間で、適度に安定的である。好適な放射吸収剤の例としては、Ｅｐｏｌｉｔｅ（商標）４１２１（Ｅｐｏｌｉｎ，Ｎｅｗａｒｋ，ＮＪから入手可能）又はＡｍａｐｌａｓｔ（商標）ＩＲ−１０５０（Ｃｏｌｏｒ Ｃｈｅｍ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｒｐ．，Ａｔｌａｎｔａ，ＧＡから入手可能）などの有機金属化合物、金属塩、アンチモンスズ酸化物（ＡＴＯ）などの酸化金属、六ホウ化ランタン（ＬａＢ6）から作製された、寸法特定的なプラズモン共鳴吸収を呈する粒子などの、工業用粒子が挙げられる。いくつかの潜在的な赤外線染料としては、Ｅｐｏｌｉｎ，Ｉｎｃから、商標名Ｅｐｏｌｉｇｈｔ（商標）で入手可能な、ニッケル、パラジウム、及びプラチナ系染料のいずれかが挙げられる。他の好適な後方は、米国特許番号第６，２０７，２６０号（Ｗｈｅａｔｌｅｙ ｅｔ ａｌ．）から見出される。「多成分光学本体」
いくつかの場合において、吸収剤は非線形吸収剤であってもよく、すなわちこれは、光エネルギー吸収係数が強度又はフリューエンスに依存する組成物であるか、又はこれを含むことがあり、ここで強度とは短時間、単位面積当たりのエネルギーを指し、フリューエンスはエネルギー密度又は単面積当たりのエネルギーを指す。非線形吸収剤は例えば、二光子吸収型であるか、又は逆可飽和吸収であり得る。
二光子吸収プロセスは、光子エネルギーが、物質の線形励起に必要なエネルギーの半分とほぼ等しい、非線形吸収プロセスである。吸収性物質の励起はしたがって、より低いエネルギーの光子の２つを同時に吸収することを必要とする。有用な二光子吸収体の例としては、多光子吸収断面積を呈するもの、例えば、ローダミンＢ（すなわち、Ｎ−［９−（２−カルボキシフェニル）−６−（ジエチルアミノ）−３Ｈ−キサンテン−３−イリデン］−Ｎ−エチルエタンアミニウムクロライド、及びローダミンＢのヘキサフルオロアンチモネート塩）、及び４種類の感光剤（ＰＣＴ出願番号第ＷＯ ９８／２１５２１号（Ｍａｒｄｅｒ ｅｔ ａｌ．）、及び同第９９／５３２４２号（Ｃｕｍｐｔｓｏｎ ｅｔ ａｌ．）に記載される）が挙げられる。
逆可飽和吸収プロセスはまた、場合により励起状態吸収と称されることもあり、吸収プロセスに含まれる励起状態の吸収断面積が、基底状態から励起状態への励起における断面積よりも遥かに大きいことを特徴とする。合計光吸収はまた、基底状態の吸収及び励起状態の吸収の両方を伴う。逆可吸収材料の例としては、例えば、メタロフタロシアニン、ナフタロシアニン、シアニン、フラーレン、金属ナノ粒子、酸化金属ナノ粒子、金属クラスタ化合物、ポルフィリン、インダンスロン誘導体、及びこれらのオリゴマー又は組み合わせが挙げられる。メタロフタロシアニンの例としては、例えば、銅フタロシアニン（ＣｕＰＣ）、並びに、ＩＩＩＡ（アルミニウム、ガリウム、インジウム）及びＩＶＡ（ケイ素、ガリウム、スズ、鉛）の金属又は半金属を含むフタロシアニンが挙げられる。ナフタロシアニンの例としては、シリコン、スズ、鉛のフタロシアニン誘導体（ＳｉＮＣ）、スズ（ＳｕＮＣ）、及び鉛（ＰｂＮＣ）が挙げられる。シアニンの例としては、例えば、１，３，３，１’，３’，３’−ヘキサメチルインドトリカルボシアニンヨージド（ＨＩＴＣＩ）が挙げられる。フラーレンの例としては、Ｃ６０及びＣ７０フラーレンが挙げられる。金属ナノ粒子の例としては、金、銀、アルミニウム、及び亜鉛ナノ粒子が挙げられる。二酸化金属ナノ粒子の例としては、酸化チタン、アンチモンスズ酸化物、及び酸化ジルコニウムナノ粒子が挙げられる。金属クラスタとしては、ＨＦｅＣｏ3（ＣＯ）12及びＮＥｔ4ＦｅＣＯ3（ＣＯ）12などの、鉄トリコバルト金属クラスタが挙げられる。ポリフィリンの例としては、テトラフェニルポリフィリン（Ｈ２ＴＰＰ）、亜鉛テトラフェニルポルフィリン（ＺｎＴＰＰ）及びコバルトテトラフェニルポルフィリン（ＣｏＴＰＰ）が挙げられる。インダンスロン誘導体の例としては、非置換インダンスロン、酸化インダンスロン、クロロインダンスロン、及びインダンスロンオリゴマーが挙げられる。
有効媒質積み重ね体（例えば、位相差層２１２）の位相差は、吸収を通じてフィルム（例えば、位相差層２１２）が影響を受ける、選択される波長の放射エネルギーの適用によって変化し得る。一般的なプロセス検討事項は、例えば、米国特許出願公開番号第ＵＳ ２０１１／０２５５１６３号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）、「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｕｓｉｎｇ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」に記載される。多くの場合において、放射エネルギー源はレーザー（８００ｎｍ若しくはその付近、又は１０６５ｎｍ若しくはその付近の出力波長において動作する、近赤外線レーザーであることが多い）である。レーザーは、連続的又はパルスモードで動作してもよく、これは図８ａ〜８ｃに関して以下に記載される、フィルムの領域又はゾーンにわたる経路において走査又は掃引されてもよい。熱によるパターン化プロセスに影響し得る、他のレーザープロセス条件としては、ビーム直径、並びに、焦点、電力レベル、走査速度、及び掃引パターンが挙げられる。パルスレーザーにおいて、パルス周波数、ピークパルス電力、及び波形がまた、検討事項である。典型的には、熱による複屈折の低減は、一定の閾値エンベロープの上においてのみ生じる。注目すべき材料係数としては、熱容量、融点、融解熱、及び最初に配向された複屈折極薄層の結晶化度が挙げられる。閾値条件は、材料の一部がその融点に達する条件であるか、これに対応してもよく、複屈折の低減はしたがって、固有の複屈折を有する極薄材料の配向された結晶の少なくとも部分的な融解の結果であり得る。
本明細書において、光学フィルムの変換又は処理とも称される、複屈折の低減はまた、フィルム厚さに沿って（ｚ軸に沿って）変化してもよく、中央に配置される極薄層は、一定のプロセス条件において、コア又は有効媒質の外側表面付近に配置された極薄層よりも、完全に変換される。このような条件としては、放射プロセス中、又はその直後の熱伝達及び熱拡散が挙げられる。したがって、位相差調節の量及び位置は、放射プロセス条件だけではなく、またフィルム構成の詳細に依存し得る。更に、十分に早い熱消失は、ヘーズの形成を緩和することができる。放射ビームプロセス中において、外側スキン層が到達する最高温度は、フィルムの外側表面２１０ａ、２１０ｂにおける、しわ形成及び粗表面化のレベルに影響するか、又はこれを改善することができる。フィルム構成内における、吸収材料と非吸収材料との比率、加えてこのような構成体内のこれらの相対的な配置もまた、重要な検討事項であり得る。例えば、プロセス波長において殆ど又は全く吸収しない、フィルム内の層は、ヒートシンクとして機能し得る。これらのヒートシンク層は、選択的に吸収する有効媒質パケットにおいて、構成体内の他の層に対して、熱分離をもたらすことができる。
いくつかのプロセス条件において、熱拡散は重要であり得、コア層内の温度プロファイルは、丸いプロファイルを達成し得る。穏やかな処理は、コアの中央における層を変換する（すなわち、その複屈折率を低減させる）が、コアの外側部分における層を変換できない。有効媒質積み重ね体構成体が２つの異なる複屈折材料を含む場合、穏やかな処理は、コアの中央区域のより低融点の層を変換し得るが、コアの外側区域のより低融点の層を変換できない。より積極的な処理は、コアの中央の両方の材料を変換させ始めることができ、過熱を生じる一方で、より低融点の材料のみをコアの外側領域で変換させることができる。したがって、段階的なプロセスウィンドーの温度は、フィルム層プロファイル構成の組成及び形状に依存し得る。いくつかの場合において、極薄層のセットの１つものと同じより高融点の材料で構成され得る厚いＰＢＬを使用するのが有利であり得、このような厚いＰＢＬはまた、放射線吸収剤を含む。この方法において、コアの外側において、より多くの温度プロファイル円形化が行われてより堅牢なプロセスウィンドーを可能にし、ここで処理の際に、低融点コア層の殆どが変換される一方で、変換され位相差の変化に寄与する高融点のコア層は（存在するとしても）僅かである。このような場合において、全体的なフィルムの位相差がより確実に制御され得るように、等方性ＰＢＬを使用することも有利であり得る。これらの文脈において、外側スキン層の内側の、かつ外側スキン層とＰＢＬとの間に配置された、追加的な層がまた使用されて、ＰＢＬ又はヒートシンクの放射吸収機能、シワ防止、及び外側スキン層の他の寸法安定機能を補うことができる。また、これらの追加的な層が等方性であることも有利であり得る。
本明細書において開示される空間的に調節可能な有効媒質の１つの潜在的な利益は、フィルム厚さとは無関係にコア層によりもたらされる全体的な位相差を制御又は微調整する能力である。ポリマーフィルムが配向されるとき、良好な厚さの均一性は多くの場合において一定レベルの配向を必要とし、これは、所与の材料のプロセスの、フィルム製造ライン、延伸率プロファイル、及び最終的な延伸率に依存し得る。更に、例えば、米国特許番号第５，９６８，６６６号（Ｃａｒｔｅｒ ｅｔ ａｌ．）に記載されるように、多くの薄い層の多層積み重ね体の延伸は、同じ材料でモノリシックであるか又は６つ以下（より厚い）の層の積み重ね体である場合に比べて、実際により容易であり得る（特により効率的により高い配向状態へと（例えば、より高い延伸比率で））。より薄い層はまた、追加的な機械的利益をもたらしうる。例えば、より薄い層は、層間剥離の影響を受けにくいことがある。更に、有効媒質積み重ね体の使用により、特定の干渉積み重ね体反射だけではなくまた、このようなより厚い層の内側表面反射を排除し、それによってフィルムを通じた透過率の損失を低減させる。有効媒質積み重ね体において使用される２つ（又はそれ以上）の材料の相対量又は比率が調節されるか、又は制御されて、積み重ね体が同様の延伸条件において個別の材料のいずれかから完全に構成されている場合（この過程的な場合においては積み重ね体は存在せず、モノリシックな材料層と置き換えられる）には、最終的な有効媒質コア内の有効屈折率の度合いは、予測される範囲内である。例えば、ある材料が高度に複屈折性であるとき、他の材料はほぼ等方性であり、中間的な有効な位相差を備える良好に延伸されたフィルムが作製され得、したがってまた、より厚く、より扱いが容易なフィルムが所望のレベルの位相差になるように作製され得る。
実際、有効媒質積み重ね体における個別の材料の挙動は、二層構成の共押出しすること、所望の条件でフィルムを配向させること、及び二層フィルムの両面において得られる屈折率を測定すること（例えば、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ Ｐｒｉｓｍ Ｃｏｕｐｌｅｒを使用して）によって推測することができる。極薄層は、共押出しプロセスを通じて形成されるとき、構成層は、境界混合（例えば、相互拡散）の影響を受けやすくなることがある。この場合、相対的な厚さ（例えば、ｆ1及びｆ2）は、共押出しプロセスを介して２つの材料がどれだけ物理的に供給されたかということによって近似値を求めることができる。このとき、推測される屈折率の結果からの僅かなずれが生じる場合があるが、これは、これらの極薄層の中央の純粋な材料の、この境界区域における、材料の挙動の僅かな変動によるものである。位相差の値は、例えば、実際に生じる位相差を測定し、供給される材料流れの相対的な量を微調整することによって、正確に調整することができる。
光学フィルム２１０は、典型的には配向後に、より大きな構成体と組み合わされるか、又はこれに組み込まれてもよい（例えば、積層された、ないしは別の方法で組み合わされた構成体の層として使用される）。例えば、光学フィルム２１０は、追加的な外側フィルム層の上に、又はその間に熱積層及び／又は圧力積層されてもよい。別の例において、接着剤がフィルムに適用されてもよく、その後、フィルムは、片面又は両面で、追加的な外側フィルムに接着（例えば、圧力及び／又は熱で）されてもよい。このような追加的な層はまた、放射プロセスの間、ヒートシンクとして機能してもよい。したがって、例えば、追加的な位相差及び／又は他の層、コーティング、又はフィルム（米国特許番号第６，３６８，６９９号（Ｇｉｌｂｅｒｔ ｅｔ ａｌ．）参照）が、フィルム２１０構成体における上部層又は底部層に取り付けられてもよく、又は構成体の別の場所に組み込まれてもよい。本明細書において記載される選択的に熱処理可能な、又は熱処理不可能な追加的な位相差がまた、追加的な所望の効果を達成するために、図２の実施形態に追加されてもよい。
開示される光学フィルム及び／又はその構成フィルム又は層は、寸法安定性を改善するために、フィルム製造後に、熱硬化、又はないしは別の後処理を施されてもよい。寸法安定性を改善するため、フィルムは、ガラスプレート、又は同様の基材に積層されてもよい。プレートはディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又はＯＬＥＤディスプレイ、又は別の好適な装置など）の一部であってもよい。フィルムは、ディスプレイの別の構成層に接着されるか、ないしは別の方法で取り付けられてもよく、又は様々なディスプレイ構成要素を配置するために基材として使用されてもよい。いくつかの場合において、フィルムは、放射エネルギー処理の前にガラス又はディスプレイに接着され、更に、積層後に、放射エネルギーで処理されてもよい。ガラスへの接着及び最終的な寸法を安定化させるためにフィルムが再び処理されてもよく、例えば、フィルムは意図的に収縮させてもよく、又はクリーププロセスを起動して、全体的なディスプレイシステムの更なる加工に必要な条件下での寸法安定性を保証する。この方法において、例えば、ディスプレイ装置におけるディスプレイピクセルにより、局所的及び全体的スケールにおける、位置合わせが達成され得る。いくつかの場合において、ディスプレイ構成要素は、放射エネルギーに対して非官能性であってもよく、光学フィルムは、追加的な検討事項なしに、ディスプレイに取り付けた後にパターン状に熱処理されてもよい。
ここで図２ａに戻り、図２の位相差層２１２内部、特に、可視光に対する有効光学媒質をもたらすように構成された連続的な極薄層の有効媒質積み重ね体の拡大概略図を見ることができる。層２１２はまた、局所的なｘ−ｙ−ｚデカルト座標系に関して示されている。層２１２、及びそれを含む光学フィルム２１０のいずれも、完全に平坦である必要はない。これらは湾曲しているか、ないしは別の方法により平面でないように成形されていてもよく、このような場合において、フィルムの任意の小さな部分、又は区域は、図示されるように局所的なデカルト座標と関連している場合がある。層２１２は、図１の光学フィルム１１０の、ゾーン１１２、１１４、１１６のいずれかに配置された、有効媒質積み重ね体を表しているが、これはパターン付き光学フィルム１１０の個別の層が、各このようなゾーンから次のゾーンへと連続的に延びているのが好ましいためである。
積み重ね体又は層２１２の個別の極薄層は、パターン付きフィルムの少なくともいくつかのゾーン又は領域において、異なる固有の屈折率を有する。これらの極薄層は、可視光線が、積み重ね体を、これが非層状の媒体、又は「有効媒質」であるかのように伝搬するために、十分に薄い。本明細書の他所に記載されるように、積み重ね体の光学反復単位は、１９０ｎｍ未満の光学厚さを有してもよく、及び／あるいは各極薄層の光学厚さは、９５ｎｍ未満、又は１００、７０、５０、若しくは２５ｎｍ未満であり得る。参照目的のため、極薄層の厚さにおけるこのような制限を満たしていることを示すために、可視光線の波長λが、図に含まれている。光学フィルムが、光学的に厚いＰＬＢ ２１４、２１６（図２参照）などの、遥かに厚い層を含む限りにおいて、このような層は、有効媒質積み重ね体の外側に位置するものとみなされる。図２ａに示されるように、有効媒質積み重ね体の極薄層は、「Ａ」及び「Ｂ」として標識され、「Ａ」層は、１つの材料から構成され、「Ｂ」層は、異なる材料から構成され、これらの層は、図示されるように、光学的反復ユニット又はユニットセルＯＲＵ １、ＯＲＵ ２．．．ＯＲＵ ８を形成するように交互する構成で積み重ねられている。図２に示される「Ａ」及び「Ｂ」極薄層の全てが、光学フィルム２１０の内部層である。典型的に、ポリマー材料から構成される有効媒質積み重ね体は、１６個を遥かに超える極薄層及び８個の光学反復単位を含む。有効媒質積み重ね体は例えば、少なくとも１０、２５、５０、又は１００の連続的な極薄層を含み得る。
上記のように、層積み重ね体の、厚さ比率ｆ1及びｆ2は、構成層の物理的厚さ（光学的厚さではない）の、光学反復ユニット全体の物理的厚さ（光学的厚さではない）に対する比率を指す。厚さ比率ｆ1及びｆ2は、干渉反射帯域を示す、多層積み重ね体における光学的反復ユニットを特徴付けるために使用される、光学的ｆ−比率と対比され得る。図２ａの実施形態において、「Ａ」層は、「Ｂ」層とほぼ同じ厚さであるものとして記載されている。したがって、「Ａ」層を指すものとして、添字「１」を、「Ｂ」層を指すものとして添字「２」が使用される場合、ｆ1≒ｆ2≒０．５である。他の厚さ比率の組み合わせもまた選択され得る。積み重ね体内の光学的反復ユニットの物理的厚さに関し、いずれの設計ターゲットが使用されてもよく、例えば、これらはすべて同じ光学的厚さを有してもよく、これらは変わりに、異なる光学的厚さの分布を呈してもよいが、いずれにせよ、これらは好ましくは、積み重ね体の実質的に各反復単位の光学的厚さが１９０ｎｍ未満であるという条件を満たす。
極薄層セットの少なくとも１つ、例えば、「Ａ」層及び／又は「Ｂ」層は、選択的な熱処理の前に、及び好ましくは熱処理の後においても、最終的なフィルムの少なくとも１つのゾーンで（例えば、図１のゾーン１１２、１１４、１１６）、固有の複屈折率を有する。極薄層の固有の屈折率、及び有効媒質積み重ね体の設計詳細は（例えば、厚さ比率ｆ1及びｆ2）は、厚さ及び位相差層２１２の有効屈折率がいくつか、及びしたがってまた、位相差層２１２及び光学フィルム２１０の位相差を決定する。フィルムの熱処理は、構成極薄層の一方又は両方の固有の屈折率を緩和し、したがって、位相差層２１２の有効屈折率、及び位相差フィルムの位相差を変更することができる。有効媒質積み重ね体を作製するために、材料及び伸張条件を適切に選択することにより、及び放射ビーム処理条件を適切に選択することにより、所与のパターン付き位相差フィルムにおいて、広範な異なる位相差の組み合わせが達成され得る。これらの組み合わせは、以下で更に記載される。
代表的な光学フィルム、及びその有効媒質積み重ね体は、ポリマー材料で構成され、共押出し、フィルムキャスティング、及びフィルム伸張又は延伸プロセスを含む、様々なフロープロセスを使用して製造され得る。典型的には、複屈折は、これらの様々なフロープロセスの１つ以上を通じて少なくともいくつかの層において形成される。米国特許番号第５，８８２，７７４号（Ｊｏｎｚａ ｅｔ ａｌ．）「Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍ」、米国特許番号第６，１７９，９４８号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）「Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍ ａｎｄ Ｐｒｏｃｅｓｓ ｆｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ Ｔｈｅｒｅｏｆ」、及び同第６，７８３，３４９号（Ｎｅａｖｉｎ ｅｔ ａｌ．）「Ａｐｐａｒａｔｕｓ ｆｏｒ Ｍａｋｉｎｇ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ」を参照する。光学フィルムは、上記の文献のいずれかにおいて一般的に記載される、ポリマーの共押出しにより形成され得る。様々な層のポリマーが、好ましくは、大きな流れの障害を生じずに、共押出しできるように、同様のレオロジー特性（例えば、溶融粘稠度）を有するように選択され得る。押出条件は、連続的及び安定な方法で、送達ストリーム又は溶融ストリームとして、対応するポリマーを、適切に送達、溶融、混合、及びポンプ移送するように選択される。各溶融ストリームを形成及び維持するために使用される温度は、温度範囲の下限において凍結、結晶化、又は不適切な大きな圧力低下を避け、かつ範囲の上限において材料の劣化を避けるような、範囲内であるように選択されてもよい。限定することを意図せず、多層光学フィルムの作製において有用であり得る材料、加えて、位相差フィルム及び／又は開示される複合フィルムの他の構成要素は、以下の１つ以上のようなポリマーを含み得る：ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、及びこれらのコポリマー、特に、いわゆる「ｃｏＰＥＮ」、ポリスチレン、ポリアクリレート、並びにポリカーボネート。シンジオタクチックポリスチレン、及びそのコポリマーは、負の複屈折性材料として特に有用である。加えて、コポリマーは、２つの複屈折性材料を含む位相差フィルム内のより低融点の材料として、特に有用である。開示される有効媒質積み重ね体において使用するための、材料の候補であり得る、シンジオタクチックポリスチレンのコポリマーは、Ｇｕｏ ｅｔ ａｌ．，「Ｓｃａｎｄｉｕｍ−Ｃａｔａｌｙｚｅｄ Ｃｙｃｌｏｃｏｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ １，５−Ｈｅｘａｄｉｅｎｅ ｗｉｔｈ．．．」，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ ２０１１，ｖｏｌ．４４，ｐｐ．６３３５〜６３４４に記載されている。一般的に、これらの代表的な材料の殆ど又は全てが、フィルムの配向後に、フィルムの未処理領域（すなわち、放射ビーム処理前）、及びフィルムの処理領域（すなわち、放射ビーム処理後）において、実質的に未反応の反応性群を含まない材料であり、このような材料は、例えば、図５及び図６ａ〜６ｏに関して記載されるものを含む、本明細書において開示されるＳＴＯＦ光学的位相差フィルムの実施形態全てにおいて使用され得る。
簡潔に要約すると、光学フィルム及びその有効媒質積み重ね体の作製方法は、（ａ）最終的なフィルムにおいて使用される第１及び第２極薄ポリマー層に対応する樹脂の少なくとも第１及び第２ストリームをもたらす工程と、（ｂ）第１及び第２ストリームを好適なフィードバックを使用して複数の層に分割する工程であって、フィードブロックは（ｉ）第１及び第２流路を含む勾配プレートであって、第１チャネルは流路に沿って第１位置から第２位置へと変化する断面積を有する、勾配プレート、（ｉｉ）第１流路と流体連通する第１の複数の導管、及び第２流路と流体連通する第２の複数の導管を有する、フィーダーチューブプレートであって、各導管はスロットダイを供給し、各導管は第１端部及び第２端部を有し、導管の第１端部は流路と流体連通し、導管の第２端部はスロットダイと流体連通する、フィーダーチューブプレート、並びに（ｉｉｉ）任意により、上記導管の近位に位置する軸方向ロッドヒーターを含む、工程と、（ｃ）押出ダイに複合流を通して、各層が隣接する層の主要表面とほぼ並行になる多層ウェブを形成する工程と、（ｄ）場合によりキャスティングホイール又はキャスティングドラムと称される場合があるチルロールに多層ウェブをキャスティングし、キャスト多層フィルムを形成し、少なくともフィルムをガラス転移温度が最も高い構成材料のガラス転移温度未満まで急冷する工程とを含み得る。このキャストフィルムは、最終的なフィルムと同じ数の層を有してもよいが、キャストフィルムの層は典型的には、最終的なフィルムのものよりも遥かに厚い。更に、キャストフィルムの層は、典型的には全て等方性である。
キャスト多層ウェブを製造する多くの代替的な方法が使用され得る。やはりポリマー共押出しを使用する、１つのこのような代替的な方法が、米国特許番号第５，３８９，３２４号（Ｌｅｗｉｓ ｅｔ ａｌ．）に記載される。
多層ウェブは、ほぼ完成した光学位相差フィルムを生成するために、延伸又は伸張され得る。延伸又は伸張は２つの目標を達成する：層をこれらの所望の最終的な厚さまで薄化することと、層の少なくともいくつかが複屈折性となるように層を配向させることである。いくつかの場合において、伸張による配向が、キャスティングの機能により達成され得る。より典型的には、キャスティング後、伸張による配向が達成される。複屈折性材料層を形成するための、伸張による配向は、構成ポリマーのガラス転移温度と融点との間で達成される。特に、配向は最も融点が高い複屈折性構成ポリマーにおけるガラス転移温度の約１０℃下と、最も融点が高い複屈折性構成ポリマーにおける融点範囲の最高点との間で伸張を行うことによって達成される。配向又は伸張は、クロスウェブ方向（例えば、幅出機による）に沿って、ダウンウェブ方向（例えば、長さ配向装置）に沿って、又はこれらの組み合わせにおいて、同時に又は連続的に、達成され得る。一方向にのみ伸張されるとき、伸張は、上記のように非拘束であっても拘束されていてもよい。両方の面内方向に沿って伸張されるとき、伸張は、対称であってもよく（すなわち、垂直面内方向に沿って等しく）、又は非対称であってもよい。あるいは、フィルムはバッチプロセスにおいて伸張されてもよい。いずれにせよ、連続的な又は同時の延伸低減、圧力又は歪み平衡化、熱硬化、及び他の処理動作が、フィルムに適用されてもよい。構成ポリマーの複屈折性は、伸張及び後伸張焼きなまし又は熱硬化中の結晶化によって固定されてもよい（一定の寸法緩和が可能であり得る（例えば、幅出機におけるトーイン））。あるいは、複屈折性は、最もガラス転移温度が低い複屈折構成材料のガラス転移温度の下へとフィルムを急冷することによって固定され得る。配向された複屈折性フィルムは、ロールに巻かれてもよい。
ここで図３を参照し、これは、ゾーン１１２及びゾーン１１６の境界における領域１１８の近位の、図１の光学フィルム１１０の一部を示す。フィルム１１０のこの拡大図において、狭い遷移ゾーン１１５が、ゾーン１１２を隣接するゾーン１１６から分離しているのを見ることができる。このような遷移ゾーンは、プロセスの詳細によって存在してもしなくてもよく、存在しない場合、ゾーン１１６は、大きな介在機構を有さずに、ゾーン１１２と直接隣接していてもよい。フィルム１１０の構成詳細もまた見ることができ、フィルムは、保護境界層（ＰＢＬ）３１４と３１６との間に配置された、フィルムは位相差層３１２を含み得る（これは本明細書において位相差積み重ね体と称することができる）。構成及び設計において、位相差層３１２は、上記の位相差層２１２と同じ又は同様であり得、ＰＢＬ ３１４、３１６は、図２のＰＢＬ ２１４、２１６と同じであるか、又は同様であり得る。図３にはスキン層は示されていないが、このような層（図２参照）に加えて、本明細書の他所に記載される他の層又は基材が含まれてもよい。
位相差層３１２は好ましくは、光学反復単位へと構成された交互するポリマー材料であり、極薄層及び光学反復ユニットは、図示されるように、ゾーン１１２から隣接するゾーン１１６へと横方向又は水平方向の様式で連続的に延びている。位相差層３１２は、ゾーン１１２において第１光学位相差をもたらし、このゾーンにおいて、その構成極薄層の少なくともいくつかが複屈折性である。ゾーン１１５、１１６において、フィルム１１０の構成要素は、処理前には、ゾーン１１２におけるようにいくつかの対応する光学特性を有している場合があるが、位相差層３１２は、処理ゾーン１１６のこれらの層の構造的一体性を維持し、また、ゾーン１１２におけるこれらの極薄層の複屈折性を維持する一方で、ゾーン１１６のその構成極薄層のいくつかの固有の複屈折性を低減又は排除するために十分な量の熱をそこに選択的に適用することによって処理され、これによってパターン付きフィルム１１０は、ゾーン１１６において、第１光学位相差とは異なる第２光学位相差を有する。位相差層３１２内の極薄層の低減した複屈折層は、第１光学位相差と第２光学位相差との間の差を主に司ることがある。
フィルム１１０は、図に示されるように、ゾーン１１２においてにおいて特徴的な厚さｄ１、ｄ２を、ゾーン１１６において特徴的な厚さｄ１’、ｄ２’を有する。厚さｄ１、ｄ１’は、各ゾーンにおいて、フィルムの前方外側表面からフィルムの後方外側表面まで測定した物理的厚さである。厚さｄ２、ｄ２’は、フィルム１１０の前方表面付近に配置された位相差層３１２の前方表面から、フィルム１１０の後方表面付近に配置された位相差層３１２の後方表面まで測定した物理的厚さである。したがって、ゾーン１１２におけるフィルム１１０の厚さと、ゾーン１１６におけるフィルムの厚さを比較しようとした場合、いずれの測定がより便利であるかによって、ｄ１とｄ１’の比較、又はｄ２とｄ２’の比較を選択し得る。殆どの場合において、ｄ１とｄ１’との間の比較は、ｄ２とｄ２’との間の比較と実質的に同じ結果（比率的に）を生じ得る。しかしながら、有意な不一致が存在する場合、例えば、ＰＢＬ層が、ある場所から別の場所へと有意な厚さの変化を生じるが、下部のマイクロ層において対応する厚さの変化が存在しないか、又はその逆の場合、ＰＢＬ層が位相差層３１２の効果と比較してフィルムの光学的位相差に僅かな影響を有するのであれば、異なるゾーンの全体的なフィルム厚さを代表するものとしてｄ２及びｄ２’のパラメータを使用することが望ましい場合がある。
上記のように、ゾーン１１６は、位相差層３１２の極薄層の少なくとも一部が、隣接するゾーン１１２のこれらの複屈折と比較して、その複屈折性の一部又は全部を失うように、熱の選択的適用によって処理され、これによりゾーン１１６は、ゾーン１１２の光学的特徴（光学的位相差）とは異なる、光学的特徴（すなわち、光学的位相差）を呈する。選択的な過熱プロセスは、ゾーン１１６への選択的な圧力の適用を含まず、これは、フィルムに実質的に厚さの変化を生じないことがある（パラメータｄ１／ｄ１’、又はパラメータｄ２／ｄ２’のいずれを使用しても）。例えば、フィルム１１０は、ゾーン１１２、又は未処理フィルムにおいて、観察される厚さの通常のばらつき以下の、ゾーン１１２の平均厚さからの変化を呈する、ゾーン１１６における平均厚さを呈し得る。したがって、フィルム１１０は、ゾーン１１２において、又はゾーン１１６の熱処理の前に、ゾーン１１２及びゾーン１１６の一部を包含するフィルムの領域にわたり、厚さ（ｄ１でも、ｄ２でも）のばらつきΔｄを呈し、ゾーン１１６は、ゾーン１１２における空間的平均厚さｄ１、ｄ２（それぞれ）とΔｄ以下で異なる空間的平均厚さｄ１’、ｄ２’を有してもよい。パラメータΔｄは、例えば、厚さｄ１又はｄ２の空間的なずれにおける１つ、２つ、又は３つの標準偏差を示し得る。
いくつかの場合において、ゾーン１１６の熱処理は、ゾーン１１６におけるフィルム厚さに一定の変化を生じることがある。これらの厚さの変化は、例えば、光学フィルム１１０を構成する異なる材料の局所的な収縮及び／又は膨張から生じることもあり、又は他のいくつかの熱により生じる現象によって生じることもある。しかしながら、このような厚さの変化は（これらが生じる場合）、処理ゾーン１１６のフィルム１１０の光学的位相差に対するこれらの効果において、処理ゾーンにおける複屈折の減少又は排除が果たす主要な役割に対し、二次的な役割しか果たさない。多くの場合において、フィルムのシワ形成を避けるため、又は他の目的のため、内部パターン化を達成する選択的な熱処理の間、張力をかけた状態でフィルムの縁部を保持することが望ましい場合があることにも留意する。適用される張力の量、及び熱処理の詳細はまた、処理ゾーンにおける一定量の厚さ変化を生じ得る。
上記のように、いくつかの場合において、処理ゾーン１１６におけるフィルム１１０の厚さ（すなわち、ｄ１’又はｄ２’）は、熱処理の間にゾーン１１６に実際に選択的な圧力が適用されないとしても、非処理ゾーン１１２のフィルム厚さと若干異なることがある。この目的のため、図３はｄ１’をｄ１と若干異なるものとして、ｄ２’をｄ２と若干異なるものとして示している。遷移ゾーン１１５はまた、選択的な熱処理の結果として、「隆起部」又は他の検出可能なアーティファクトが、フィルムの外側表面上に存在し得ることを示すために、全体的に図示されている。しかしながら、いくつかの場合において、処理は隣接する処理ゾーンと未処理ゾーンとの間に検出可能なアーティファクトを生じないことがある。例えば、いくつかの場合において、ゾーンの間の境界を超えて観察者がその指を滑らせた際に、ゾーンの間に、隆起部、突起部、又は他の物理的アーティファクトを感知しないことがある。
いくつかの状況において、処理ゾーンと未処理ゾーンとの間の厚さの差が、フィルムの厚さと比例しないことがある。例えば、いくつかの場合において、外側スキン層が、処理ゾーンと未処理ゾーンとの間の変化率として表現される、比較的小さな厚さの差を有することも可能であり、一方で１つ以上の内側層又はパケットが、やはり同じゾーンの間の変化率として表現される、より大きな差を有することがある。
図４は、内側パターンを組み込む、別の光学位相差フィルムの一部の概略断面図である。フィルム４１０は、外側の光学的に厚いスキン及び／又はＰＢＬ層４１４、４１６と、スキン層の間に配置された、有効媒質を形成し、位相差層４１２として機能する、極薄層のパケットとを含む位相差層４１２は、上記の位相差層２１２及び３１２と同じであるか、又はこれと同様であり得る。位相差層４１２の極薄層の全てがフィルム４１０の内側にある。極薄層は、フィルムの少なくともいくつかのゾーン又は領域において複屈折性であり、少なくともフィルムの隣接するゾーンの間で横方向又は水平方向の様式で延びている、少なくともいくつかの層を含む。極薄層は、少なくともフィルムの第１未処理ゾーン４２２において、第１の光学的位相差をもたらす。フィルム４１０は、第１反射特性とは異なる第２光学位相差をもたらすため、これらのゾーンに選択的に何らかの圧力を適用することなく、隣接するゾーン４２０、４２４において選択的に過熱されている。（この文脈において、「第１の光学的位相差」及び「第２の光学的位相差」は、位相差層４１２にのみ、又はフィルム４１０全体に関するものとして解釈され得る。）本明細書の他所に記載されるように、光学的位相差におけるこれらの差異は、１つ以上の偏光フィルムの保持により、観察者によって知覚され得る。フィルム４１０は、ゾーン４２０、４２２、４２４において同じフィルム厚さを有してもよく、フィルム厚さはこれらのゾーンの間で若干異なっていてもよいが、ゾーン間のフィルム厚さのいずれの差異も、第１の光学的位相差と第２の光学的な位相差との間の差異を主に司るものではない。層４１２の平行縞模様により示されるように、ゾーン４２０、４２２、４２４は、フィルムの内側又は内部にパターンを形成する。平行縞模様の区域における極薄層の少なくともいくつかは、ゾーン４２２又は他の未処理ゾーンにおけるこれらの複屈折性と比較して、より低い複屈折性を有する（０複屈折性も含む）ことを示している。
上記のように、有効媒質積み重ね体を作製するために、材料及び伸張条件を適切に選択することにより、かつ放射ビーム処理条件を適切に選択することにより、所与のパターン付き位相差フィルムにおいて、広範な異なる位相差の組み合わせが達成され得る。いくつかの場合において、処理した、及び／又は未処理の有効媒質積み重ね体が、固有の複屈折性を呈する、１つの極薄層のセット（例えば、材料「１」）のみを含む場合がある。いくつかの場合において処理した及び／又は未処理の有効媒質積み重ね体は、固有の複屈折性を呈する極薄層のセット（例えば、材料「１」及び材料「２」）を含むことがある。この場合において、異なる材料の固有の屈折性は同じであってもよく、例えば、両方とも正の複屈折性、両方とも負の複屈折性、両方とも二軸方向に複屈折性、若しくは両方とも一軸方向で複屈折性であるか、又はこれらは異なっていてもよい。更に、この場合において、材料の溶融温度は著しく異なるように選択されてもよく、第１放射ビームは、材料の一方の固有の複屈折性を低減させることによってフィルムの第１領域又はゾーンを処理してもよく、第２放射ビームは、両方の材料の固有の複屈折性を低減させることによって、フィルムの第２領域又はゾーンを処理してもよい。いくつかの場合において、処理された有効媒質積み重ね体は、固有の複屈折性を呈する極薄層のセットを含まないことがあり、すなわち、積み重ね体内の両方の（又は全ての）極薄層が実質的に等方性である。
更に、処理ゾーン及び未処理ゾーンの、位相差プレート種類の、様々な個別の異なる組み合わせをもたらすために、異なる材料の種類の組み合わせが使用されてもよい。これらの位相差プレートの種類は、図５に示され、これは開示される技術を使用して達成され得る、様々な変形を要約している。図５において、説明目的のため、「二軸方向」位相差プレート、「Ａ−プレート」位相差プレート、「Ｃ−プレート」位相差プレート、及び「ウィンドー」位相差プレートを別個に識別する。二軸方向位相差プレート、ａ−プレート、及びｃ−プレートが先に記載されている。
「ウィンドー」位相差プレートは、議論の余地のある不適切な名前であるが、これは、ウィンドーフィルムとして機能する光学フィルムの一部（例えば、その処理ゾーン又は未処理ゾーンの）を識別するために使用され得るため、本記載において有用な用語であり、ここで同じ光学フィルムの別の部分（例えば、その処理ゾーン又は未処理ゾーンの）はウィンドーフィルムではないが、有意な光学的位相差を呈する（例えば、に軸方向位相差プレート、又は一軸方向位相差プレートとして）。ここで「ウィンドーフィルム」とは、実質的に透明、清澄で、かつ屈折率が等方性である（有効屈折率）、フィルムを指す。等方性フィルム又は層は、フィルム又は層を通じた光のいずれの伝搬方向にも、有意な移送差をもたらさない。したがって、偏光子の間に見られるとき、等方性媒体は、透明なウィンドーとして挙動する。有効媒質積み重ね体における極薄層の種類の両方又は全てが屈折率において個別に等方性である場合、材料の等方性屈折率が互いに等しい場合を除いて、有効等方性媒質を形成しても、しなくてもよい。むしろ、面内方向（上記の等式１及び２参照）と、厚さ方向（上記の等式３参照）との間の、異なる平均化スキームの結果として、これらの異なる方向における有効誘電率及び有効屈折率は、構造性屈折率の影響のために実質的に異なる場合がある。それでも、上記のように、例えば、フィルムが非常に厚く、例えば１０ｎｍ超（又は２０、３０、若しくは５０ｎｍ超、又は更に用途による）の構造複屈折により位相差を生じる場合を除き、上記のように、構造複屈折は多くの場合において、重要でないことがあり、したがって、実質的に等方性フィルム又はウィンドーフィルムをもたらす。構造複屈折が極僅かであるとき、設計目的のため、等式（６）及び（６ａ）が、等式（３）及び（３ａ）の変わりに使用されてもよい。等方性フィルム又はウィンドーフィルムは、好適に異なる複屈折極薄層（例えば、正の複屈折性材料層、及び負の複屈折性材料層）を組み合わせることにより、有効媒質積み重ね体によってもたらされ得る。換言すると、有効等方性媒体、又はウィンドーフィルムは、個別の複屈折性を有する極薄層を使用して作製されてもよいが、その複屈折性は、等式（１）〜（３）の有効誘電率、及び等式（１ａ）〜（３ａ）の有効屈折率が互いに実質的に等しく、全ての方向において実質的に等しい屈折率を生じるように、選択される。
図５の矢印は、光学フィルム内の有効媒質積み重ね体の選択的な熱処理によって、空間的に調節可能な光学的位相差フィルムにおいて達成され得る、変形を表す。したがって、構成材料及びプロセス条件の適切な選択により、以下の変形が達成され得る：
・二軸方向位相差板が、ａ−プレート位相差板になるように処理され得る、及びその逆；
・二軸方向位相差板が、ｃ−プレート位相差板になるように処理され得る、及びその逆；
・二軸方向位相差板が、ウィンドーフィルムになるように処理され得る、及びその逆；
・二軸方向位相差板が異なる光学特性を備える二軸方向位相差板になるように処理され得る（例えば、より大きい又は小さい光学的位相差を有する）；
・ａ−プレート位相差版が、ｃ−プレート位相差板になるように処理され得る、及びその逆；
・ａ−プレート位相差板が、ウィンドーフィルムになるように処理され得る、及びその逆；
・ａ−プレート位相差板が異なる光学特性を備えるａ−プレート位相差板になるように処理され得る（例えば、より大きい又は小さい光学的位相差を有する）；
・ｃ−プレート位相差板が、ウィンドーフィルムになるように処理され得る、及びその逆；
・ｃ−プレート位相差板が異なる光学特性を備えるａ−プレート位相差板なるように処理され得る（例えば、より大きい又は小さい光学的位相差を有する）；
一般的に、１セットの交互する極薄層を含む、少なくとも１つの異方性構成材料が使用される際に、広範な一軸軸的及び二軸的に空間的に調整可能な位相差フィルムが構成され得る。２セットの交互する極薄層を含む少なくとも２つの異方性構成材料が使用される際に、より広範なこのような位相差フィルムが構成され得る。例えば、ｚ方向における全体的な有効屈折率ｎzが、面内値ｎxとｎyとの間である、位相差フィルムが作製され得る。その上、極薄層を含む等方性有効媒質が、正及び負の複屈折材料を使用して構成され得ることが見出された。極薄層の少なくとも１つの有効媒質積み重ね体を含むこのようなフィルムが、例えば放射エネルギー（レーザーからなど）により選択的に加熱される際に、このような処理領域は、ある種類の位相差板から別のものへと変換され得る。このような変形は図５に示され、上記により要約されている。
特に、異常な光学位相差変形を伴う、異常有効屈折率変形が、有効媒質コアにおける２つの異なる複屈折材料を組み合わせることによって得られる。例えば、正の複屈折性材料及び負の複屈折性材料の組み合わせは、これらはいずれも所与の延伸条件において、単独ではそのように挙動しないものの、２つの面内有効屈折率（ｎx及びｎy）の間の、面外有効屈折率（ｎz）を生じ得る。この方法により、広範な、空間的にパターン化した位相差板が作製され得る。有効媒質の極薄層として、２つの異なる複屈折材料を使用することによりまた、位相差板の段階的な変換が可能となる。したがって、その融点が十分に異なる２つの材料を選択し、熱拡散の効果に対して十分に早く放射エネルギーを供給すると、光学コアの位相差は、より高融点の材料を溶融することなく、より低融点の材料を溶融させるために丁度十分なだけのエネルギーを供給することによって段階的に低減され得る。生じる位相差の変化はひいては、より低融点の材料のみの、複屈折性の消失又は低減の結果であるこれらの場合において、スキン層及びＰＢＬがより高融点の材料、又は等方性材料などの別の材料を含むことが望ましい場合がある。
有効媒質位相差フィルムが１つの複屈折性材料のみを含むとき（例えば、材料「１」の極薄層）、第２材料は実質的に等方性であり、積み重ね体の位相差に寄与しない。複屈折性材料は、極薄層のコアパケットセットにおいてのみではなくまた、ＰＢＬ層及び／又はスキン層（存在する場合）にも位置し得る。複屈折材料は、光学フィルムのコアにのみ存在し、いずれのＰＢＬ層又はスキン層にも存在しない場合、フィルムの可能な位相差の生じる範囲は、本来の位相差から０（等方性）にまで及ぶ。複屈折性材料がまた、スキン層及び／又はＰＢＬ内に位置する場合、位相差の中間的値が、より容易に得られる場合がある。例えば、選択的に吸収するコア、及びより吸収性の高い、又は低いスキン層を有する、空間的に調節可能な位相差フィルム構成体を想起されたい（例えば、吸収剤がスキン層ではなく、コア層へと共押出しされる）。ＰＢＬが等方性であり、比較的厚い場合（例えば、コア厚さの少なくとも１０％、又は更に２５％、又は５０％）、複屈折性の調節を特定の中間的な値へとより正確に制御することが可能であり得、フィルムの未加工（未処理）領域は、完全な位相差をもたらし、中間的プロセスは、スキン層における残りの位相差のみをもたらすがこれは、スキン層はコアからの熱拡散によりこれに供給される過剰な熱により変換されるためである。ＰＢＬは、スキン層に良好に拡散する、温度派を部分的に低減することができる（例えば、変換レベルの閾値未満）。これは、段階上の中間的状態を有する、空間的に調節可能な（パターン付き）位相差板の一例である。これは、位相差がプロセス条件の関数として（例えば、レーザー電力）、変換されないフィルム部分の位相差の端点と、完全に変換されたフィルム部分の端点との間で、スムーズ又は連続的に変化できる、フィルム構成体とは区別される。
したがって、図６ａ〜６ｏ（６ａ，６ｂ，６ｃ，．．．６ｍ，６ｎ，６ｏ）の理想化されたグラフに注意を向ける。これらは、様々な光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの製造の異なる段階における、有効媒質積み重ね体の２つの交互する極薄層の、各固有の屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を示す理想化されたプロットであり、各図はまた、積み重ね体の生じる有効屈折率を示す。
これらのグラフは、空間的に調節可能な光学フィルムを製造及びパターン化するプロセスを説明するのに役立つ。これらはまた、いずれかの所与の、極薄層の書き込み可能な有効媒質積み重ね体において、未処理ゾーン及び処理ゾーンにおいてそれぞれ、第１光学位相差及び第２光学位相差の、異なる可能な組み合わせのいずれかを説明するのに役立つ。説明目的のため、フィルムの光学的位相差特性は、（処理ゾーンでも、未処理ゾーンでも）以下の４つの種類の１つに分類され得る：二軸方向位相差、ａ−プレート位相差（これは一軸方向位相差の形態である）、ｃ−プレート位相差（これは一軸方向位相差の別の形態である）、及びウィンドー様位相差（すなわち、実質的に位相差がない）。
図６ａ〜６ｏのグラフそれぞれにおいて、相対的屈折率「ｎ」を表し、構成材料「１」及び「２」の場合において、屈折率と上記の材料の対応するｆ比の積を表す。水平軸において、パターン化可能な有効媒質積み重ね体の２層光学反復ユニットを特徴付ける６つの屈折率それぞれに関し位置又はマークが提供されてもよい：「１ｘ」、「１ｙ」、及び「１ｚ」は、ｘ、ｙ、及びｚ軸に沿った第１極薄層の屈折率（又は屈折率とｆ−比、ｆ1の積）を表す。同様に、「２ｘ」、「２ｙ」、及び「２ｚ」は、ｘ、ｙ、及びｚ軸に沿って第２極薄層の屈折率（又は屈折率とｆ比、ｆ2の積）を表す。水平軸は更に、ｘ、ｙ、及びｚ軸に沿った有効媒質積み重ね体（第１及び第２極薄層から形成される）の有効屈折率を指す、標識Ｎｘ、Ｎｙ、及びＮｚを含む。図中の菱型の記号（◇）は、第１プロセス段階における材料の屈折率を表す。この第１段階は、例えば、押出し及び急冷され、キャスティングホイールにキャストされるが、まだ伸張ないしは別の方法により配向されていない、ポリマー層に対応し得る。このプロセスの段階において、最終的に積み重ね体の第１及び第２極薄層になる層は、典型的には、可視光線に対して有効媒質を形成するためには厚すぎ、したがって、標識Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚに菱型の記号は付されない。図中における白丸（塗りつぶしていない）記号（○）は、第１の段階より後の、プロセスの第２段階における材料の屈折率を表す。第２段階は、第１及び第２極薄層が有効媒質積み重ね体を形成する、光学フィルムへと伸張されるか、ないしは別の方法で配向される、ポリマー層に対応し得る。小さな塗りつぶされた円形の記号、又は点（●）は、第１及び第２段階よりも後の、プロセスの第３段階における材料の屈折率を表す。第３段階は、本明細書の他所に記載されるように、押出し及び配向された後に、選択的に熱処理された、ポリマー層と対応し得る。このような熱処理は典型的には、処理ゾーンと称される、フィルムの１つ以上の特定の部分又はゾーンに限定される。
所与の図の様々な記号の垂直軸を比べることにより、読者は、光学的位相差フィルムの多くの情報、その製造方法、並びにその処理及び未処理部分の光学的特性を容易に確認することができる。例えば、読者は、選択的熱処理の前又は後に、１つ又は両方の材料層が、複屈折性であるか、又は複屈折性であったか、複屈折性が一軸的であったか又は二軸的であったか、及び複屈折性が大きいか小さいかを確認することができる。読者は、これらの図からまた、３つのプロセス段階（キャスト状態、伸張状態、及び処理状態）のそれぞれに関し、厚さ比率ｆ1及びｆ2により重み付けされた、２つの層の間の屈折率差Δｎｘ，Δｎｙ，Δｎｚのそれぞれの、相対的規模を確認することができる。読者はまた、図から、有効媒質積み重ね体がその有効屈折率においていずれかの複屈折を呈するか、及びその場合、どの種類の複屈折が存在するか（例えば、二軸的、一軸的（ａ−プレート）又は一軸的（ｃ−プレート）など）を確認することができる。
上記のように、内側にパターンを有する光学位相差フィルムの前駆体物品は、ポリマー材料のキャストウェブであってもよい。キャストウェブは、最終的なフィルムと同じ数の層を有してもよく、層は最終的なフィルムに使用されるものと同じポリマー材料から構成されてもよいが、キャストウェブは、より厚く、その層は通常、等方性である。しかしながら、いくつかの場合において、図中に示されないが、キャスティングプロセスはそれ自体が１つ以上の材料において配向及び複屈折のレベルを付与することがある。図６ａ〜６ｏにおける菱型の記号は、続く伸張手順の後に、光学フィルムの有効光学媒質の極薄層になる、キャストウェブのポリマー層の２つの材料セットの屈折率を表す。伸張後、少なくとも層のいくつかが、配向され、複屈折性になり、配向された（しかしパターン化されていない）多層光学フィルムが形成される。これは、図６ａ〜６ｏにおいて、菱型の記号によって表される、これらの対応する元の値から、垂直にずらされ得る、白丸によって表される。例えば、図６ｃにおいて、伸張手順は、第１層の屈折率をｘ軸に沿って上げるが、その屈折率をｙ及びｚ軸に沿って下げる。このような屈折率シフトは、ｘ軸に沿って正の複屈折ポリマー層を好適に一軸的に伸張させる一方でｙ及びｚ軸に沿ってフィルムを寸法的に緩和させることによって得られる場合がある。図６ｅにおいて、伸張手順は、ｘ及びｙ軸に沿って第１層の屈折率を上げるが、ｚ軸に沿ってその屈折率を下げる。このような屈折率シフトは、ｚ及びｙ軸に沿って複屈折性ポリマー層を好適に軸方向で正に伸張させることによって得られる場合がある。図６ｆにおいて、伸張手順は、ｘ軸に沿って第１及び第２層の両方の屈折率を上げ、ｙ軸に沿って両方の層においてより小さい屈折率の増加を生じ、ｚ軸に沿ってこれらの各屈折率を下げる。いくつかの場合において、この屈折率シフトは、ｙ軸と比較してｘ軸に沿ってより高い伸張を使用して、ｘ及びｙ軸に沿って正の複屈折性ポリマー層を二軸方向に非対称に伸張することによって得られる場合がある。他の場合においてこれはおよそ、ｙ軸でフィルムを拘束しながら、ｘ軸に沿って一軸方向に伸張する（拘束された一軸方向伸張）ことによって、得られる場合がある。図６ｍにおいて、一軸方向の伸張手順は、正の複屈折性第１極薄層に関し、ｘ軸に沿って屈折率を上げ、ｙ軸に沿って僅かな屈折率の減少を生じ、かつｚ軸に沿って屈折率を下げる。同様に、図６ｍにおいて、負の屈折性第２極薄層に関し、この同じ位置軸方向の伸張手順はｘ軸に沿って屈折率を下げ、ｙ軸に沿って小さな屈折率の増加を生じ、ｚ軸に沿って屈折率を上げる。ここで留意すべきは、図６ａ〜６ｅにおいて、配向されているが未処理の状態（白丸）の層の１つは複屈折性であるがこれは、白丸（１ｘ、１ｙ及び１ｚ）のうちの少なくとも２つが異なる屈折率の値ｎを有することである。これらの示される実施形態において、他のポリマー層は、キャスト状態、及び配向されているが未処理の状態において、同じ屈折率値（２ｘ＝２ｙ＝２ｚ）により示されるように、伸張後も等方性のままである。
第１光学位相差を有する有効媒質積み重ね体をもたらすために、光学的反復ユニットへと構成される、極薄層を有する、少なくとも部分的に複屈折性の光学フィルムが形成された後（これは、有効屈折率のｘ、ｙ及びｚ成分の間の差（存在する場合）に基いて確認することができる）、フィルムは上記の選択的加熱に適した状態となる。極薄層の少なくとも一部において、複屈折性を低減又は排除し、一方でその第１（未処理）ゾーンにおける複屈折性を未変更にしておくために、加熱は、光学フィルムの第１ゾーンに隣接する第２ゾーンにおいて選択的に実行され、有効媒質積み重ね体の少なくとも１つの複屈折材料の一部又は全部を選択的に溶融及び配向解除するように調整される。第２ゾーンの極薄層の構造的一体性を維持するために選択的な加熱も実行される。処理された第２ゾーンの複屈折材料が全体的に、すなわち完全に配向解除されると、複屈折性層は、極薄のまま等方性状態（キャストウェブの）に戻る。これは図６ａ及び６ｂに見ることができ、熱処理によって第１層の屈折率（小さい黒点参照）がそのキャストウェブ状態の値に戻る（菱型の記号参照）。菱型の記号は、等方性状態（例えば、キャストウェブ）の層の屈折率を表し、小さな黒点は、最終的な内側にパターンをゆす得るフィルムの処理された、又は選択的に処理されたゾーンにおける層の屈折率を表し、白丸は、最終的な内側にパターンを有するフィルムにおける層の屈折率を表す。
処理された第２ゾーンにおける複屈折性材料が部分的にのみ（すなわち、不完全に）配向解除される場合、複屈折層は、加熱前の複屈折状態よりも低い複屈折性の状態へと弛緩するが、等方性ではない。この場合、処理された第２ゾーンにおける複屈折性材料の屈折率は、菱型の記号と白丸との間の値を得る。この不完全な複屈折性の弛緩のいくつかの例が、共通の譲受人によるＰＣＴ公開番号第ＷＯ ２０１０／０７５３６３号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．），「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｗｉｔｈ Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔ Ｌａｙｅｒｓ」に説明され、本明細書において参照として組み込まれる。
いくつかの実施形態は、米国特許番号第６，１７９，９４８号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）に記載される二段階延伸プロセスを利用する。この目的において、キャストフィルムの伸張又は配向は、１組の極薄層（例えば、各光学的反復ユニットの第１材料層）が両方の延伸工程において実質的に配向する一方で他方の極薄層の組は（例えば、各光学的反復ユニットの第２材料層）実質的に１つの延伸工程においてのみ配向するようにして、注意深く制御される、２段階延伸工程を使用して実行される。この結果は、延伸後に実質的に二軸的に配向された１組の材料層を有し、延伸後に実質的に位置軸方向に配向される材料層の別の組を有する、有効媒質積み重ね体である。この区別は、２つのプロセス延伸工程における温度、ひずみ速度、及びひずみ範囲などの１つ以上の好適に異なるプロセス条件を使用して、２つの材料の異なる粘弾性及び結晶化特性を利用することにより達成される。したがって、例えば、第１延伸工程は、第１方向に沿って第１材料を実質的に配向させる一方で、この方向に沿って第２材料をせいぜい僅かにのみ配向させ得る。第１延伸工程の後、１つ以上のプロセス条件は、第２延伸工程において、第１及び第２材料が第２方向に沿って実質的に配向されるように好適に変更されている。この方法により、第１極薄材料層は、本質的な二軸配向特性を想定することができ（例えば、屈折率は関係式ｎ１ｘ≒ｎ１ｙ≠ｎ１ｚを満たすことができ、場合により一軸的複屈折性材料と称される）、一方で全く同じ有効媒質積み重ね体の第２極薄材料層は、本質的な一軸配向特性を想定することができる（例えば、屈折率が関係式ｎ２ｘ≠ｎ２ｙ≠ｎ２ｚ≠ｎ２ｘを満たすことができ、場合により二軸的複屈折材料と称される）。
要約すると、図６ａ〜６ｅは、フィルム配向後に、１つ以上の固有の複屈折性を形成する実施例を表す。図６ｆ、６ｇ、及び６ｈは、２つの極薄材料の両方がフィルム配向後に、固有の複屈折性を形成する実施例を表し、これらの固有の複屈折性の極性又は符号は同じである（例えば、＋＋又は−−）。図６ｉ〜６ｏは、２つの極薄材料の両方がフィルム配向後に、固有の複屈折性を形成する実施例を表すが、これらの固有の複屈折性の極性又は符号は反対である（例えば、＋−又は−＋）。
図６ａにおいて、ほぼ同じ屈折率を有する第１及び第２ポリマー材料が選択され、第１ポリマー材料は正の応力光学係数を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは次に、第１ポリマー材料内に複屈折性を生じる一方で第２ポリマー材料は等方性のままであるように、好適な条件下でｘ軸に沿って一軸的に伸張される（一方で垂直な面内方向、すなわち、ｙ軸に沿ってウェブを寸法的に拘束する）。伸張プロセスは、屈折率値１ｘを増加させ、屈折率値１ｚを低下させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、二軸的に複屈折性の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、二軸的に複屈折性の位相差層として機能する。
この光学的位相差フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに放射エネルギーを選択的に供給することによる、選択的な加熱により、複屈折性極薄層はその元の等方性状態へと、又は、配向解除が不完全な場合は中間的な複屈折性状態へと弛緩する。弛緩が完全な場合、有効媒質積み重ね体は、等方性である有効屈折率のセットを生じ、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいてウィンドー層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおける二軸的複屈折性位相差板、及び隣接するゾーンにおけるウィンドー層を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ａにおいて、選択的加熱処理プロセスは、二軸的複屈折性位相差層をウィンドー層へと変更することができる（すなわち、二軸→ウィンドー）。
図６ｂにおいて、第２ポリマー材料のものと比べて、比較的低屈折率を有する第１ポリマー材料が選択され、第１ポリマー材料は正の応力光学係数を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは次に、第１ポリマー材料内に複屈折性を生じる一方で第２ポリマー材料は等方性のままであるように、好適な条件下でｘ軸に沿って一軸的に伸張される（一方で垂直な面内方向、すなわち、ｙ軸に沿ってウェブを寸法的に拘束する）。伸張プロセスは、屈折率値１ｘを増加させ、屈折率値１ｚを低下させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、二軸的に複屈折性の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、二軸的に複屈折性の位相差層として機能する。
この光学的位相差フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに放射エネルギーを選択的に供給することによる、選択的な加熱により、複屈折性極薄層はその元の等方性状態へと、又は、配向解除が不完全な場合は中間的な複屈折性状態へと弛緩する。弛緩が完全な場合、有効媒質積み重ね体は、等方性である有効屈折率のセットを生じ、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいてウィンドー層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおける二軸的複屈折性位相差板、及び隣接するゾーンにおけるウィンドー層を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｂにおいて、選択的加熱処理プロセスは、二軸的複屈折性位相差層をウィンドー層へと変更することができる（すなわち、二軸→ウィンドー）。
図６ｃにおいて、第２ポリマー材料のものと比べて、同様に、又は僅かに高い屈折率を有する第１ポリマー材料が選択され、第１ポリマー材料は正の応力光学係数を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは、第１ポリマー材料内に複屈折性を生じる一方で第２ポリマー材料は等方性のままであるように好適な条件下でｘ軸に沿って一軸的に伸張される（完全に一軸的な延伸状態、すなわち、垂直な面内方向（すなわち、ｙ軸）に沿った完全なウェブの弛緩を可能にする）。伸張プロセスは、屈折率値１ｘを増加させ、屈折率値１ｙ及び１ｚを低下させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、一軸的に複屈折性の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、ａ−プレート位相差層として機能する。
この光学的位相差フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに放射エネルギーを選択的に供給することによる、選択的な加熱により、複屈折性極薄層はその元の等方性状態へと、又は、配向解除が不完全な場合は中間的な複屈折性状態へと弛緩する。弛緩が完全な場合、有効媒質積み重ね体は、等方性である有効屈折率のセットを生じ、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいてウィンドー層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおける一軸的複屈折性ａ−プレート位相差板、及び隣接するゾーンにおけるウィンドー層を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｃにおいて、選択的加熱処理プロセスは、ａプレート位相差層をウィンドー層へと変更することができる（すなわち、ａ−プレート→ウィンドー）。
図６ｄにおいて、第２ポリマー材料のものと比べて、より高い屈折率を有する第１ポリマー材料が選択され、第１ポリマー材料は負の応力光学係数を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブはその後、第１ポリマー材料において複屈折性を生じる一方で、第２ポリマー材料は等方性のままであるように好適な条件下でｘ及びｙ軸に沿って二軸方向で等しく伸張される。伸張プロセスは、屈折率値１ｘ及び１ｙを低減させ、屈折率値１ｚを増加させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、一軸的に複屈折性の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、ｃ−プレート位相差層として機能する。ｃプレートは、ｎｚが、ｎｘ及びｎｙよりも大きいために、正のｃプレートとして特徴付けられる。
この光学的位相差フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに放射エネルギーを選択的に供給することによる、選択的な加熱により、複屈折性極薄層はその元の等方性状態へと、又は、配向解除が不完全な場合は中間的な複屈折性状態へと弛緩する。弛緩が完全な場合、有効媒質積み重ね体は、等方性である有効屈折率のセットを生じ、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいてウィンドー層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおける一軸的複屈折性（正の）ｃ−プレート位相差板、及び隣接するゾーンにおけるウィンドー層を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｄにおいて、選択的加熱処理プロセスは、正のｃ−プレート位相差層をウィンドー層へと変更することができる（すなわち、（＋）ｃ−プレート→ウィンドー）。
図６ｅにおいて、第２ポリマー材料のものと比べて、低い屈折率を有する第１ポリマー材料が選択され、第１ポリマー材料は正の応力光学係数を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブはその後、第１ポリマー材料において複屈折性を生じる一方で、第２ポリマー材料は等方性のままであるように好適な条件下でｘ及びｙ軸に沿って二軸方向で等しく伸張される。伸張プロセスは、屈折率値１ｘ及び１ｙを増加させ、屈折率値１ｚを低下させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、一軸的に複屈折性の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、ｃ−プレート位相差層として機能する。ｃプレートは、ｎｚが、ｎｘ及びｎｙよりも小さいために、負のｃプレートとして特徴付けられる。
この光学的位相差フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに放射エネルギーを選択的に供給することによる、選択的な加熱により、複屈折性極薄層はその元の等方性状態へと、又は、配向解除が不完全な場合は中間的な複屈折性状態へと弛緩する。弛緩が完全な場合、有効媒質積み重ね体は、等方性である有効屈折率のセットを生じ、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいてウィンドー層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおける一軸的複屈折性（負の）ｃ−プレート位相差板、及び隣接するゾーンにおけるウィンドー層を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｅにおいて、選択的加熱処理プロセスは、負のｃ−プレート位相差層をウィンドー層へと変更することができる（すなわち、（−）ｃ−プレート→ウィンドー）。
図６ｆにおいて、ほぼ同じ屈折率を有する第１及び第２ポリマー材料が選択され、両方の材料は正の応力光学係数を有する。第１材料は、第２材料のものよりも実質的に低い融解温度を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブはその後、第１及び第２ポリマー材料の両方において、複屈折性を生じるように好適な条件において、ｙ軸よりもｘ軸に沿って、非対称に二軸方向に伸張される。伸張プロセスは、１ｘ及び２ｘの屈折率を増加させ、より小さい程度で屈折率値１ｙ及び２ｙを増加させ、屈折率値１ｚ及び２ｚを減少させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、二軸的位相差層の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、二軸的位相差層として機能する。有効屈折率Ｎｚは、Ｎｘ及びＮｙ未満であるものとみられる。
この光学的位相差フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに対する放射エネルギーの選択的な供給による選択的な加熱は、第１極薄層のみをその元の等方性状態に、又は配向解除が不完全である場合には中間的な複屈折状態へと弛緩させるように調節され、同時に第２極薄層が実質的にその複屈折性を維持することを可能にする。第１層の弛緩が完全である場合、有効媒質積み重ね体は、やはり二軸方向に複屈折性であるが、より低い複屈折性を有する、有効屈折率のセットを得、それによって積み重ね体は、第２ゾーンにおいては、修正された（より低い複屈折性の）二軸的位相差層として機能する。最終的なフィルムは、あるゾーンにおける二軸的複屈折性位相差板と、隣接するゾーンにおける修正された二軸的位相差層（より低い光学的位相差を有する）を一体型フィルムに組みあわせ、極薄層が１つのゾーンから次へと連続的に延びる。図６ｆにおいて、選択的加熱処理プロセスは、二軸的位相差層を別の二軸的位相差層に変更することができる（すなわち、二軸→二軸）。
図６ｇにおいて、ほぼ同じ屈折率を有する第１ポリマー材料及び第２ポリマー材料が選択されるが、第１材料は正の応力光学係数を有し、一方で第２材料は、負の応力光学係数を有する。第１材料は、第２材料のものよりも実質的に低い融解温度を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは、（１）第２材料ではなく、第１材料において複屈折性を生じる好適な条件において、第１段階においてｘ方向に沿って一軸的に伸張され、その後（２）第１及び第２材料の両方において複屈折性を生じる条件において、工程（１）よりも低い延伸比率で、ｙ方向に沿って一軸的に伸張される（完全に一軸的延伸条件を使用する）。伸張プロセスは、屈折率値１ｘを増加させ、屈折率１ｚを減少させ、屈折率値１ｙ及び２ｙを増加させる一方で、より小さい度合いで屈折率値２ｘ及び２ｚを減少させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、一軸的に複屈折性の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、一軸的ｃ−プレート位相差層として機能する。ｃプレートは、ｎｚが、ｎｘ及びｎｙよりも小さいために、負のｃプレートとして特徴付けられる。
この光学的位相差フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに対する放射エネルギーの選択的な供給による選択的な加熱は、第１極薄層のみをその元の等方性状態に、又は配向解除が不完全である場合には中間的な複屈折状態へと弛緩させるように調節され、同時に第２極薄層が実質的にその複屈折性を維持することを可能にする。第１層の弛緩が完全である場合、有効媒質積み重ね体は、やはり二軸方向に複屈折性である、有効屈折率のセットを得、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいては、一軸的なａ−プレート位相差層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおけるｃ−プレート位相差板、及び隣接するゾーンにおけるａ−プレート位相差層を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｇにおいて、選択的加熱処理プロセスは、ｃ−プレート位相差層をａ−プレート位相差層へと変更することができる（すなわち、ｃ−プレート→ａ−プレート）。
図６ｈにおいて、第２ポリマー材料のものと比べて、同様、又は僅かに高い屈折率を有する第１ポリマー材料が選択され、両方の材料は正の応力光学係数を有する。第１材料は、第２材料のものよりも実質的に低い融解温度を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは、（１）第２材料ではなく、第１材料において複屈折性を生じる好適な条件において、第１段階においてｙ方向に沿って一軸的に弱く伸張され、その後（２）第１及び第２材料の両方において複屈折性を生じる条件において、ｘ方向に沿って一軸的に強く伸張される（完全に一軸的延伸条件を使用する）。伸張プロセスは、屈折率値１ｘ及び２ｘを増加させ、屈折率値１ｙをより低い度合いまで増加させ、屈折率値１ｚ、２ｙ、及び２ｚを低減させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、二軸的位相差層の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、二軸的位相差層として機能する。
この光学的位相差フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに対する放射エネルギーの選択的な供給による選択的な加熱は、第１極薄層のみをその元の等方性状態に、又は配向解除が不完全である場合には中間的な複屈折状態へと弛緩させるように調節され、同時に第２極薄層が実質的にその複屈折性を維持することを可能にする。第１層の弛緩が不完全である場合、有効媒質積み重ね体は、一軸方向に複屈折性である、有効屈折率のセットを得、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいては、一軸的なａ−プレート位相差層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおける二軸方向位相差板、及び隣接するゾーンにおけるａ−プレート位相差層を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｈにおいて、選択的加熱処理プロセスは、二軸的位相差層をａ−プレート位相差層へと変更することができる（すなわち、二軸→ａ−プレート）。
図６ｉにおいて、ほぼ同じ屈折率を有する第１ポリマー材料及び第２ポリマー材料が選択され、第１材料は正の応力光学係数を有し、一方で第２材料は、負の応力光学係数を有する。第２材料は、第１材料のものよりも実質的に低い融解温度を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは（１）第２材料におけるよりも第１材料においてより強い複屈折性を含む条件において、第１段階でｙ方向に沿って一軸方向に伸張され、その後（２）は、第１及び第２材料において複屈折性を含む条件において、ｘ軸方向に沿って一軸的に伸張される（一方で垂直な面内方向、すなわちｙ軸に沿ってウェブを寸法的に拘束する）。伸張プロセスは、屈折率値１ｘ及び１ｙを増加させ、屈折率値２ｚをより低い度合いで増加させ、屈折率値１ｚを低減させ、屈折率値２ｘ及び２ｙをより低い度合いだけ低減させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、二軸的位相差層の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、二軸的位相差層として機能する。
この光学的位相差フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに対する放射エネルギーの選択的な供給による選択的な加熱は、第２極薄層のみをその元の等方性状態に、又は配向解除が不完全である場合には中間的な複屈折状態へと弛緩させるように調節され、同時に第１極薄層が実質的にその複屈折性を維持することを可能にする。第２層の弛緩が不完全である場合、有効媒質積み重ね体は、一軸方向に複屈折性である、有効屈折率のセットを得、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいては、一軸的なｃ−プレート位相差層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおける二軸方向位相差板、及び隣接するゾーンにおけるｃ−プレート位相差層を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｉにおいて、選択的加熱処理プロセスは、二軸的位相差層をａ−プレート位相差層へと変更することができる（すなわち、二軸→ｃ−プレート）。
図６ｊにおいて、第２ポリマー材料のものと比べてより高い屈折率を有する第１ポリマー材料が選択され、第１材料は負の応力光学係数を有する一方で第２材料は正の応力光学係数を有する。第２材料は、第１材料のものよりも実質的に低い融解温度を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは（１）第２材料におけるよりも第１材料においてより強い複屈折性を含む条件において、第１段階でｙ方向に沿って一軸方向に伸張され、その後（２）は、第１及び第２材料において複屈折性を含む条件において、ｘ軸方向に沿って一軸的に伸張される（一方で垂直な面内方向、すなわちｙ軸に沿ってウェブを寸法的に拘束する）。伸張プロセスは、屈折率値１ｚ及び２ｘを増加させ、屈折率値２ｙをより低い度合いで増加させ、屈折率値２ｚを低減させ、屈折率値１ｘ及び１ｙをより低い度合いだけ低減させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、一軸的に複屈折性の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、一軸的ａ−プレート位相差層として機能する。
この光学的位相差フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに対する放射エネルギーの選択的な供給による選択的な加熱は、第２極薄層のみをその元の等方性状態に、又は配向解除が不完全である場合には中間的な複屈折状態へと弛緩させるように調節され、同時に第１極薄層が実質的にその複屈折性を維持することを可能にする。第２層の弛緩が不完全である場合、有効媒質積み重ね体は、一軸方向に複屈折性である、有効屈折率のセットを得、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいては、一軸的なｃ−プレート位相差層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおける一軸的ａ−プレート位相差板、及び隣接するゾーンにおける一軸的ｃプレート位相差層を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｊにおいて、選択的加熱処理プロセスは、ａ−プレート位相差層をｃ−プレート位相差層へと変更することができる（すなわち、ａ−プレート→ｃ−プレート）。
図６ｋにおいて、第２ポリマー材料のものと比べて同様又は僅かに高い屈折率を有する第１ポリマー材料が選択され、第１材料は正の応力光学係数を有する一方で第２材料は負の応力光学係数を有する。第１及び第２材料は、同じ又は同様の溶融温度を有し得る。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは（１）第２材料におけるよりも第１材料においてより強い複屈折性を含む条件において、第１段階でｙ方向に沿って一軸方向に伸張され、その後（２）は、第１及び第２材料において複屈折性を含む条件において、ｘ軸方向に沿って一軸的に伸張される（一方で垂直な面内方向、すなわちｙ軸に沿ってウェブを寸法的に拘束する）。伸張プロセスは、屈折率値１ｘ、１ｙ、及び２ｚを増加させ、屈折率値１ｚ及び２ｘを減少させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、二軸的位相差層の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、二軸的位相差層として機能する。
この光学的位相差フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに対する放射エネルギーの選択的な供給による選択的な加熱は、第１及び第２極薄層の両方をこれらの元の等方性状態へと、配向解除が不完全である場合は中間的な複屈折状態へと弛緩させるように、調節される。弛緩が完全な場合、有効媒質積み重ね体は、等方性である有効屈折率のセットを生じ、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいてウィンドー層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおける二軸方向位相差板、及び隣接するゾーンにおけるウィンドー層を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｋにおいて、選択的加熱処理プロセスは、二軸的位相差層をウィンドー層へと変更することができる（すなわち、二軸→ウィンドー）。
図６Ｌにおいて、第２ポリマー材料のものと比べて同様又は僅かに高い屈折率を有する第１ポリマー材料が選択され、第１材料は負の応力光学係数を有する一方で第２材料は正の応力光学係数を有する。第２材料は、第１材料のものよりも実質的に低い融解温度を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは、第１及び第２材料の両方において、複屈折性を生じるように好適な条件において、ｙ軸よりもｘ軸に沿って、非対称に二軸方向に伸張される。伸張プロセスは、屈折率値１ｚ、２ｘ及び２ｙを増加させ、屈折率値１ｘ、１ｙ及び２ｚを減少させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、等方性の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、ウィンドー層として機能する。
この光学的位相差（ウィンドー）フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに対する放射エネルギーの選択的な供給による選択的な加熱は、第２極薄層のみをその元の等方性状態に、又は配向解除が不完全である場合には中間的な複屈折状態へと弛緩させるように調節され、同時に第１極薄層が実質的にその複屈折性を維持することを可能にする。第２層の弛緩が完全である場合、有効媒質積み重ね体は、二軸方向に複屈折性である、有効屈折率のセットを得、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいては、二軸的位相差層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおけるウィンドーフィルム、及び隣接するゾーンにおける二軸的位相差板を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６Ｌにおいて、選択的加熱処理プロセスは、ウィンドー層を二軸層へと変更することができる（すなわち、ウィンドー→二軸）。
図６ｍにおいて、ほぼ同じ屈折率を有する第１ポリマー材料及び第２ポリマー材料が選択され、第１材料は正の応力光学係数を有し、一方で第２材料は、負の応力光学係数を有する。第１材料は、第２材料のものよりも実質的に低い融解温度を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは、第１材料及び第２材料の両方において複屈折性を生じるように好適な条件下で、ｘ軸に沿って一軸的に伸張される（一方で垂直な面内方向、すなわち、ｙ軸に沿ってウェブを寸法的に拘束する）。伸張プロセスは屈折率値１ｘ及び２ｚを増加させ、屈折率値１ｚ及び２ｘを減少させ、屈折率値１ｙ及び２ｙをより小さい程度で変化させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、等方性の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、ウィンドー層として機能する。
この光学的位相差（ウィンドー）フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに対する放射エネルギーの選択的な供給による選択的な加熱は、第１極薄層のみをその元の等方性状態に、又は配向解除が不完全である場合には中間的な複屈折状態へと弛緩させるように調節され、同時に第２極薄層が実質的にその複屈折性を維持することを可能にする。第１層の弛緩が完全である場合、有効媒質積み重ね体は、二軸方向に複屈折性である、有効屈折率のセットを得、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいては、二軸的位相差層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおけるウィンドーフィルム、及び隣接するゾーンにおける二軸的位相差板を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｍにおいて、選択的加熱処理プロセスは、ウィンドー層を二軸層へと変更することができる（すなわち、ウィンドー→二軸）。
図６ｎにおいて、第２ポリマー材料のものと比べて同様又は僅かに高い屈折率を有する第１ポリマー材料が選択され、第１材料は正の応力光学係数を有する一方で第２材料は負の応力光学係数を有する。第１材料は、第２材料のものよりも実質的に低い融解温度を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは、好適な条件下でｘ軸に沿って一軸的に伸張させ（完全に一軸的な延伸状態、すなわち、垂直な面内方向（すなわち、ｙ軸）に沿った完全なウェブの弛緩を可能にする）、第１及び第２材料の両方において複屈折性を生じる。伸張プロセスは、屈折率値１ｘ、２ｙ、及び２ｚを増加させ、屈折率値１ｙ、１ｚ及び２ｘを減少させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、等方性の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、ウィンドー層として機能する。
この光学的位相差（ウィンドー）フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに対する放射エネルギーの選択的な供給による選択的な加熱は、第１極薄層のみをその元の等方性状態に、又は配向解除が不完全である場合には中間的な複屈折状態へと弛緩させるように調節され、同時に第２極薄層が実質的にその複屈折性を維持することを可能にする。第１層の弛緩が完全である場合、有効媒質積み重ね体は、一軸方向に複屈折性である、有効屈折率のセットを得、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいては、ａ−プレート位相差層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおけるウィンドーフィルム、及び隣接するゾーンにおける一軸的ａ−プレート位相差板を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｎにおいて、選択的加熱処理プロセスは、ウィンドー層をａ−プレート層へと変更することができる（すなわち、ウィンドー→ａ−プレート）。
図６ｏにおいて、第２ポリマー材料のものと比べて僅かに高い屈折率を有する第１ポリマー材料が選択され、第１材料は正の応力光学係数を有する一方で第２材料は負の応力光学係数を有する。第１材料は、第２材料のものよりも実質的に低い融解温度を有する。材料は、好適な数の層を有する交互する層構成へと共押出しされて、菱型の記号によって示される屈折率を有する多層キャストウェブを形成する。キャストウェブは、第１及び第２材料の両方に複屈折性を生じるように好適な条件においてｘ及びｙ軸に沿って二軸方向に等しく伸張される。伸張プロセスは、屈折率値１ｘ、１ｙ、及び２ｚを増加させ、屈折率値１ｚ、２ｘ及び２ｙを減少させる。この屈折率のセットは、適切な数の極薄層を有する有効媒質積み重ね体において実施される際に、有効媒質積み重ね体に、等方性の有効屈折率セットをもたらし、これによって積み重ね体は、ウィンドー層として機能する。
この光学的位相差（ウィンドー）フィルムはその後、上記のように第２ゾーンにおいて内側にパターンを付される一方で、第１ゾーンにおいて光学位相差フィルムを完全なままにすることができる。第２ゾーンに対する放射エネルギーの選択的な供給による選択的な加熱は、第１極薄層のみをその元の等方性状態に、又は配向解除が不完全である場合には中間的な複屈折状態へと弛緩させるように調節され、同時に第２極薄層が実質的にその複屈折性を維持することを可能にする。第１層の弛緩が不完全である場合、有効媒質積み重ね体は、一軸方向に複屈折性である、有効屈折率のセットを得、それによって積み重ね体は第２ゾーンにおいては、ｃ−プレート相差層として機能する。最終的なフィルムはしたがって、あるゾーンにおけるウィンドーフィルム、及び隣接するゾーンにおける一軸的ｃープレート位相差板を、一体型フィルムへと組み合わせ、極薄層が一方のゾーンから隣接するゾーンへと連続的に延びている。図６ｏにおいて、選択的加熱処理プロセスは、ウィンドー層をｃープレート層へと変更することができる（すなわち、ウィンドー→ｃープレート）。
上記のシナリオは、第１ゾーンのための位相差板タイプ、第２ゾーンのための位相差板タイプ、材料特性、及び他の内側にパターンを有する光学的位相差フィルムを生じるために使用され得るプロセスパラメータの、多数の可能な組み合わせのなかのいくつかを含んでいるに過ぎず、限定的であるものとみなされるべきではない。正の複屈折性だけではなくまた、負の複屈折性材料であり、これらの組み合わせが使用され得ることに留意する。例えば、追加的なシナリオは、水平軸を通じて図を反映させることによって容易に得ることができる（例えば、図６ｄ及び６ｅ）複屈折性及び等方性ポリマーの組み合わせが使用される場合において、複屈折性ポリマーは、等方性ポリマーの屈折率より低い、高い、又はこれと等しい予備伸張した等方性屈折率を有し得る。様々な初期状態及び最終的状態の相対的規模もまた異なっていてもよい。例えば、利用可能な自由度の範囲内の、等式（１）〜（３）における拘束は、初期の主位相差対最終的な主位相差の相対量を求めるために課されてもよく、この結果は適切な材料選択を行うために使用されてもよい。
ＳＴＯＦフィルムの光学的位相差の変化が、主にＳＴＯＦフィルムの材料又は層の複屈折性の熱による弛緩と主に関連するという事実は、ＳＴＯＦフィルムをパターン化するのに使用される選択的な処理プロセスが、一方向又は不可逆的であり得ることを意味する。例えば、初期第１光学位相差が第２光学的位相差へと変更されるように加工された（放射エネルギーの吸収によって選択的に熱処理された）ＳＴＯＦフィルムの所与の領域又はゾーンがその後、その元の第１光学位相差を再び得るように、別の放射線によって加工できない場合がある。実際、最初の熱処理がゾーンにおける複屈折性を実質的に排除すると、同じ又は同様の放射線による更なる放射線処理は、ゾーンの光学的位相差に殆ど、又は全く追加的な効果を有さないことがある。ＳＴＯＦフィルムパターン化のこの一方向又は不可逆的な態様は、例えば、耐タンパ性が重要である、セキュリティ上の用途、又は例えば、他の構成要素へと変換するために使用される光場又は電場に対する安定性が所望されるディスプレイ若しくは光電子用途において、特に有用であり得る。他の用途において、連続的な相において、ＳＴＯＦフィルムをパターン化する、この一方向又は不可逆的な態様は、第１ゾーンにおいて複屈折性を有し、第２ゾーンにおいて複屈折性を殆ど又は全く有さない、安定的なパターンを有する連続的な相が所望される、光電子装置などの、別の相の切り替え可能な要素と組み合わされてもよい。
図７において、開示されるパターン化（例えば、内側にパターンを有する）フィルムをもたらすために、光学的位相差ＳＴＯＦフィルムの第２ゾーンを選択的に加熱するために使用され得る、一構成７００を示す。換言すれば、フィルム全体を通じて、又は少なくともその第１ゾーンから第２ゾーンまで延びる、極薄層の少なくとも１つの有効媒質積み重ね体を含む、ＳＴＯＦ光学的位相差フィルム７１０がもたらされる。有効媒質積み重ね体は光学フィルムの内側にあり、フィルムの使用可能な領域にわたって均一な光学的位相差をもたらす。高いラジアンスの光源７２０は、吸収により入射光の一部を熱に変換することによって、フィルム７１０の照射部分７２４を選択的に加熱するために好適な波長、強度、及びビームサイズの方向付けられたビーム７２２をもたらす。好ましくは、フィルムの吸収率は、適度な電力の光源による十分な加熱をもたらすのに十分であるが、フィルムの初期表面で過剰な量の光が吸収されて表面を損傷し得るほどには高くない。以下で更に記載される。いくつかの場合において、斜めに位置付けられた光源７２０ａ、方向付けられた７２２ａ、及び照射部７２４ａとして示される、斜角θでビームを方向づけることが望ましい場合がある。
いくつかの場合において、方向付けられたビーム７２２又は７２２ａは、照射部７２４又は７２４ａが所望の形状の最終的な第２ゾーンを有するような方法で成形されてもよい。他の場合において、方向付けられたビームは、所望の第２ゾーンよりも小さな寸法の形状を有する場合がある。後者の場合において、処理されるゾーンの所望の形状を辿るように、光学フィルムの表面にわたって方向付けられたビームを走査するために、ビーム操作機器が使用され得る。方向付けられたビームの空間的及び時間的な調節は、ビームスプリッタ、レンズ配列、ポッケルスセル、音響光学的調節器、及び他の技術、並びに当業者により既知の装置、などの装置と共に使用することができる。
図８Ａ〜Ｃは、内側にパターン化された光学位相差フィルムの異なる第２ゾーンの概略図を提示し、示されるゾーンを形成することができる、フィルムに対して方向付けられた光線の可能な経路が、重ねて描かれている。図８Ａにおいて、光線はパターン化可能な位相差フィルム８１０において方向付けられ、任意の形状のゾーン８１４の光学的位相差を第１ゾーン８１２のものから区別するために、そのフィルムを選択的に加熱するために、経路８１６に沿って開始点８１６ａから端点８１６ｂまで制御された速度で走査される。図８Ｂ及び８Ｃは同様である。図８Ｂにおいて、光線は、パターン化可能な位相差フィルム８２０において方向付けられ、矩形のゾーン８２４の光学的位相差を隣接する第１ゾーン８２２のものと区別するために、そのフィルムを選択的に加熱するために、経路８２６に沿って開始点８２６ａから制御された速度で走査される。図８Ｃにおいて、光線は、パターン化可能な位相差フィルム８３０において方向付けられ、矩形のゾーン８３４の光学的位相差を隣接する第１ゾーン８３２のものと区別するために、そのフィルムを選択的に加熱するため、非連続的な経路８３６〜８４２などにそって制御された速度で走査される。図８Ａ〜Ｃのそれぞれにおいて、加熱は、第２ゾーンにおける少なくともいくつかの内側極薄層又は材料の複屈折性を低減又は排除する一方で、第１ゾーンにおけるこれらの層又は材料の複屈折性を維持するのに十分であり、第２ゾーンにおける極薄層の構造的一体性を維持しかつ第２ゾーンへの選択的な圧力の適用を行うことなく、達成される。
方向付けられた光線はまた、破線、点線、ないしは別の方法で途切れているか、非連続的な経路を形成するために調節され得る。調節が完了し、光線強度が１００％又は「完全」から０％又は「なし」まで変化する。あるいは、調節は部分的であり得る。更に、調節は、ビーム強度における急激な変化（例えば、段階的）を含み、及び／又はこれはビーム強度のより漸進的な変化を含み得る。
図９Ａ及び９Ｂは、光学的に最適な局所的加熱をもたらすために、パターン化可能なＳＴＯＦフィルムの吸収がどのように調節され得るか、又はされるべきかという、内容を取り扱う。図９Ａ及び９Ｂのグラフは、同じ水平目盛り上にプロットされ、これは、フィルムを伝搬する放射線ビームの深さ又は位置を表す。０％の深さは、フィルムの前側表面に対応し、１００％の深さは、フィルムの後側表面と対応する。図９Ａは、垂直軸に沿って、放射ビームの相対的強度Ｉ／Ｉ0プロットする。図９Ｂは、フィルムの各深さにおいて、局所的な吸収係数（放射線の選択される波長、又は波長帯域において）をプロットする。
これらの曲線は３つのパターン化可能な光学フィルム実施形態に関し、各図面でにおいて３つの曲線がプロットされる。第１実施形態において、フィルムは、方向付けられた光線の波長におけるその厚さ全体を通じて実質的に均一な低い吸収率を有する。この実施形態は、図９Ａの曲線９１０、及び図９Ｂの曲線９２０としてプロットされる。第２実施形態において、フィルムは、その厚さを通じて実質的に均一な高い吸収率を有する。この実施形態は、図９Ａの曲線９１２、及び図９Ｂの曲線９２２としてプロットされる。第３実施形態において、フィルムは、その厚さの区域９１５ａ及び９１５ｃを通じて比較的低い吸収率を有するが、その厚さの区域９１５ｂにおいてより高い、中間的な吸収率を有する。
第１実施形態は、多くの状況において低すぎる吸収係数を有する。方向付けられた光線は、曲線９１０の一定の傾斜によって示されるように、深さの関数として均一に吸収され、これはいくつかの場合においては望ましい場合があるが、１００％の深さにおける曲線９１０の高い値により示されるように、極僅かな光のみが実際に吸収され、これは方向付けられる光線が高い比率で浪費されていることを意味する。それでも、いくつかの場合において、第１実施形態は、いくつかのフィルムの処理において非常に有用であり得る。第２実施液体は、多くの状況において高すぎる吸収係数を有する。実質的に全ての方向付けられたビームが吸収され、浪費されないが、高い吸収率はフィルムの前方表面において過剰な量の光が吸収され、これはフィルムの損傷を生じることがある。吸収率が高過ぎると、フィルムの前側表面、又はその付近における層を損傷することなく、関心の内部層又は材料に適切な量の熱を供給することができない。第３実施形態は、フィルムの選択される内部層に吸収剤を組み込むことによって、達成され得る、不均一な吸収特性を利用する。吸収率のレベル（局所的吸収係数によって制御される）は望ましくは、方向付けられた光線の十分な部分がフィルムの調節された吸収区域９１５ｂで吸収されるが、区域９１５ｂの入射端部に、反対側の端部に比べて過剰な量の熱が供給されるほど吸収率が高くならないように、中間的なレベルに設定される。多くの場合において、吸収区域９１５ｂの吸収率は、未だに適度に弱く、例えば、この区域における相対的な強度プロファイル９１４は、他の区域（例えば、９１５ａ及び９１５ｃ）よりも単純に急な傾斜を有する直線として示されてもよい。吸収率の適切さは、所望の効果を達成するために、入射する、方向付けられた光線の出力及び持続時間に対してこの吸収率のバランスを取ることによって決定され得る。
第３実施形態の基本的な例として、パターン化可能なフィルムは、その間に極薄層の１つ以上の有効媒質パケット又は積み重ね体を備える、２つの厚いスキン又はＰＢＬ層の構成を有してもよく（２つ以上のこのようなパケットが含まれる場合、保護境界層によって分離される）、フィルムは、２つの材料Ａ及びＢのみにより構成され得る。吸収率を中間的なレベルまで増加させるために、ポリマー材料Ａに吸収剤が組み込まれるが、ポリマーＢには吸収剤は組み込まれない。両方の材料Ａ及びＢが、有効媒質積み重ね体の交互する極薄層にもたらされるが、スキン層及び保護境界層が存在する場合は、これらはポリマーＢのみで構成される。このような構成は、弱い吸収性の材料Ｂを使用するために、フィルムの外側表面（すなわち、スキン層）における低い吸収率を有し、光学的に厚いＰＢＬが存在する場合は、ここにおいてやはり低い吸収率を有する。構成体は、交互する極薄層におけるより強い吸収性の材料Ａの使用により（より弱い吸収率の材料Ｂの交互する極薄層と共に）、有効媒質積み重ね体においてより高い吸収率を有する。このような構成は、外側層ではなく、１つ以上の内部有効媒質積み重ね体など、フィルムの内側層に優先的に熱を供給するために、使用され得る。適切な設計のフィードブロックにより、光学的位相差フィルムは、３つ以上の異なる種類のポリマー材料（Ａ、Ｂ、Ｃ、．．．）を含む場合があり、フィルムの選択された内側層、パケット、又は区域に熱を供給するように、広範な異なる吸収特性を供給するため、材料の１つ、いくつか、若しくは全てに、又はこれらの材料のいずれかにより構成される選択される層のみに、吸収剤が組み込まれてもよい。他の場合において、これは、ＰＢＬ又は更に存在する場合はスキン層に、吸収剤を含めるために有用である。いずれにせよ、投入量又は濃度は、同じであっても異なっていてもよく、極薄層よりも高くても低くてもよい。
開示されるＳＴＯＦ位相差フィルムの潜在的な適用は、図形的表示及び光学装置を含む。例えば、Ｂ．Ｍ．Ｉ．ｖａｎ ｄｅｒ Ｚａｎｄｅ ｅｔ．ａｌ，ＳＩＤ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｐａｐｅｒｓ，（２００３），ｐｐ．１９４〜１９７参照。反射ディスプレイ、及び半透過型ディスプレイの輝度及びコントラスト、透過型ディスプレイの視界角度を改善し、３Ｄグラフィカルディスプレイを形成するためにパターンを有する位相差板が使用された。例えば、Ｓ．Ｊ．Ｒｏｏｓｅｎｄａａｌ ｅｔ ａｌ．，ＳＩＤ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｐａｐｅｒｓ，（２００３），ｐｐ ７８〜８１；Ｋａｒｍａｎ，ｅｔ ａｌ．，Ｐｒｏｃ．Ｅｕｒｏｄｉｓｐｌａｙ，（２００２）ｐ．５１５；Ｃ．Ｈ．Ｔｓａｉ ｅｔ ａｌ．Ｐｒｏｃ．ｏｆ ＳＰＩＥ，Ｖｏｌ．３９５７（２０００）ｐ．１４２；英国特許番号第２，４２０，１８８号（Ｆｕｋａｉｓｈｉ ｅｔ ａｌ．）；米国特許出願公開番号第２００６／００８２７０２号（Ｊａｃｏｂｓ ｅｔ ａｌ．）；国際出願公開番号第２００４／００４３６２号（Ｊａｃｏｂｓ ｅｔ ａｌ．）、同第２００４／００３６３０号（Ｊａｃｏｂｓ ｅｔ ａｌ．）；及び米国特許番号第７，１１６，３８７号（Ｔｓａｉ ｅｔ ａｌ．）参照。特に、位相差は、例えば、色補正及び視野角などの、ピクセルごとの多数のレベルへと制御され得る。多レベル位相差板、すなわち、別個の、明確な高い、低い、及び少なくとも中間的な値の位相差板、及び／又はパターン化可能な位相差フィルム、及びパターン化可能なＳＴＯＦ反射体を使用する光学フィルムが、これらの用途において使用され得る。
開示されるＳＴＯＦ位相差フィルムは、広範な種類のディスプレイ、及び他の大面積光電子装置、例えば、バックライト、標識、照明、チャンネルレター、光導体又は管路系などに使用され得る。このような装置は、偏光又は非偏光を発してもよい。このような装置は、白色光（すなわち、一般的な観察者によって名目上白色として認識される光）、又は白色以外の特定の色の光を発射し得る。このような装置は、例えば、液晶、有機発光装置（ＯＬＥＤ）、及び／又は発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の配列を含み得る。このような装置は、例えば、立体表示ディスプレイなどの、三次元ディスプレイであるか、又はこれを含み得る。このような装置は、透過型ディスプレイ、反射ディスプレイ、及び／又は半透過型ディスプレイであるか、又はこれを含み得る。このような装置としては、エッジ照明ディスプレイ、及び／又は直接照明ディスプレイを含み得る。
ディスプレイ用途に加えて、開示されるＳＴＯＦ位相差フィルムはまた、セキュリティ用途においても有用であり得る。この点において、開示されるフィルムは、ＩＤカード、運転免許証、パスポート、アクセスコントロールパス、金融取引カード（クレジット、デビット、プリパイドなど）、ブランド保護、又はＩＤラベル、など（以下で更に詳細に記載される）において使用され得る。フィルムは、セキュリティ文書の他の層又は部分の他の層又は部分の内部又は外部に、積層されるか、ないしは別の方法で接着され得る。フィルムがパッチとして含まれる場合、カード、ページ、又はラベルの主要面の一部のみを被覆し得る。いくつかの場合において、セキュリティ文書のベース基材、又は唯一の要素として、フィルムを使用することが可能であり得る。フィルムは、ホログラム、印刷画像（凹版印刷、オフセット印刷、バーコードなど）、再帰反射機構、ＵＶ又はＩＲ活性化画像などの、セキュリティ文書内の多くの特徴の１つとして含まれてもよい。いくつかの場合において、開示されるフィルムは、これらの他のセキュリティ機構と組み合わされて層化されてもよい。フィルムは、例えば、署名、画像、個別のコード番号など、セキュリティ文書に個人的な機構を付与するために使用されてもよい。個人的な機構は、例えば、メーカーのタグ、製品照合タグ、耐タンパ用コードなどにおける場合など、個別文書の保持者、又は特定の製品実態に関連してもよい。個人的な機構は、直線及びドットパターンを含む、様々な走査パターンで作製され得る。パターンは、フィルム構成により、書き込み可能な層において同じであるか、又は異なっていてもよい。
フィルムが単独で使用されるか、又は透明な積層体内に埋め込まれる場合（例えば、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、又はポリエステルなどの透明なプラスチックから形成される）、パターン又はしるしは、２つの偏光子の間にフィルム構成体を配置することによって見ることができる。構成体は、直交偏光子、及び平行偏光子構成の両方で見ることができる（偏光軸は有効媒質積み重ね体の速軸と遅軸との中間に配置される）。有効媒質積み重ね体が、１／２波プレートとして機能する場合、直交偏光子及び平行偏光子構成において補色が観察される。
１つのセキュリティ用途が、図１０で概略的に示される。ここでは、システム１０２０は、偽造防止、又は他の詐欺防止目的のために、セキュリティ文書１０２４に適用された積層物品１０２２を含む。積層物品１０２２は、少なくとも反射性層１０２６、光学偏光子１０２８、及びＳＴＯＦ光学的位相差フィルム１０１０を含み得る。反射層１０２６は、鏡面反射又は拡散反射であってもよく、単純な実施形態においては、一片の白い、若しくは色付きの紙、一片の充填プラスチック（例えば、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリエステルなど）、又は、同様の拡散性の白い又は色付きの外観を有する他の好適な材料であるか、又はこれを含み得る。層１０２６は、例えば、従来的な印刷技術を使用して作製されるような、従来的なしるしを含み得る。偏光子１０２８は、吸収性であろうと、反射性であろうと、任意の好適な偏光子であるか、又はこれを含み得る。ＳＴＯＦ光学的位相差フィルム１０１０は、本明細書において開示される光学フィルム又は構成体のいずれかであり得る。好ましくは、フィルム１０１０は、異なる光学的位相差を有する、少なくとも第１及び第２領域からなるしるし、又はパターンを付与するように加工又は処理されている。位相差フィルム１０１０は好ましくは、位相差フィルムの少なくとも１つの領域又はゾーンの速軸が、偏光子１０２８の透過軸又は遮蔽軸に対して斜めに配置される（例えば、約４５°の角度で）ように、偏光子１０２８に対して方向付けられる（ｚ軸を中心とした回転に関して）。反射層１０２６、偏光子１０２８、及びＳＴＯＦフィルム１０１０は、例えば、１つ以上のより光学的に透明な、ないしは別の方法による光透過性の接着剤層を使用して、任意の好適な方法で一緒に積層され得る。
積層物品１０２２は、セキュリティ文書１０２４に組み込まれるか、取り付けられるか、ないしは別の方法によりこれと関連して使用され得る。セキュリティ文書１０２４は、ユーザーが保存することを望む、又は詐欺、例えば、偽造、交換、転用、複製、模造、及び／若しくは置換から防ぐことを望む、文書又は他の物品であるか、あるいはこれを含み得る。（これに関し、偽造とは、正規の審査官の精密な調査を騙そうとする、文書、物品、又はセキュリティ機構の複製を指すことがあり、交換とは、一般的用途における状況下において検出される恐れが最小限であるように、本物として通るように意図された、文書又は物品の修正を指すことがあり、転用とは、権限を有さない業者によって正規の製品を流通又は販売させることを指すことがあり、複製とは、光再現性（photoreproductive）装置によって文書又はその一部を再現することを指すことがあり、模造とは通常使用の状況下において本物として通るように意図された形態の、同様のセキュリティ機構を含む、文書又は物品の模造品を指すことがあり、置換とは、ある文書又は物品を別のものの代わりに配置するか又は使用する行為を指すことがあり、置換された文書又は物品はより低い質又は価値であることが多い）例えば、セキュリティ文書は、ＩＤ文書、パスポート、車両ナンバープレート、製品パッケージ、ＩＤバッジ、免許、カード（例えば、ＩＤカード、若しくはクレジット、デビット、プリペイド、又は他の金融取引カード）、パス、ラベル、証明書、株、権利証書、流通証券、及び通貨などの１つであるか、又はこれを含み得る。用語「識別文書」（「ＩＤ文書」）は、広義に捉えられ、パスポート、運転免許証、国民ＩＤカード、ソーシャルセキュリティカード、投票者登録、及び／又はＩＤカード、出生証明、警察ＩＤカード、国境通過カード、安全検査バッジ、セキュリティカード、ビサ、移民文書及びカード、銃許可証、会員カード、電話のカード、ストアバリューカード、従業員バッジ、デビットカード、クレジットカード、並びに、ギフト券及びカードが挙げられるがこれらに限定されない。
開示されるＳＴＯＦ位相差フィルムは、セキュリティ構成体に隠されたセキュリティ機構をもたらす。例えば、書き込み可能な位相差フィルムは、例えば、分析器の偏光状態によって顕在化するか、又は消える機構など、偏光分析器によって観察可能な隠れた機構をもたらし得る。したがって、例えば、観察者又は検出者１０３０は、偏光分析器１０３２の補助なしに、パターン付きＳＴＯＦ位相差フィルム１０１０内に埋め込まれたしるしを認識することができる場合がある。その厚さ軸ｚ’を中心として分析器１０３２を回転させることにより、観察者１０３０は、位相差フィルム１０１０の光学的位相差パターンを容易に認識することができる。
上記の構成体に関し、様々な色の効果が、位相差の最初の配向状態、及び最終的に処理された状態を検討することによって作製され得る。例えば、初期位相差が、可視スペクトルの一部において１／２波プレートである場合、最初の色は直交偏光子との間の垂直入射において観察することができ、補色は平行偏光子の間の垂直入射で観察することができる。面外位相差の特性により、これらの色は非垂直の観察によりシフトし得る。最終的に処理された状態の位相差の量の低減により、直交偏光子の間で観察した際にパターン付き区域において色の変化を生じ、平行偏光子の間ではこの変化した色の補色を生じる（両方とも、未処理状態の背景色視野で観察される）。初期位相差が等方性ウィンドーを生じるとき、未処理の背景は、無色となる。したがって、有色のパターンが、透明な背景上に形成され得る。同様に、最終的な位相差が等方性ウィンドーであるとき、パターンのこの部分は透明である。したがって、有色の背景上に、無色の前景を含むパターン若しくはしるし、又はその逆が形成され得る。中間的なレベルの加工を使用することによって、パターンの前景及び／又は背景に追加な色を組み込むことができる。
上記の構成体のいくつかの場合において、偏光子の間で生じる色のパターンは、デジタルで走査して、機械によって読むことができる。このような場合において、直交及び平衡状態における色のパターンは、走査データを相互点検して、走査の正確性を向上させるか、その確実性を照明するために使用され得る。走査は、セキュリティ物品の性質によって、透過モード又は反射モードで作製することができる。セキュリティ物品が偏光子（図１０の積層物品１０２２）を含む場合、その後１つの分析偏光子のみが走査に必要とされ得る。分析偏光子のセキュリティ物品の角度及び高さは、２つの偏光子構成体の間の、反射モードのコントラストを改善するために調節されてもよい。角度及び／又は高さは、手動により、又は自動的に最適化することができる。
（実施例１）
２つのＳＴＯＦ光学フィルムが製造された。「フィルム１」と称される、第１のこのようなフィルムは、国際特許番号第２０１０／０７５３５７号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｕｓｉｎｇ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」に従って作製された。フィルム１は、青色光を実質的に反射した多層光学フィルムを含んだ。本明細書において「フィルム２」と称される、第２のＳＴＯＦ光学フィルムが作製された。フィルム２は、極薄層の有効媒質積み重ね体を使用し、赤色光に対して１／２波プレートとして機能した。
フィルム１は、ＰＥＴ及びアクリルコポリマーの交互する層を含んだ。Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｋｉｎｇｓｐｏｒｔ，ＴＮ，から入手可能なＰＥＴ，Ｅａｓｔａｐａｋ（商標）ＰＥＴ ７３５２は、高屈折率光学層に使用された。Ａｌｔｕｇｌａｓ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，ＰＡから、商標名Ａｌｔｕｇｌａｓ（商標）５１０で入手可能なアクリルコポリマーが、低屈折率光学層のために使用された。フィルム１は、やはりＣｏｌｏｒＣｈｅｍ，ＧＡから入手可能なＡｍａｐｌａｓｔ（商標）ＩＲ−１０５０赤外線吸収染料をおよそ０．１４重量％含む、ＰＥＴを、アクリルコポリマーと共に、およそ１５０の交互する材料層として多層フィードブロックに共押出しすることによって形成された。共押出しされたフィルムの外側層は、ＰＥＴを含む保護境界層（ＰＢＬ）であった。およそ１５０層の共押出し材料が、やはりＰＥＴを含むが吸収染料を含まないスキン層の最終的な共押出し対と共に、更に共押出しされた。スキン層のＰＥＴの供給流、光学パケット内のＰＥＴ、及び光学パケット内のアクリルコポリマーの重量比は、２：１：１である。共押出しした層積み重ね体は、ダイを通じてキャスティングされ、チルロールへと静電ピニングし、ここで急冷することによってキャストウェブに形成された。キャストウェブはおよそ３００μｍの厚さであった。キャストウェブは更に、９３℃まで加熱され、約５０％／秒の初期速度で、およそ４×４の延伸比率まで、同時に伸張された。フィルムは伸張後、およそ１８０℃まで更に熱硬化された。生じた光学フィルムはおよそ２０μｍの厚さであった。白色の背景からの透過光を透過させやすい条件下において観察したとき、フィルムは黄色い光を呈した。光が反射しやすい条件下において観察したとき、フィルムは青紫色を呈した。面内主方向における屈折率は、いわゆるオフセットモードにおいてＭｅｔｒｉｃｏｎ Ｐｒｉｓｍ Ｃｏｕｐｌｅｒ（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ，Ｐｉｓｃａｔａｗａｙ，ＮＪから入手可能）を使用して測定され、物理的厚さは、厚さゲージ（Ｍｉｔｕｔｏｙｏ，Ｊａｐａｎ）を使用して測定された。このフィルム１の合計位相差は、極僅か、約６ｎｍであった。
ＰＣＴ国際出願公開番号第２０１０／０７５３６３号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）のキャストウェブ１及び２の実施例と同様の方法で形成されたが、ただし、このフィルム２のキャストウェブは５３μｍ厚さであった。この共押出しされたフィルムは２つのポリエステルを含んだ。第１ポリエステルは、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）ホモポリマーであった。第２ポリエステルは、ＰＥＮ−ＣＨＤＭ１０として、米国特許出願番号第２００９／０２７３８３６号（Ｙｕｓｔ ｅｔ ａｌ）（その実施例７及び表１参照）に記載される、ＰＥＮ−Ｇｂと称されるコポリエステルである。キャストウェブ１及び２の記載に従い、このフィルム２は、やはりＥｐｏｌｉｎ，Ｎｅｗａｒｋ，ＮＪから入手可能なおよそ０．０７重量％のＥｐｏｌｉｔｅ（商標）４１２１赤外線吸収染料を含む第２ポリエステルと、第１ポリエステルをおよそ１５１の交互する材料層に共押出しすることによって形成された。共押出ししたフィルムの外側層は、第１ポリエステルを含む保護境界層（ＰＢＬ）であった。このおよそ１５１層の共押出し材料は、やはり第１ポリエステルを含む、最終的な共押出しされたスキン層の対と共に更に共押出しされた。スキン層の第１ポリエステル、光学パケット内の第１ポリエステル、及び光学パケット内の第２コポリエステルのための、供給流の比率は、およそ２：１：１であった。共押出しした層積み重ね体は、ダイを通じてキャスティングされ、チルロールへと静電ピニングし、ここで急冷することによってキャストウェブに形成された。キャストウェブはおよそ５３μｍの厚さであった。キャストウェブは更に、１３５℃まで加熱され、約１００％／秒の初期速度で、およそ４．２×２．７の延伸比率まで、同時に伸張された。面内における最も高い延伸方向、及び最も低い延伸方向は、それぞれフィルム２（１／２波プレートであった）の遅軸及び速軸を形成した。フィルム２は伸張後、およそ１８０℃まで更に熱硬化された。生じた光学フィルムはおよそ４μｍの厚さであった。これらの条件において、両方のポリエステルが効果的に配向し、同程度の複屈折性を形成することが予測された。フィルム２の屈折率は、いわゆるオフセットモードにおいて、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ Ｐｒｉｓｍ Ｃｏｕｐｌｅｒ（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ，Ｐｉｓｃａｔａｗａｙ，ＮＪから入手可能）を使用して測定された。したがって、遅軸方向、速軸方向、及び厚さ方向における屈折率は、６３２．８ｎｍの測定波長において、それぞれ、１．７７４７、１．６９５０、及び１．５０６の測定値であった。したがって、遅軸と速軸との間の屈折率の差は、６３２．８の波長において、０．０７９７であった。したがって、位相差（すなわち、屈折率差と厚さの積）は、約３２０ｎｍであり、赤色光の１／２波位相差プレートと対応する。５３２ｎｍ及び４０４ｎｍで測定される屈折率は、緑色及び青色光のそれぞれにおいて、同様のレベルの位相差を生じた。特に、遅軸方向、速軸方向、及び厚さ方向における屈折率は、５３２ｎｍの測定波長において、それぞれ、１．７９７５、１．７１８３、及び１．５１４の測定値であり、４０４ｎｍの測定波長においてそれぞれ、１．８６９、１．７９２、及び１．５４８の測定値であった。フィルム内の光学パケット又は積み重ね体の個別の層（外側スキンを除く）はそれぞれ、可視光に関して１／４波長よりも遥かに小さいため（すなわち、これらは極薄層であった）、このフィルム２は、非偏光を使用する際に透過状態で観察したときに本質的に透明及び無色であった。したがって、フィルム２内の極薄層の積み重ね体は、可視スペクトルの光の有効媒質として機能した。したがって、このフィルムは、ＳＴＯＦ有効媒質位相差プレートの例である。
フィルム１及びフィルム２は組み合わされて、およそ１００μｍの透明な、上部及び下部、ポリカーボネートカバー層を含む積層構成となる。上部及び下部ポリカーボネート層はそれぞれ、３Ｍ，Ｍａｐｌｅｗｏｏｄ，ＭＮから入手可能な、３Ｍ（商標）ポリカーボネートセキュリティフィルムの、およそ５０μｍの透明シートの２つの断片を含む。この２つの断片はそれぞれ、各層における余分な複屈折性及び光学位相差を排除するために、同じシートから切断されて、垂直に交差させた。上部透明シート、フィルム１、フィルム２、及び下部透明シートがこの順番で積み重ねられ、およそ６０００ｐｓｉ（４１．３７ＭＰａ）圧力、及び１６５℃を使用するプレスで、約３０分間積層された。図１及び図２は、積層体が、上部カバー層と下部カバー層との間に、フィルム１のみを含む領域、フィルム２のみを含む領域、並びにフィルム１及びフィルム２の両方を含む領域を含むように、意図的に交互にされた。光がフィルムを透過しやすい条件で観察するとき、第１（青色反射）フィルムを含む領域は実質的に黄色に見え、一方で第２フィルムのみを含む領域は実質的に透明に見える。
積層体は、更に、例えば液晶ディスプレイにおいて使用するときに、２つの広帯域可視吸収偏光子フィルムを使用して可視的に分析された。積層体は、２つの適合する偏光子フィルムの間に配置された。まず、偏光子フィルムは両方とも透過軸が一致するように配向された。偏光子がフィルム２（赤色１／２波プレート）の速軸又は遅軸に沿って配向されたとき、白いバックライトで観察すると、これらのフィルムの外観は、偏光子のないこれらの外観と実質的に同様のままである（偏光フィルムの透過の暗化減少を除く）。偏光子が、フィルム２の速軸又は遅軸と４５°で同じように配向されたとき、第２フィルムを含む領域にわたって変化が生じた。第２フィルムのみを含む領域において、白いバックライトからフィルムを通じて観察される色はシアンとして顕れ、間に赤色の１／２波プレートが介在する、同じ偏光子を通じた透過率において予測される、有意な赤色光の透過率の欠如を示す。同様に、両方のフィルムを含む領域において、白いバックライトから積層体を通じて観察される色は緑色として顕れ、間に青色反射板、赤色の１／２波プレートが介在する、同じ偏光子を通じた透過率において予測される、有意な青色及び赤色光の欠如を示す。次に、偏光子フィルムは両方が垂直な透過軸を備えるように配向された（例えば、直交偏光子）。直交状態において、偏光子を通じた透過率は低く、交差する領域は暗く（黒く）顕れた。直交する偏光子がフィルム２の速軸又は遅軸（赤色１／２波プレート）に沿って位置合わせされたとき、交差状態は暗いままであった。交差する偏光子が、第２フィルムの速軸又は遅軸と４５°で同じように配向されたとき、フィルム２を含む領域にわたって色の変化が生じた。フィルム２、又はフィルム２とフィルム１との組み合わせを含む領域において、白いバックライトから積層体を通じて観察した色は赤茶色として顕れ、有意な赤色光透過、及び僅かな緑色光透過を示した。
積層体は、最初に８０８ｎｍに調節されたダイオードレーザーを使用して処理された。２ｍｍ×２ｍｍ領域は、３ワットの電力、４０ｍｍ／秒の直線速度、及び１００μｍのライン分離で走査された。（積層体におけるビーム幅は約５０μｍであった）直交偏光子がないと、２つの重複するフィルム１及びフィルム２を含む積層体は、透過時に観察したときに黄色いままであり、積層体の第１フィルムの完全な青色光反射能を示す。積層体はまた、直交偏光子の間で観察された。直交する偏光子は、第２フィルムの速軸又は遅軸と４５°で同じように配向されたとき、２つの重複するフィルム１及び２を含む積層体は赤茶色の代わりに緑色の区域を示し、例えば、放射線処理の後に、フィルム２の複屈折性の消失により、位相差の有意な低下を示した。この処理は、光学フィルムの反射性を維持する一方で有効媒質多層位相差プレート（すなわち、ある種の位相差プレートから別の種類に）の位相差を偏光するための、放射エネルギー（すなわち、レーザー）を使用したプロセスを表す。光学的に反射フィルム１はまた、１０６４ｎｍの放射線を使用して処理可能又はパターン化可能であった。
位相差フィルム（フィルム２）のみを含む積層体の部分が処理されたとき、有意な色の変化を達成するために（例えば、直交偏光子で観察したとき）、約５ｍｍ／秒の遥かに遅い走査速度が必要とされた。したがって、積層構成体の詳細が、プロセス条件の詳細を変更することができる。
（実施例２）
本明細書においてフィルム３及びフィルム４と称される２つのＳＴＯＦ光学フィルムが作製される。フィルム３は、実質的に反射した青色光であり、一方でフィルム４はほぼ、赤色及び青色光に関して１／２波プレートとして機能した。フィルム３は、実施例１のフィルム１とほぼ同じように作製された。図４は、実施例１のフィルム２と同様に作製され、一致させた偏光子及び直交偏光子において測定した際に、僅かな光学スペクトルの違いを生じた。
特に、フィルム４は、赤色と緑色との間に、より鋭い、初期透過率境界を有し、フィルム２とくらべて、青色により強い影響を有した。実施例１と同様に、フィルム３及び４は組み合わされて、およそ１００μｍの透明な、上部ポリカーボネートカバー層、及び下部ポリカーボネートカバー層を含む、積層構成体とされた。上部及び下部ポリカーボネート層はそれぞれ、３Ｍ，Ｍａｐｌｅｗｏｏｄ，ＭＮから入手可能な、３Ｍ（商標）ポリカーボネートセキュリティフィルムの、およそ５０μｍの透明シートの２つの断片を含む。この２つの断片はそれぞれ、各層における余分な複屈折性及び光学位相差を排除するために、同じシートから切断されて、垂直に交差させた。上部透明シート、フィルム３、フィルム４、及び下部透明シートがこの順番で積み重ねられ、およそ６０００ｐｓｉ（４１．３７ＭＰａ）圧力、及び１６５℃を使用するプレスで、約３０分間積層された。フィルム３及び４は、積層体が、上部カバー層と下部カバー層との間に、フィルム３のみを含む領域、フィルム４のみを含む領域、並びにフィルム３及びフィルム４の両方を含む領域を含むように、意図的に交互にされた。光がフィルムを透過しやすい条件で観察するとき、フィルム３（青色反射）を含む領域は実質的に黄色に見え、一方でフィルム４のみを含む領域は実質的に透明に見える。
この実施例２の積層体のスペクトル透過率測定値は、Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ（Ｎｏｒｗａｌｋ，ＣＴ）から入手可能な大きな積分球を備えた、Ｌａｍｂｄａ ９５０分光光度計により、取られた。測定された透過スペクトルが、図１１のグラフに示される。測定されたスペクトルに関し、また実施例１と同様の観察技術により、２つの偏向子がフィルム４の速軸／遅軸に対し４５°で向けられた（一致させた透過状態、及び直交する透過状態の構成）。偏光子の直交状態は、可視帯域にわたって１％透過率を大きく下回り、図１１には示されない。２つの一致した偏光子を通じた非偏光の透過は、曲線１１１０により示される。これは基準透過状態である。図１１における曲線１１１２は、一致させた偏光子の間に配置されたフィルム４のみを含む区域において、積層体を通じた透過率を表す。２つの透過率最小値は、６５０ｎｍ（赤色）及び４７０ｎｍ（青色）において生じる。
図１１における曲線１１１４は、直交偏光子の間に配置された、フィルム４を含む区域における、積層体を通じた透過率を示し、曲線１１１２に対して、最小値及び最大値の補完的な透過率パターンを呈する。実施例２の積層体もまた視覚的に検査され、偏光子は、第２フィルムの速軸又は遅軸に対して４５°に向けられた。フィルム４のみを含む領域において、白いバックライトから一致させた（平行な）偏光子の間のフィルムを通じて観察された色は、緑がかったシアンとして顕れ、一方で色は、直交偏光子の間においてほぼマゼンタであった。フィルム３及びフィルム４の両方を含む領域において、白いバックライトから一致させた（平行な）偏光子の間のフィルムを通じて観察された色は、緑色として顕れ、一方で色は、直交偏光子の間においてほぼ赤色であった。
実施例２の積層体は、最初に、１０６４ｎｍに調節されたＹＡＧレーザーを使用して処理された。２ｍｍ×２ｍｍの領域が３．２ワットの電力で、３７５Ｋｈｚパルス速度、１２５ｍｍ／秒の線形走査速度、及び１００μｍの線形分離で走査された。積層体におけるビーム幅は約５０μｍである。この方法において、フィルム３は、ほぼ透明な状態を形成するために、放射エネルギーで処理された。フィルム３及びフィルム４の重複を含む処理領域が、光を透過させやすい条件において観察されるとき、生じる色は、未処理フィルム４のみを含む領域と同様であった。フィルム４の速軸／遅軸と４５°の直交偏光子の間において、フィルム４と重複するフィルム３の処理領域はマゼンタとして顕れ、フィルム４の速軸／遅軸と４５°で一致させた偏光子の間において、フィルム４と重複するフィルム３の処理領域は、緑がかったシアンとして顕れた。例えば、ＰＥＴ高屈折率光学層における屈折率の欠如により、フィルム３の反射率は著しく低いか、又は更にゼロであり、一方でフィルム４の位相差性能は維持された。この第１の処理は、また位相差プレートを含む構成体内におけるフィルムの固有の複屈折性を変更する一方で、位相差フィルムをそのままにすることによって、空間的に調節可能な光学フィルムの反射率を変更するために、例えば、レーザーなどの放射エネルギーを使用するプロセスを表す。フィルム１とフィルム３との間の、及びフィルム２とフィルム４との間の構成の類似を考慮し、実施例１のフィルムと同様の処理がまた、フィルム１の反射率を低減し、一方で位相差フィルム２をそのままにすることが予測される。
次に、積層体は、８０８ｎｍに調節されたダイオードレーザーを使用して、フィルム４のみを含む領域において積層たが処理される。この第２走査は、３Ｗの電力で、８〜２１ｍｍ／秒の線形走査速度、１００μｍの線形分離で行われた。最高走査速度は、偏光子の間で観察されたときに、その上ではもはや色の変化を観察することができないような、閾値付近であった。積層体表面は、触感が滑らかなままであった。走査速度が低減すると、処理部分の色は、様々な色及びその補色を通じて前進した（それぞれ、一致させた偏光子、及び直交偏光子の間で観察された）。例えば、１７ｍｍ／秒において、処理領域の中央の大部分において、直交偏光子の間でみた際に黄色、一致させた（平行に）偏光子の間で観察したときに紫色を呈した。これはフィルム４の第２コポリエステルの部分的溶解と、これに伴う、フィルム４内の有効媒質積み重ね体の極薄層の複屈折性の損失を表してもよい。１２〜１３ｍｍ／秒の走査速度において、処理領域の中央の大部分において、直交偏光子の間でみた際に青がかった色、一致させた（平行に）偏光子の間で観察したときに黄色を呈した。これは、フィルム４の第２コポリエステル（ＰＥＮ−Ｇｂ）のより完全な溶融、及びこれに伴る、フィルム４の全体的な位相差（例えば、３２０ｎｍ〜約２４０ｎｍへの低下）の合計位相差のほぼ１／４の損失（例えば、３２０ｎｍから約２４０ｎｍへの降下）を表す。１０ｍｍ／秒以下の走査速度において、処理領域の中央の大部分において、直交偏光子の間でみた際に灰色から黒色、一致させた（平行に）偏光子の間で観察したときに白色（透明）を呈した。これは、フィルム４の有効媒質積み重ね体の極薄層の両方の材料（ＰＥＮ及びＰＥＮ−Ｇｂ）の溶解、及び合計複屈折性の半分以上の損失を表す。最も低い走査速度はまた吸収性コア層からの、熱拡散放射により、フィルム４の、外側の比較的厚いＰＥＮスキン層における溶融及び複屈折性の損失を始める場合がある。
この実施例２はしたがって、極薄層の有効媒質積み重ね体を含む、空間的に調節可能な位相差プレートにおける、複屈折性及び位相差の漸進的な減少を示す。いくつかの場合において、位相差の低減の範囲は、材料層のいくつかにおいて、他の層よりも優先して、複屈折性を変更することによって部分的に制御され得る。これらの、優先的に変化させる層は、フィルムの内部層であり得る。この実施例において、有効媒質位相差プレートは全体としてまた、より大きな積層体構成内の内部層である。この内部層は、最外表面層に明らかな断絶または変化を与えることなく、レーザーなどの、放射エネルギーで処理される。
（実施例３）
空間的に調節可能な光学位相差フィルム５は、上記の実施例１のフィルム２のものと同様の方法で作製されたが、フィルムは、二軸的に、およそ３．８×２．８で、３．９μｍの厚さに延伸された。これらの条件において、両方のポリエステルが効果的に配向し、同程度の複屈折性を形成することが予測される。フィルム５の屈折率は、いわゆるオフセットモードにおいて、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ Ｐｒｉｓｍ Ｃｏｕｐｌｅｒ（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ，Ｐｉｓｃａｔａｗａｙ，ＮＪから入手可能）を使用して測定された。遅軸方向、速軸方向、及び厚さ方向における屈折率は、６３２．８ｎｍの測定波長において、それぞれ、１．７６４７、１．７０７４及び１．５０の測定値であり、５３２ｎｍの測定波長においてそれぞれ、１．７９２、１．７３０及び１．５１５の測定値でり、４０４ｎｍの測定波長においてそれぞれ、１．８７６、１．８１４及び１．５４８の測定値であった。有効主面内位相差はしたがって、赤色、緑色、及び青色波長（６３２．８ｎｍ、５３２ｎｍ、及び４０４ｎｍ）において、それぞれ、およそ２２５ｎｍ、２４５ｎｍ、及び２４５ｎｍであった。フィルム内の光学パケット又は積み重ね体の個別の層（外側スキンを除く）はそれぞれ、可視光に関して１／４波長よりも遥かに小さいため（すなわち、これらは極薄層であった）、フィルム５は、非偏光を使用する際に透過状態で観察したときに無色であった。したがって、フィルム５内の極薄層の積み重ね体は、可視スペクトルの光の有効媒質として機能した。フィルム５の評価は、フィルム５が、垂直入射において青色１／２波位相差プレートとして機能することを示している。フィルム５は、速軸／遅軸に対して４５°の、一致させた（平行な）偏光子の間で観察されたときに、透過光は黄色であった。速軸／遅軸に対して４５°の直交偏光子の間で観察した際に、透過光は青色であった。
フィルム５のフィルム２及び４に対する類似性の観点から、フィルム５は、フィルム２及びフィルム４と同様の方法により、パターン状に変換できることが予測され得る。
（実施例４（予測））
空間的に調節可能な光学位相差フィルム６は、フィルム５のものと同様の方法で作製することができるが、ただし、Ｅｐｏｌｉｔｅ（商標）４１２１赤外線吸収線量の量は変更することができる。例えば、フィルム６は、実施例２で使用されるものの２倍のマスターバッチを使用することにより、０．１４重量％のＥｐｏｌｉｔｅ（商標）４１２１を使用して作製され得る。
本出願の教示は、以下の共同の譲受人による出願のいずれか又は全ての教示と組み合わせて使用することができ、これらは本明細書において参照として組み込まれる：米国特許出願公開番号第２０１１／０２５５１６３号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．），「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｕｓｉｎｇ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」、同第２０１１／０２４９３３２号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）、「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｍｉｒｒｏｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」、同第２０１１／０２５５１６７号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）、「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｓｕｉｔａｂｌｅ ｆｏｒ Ｂｉ−Ｌｅｖｅｌ Ｉｎｔｅｒｎａｌ Ｐａｔｔｅｒｎｉｎｇ」、同第２０１１／０２４９３３４号（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．）、「Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｗｉｔｈ Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔ Ｌａｙｅｒｓ」、同第２０１１／０２８６０９５（Ｍｅｒｒｉｌｌ ｅｔ ａｌ．），「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｓｉｄｅ−ｂｙ−Ｓｉｄｅ Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ／Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｚｏｎｅｓ」、並びに、２０１１年６月２９日に出願された国際出願、ＰＣＴ／ＵＳ２０１１／０４２３５８，「Ｄｉｆｆｕｓｅ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ Ｗｉｔｈ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」（代理人整理番号第６６４６９ＷＯ００３号）、同第ＰＣＴ／ＵＳ２０１１／０４２３６８号、「Ｍａｓｋ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｓｉｎｇ Ｆｉｌｍｓ Ｗｉｔｈ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」（代理人整理番号第６６４７４ＷＯ００３号）、及び同第２０１１／０４２３６４号「Ｒｅｔａｒｄｅｒ Ｆｉｌｍ Ｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｓ ｗｉｔｈ Ｓｐａｔｉａｌｌｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」（代理人整理番号第６６４７３ＷＯ００３号）。したがって、例えば、複合的な光学本体又はフィルムは、任意により、１つ以上の反射偏光フィルム、及び／又は１つ以上のミラーフィルム、及び／又は１つ以上の一体型位相差フィルム（これらのいずれか、又は全部が、好適な吸収特性を有し、それにより１つ以上の放射線を使用して層又はフィルムの選択されるものの一部をパターン化するか又は処理することができる）と組み合わせた、１つ以上の、本明細書において開示される連続的な極薄層の有効媒質積み重ね体を組み込む、複合光学体又はフィルムが作製され得る。遮蔽層又はフィルムもまた、他の光学層又はフィルムとは別に、１つ又はいくつかの光学層又はフィルムのパターン化又は処理を可能にするために、このような複合光学体又はフィルムに組み込まれ得る。このような複合フィルム又は物品は、可視スペクトルにわたり、パターン化位相差及び／又はパターン化反射率を提供することができる。
特に指示のない限り、本明細書及び特許請求の範囲で使用される、数量、特性の測定値などを表す全ての数字は、全ての場合に、用語「約」によって修飾されているとして理解されたい。したがって、そうでないことが指示されない限り、明細書及び請求項において説明される数値的なパラメータは、本出願を使用して当業者によって得られるであろう所望の特性によって変化し得る、近似値である。特許請求の範囲への同等物の原則の適用を限定する試行としてではなく、各数値パラメータは、少なくとも、報告された有効数字の数を考慮して、及び通常の四捨五入法を適用することによって解釈されなければならない。本発明の広範な範囲を説明する数値的範囲及びパラメータは近似値であるが、いずれかの数値が本明細書に記載される特定の実施例において説明される限りにおいて、これらは、合理的に可能であるかぎり正確に報告されている。しかしながら、いずれかの数値的レベルは、試験又は測定の限界に伴う誤差を含むことがある。
本発明の様々な修正及び変更は、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、当業者にとって明らかとなり、本発明は本発明において説明される例示的な実施形態に限定されないものと理解されるべきである。例えば、開示される透明な導電性物品はまた、防反射コーティング、及び／又は保護ハードコートを含んでもよい。読者は、開示される一実施形態の特徴はまた、他に指示がない限り、他の全ての開示される実施形態に応用され得る。本明細書において参照される、米国特許、特許出願公開、並びに他の特許文献及び非特許文献は、これらが先行する開示と矛盾しない限りにおいて、参照として組み込まれる。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［２５］に記載する。
[１]
第１光位相差をもたらし、可視光線に対して有効光学媒質をもたらすように構成された連続的な極薄層の有効媒質積み重ね体を含む位相差フィルムであって、前記極薄層は、それぞれが１９０ｎｍ未満の光学的厚さを有する、複数の光学反復単位へと構成され、前記極薄層は異なる第１及び第２極薄層を含み、前記第１極薄層は、第１の固有の複屈折性を呈する第１ポリマー材料を含み、前記第２極薄層は第２ポリマー材料を含む、位相差フィルムを含む、光学物品であって、
前記位相差フィルムは、第１放射線に暴露された際に、前記有効媒質積み重ね体の構造的一体性を維持する一方で、第１光位相差を、前記第１光位相差と異なる第２光位相差に変更するために十分な量で、前記有効媒質積み重ね体を吸収加熱するために好適な第１吸収特性を有する、光学物品。
[２]
前記連続的な極薄層の積み重ね体は、前記第２極薄層と交互する前記第１極薄層を含み、前記光学反復ユニットのそれぞれは、前記第１極薄層の１つ、及び前記第２極薄層の１つを含む、項目１に記載の物品。
[３]
前記第２ポリマー材料は、実質的に等方性である、項目２に記載の物品。
[４]
前記有効媒質積み重ね体は、実質的な構造性複屈折を呈さない、項目２に記載の物品。
[５]
前記第２ポリマー材料は、第１の固有の複屈折性とは異なる第２の固有の複屈折性を呈する、項目２に記載の物品。
[６]
前記第２の固有の複屈折性は、前記第１の固有の複屈折性に対して逆の符号である、項目５に記載の物品。
[７]
前記第２光位相差は、前記第１光位相差よりも大きい、項目５に記載の物品。
[８]
前記第１光位相差は、可視光線に対して極僅かな位相差であり、前記極僅かな位相差は３８０〜７８０ｎｍの波長範囲において２０ｎｍ未満であり、前記第２光位相差は、可視光線に対して有意な位相差であり、前記有意な位相差は、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲において少なくとも９５ｎｍである、項目７に記載の物品。
[９]
前記位相差フィルムが前記第１放射線に暴露された際に、前記第２極薄層の前記第２の固有の複屈折性を実質的に変えることなく、前記第１極薄層の前記第１の固有の複屈折を変更するために前記吸収加熱が十分であるように、前記第２ポリマー材料は、前記第１ポリマー材料とは異なる融点を有する、項目５に記載の物品。
[１０]
前記第１及び第２極薄層は、前記位相差フィルムが前記第１放射線とは異なる第２放射線に暴露される際に、前記有効媒質積み重ね体が、前記有効媒質積み重ね体の構造的一体性を依然として維持する一方で、前記第１光位相差を前記第１及び第２の光位相差とは異なる第３光位相差へと変更するために十分な量だけ加熱されるように、構成されている、項目５に記載の物品。
[１１]
前記第１極薄層、前記第２極薄層、又は前記第１及び第２極薄層の両方が、放射エネルギー吸収剤を含む、項目１に記載の物品。
[１２]
前記有効媒質積み重ね体は、少なくとも１０個の連続的な極薄層を含む、項目１に記載の物品。
[１３]
拡散反射層と、
偏光子とを更に含み、
前記偏光子は、前記拡散反射層と前記位相差フィルムとの間に配置される、項目１に記載の物品。
[１４]
前記位相差フィルムは、前記第１光位相差を有する１つ以上の第１領域、及び前記第２光位相差を有する１つ以上の第２領域によって画定されるしるしを含む、項目１に記載の物品を含むセキュリティ文書。
[１５]
前記セキュリティ文書は、ＩＤ文書、パスポート、車両ナンバープレート、製品パッケージ、ＩＤバッジ、免許、カード、パス、ラベル、証明書、株、権利証書、流通証券、及び通貨の少なくとも１つであるか、又はこれを含む、項目１４に記載のセキュリティ文書。
[１６]
第１光位相差を有する位相差フィルムを提供する工程であって、前記位相差フィルムは、可視光線において有効光学媒質をもたらすように構成された連続的な極薄層の有効媒質積み重ね体を含み、前記極薄層は異なる第１及び第２極薄層を含み、前記第１極薄層は、第１の固有の複屈折性を呈する第１ポリマー材料を含み、前記第２極薄層は、第２ポリマー材料を含み、前記極薄層は、それぞれが１９０ｎｍ未満の光学的厚さを有する複数の光学反復ユニットに構成される、工程と、
前記位相差フィルムの領域を、前記領域において、前記第１光位相差を前記第１位相差と異なる第２光位相差へと変更するために十分な量だけ前記位相差フィルムを吸収加熱するために有効な第１放射線に暴露する工程とを含み、
前記第２光位相差は、前記第１光位相差よりも大きい、方法。
[１７]
前記第１光位相差を有する前記位相差フィルムはウィンドーフィルムであって、前記第２光位相差はｃプレート位相差フィルムの位相差である、項目１６に記載の方法。
[１８]
前記第１光位相差を有する前記位相差フィルムはウィンドーフィルムであって、前記第２光位相差はａプレート位相差フィルムの位相差である、項目１６に記載の方法。
[１９]
前記第１光位相差は、可視光線に対して極僅かな位相差であり、前記極僅かな位相差は３８０〜７８０ｎｍの波長範囲において２０ｎｍ未満であり、前記第２光位相差は、可視光線に対して有意な位相差であり、前記有意な位相差は、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲において少なくとも９５ｎｍである、項目１６に記載の物品。
[２０]
前記有効媒質積み重ね体は、前記第２極薄層と交互する前記第１極薄層を含み、前記第１ポリマー材料は、第１の固有の複屈折性を呈し、前記第２のポリマー材料は、前記第１の固有の複屈折性とは異なる第２の固有の複屈折性を呈し、前記第１及び第２ポリマー材料は、異なる融点を有し、前記暴露工程は、前記第２極薄層よりも前記第１極薄層において、優先的に固有の複屈折性を低減させるように実行される、項目１６に記載の方法。
[２１]
前記フィルムの第２領域を、第２放射線に暴露する工程であって、前記第２放射線は前記第１極薄層及び第２極薄層の両方において固有の複屈折性を実質的に低減させ、前記第１及び第２光位相差とは異なる第３光位相差をもたらすために有効である、工程を更に含む、項目２０に記載の方法。
[２２]
前記第２の光位相差は、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長範囲の少なくとも１つの波長において１／４波プレートと対応する、項目１９に記載の方法。
[２３]
前記第２の光位相差は、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長範囲の少なくとも１つの波長において１／２波プレートと対応する、項目１９に記載の方法。
[２４]
前記暴露工程は、前記第１光位相差を有する１つ以上の第１領域、及び前記第２光位相差を有する１つ以上の第２領域によって画定されるしるしをもたらすように実行され、前記方法は更に、
前記位相差フィルムをセキュリティ文書に取り付ける工程を含む、項目１６に記載の方法。
[２５]
前記暴露工程後に、少なくとも１つの偏光子を使用して前記位相差フィルムを点検する工程を更に含む、項目２４に記載の方法。

Claims (3)

  1. 第１の光リタデーションを有し、可視光線に対して有効光学媒質をもたらすように構成された連続的な極薄層の有効媒質積み重ね体を含む位相差フィルムを提供する工程であって、前記極薄層は、異なる第１及び第２極薄層を含み、前記第１極薄層は、第１の固有複屈折性を呈する第１ポリマー材料を含み、前記第２極薄層は、前記第１の固有複屈折性と異なる第２の固有複屈折性を呈する第２ポリマー材料を含み、第１ポリマー材料と第２ポリマー材料とは異なる融点を有し、前記有効媒質積み重ね体は、第２極薄層と交互する第１極薄層を含み、前記極薄層は、それぞれが１９０ｎｍ未満の光学的厚さを有する複数の光学反復ユニットに構成される、工程と、
    前記位相差フィルムの第１領域を第１放射線に曝露して第２極薄層におけるよりも第１極薄層における固有複屈折性を低減するのに十分な量だけ前記位相差フィルムを吸収加熱して、前記第１領域において、前記第１の光リタデーションを、前記第１の光リタデーションよりも大きい第２の光リタデーションへと変更する工程と、
    前記位相差フィルムの第２領域を、第１の放射線と波長、強度又はビームサイズが異なる第２の放射線に曝露して、前記第１極薄層及び前記第２極薄層の両方において固有複屈折性を低減させて、第１及び第２の光リタデーションと異なる第３の光リタデーションを与える、工程と、
    を含む、方法。
  2. 拡散反射層を提供することと、
    偏光子を提供することとを更に含み、
    前記偏光子は、前記拡散反射層と前記位相差フィルムとの間に配置される、請求項１に記載の方法。
  3. 前記位相差フィルムは、前記第１の光リタデーションを有する１つ以上の第１領域、及び前記第２の光リタデーションを有する１つ以上の第２領域によって画定されるしるしを含む、請求項１に記載の方法を用いて物品を製造することを含むセキュリティ文書の製造方法。
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