JP2012510156A - Euv光源における駆動レーザビーム送出のためのシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
θ=2arctan((Wf−Wi)/2l)
により円形断面を有するビームに対して計算されるビーム幅(例えば、強度がガウス強度分布を有するビームに対して1/eに落ちたビームの直径)、波面、及び/又は発散を測定することができ、ここで、Wi、Wfは、2つの別々の点でのビーム幅であり、(l)は、これらの点間の距離である。これらの目的のために、モニタ454は、ビーム発散又は波長を測定するHartman−Shackモニタのようなモニタ、すなわち、例えば干渉計などを有する発散を測定するための光学設定を含むことができる。代替的に、複数のビームスプリッタ/モニタを使用して、ビーム経路に沿って2つの位置でビーム幅を測定してビーム発散を計算することができる。測定された状態で、モニタ454は、測定されたビームパラメータを示す信号を生成して線458上でコントローラ456に信号を伝達することができる。コントローラ456は、次に、制御信号を生成するためにこの信号を使用することができ(単独で又は1つ又はそれよりも多くの以前の信号及び/又は制御アルゴリズムと共に)、制御信号は、次に、線460を通じてビーム成形サブシステム18に伝達される。別々の構成要素として示されているが、モニタ454及びコントローラ456は、共通のユニットに一体化して共通の回路基板、I/Oなどを共有することができることは認められるものとする。制御信号に応答して、ビーム成形サブシステム18は、変更して、予め選択されたビーム幅、ビーム発散、波面などが集束サブシステム18に呈示されるように1つ又はそれよりも多くのビームパラメータを調節することができる。
12 光パルスを生成して送出するシステム
14 照射部位
16 パルスを生成するデバイス
Claims (20)
- 経路の少なくとも一部が線形軸に沿って整列したビーム経路に沿って進むレーザビームと、
EUV光放射プラズマを生成するために照射部位で前記レーザビームと相互作用する材料と、
焦点を有し、該焦点が前記線形軸上にあるように位置決めされ、前記ビーム経路に沿ってレーザ光を受け取る第1の反射器と、
前記第1の反射器によって反射されたレーザ光を受け取って前記照射部位に向けて該レーザ光を誘導する第2の反射器と、
を含むことを特徴とするUV光源。 - 容器を更に含み、
前記照射部位は、前記容器内にあり、前記第1の反射器は、該容器に位置決めされ、かつ該照射部位と流体連通している、
ことを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。 - 前記照射部位の第1の焦点、及び第2の焦点を有するEUV反射ミラーを更に含み、
前記EUV反射ミラーは、前記線形軸に沿って前記第1の反射器と前記照射部位の間に該EUV反射ミラーを挿入するように位置決めされる、
ことを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。 - 前記レーザビームを発生するレーザデバイスを更に含み、
前記レーザデバイスは、前記照射部位を通るビーム経路を確立する少なくとも1つの反射光学系を含み、
前記材料は、該材料が前記照射部位にある時に前記光学系と協働してその間に光キャビティを確立し、
前記レーザデバイスは、前記材料を照射するレーザビームを発生させるために前記キャビティにおける光損失を超える光学利得を確立するように励起可能な利得媒体を更に含む、
ことを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。 - 前記反射光学系は、波長λの光を透過し、
波長λを有するアラインメントレーザビームを前記反射光学系に通すアラインメントレーザ、及び前記第2の反射器からの反射後に該アラインメントレーザビームを受け取るモニタ、
を更に含むことを特徴とする請求項4に記載のEUV光源。 - 前記第2の反射器は、先端/傾斜アクチュエータ上に取り付けられることを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
- 前記第1の反射器は、補正された放物面形状を有することを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
- 前記第2の反射器は、平坦な反射面を用いて形成されることを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
- 前記第2の反射器は、湾曲反射面を用いて形成されることを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
- 前記レーザデバイスは、CO2を含む利得媒体を有し、前記材料は、錫を含むことを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
- 前記第1の反射器での前記レーザビームのビーム幅及び発散を選択的に変えるように調節可能な適応光学系を更に含むことを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
- λ1≠λ2の時に波長λ1の光を反射して波長λ2の光を透過する光学系と、
材料が照射部位にある時に前記光学系と協働してその間に光キャビティを確立する材料と、
前記材料を照射してEUV光放射を生成するためのレーザビームを発生させるために前記キャビティにおける光損失を超える光学利得を確立するように励起可能な利得媒体と、
波長λ2を有するアラインメントレーザビームを前記反射光学系に通すように位置決めされたアラインメントレーザと、
前記キャビティにおける少なくとも1つの光学系のアラインメントを検証するために前記アラインメントレーザビームを受け取るモニタと、
を含むことを特徴とするEUV光源。 - 前記材料は、液滴であることを特徴とする請求項12に記載のEUVレーザ光源。
- λ1>5μmかつλ2<1μmであることを特徴とする請求項12に記載のEUVレーザ光源。
- ビーム経路に沿って進むレーザビームと、
前記ビーム経路上の照射部位に前記レーザビームを集束させる光学系と、
EUV光放射プラズマを生成するために前記照射部位で前記レーザビームと相互作用する材料と、
ビームパラメータを測定してそれを示す信号を出力するモニタと、
前記信号に応答して、前記集束光学系で予め選択されたビーム発散及びビーム幅を有するように前記レーザビームを修正するための適応光学系と、
を含むことを特徴とするEUV光源。 - 前記適応光学系は、第1及び第2の光学構成要素を含み、該第1の光学構成要素は、該第2の光学構成要素に対して移動可能であることを特徴とする請求項15に記載のEUVレーザ光源。
- 前記適応光学系は、少なくとも1つの変形可能な光学構成要素を含むことを特徴とする請求項15に記載のEUVレーザ光源。
- 前記ビームパラメータは、発散であることを特徴とする請求項15に記載のEUVレーザ光源。
- 前記ビームパラメータは、波面であることを特徴とする請求項15に記載のEUV光源。
- 前記ビームパラメータは、ビーム幅であることを特徴とする請求項15に記載のEUV光源。
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