JP2018502315A - 極端紫外線光源のための可変半径ミラーダイクロイックビームスプリッタモジュール - Google Patents
極端紫外線光源のための可変半径ミラーダイクロイックビームスプリッタモジュール Download PDFInfo
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Abstract
Description
本願は、2014年12月16日に米国特許庁に出願された米国出願番号62/092493の、共通所有者の仮特許出願である表題「Variable Radius Mirror Dichroic Beam Splitter Module for Extreme Ultraviolet Source」の米国特許法第119条(e)に基づく優先権を主張するものであり、その内容が参照としてここに組み込まれる。
Claims (22)
- 液滴を提供する液滴生成器と、
ターゲット液滴を生成するように液滴を照射するための、先行パルス焦点面に関連付けられた先行パルスを提供し、前記ターゲット液滴を照射してプラズマ状態にするための、メインパルス焦点面に関連付けられたメインパルスを提供する、少なくとも1つのレーザ源と、
前記先行パルス及び前記メインパルスを集束させ、少なくとも1つの可変半径ミラーを備えるダイクロイックスプリッタモジュールと、
前記先行パルス焦点面と前記メインパルスの前記メインパルス焦点面との間の距離を調整すべく、前記少なくとも1つの可変半径ミラーの曲率半径を調整するために、前記少なくとも1つの可変半径ミラーに連結されたコントローラと、
を備える、極端紫外線放射源。 - 前記コントローラは、さらに、前記先行パルス焦点面からの特定距離において、前記メインパルスのビーム直径についての所望の値に基づき、前記少なくとも1つの可変半径ミラーの前記曲率半径を初期値に設定する、請求項1に記載の極端紫外線放射源。
- 前記コントローラは、さらに、
前記初期値に設定された前記曲率半径に基づく前記メインパルスを提供するために、前記少なくとも1つのレーザ源を動作させ、
前記先行パルス焦点面からの前記特定距離において、前記メインパルスの前記ビーム直径に対応する測定値を提供するために、波面センサで前記メインパルスを測定し、
前記初期値及び前記測定値に基づき、前記少なくとも1つの可変半径ミラーの前記曲率半径を調整する、請求項2に記載の極端紫外線放射源。 - 前記少なくとも1つの可変半径ミラーの前記曲率半径を設定することは、前記少なくとも1つの可変半径ミラーに付与される流体の圧力を設定することを含む、請求項2に記載の極端紫外線放射源。
- 前記少なくとも1つのレーザ源は、
前記先行パルスを提供する第1のレーザ源と、
前記メインパルスを提供する第2のレーザ源と、
を備える、請求項1に記載の極端紫外線放射源。 - 前記ダイクロイックスプリッタモジュールは、さらに、
前記メインパルスを前記少なくとも1つの可変半径ミラーに反射させる第1のダイクロイックスプリッタと、
前記メインパルスが前記少なくとも1つの可変半径ミラーに反射された後、前記メインパルスを前記ターゲット液滴に向かって反射する第2のダイクロイックスプリッタと、
を備える、請求項1に記載の極端紫外線放射源。 - EUV光を生成するように構成されたチャンバへのレーザビームの提供方法であって、
第1のダイクロイックスプリッタ、第2のダイクロイックスプリッタ、及び曲率半径を有する可変半径ミラーを備えたダイクロイックスプリッタモジュールを通じて、前記チャンバに向かって、前記チャンバ内に先行パルス焦点面を有する先行パルスを伝播させることと、
前記ダイクロイックスプリッタモジュールを通じて、前記チャンバに向かって、前記先行パルス焦点面から特定距離においてビーム直径を有するメインパルスを伝播させることであって、前記可変半径ミラーで前記メインパルスを反射すること、及び、前記第2のダイクロイックスプリッタで前記メインパルスを反射することを備えることと、
前記可変半径ミラーの前記曲率半径を示す値セットのために、前記特定距離における前記ビーム直径を示す値セットを提供すべく、前記メインパルスを測定することと、
メモリ内に、前記ビーム直径を示す値セット、及び、前記可変半径ミラーの前記曲率半径を示す値セットを示し、前記可変半径ミラーの前記曲率半径を示す前記値セットに対する前記ビーム直径を示す前記値セットの1対1マッピングを提供するデータ構造を記憶することと、
を含む、方法。 - 前記データ構造に基づき、前記可変半径ミラーの前記曲率半径を初期値に設定することをさらに備える、請求項7に記載の方法。
- 前記ビーム直径に対する所望の値に基づき、前記可変半径ミラーの前記曲率半径を前記初期値に設定することをさらに備える、請求項8に記載の方法。
- 極端紫外線放射を提供するために前記チャンバ内のターゲット液滴をプラズマ状態に変換するときの所望のパワーノードに基づき、前記可変半径ミラーの前記曲率半径を前記初期値に設定することをさらに備える、請求項8に記載の方法。
- 前記チャンバ内の複数のターゲット液滴に、前記可変半径ミラーの前記曲率半径設定後に発生する種々の時間インスタンスにおける前記メインパルスを提供することをさらに備える、請求項10に記載の方法。
- 前記先行パルス焦点面からの前記特定距離における前記メインパルスの前記ビーム直径に対応する測定値を提供するために、波面センサで前記メインパルスを測定することと、
前記曲率半径の前記初期値及び前記測定値に基づき、前記少なくとも1つの可変半径ミラーの前記曲率半径を調整することと、
をさらに備える、請求項8に記載の方法。 - 前記チャンバ内の前記複数のターゲット液滴に、前記少なくとも1つの可変半径ミラーの前記曲率半径を調整した後に発生する種々の時間インスタンスにおける前記メインパルスを提供することをさらに備える、請求項12に記載の方法。
- EUV光を生成するように構成されたチャンバへのレーザビームの提供方法であって、
第1のダイクロイックスプリッタ、第2のダイクロイックスプリッタ、第1の曲率半径を有する第1の可変半径ミラー、及び第2の曲率半径を有する第2の可変半径ミラーを備えたダイクロイックスプリッタモジュールを通じて、前記チャンバに向かって、前記チャンバ内に先行パルス焦点面を有する先行パルスを伝播させることと、
前記ダイクロイックスプリッタモジュールを通じて、前記チャンバに向かって、前記先行パルス焦点面から特定距離においてビーム直径を有するメインパルスを伝播させることであって、前記第1のダイクロイックスプリッタで前記メインパルスを反射すること、第1の可変半径ミラー及び第2の可変半径ミラーで前記メインパルスを反射すること、及び、前記第2のダイクロイックスプリッタで前記チャンバに向かって前記メインパルスを反射することを備えることと、
前記第1の可変半径ミラーの前記第1の曲率半径を示す値セットの群に対して、前記特定距離における前記ビーム直径を示す値セットの群を提供するために、前記メインパルスを測定することであって、前記ビーム直径を示す各値セット及び前記第1の曲率半径を示す各値セットは、前記第2の可変半径ミラーの前記第2の曲率半径を示す値セットによってインデックス化することと、
メモリ内に、前記ビーム直径を示す値セット、及び、前記第1の可変半径ミラーの前記第1の曲率半径を示す値セットの群を示すデータ構造を記憶することと、
を含む、方法。 - 前記第1の可変半径ミラーの前記第1の曲率半径を示す値セットの群は、前記第1の可変半径ミラーの前記第1の曲率半径を示す値の1セットからなる、請求項14に記載の方法。
- 前記データ構造は、各1対1マッピングの群を示し、前記ビーム直径を示す値セットの群における値セットと、前記第1の可変半径ミラーの前記第1の曲率半径を示す値セットの群における値セットと、の間の1対1マッピングの群における各1対1マッピングは、前記第2の可変半径ミラーの前記第2の曲率半径を示す値のセットによってインデックス化される、請求項14に記載の方法。
- 前記データ構造に基づき、前記第1の可変半径ミラーの前記第1の曲率半径を第1の初期値に設定することと、
前記データ構造に基づき、前記第2の可変半径ミラーの前記第2の曲率半径を第2の初期値に設定することと、
をさらに含む、請求項14に記載の方法。 - 前記ビーム直径に対する所望の値に基づき、前記第1の可変半径ミラーの前記第1の曲率半径を前記第1の初期値に設定することと、
前記ビーム直径に対する前記所望の値に基づき、前記第2の可変半径ミラーの前記第2の曲率半径を前記第2の初期値に設定することと、
をさらに含む、請求項17に記載の方法。 - 前記チャンバ内のターゲット液滴をプラズマ状態に変換して極端紫外線放射を提供するときの所望のパワーノードに基づき、前記第1の可変半径ミラーの前記第1の曲率半径を前記第1の初期値に設定し、前記第2の可変半径ミラーの前記第2の曲率半径を前記第2の初期値に設定することをさらに含む、請求項17に記載の方法。
- 前記第1の可変半径ミラーの前記第1の曲率半径の設定後に発生する種々の時間インスタンスにおける前記メインパルスを、前記チャンバ内の複数のターゲット液滴に提供することをさらに含む、請求項19に記載の方法。
- 前記先行パルス焦点面からの前記特定距離における前記メインパルスの前記ビーム直径に対応する測定値を提供するために、波面センサで前記メインパルスを測定することと、
前記曲率半径の前記第1の初期値及び前記測定値に基づき、前記第1の可変半径ミラーの前記第1の曲率半径を調整することと、
を含む、請求項17に記載の方法。 - 前記第1の可変半径ミラーの前記第1の曲率半径の調整後に発生する種々の時間インスタンスにおける前記メインパルスを、前記チャンバ内の複数のターゲット液滴に提供することをさらに含む、請求項21に記載の方法。
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