JP6895538B2 - 極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
1.極端紫外光生成システムの全体説明
1.1 構成
1.2 動作
2.用語の説明
3.EUV光生成装置の具体例
3.1 構成
3.2 動作
4.課題
4.1 課題1
4.2 課題2
4.3 課題3
5.実施形態1
5.1 構成
5.2 動作
5.3 作用・効果
5.4 変形例
6.実施形態2
6.1 構成
6.2 動作
6.3 作用・効果
7.実施形態3
7.1 構成
7.2 動作
7.3 作用・効果
8.実施形態4
8.1 構成
8.2 動作
8.3 作用・効果
9.実施形態5
9.1 構成
9.2 動作
9.3 作用・効果
10.レーザ装置について
11.EUV光生成装置を用いた電子デバイスの製造方法の例
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
1.1 構成
図1に、例示的なLPP式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。EUV光生成装置10は、少なくとも1つのレーザ装置13と共に用いられる場合がある。本願においては、EUV光生成装置10及びレーザ装置13を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置10は、チャンバ12と、ターゲット供給部16とを含む。
図1を参照して、例示的なLPP式のEUV光生成システムの動作を説明する。
「ターゲット」は、チャンバに導入されたレーザ光の被照射物である。レーザ光が照射されたターゲットは、プラズマ化してEUV光を放射する。ターゲットは、プラズマの発生源となる。
3.1 構成
図2は、例示的なEUV光生成装置の構成を概略的に示す図である。図2に示されるように、チャンバ12の内部には、レーザ集光光学系40と、EUV集光ミラー23と、EUV集光ミラーホルダ50と、第1のプレート51と、ターゲット回収部38とが配置される。EUV集光ミラー23は「コレクタミラー」の一例である。
制御部150は、図示せぬ温度センサの検出値に基づいてヒータ66を制御する。例えば、ターゲット物質としてスズが用いられる場合、制御部150は、タンク62内のスズが融点以上の所定の温度になるように、ヒータ66を制御する。その結果、タンク62内のスズは融解し得る。スズの融点は232℃である。所定の温度は、例えば、250℃〜300℃の温度であってよい。
4.1 課題1
ドロップレット68にレーザ光を照射してプラズマを生成すると、照射条件とチャンバ12内環境に応じて、一部がパーティクルとして、チャンバ壁面に生じる場合がある。チャンバ12内の圧力が低いうちに水素ガスを急速に導入して水素の流量を大きくすると、チャンバ壁面に生じたパーティクルは巻き上がる。
温度調節器162の作用によって一定温度に保持されているドロップレット生成器160の周囲に、水素を急速に導入すると、ドロップレット生成器160の熱が水素に奪われ、ドロップレット生成器160の温度が急速に一時的に低下する。すると温度調節器162の制御部150は、ドロップレット生成器160のヒータ66を加熱して急速に温度を上昇させるため、急激な温度変動を引き起こす。
また、上記の課題1及び課題2の少なくとも1つの課題を解決するために、水素流量を最初は低くして徐々に増加させたとしても、水素流量の増加比率が一定であると、目標水素流量に達するのに時間がかかる。
5.1 構成
図5は、実施形態1に係るEUV光生成装置の構成を示す図である。図2との相違点を説明する。図5に示したEUV光生成装置10は、チャンバ12の内部に圧力センサ130が配置される。圧力センサ130は、制御部152に接続される。
圧力センサ130は、チャンバ12内の圧力をモニタする。「圧力をモニタする」とは、連続して、又は、所定の時間間隔で継続的に圧力を計測することを指す。
実施形態1によれば、次のような作用効果が得られる。
図5では、第1のマスフローコントローラ81、第2のマスフローコントローラ82及び第3のマスフローコントローラ83を備えるEUV光生成装置10の形態を例示したが、マスフローコントローラの個数は特に限定されない。EUV光生成装置10は、少なくとも1つのマスフローコントローラを備えていればよい。
6.1 構成
実施形態2に係るEUV光生成装置の装置構成は、実施形態1と同様である。
図12は、実施形態2に係るEUV光生成装置におけるガスの供給制御に関するフローチャートである。図12において、図6に示したフローチャートと同一のステップには同一のステップ番号を付し、その説明は省略する。図6との相違点を説明する。
実施形態2によれば、実施形態1と同様の作用効果が得られる。
7.1 構成
図17は、実施形態3に係るEUV光生成装置の構成を示した図である。図5に示した実施形態1との相違点を説明する。制御部152は、タイマ154を含んでいる。タイマ154は、チャンバ12内へのガスの導入開始後の経過時間を計測する。タイマ154は、制御部152の外部に備えられてもよい。
実施形態3に係るEUV光生成装置は、水素流量の増加比率が「圧力P」に応じて変化させるのではなく、水素導入からの「時間」に応じて変化させる点で、実施形態1と相違する。実施形態3に係るEUV光生成装置では、水素導入からの経過時間に応じて、水素流量の増加比率が離散的に増加する。
実施形態3によれば、実施形態1と同様の作用効果が得られる。
8.1 構成
実施形態4に係るEUV光生成装置の構成は、図17に示した実施形態3に係るEUV光生成装置の構成と同様である。
実施形態3では、水素導入からの時間の経過に伴い、水素流量の増加比率が離散的に(段階的に)増加するのに対し、実施形態4では、水素流量の増加比率が時間の関数に従い連続的に増加する点で相違する。実施形態3との違いは、水素流量の増加比率が、水素導入からの時間に応じて、徐々に(連続的に)変化する点である。水素流量の増加比率は、水素導入開始からの時間を変数とする関数により定められている。
実施形態4によれば、実施形態1と同様の作用効果が得られる。
9.1 構成
実施形態5に係るEUV光生成装置の構成は、図17に示した実施形態3に係るEUV光生成装置の構成と同様であってよい。
図23は、実施形態5に係るEUV光生成装置における複数のマスフローコントローラの各々の水素流量の増加比率と時間の関係を示したグラフを含む説明図である。図23の最上段に示したグラフは、第1のマスフローコントローラ81の水素流量の増加比率と時間の関係を示す。図23の中段に示したグラフは、第2のマスフローコントローラ82の水素流量の増加比率と時間の関係を示す。図23の最下段に示したグラフは、第3のマスフローコントローラ83の水素流量の増加比率と時間の関係を示す。なお、図23では横軸が時間である場合を示したが、実施形態1と同様に、横軸を「圧力」に変換してグラフを書き替えることもできる。
実施形態5によれば、実施形態1と同様の作用効果が得られる。
レーザ装置13は、MOPA(Master Oscillator Power Amplifier)システムであってよい。例えば、レーザ装置13は、マスターオシレータと、光アイソレータと、複数台のCO2レーザ増幅器とを含んで構成され得る。マスターオシレータは、CO2レーザ増幅器の増幅領域の波長を含むレーザ光を所定の繰り返し周波数で出力し得る。マスターオシレータが出力するレーザ光の波長は、例えば10.59μmであり、所定の繰り返し周波数は例えば100kHzであってよい。
図25は、EUV光生成装置と接続された露光装置の概略構成を示す図である。図25において、露光装置18は、マスク照射部182とワークピース照射部184とを含む。マスク照射部182は、EUV光生成装置10から入射したEUV光252によって、反射光学系183を介してマスクテーブルMTのマスクパターンを照明する。
Claims (20)
- ターゲット物質にパルスレーザ光を照射することによってプラズマを生成して極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置であって、
前記極端紫外光を集光するコレクタミラーを収容するチャンバと、
前記チャンバ内にガスを導入するガス導入管と、
前記ガスの流量を変更可能なマスフローコントローラと、
前記チャンバから前記ガスを排気する排気ポンプと、
前記チャンバ内の圧力をモニタする圧力センサと、
前記圧力センサを用いて計測される圧力に基づき前記マスフローコントローラを制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記圧力センサで取得した圧力が上昇するのに伴って、前記マスフローコントローラを制御して、前記チャンバに入る前記ガスの流量の増加比率を増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記チャンバ内にターゲットを出力するドロップレット生成器と、
前記ドロップレット生成器が収容された容器と、
を備え、
前記ドロップレット生成器は、温度調節器を備え、
前記容器と前記チャンバは連通している極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記ガスの温度は16℃以下である極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記ターゲット物質がスズであり、
前記ガスが水素である極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記制御部は、
第1の圧力と前記第1の圧力より大きい第2の圧力の区間は、前記ガスの流量を第1の増加比率で増加させ、
前記第2の圧力と前記第2の圧力より大きい第3の圧力の区間は、前記第1の増加比率よりも大きい第2の増加比率で前記ガスの流量を増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記制御部は、前記ガスの流量の増加比率を、二階微分が0又は正となる圧力の関数に従って増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記制御部は、前記ガスの流量の増加比率を、圧力の1次関数に従って増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記制御部は、前記ガスの流量の増加比率を、3段階以上の変更ステップで段階的に増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
複数の前記マスフローコントローラを備え、
前記制御部は、前記圧力センサで取得した圧力が上昇するのに伴って、複数の前記マスフローコントローラを制御して、前記チャンバに入る前記ガスの合計の流量の増加比率を増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記チャンバ内への前記ガスの導入開始時における初期の前記ガスの流量の増加比率は、0.05slm/s以上1.0slm/s以下である極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置によって極端紫外光を生成し、
前記極端紫外光を露光装置に出力し、
電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に前記極端紫外光を露光すること
を含む電子デバイスの製造方法。 - ターゲット物質にパルスレーザ光を照射することによってプラズマを生成して極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置であって、
前記極端紫外光を集光するコレクタミラーを収容するチャンバと、
前記チャンバ内にガスを導入するガス導入管と、
前記ガスの流量を変更可能なマスフローコントローラと、
前記チャンバから前記ガスを排気する排気ポンプと、
前記チャンバ内への前記ガスの導入を開始してからの時間を計測するタイマと、
前記タイマを用いて計測される時間に基づき前記マスフローコントローラを制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記タイマを用いて計測される時間の経過に伴って、前記マスフローコントローラを制御して、前記チャンバに入る前記ガスの流量の増加比率を増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項12に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記チャンバ内にターゲットを出力するドロップレット生成器と、
前記ドロップレット生成器が収容された容器と、
を備え、
前記ドロップレット生成器は、温度調節器を備え、
前記容器と前記チャンバは連通している極端紫外光生成装置。 - 請求項12に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記制御部は、
第1の時間と前記第1の時間より後の第2の時間の区間は、前記ガスの流量を第1の増加比率で増加させ、
前記第2の時間と前記第2の時間より後の第3の時間の区間は、前記第1の増加比率よりも大きい第2の増加比率で前記ガスの流量を増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項12に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記制御部は、前記ガスの流量の増加比率を、二階微分が0又は正となる時間の関数に従って増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項12に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記制御部は、前記ガスの流量の増加比率を、時間の1次関数に従って増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項12に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記制御部は、前記ガスの流量の増加比率を、3段階以上の変更ステップで段階的に増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項12に記載の極端紫外光生成装置であって、
複数の前記マスフローコントローラを備え、
前記制御部は、前記タイマで計測される時間の経過に伴って、複数の前記マスフローコントローラを制御して、前記チャンバに入る前記ガスの合計の流量の増加比率を増加させる極端紫外光生成装置。 - 請求項12に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記チャンバ内への前記ガスの導入開始時における初期の前記ガスの流量の増加比率は、0.05slm/s以上1.0slm/s以下である極端紫外光生成装置。 - 請求項12に記載の極端紫外光生成装置によって極端紫外光を生成し、
前記極端紫外光を露光装置に出力し、
電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に前記極端紫外光を露光すること
を含む電子デバイスの製造方法。
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