JP2009205952A - 極端紫外光源装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このEUV光源装置は、EUV光の生成が行われる第1の真空チャンバと、第1の真空チャンバを排気する第1の真空ポンプと、ターゲット物質にレーザ光を照射してプラズマを生成するドライバレーザと、プラズマから放射されるEUV光を反射して第1の集光点に集光するEUV集光ミラーと、第1の集光点にピンホールが位置する第1のピンホールアパーチャと、第1のピンホールアパーチャを介して第1の真空チャンバに連通された第2の真空チャンバと、第1のピンホールアパーチャを通過したEUV光を回折させて第2の集光点に集光するグレーティングと、第2の集光点にピンホールが位置し、第2の真空チャンバと外部とを連通する第2のピンホールアパーチャと、第2の真空チャンバを排気する第2の真空ポンプとを具備する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係るEUV光源装置の内部構造を示す図である。図1に示すEUV光源装置は、レーザ光をターゲット物質に照射して励起させることによりEUV光を生成するレーザ励起プラズマ(LPP)方式を採用している。
図3は、本発明の第2の実施形態に係るEUV光源装置の内部構造を示す図である。図3に示すように、このEUV光源装置は、EUV光の生成が行われる第1の真空チャンバ51と、生成されたEUV光を回折させて外部の露光機(図示せず)に導く第2の真空チャンバ52とを備えている。また、EUV光源装置は、第1の真空チャンバ51内の所定の位置にターゲット4を供給するターゲット供給装置67と、第1の真空チャンバ51の外側に設けられたドライバレーザ(図示せず)から射出された励起用レーザ光7を導光してターゲット4に集光するレーザ集光光学系56と、ターゲット4に励起用レーザ光7が照射されることによって発生するプラズマ9から放射されるEUV光を反射して集光するEUV集光ミラー11と、第1の真空チャンバ51を排気する第1の真空ポンプ12と、第1の真空チャンバ51と第2の真空チャンバ52との間の隔壁に設けられた第1のピンホールアパーチャ61と、ターゲット4を回収するターゲット回収筒68とを備えている。さらに、EUV光源装置は、EUV集光ミラー11をデブリから保護するフォイルトラップ装置69を備えていても良い。ここで、フォイルトラップ装置69は、プラズマ生成点とEUV集光ミラーとの間に、例えば、桟状のトラップを設け、EUV光を透過しつつプラズマからのデブリをトラップし、デブリがEUV集光ミラーに到達するのを防止する装置である。
Claims (6)
- ターゲット物質にレーザ光を照射することによりターゲット物質をプラズマ化して極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、
極端紫外光の生成が行われる第1の真空チャンバと、
前記第1の真空チャンバに接続され、前記第1の真空チャンバを排気する第1の真空ポンプと、
前記第1の真空チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲット物質にレーザ光を照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、
前記第1の真空チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を反射して第1の集光点に集光するEUV集光ミラーと、
前記第1の集光点にピンホールが位置するように配置された第1のピンホールアパーチャと、
前記第1のピンホールアパーチャを介して前記第1の真空チャンバに連通された第2の真空チャンバと、
前記第2の真空チャンバ内に配置され、前記第1のピンホールアパーチャを通過した極端紫外光を回折させて第2の集光点に集光するグレーティングと、
前記第2の集光点にピンホールが位置するように配置され、前記第2の真空チャンバと外部とを連通する第2のピンホールアパーチャと、
前記第2の真空チャンバに接続され、前記第2の真空チャンバを排気する第2の真空ポンプと、
を具備する極端紫外光源装置。 - 前記第2の真空ポンプが、前記第2の真空チャンバ内の圧力を前記第1の真空チャンバ内の圧力よりも低くする、請求項1記載の極端紫外光源装置。
- 前記第2の真空チャンバ内において、前記グレーティングによって回折される2次以上の回折光及び/又は前記グレーティングで回折されない0次光を検出するEUV光検出器をさらに具備する、請求項1又は2記載の極端紫外光源装置。
- 前記EUV光検出器として2次元カメラを具備することにより、前記EUV集光ミラーの反射率、EUV光の出力、及び/又は、角度強度分布を、2次元的に計測する、請求項3記載の極端紫外光源装置。
- 前記第1のピンホールアパーチャが、2個のピンホール板により構成されるピンホールアパーチャ室を有し、前記ピンホールアパーチャ室を排気する第3の真空ポンプをさらに具備する、請求項1〜4のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
- 前記第1真空チャンバと接続される前記第2真空チャンバを介して、前記第1真空チャンバと離隔して露光機を配置することが可能な、請求項1〜5のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
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