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  1. 第1の記憶回路と、第2の記憶回路と、第1のスイッチと、第2のスイッチと、位相反転回路と、を有し、
    前記第1の記憶回路は、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、容量素子と、を有し、
    前記第1のトランジスタは、酸化物半導体膜を有し
    前記第1のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方は、第1の制御信号が与えられる第1の信号線に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、前記容量素子の電極の一方と、前記第2のトランジスタのゲート電極と、に接続され、
    前記容量素子の電極の他方は、接地され、
    前記第1のトランジスタのゲート電極は、第2の制御信号が与えられる第2の信号線に接続され、
    前記位相反転回路の入力端子は、前記第2の信号線に接続され、
    前記位相反転回路の出力端子は、前記第1のスイッチの入力端子接続され、
    前記位相反転回路の第1端子は、電源電圧が与えられる電源線接続され、
    前記位相反転回路の第2端子は、接地され、
    前記第1のスイッチの第1端子は、前記電源線接続され、
    前記第1のスイッチの第2端子は、前記第2のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、接地され、
    前記第3のトランジスタのゲート電極は、前記第2のトランジスタのゲート電極接続され、
    前記第3のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方は、前記電源線接続され、
    前記第3のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、前記第1のスイッチの出力端子接続され、
    前記第2のスイッチの第1端子は、前記位相反転回路の出力端子接続され、
    前記第2のスイッチの第2端子は、前記第2の信号線に接続され、
    前記第1のスイッチの出力端子は、前記第2のスイッチを介して前記第2の記憶回路接続されることを特徴とする記憶回路。
  2. 第1の記憶回路と、第2の記憶回路と、第1のスイッチと、第2のスイッチと、位相反転回路と、を有し、
    前記第1の記憶回路は、第1のトランジスタと、容量素子と、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、を有し、
    前記第1のスイッチは、第4のトランジスタと、第5のトランジスタと、を有し、
    前記第1のトランジスタは、酸化物半導体膜を有し
    前記第1のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方は、第1の制御信号が与えられる第1の信号線に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、前記容量素子の電極の一方と、前記第2のトランジスタのゲート電極と、に接続され、
    前記容量素子の電極の他方は、接地され、
    前記第1のトランジスタのゲート電極は、第2の制御信号が与えられる第2の信号線に接続され、
    前記位相反転回路の入力端子は、前記第2の信号線に接続され、
    前記位相反転回路の出力端子は、前記第4のトランジスタのゲート電極と、前記第5のトランジスタのゲート電極と、に接続され、
    前記位相反転回路の第1端子は、電源電圧が与えられる電源線接続され、
    前記位相反転回路の第2端子は、接地され、
    前記第4のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方は、前記電源線接続され、
    前記第4のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、前記第5のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方に接続され、
    前記第5のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、前記第2のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、接地され、
    前記第3のトランジスタのゲート電極は、前記第2のトランジスタのゲート電極接続され、
    前記第3のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方は、前記電源線接続され、
    前記第3のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、前記第4のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方と、前記第5のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方と、に接続され、
    前記第2のスイッチの第1端子は、前記位相反転回路の出力端子接続され、
    前記第2のスイッチの第2端子は、前記第2の信号線に接続され、
    前記第4のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方と、前記第5のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方と、は、前記第2のスイッチを介して前記第2の記憶回路接続されることを特徴とする記憶回路。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記酸化物半導体膜は、In、Ga及びZnを含むことを特徴とする記憶回路。
  4. 請求項1または請求項2において、
    前記酸化物半導体膜は、In、Sn及びZnを含むことを特徴とする記憶回路。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の記憶回路を有することを特徴とする電子機器。
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TW (1) TWI536502B (ja)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8422272B2 (en) 2010-08-06 2013-04-16 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and driving method thereof
TWI524347B (zh) 2010-08-06 2016-03-01 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置及其驅動方法
US8792260B2 (en) 2010-09-27 2014-07-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Rectifier circuit and semiconductor device using the same
US8681533B2 (en) * 2011-04-28 2014-03-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Memory circuit, signal processing circuit, and electronic device
KR102081792B1 (ko) 2011-05-19 2020-02-26 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 연산회로 및 연산회로의 구동방법
US8804405B2 (en) * 2011-06-16 2014-08-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Memory device and semiconductor device
US9287370B2 (en) 2012-03-02 2016-03-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Memory device comprising a transistor including an oxide semiconductor and semiconductor device including the same
US9043561B2 (en) 2012-05-02 2015-05-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Storage device
US9135182B2 (en) * 2012-06-01 2015-09-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Central processing unit and driving method thereof
JP6273112B2 (ja) 2012-09-11 2018-01-31 株式会社半導体エネルギー研究所 フリップフロップ回路および半導体装置
US9614258B2 (en) * 2012-12-28 2017-04-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Power storage device and power storage system
KR102101863B1 (ko) * 2013-01-07 2020-04-21 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터, 이의 제조 방법 및 이를 구비하는 표시 장치
US8981815B2 (en) * 2013-04-01 2015-03-17 Mediatek Singapore Pte. Ltd. Low power clock gating circuit
KR102442752B1 (ko) 2013-05-20 2022-09-14 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치
SG11201606647PA (en) * 2014-03-14 2016-09-29 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Circuit system
US9887212B2 (en) * 2014-03-14 2018-02-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and electronic device
US10536657B2 (en) 2016-03-18 2020-01-14 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Imaging device and electronic device
CN113660439A (zh) 2016-12-27 2021-11-16 株式会社半导体能源研究所 摄像装置及电子设备
JPWO2021024083A1 (ja) 2019-08-08 2021-02-11
US12002535B2 (en) 2019-09-20 2024-06-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device comprising memory cell array and arithmetic circuit

Family Cites Families (150)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3775693A (en) 1971-11-29 1973-11-27 Moskek Co Mosfet logic inverter for integrated circuits
US4800303A (en) 1987-05-19 1989-01-24 Gazelle Microcircuits, Inc. TTL compatible output buffer
US5218607A (en) 1989-06-23 1993-06-08 Kabushiki Kaisha Toshiba Computer having a resume function and operable on an internal power source
JPH0327419A (ja) 1989-06-23 1991-02-05 Toshiba Corp パーソナルコンピュータ
US5039883A (en) 1990-02-21 1991-08-13 Nec Electronics Inc. Dual input universal logic structure
US6242289B1 (en) 1995-09-08 2001-06-05 Semiconductor Energy Laboratories Co., Ltd. Method for producing semiconductor device
JPH11505377A (ja) 1995-08-03 1999-05-18 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ 半導体装置
JPH09270677A (ja) * 1995-09-05 1997-10-14 Mitsubishi Electric Corp フリップフロップ回路及びスキャンパス並びに記憶回路
US6078194A (en) 1995-11-13 2000-06-20 Vitesse Semiconductor Corporation Logic gates for reducing power consumption of gallium arsenide integrated circuits
JP3625598B2 (ja) 1995-12-30 2005-03-02 三星電子株式会社 液晶表示装置の製造方法
JPH1078836A (ja) * 1996-09-05 1998-03-24 Hitachi Ltd データ処理装置
JP4103968B2 (ja) 1996-09-18 2008-06-18 株式会社半導体エネルギー研究所 絶縁ゲイト型半導体装置
US5767729A (en) * 1996-10-31 1998-06-16 Integrated Silicon Solution Inc. Distribution charge pump for nonvolatile memory device
US5980092A (en) 1996-11-19 1999-11-09 Unisys Corporation Method and apparatus for optimizing a gated clock structure using a standard optimization tool
CA2305703A1 (en) 1997-10-10 1999-04-22 David W. Christianson Compositions and methods for inhibiting arginase activity
US6049883A (en) 1998-04-01 2000-04-11 Tjandrasuwita; Ignatius B. Data path clock skew management in a dynamic power management environment
JP4170454B2 (ja) 1998-07-24 2008-10-22 Hoya株式会社 透明導電性酸化物薄膜を有する物品及びその製造方法
JP2000150861A (ja) 1998-11-16 2000-05-30 Tdk Corp 酸化物薄膜
JP3276930B2 (ja) 1998-11-17 2002-04-22 科学技術振興事業団 トランジスタ及び半導体装置
US6204695B1 (en) 1999-06-18 2001-03-20 Xilinx, Inc. Clock-gating circuit for reducing power consumption
TW460731B (en) 1999-09-03 2001-10-21 Ind Tech Res Inst Electrode structure and production method of wide viewing angle LCD
US6281710B1 (en) 1999-12-17 2001-08-28 Hewlett-Packard Company Selective latch for a domino logic gate
JP4089858B2 (ja) 2000-09-01 2008-05-28 国立大学法人東北大学 半導体デバイス
JP3727838B2 (ja) 2000-09-27 2005-12-21 株式会社東芝 半導体集積回路
KR20020038482A (ko) 2000-11-15 2002-05-23 모리시타 요이찌 박막 트랜지스터 어레이, 그 제조방법 및 그것을 이용한표시패널
TW465188B (en) 2001-01-02 2001-11-21 Faraday Tech Corp Clock gate buffer circuit
JP3997731B2 (ja) 2001-03-19 2007-10-24 富士ゼロックス株式会社 基材上に結晶性半導体薄膜を形成する方法
JP2002289859A (ja) 2001-03-23 2002-10-04 Minolta Co Ltd 薄膜トランジスタ
DE10119051B4 (de) 2001-04-18 2006-12-28 Infineon Technologies Ag Schaltungsanordnung zur Freigabe eines Taktsignals in Abhängigkeit von einem Freigabesignal
US6822478B2 (en) 2001-07-03 2004-11-23 Texas Instruments Incorporated Data-driven clock gating for a sequential data-capture device
JP3925839B2 (ja) 2001-09-10 2007-06-06 シャープ株式会社 半導体記憶装置およびその試験方法
JP4090716B2 (ja) 2001-09-10 2008-05-28 雅司 川崎 薄膜トランジスタおよびマトリクス表示装置
JP4974202B2 (ja) 2001-09-19 2012-07-11 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路
JP4164562B2 (ja) 2002-09-11 2008-10-15 独立行政法人科学技術振興機構 ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ
US7061014B2 (en) 2001-11-05 2006-06-13 Japan Science And Technology Agency Natural-superlattice homologous single crystal thin film, method for preparation thereof, and device using said single crystal thin film
JP4083486B2 (ja) 2002-02-21 2008-04-30 独立行政法人科学技術振興機構 LnCuO(S,Se,Te)単結晶薄膜の製造方法
CN1445821A (zh) 2002-03-15 2003-10-01 三洋电机株式会社 ZnO膜和ZnO半导体层的形成方法、半导体元件及其制造方法
JP3933591B2 (ja) 2002-03-26 2007-06-20 淳二 城戸 有機エレクトロルミネッセント素子
US7339187B2 (en) 2002-05-21 2008-03-04 State Of Oregon Acting By And Through The Oregon State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University Transistor structures
JP2004022625A (ja) 2002-06-13 2004-01-22 Murata Mfg Co Ltd 半導体デバイス及び該半導体デバイスの製造方法
US7398442B2 (en) 2002-06-21 2008-07-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Electronic circuit with asynchronously operating components
US7105868B2 (en) 2002-06-24 2006-09-12 Cermet, Inc. High-electron mobility transistor with zinc oxide
TWI272641B (en) 2002-07-16 2007-02-01 Semiconductor Energy Lab Method of manufacturing a semiconductor device
JP3910902B2 (ja) 2002-10-02 2007-04-25 松下電器産業株式会社 集積回路装置
US7067843B2 (en) 2002-10-11 2006-06-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Transparent oxide semiconductor thin film transistors
US6788567B2 (en) 2002-12-02 2004-09-07 Rohm Co., Ltd. Data holding device and data holding method
JP4166105B2 (ja) 2003-03-06 2008-10-15 シャープ株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2004273732A (ja) 2003-03-07 2004-09-30 Sharp Corp アクティブマトリクス基板およびその製造方法
JP4108633B2 (ja) 2003-06-20 2008-06-25 シャープ株式会社 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに電子デバイス
US7262463B2 (en) 2003-07-25 2007-08-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Transistor including a deposited channel region having a doped portion
US7076748B2 (en) 2003-08-01 2006-07-11 Atrenta Inc. Identification and implementation of clock gating in the design of integrated circuits
US7282782B2 (en) 2004-03-12 2007-10-16 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Combined binary oxide semiconductor device
CN102354658B (zh) 2004-03-12 2015-04-01 独立行政法人科学技术振兴机构 薄膜晶体管的制造方法
US7145174B2 (en) 2004-03-12 2006-12-05 Hewlett-Packard Development Company, Lp. Semiconductor device
US7297977B2 (en) 2004-03-12 2007-11-20 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Semiconductor device
US7211825B2 (en) 2004-06-14 2007-05-01 Yi-Chi Shih Indium oxide-based thin film transistors and circuits
JP2006100760A (ja) 2004-09-02 2006-04-13 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタおよびその製造方法
US7285501B2 (en) 2004-09-17 2007-10-23 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method of forming a solution processed device
US7298084B2 (en) 2004-11-02 2007-11-20 3M Innovative Properties Company Methods and displays utilizing integrated zinc oxide row and column drivers in conjunction with organic light emitting diodes
US7829444B2 (en) 2004-11-10 2010-11-09 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor manufacturing method
US7863611B2 (en) 2004-11-10 2011-01-04 Canon Kabushiki Kaisha Integrated circuits utilizing amorphous oxides
US7453065B2 (en) 2004-11-10 2008-11-18 Canon Kabushiki Kaisha Sensor and image pickup device
EP1810335B1 (en) 2004-11-10 2020-05-27 Canon Kabushiki Kaisha Light-emitting device
US7791072B2 (en) 2004-11-10 2010-09-07 Canon Kabushiki Kaisha Display
RU2358355C2 (ru) 2004-11-10 2009-06-10 Кэнон Кабусики Кайся Полевой транзистор
EP1812969B1 (en) 2004-11-10 2015-05-06 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor comprising an amorphous oxide
US7256622B2 (en) 2004-12-08 2007-08-14 Naveen Dronavalli AND, OR, NAND, and NOR logical gates
US7579224B2 (en) 2005-01-21 2009-08-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing a thin film semiconductor device
TWI569441B (zh) 2005-01-28 2017-02-01 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法
TWI505473B (zh) 2005-01-28 2015-10-21 Semiconductor Energy Lab 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法
US7858451B2 (en) 2005-02-03 2010-12-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electronic device, semiconductor device and manufacturing method thereof
US7948171B2 (en) 2005-02-18 2011-05-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
US20060197092A1 (en) 2005-03-03 2006-09-07 Randy Hoffman System and method for forming conductive material on a substrate
US8681077B2 (en) 2005-03-18 2014-03-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, and display device, driving method and electronic apparatus thereof
US7544967B2 (en) 2005-03-28 2009-06-09 Massachusetts Institute Of Technology Low voltage flexible organic/transparent transistor for selective gas sensing, photodetecting and CMOS device applications
US7645478B2 (en) 2005-03-31 2010-01-12 3M Innovative Properties Company Methods of making displays
US8300031B2 (en) 2005-04-20 2012-10-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device comprising transistor having gate and drain connected through a current-voltage conversion element
JP2006344849A (ja) 2005-06-10 2006-12-21 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタ
US7402506B2 (en) 2005-06-16 2008-07-22 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7691666B2 (en) 2005-06-16 2010-04-06 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7507618B2 (en) 2005-06-27 2009-03-24 3M Innovative Properties Company Method for making electronic devices using metal oxide nanoparticles
KR100711890B1 (ko) 2005-07-28 2007-04-25 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광표시장치 및 그의 제조방법
US7323909B2 (en) 2005-07-29 2008-01-29 Sequence Design, Inc. Automatic extension of clock gating technique to fine-grained power gating
JP2007059128A (ja) 2005-08-23 2007-03-08 Canon Inc 有機el表示装置およびその製造方法
JP4850457B2 (ja) 2005-09-06 2012-01-11 キヤノン株式会社 薄膜トランジスタ及び薄膜ダイオード
JP4560502B2 (ja) 2005-09-06 2010-10-13 キヤノン株式会社 電界効果型トランジスタ
JP4280736B2 (ja) 2005-09-06 2009-06-17 キヤノン株式会社 半導体素子
JP5116225B2 (ja) 2005-09-06 2013-01-09 キヤノン株式会社 酸化物半導体デバイスの製造方法
JP2007073705A (ja) 2005-09-06 2007-03-22 Canon Inc 酸化物半導体チャネル薄膜トランジスタおよびその製造方法
EP1998374A3 (en) 2005-09-29 2012-01-18 Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufacturing method thereof
JP5037808B2 (ja) 2005-10-20 2012-10-03 キヤノン株式会社 アモルファス酸化物を用いた電界効果型トランジスタ、及び該トランジスタを用いた表示装置
KR101117948B1 (ko) 2005-11-15 2012-02-15 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 액정 디스플레이 장치 제조 방법
TWI292281B (en) 2005-12-29 2008-01-01 Ind Tech Res Inst Pixel structure of active organic light emitting diode and method of fabricating the same
US7867636B2 (en) 2006-01-11 2011-01-11 Murata Manufacturing Co., Ltd. Transparent conductive film and method for manufacturing the same
US20070161165A1 (en) 2006-01-12 2007-07-12 Toppoly Optoelectronics Corp. Systems and methods involving thin film transistors
JP4977478B2 (ja) 2006-01-21 2012-07-18 三星電子株式会社 ZnOフィルム及びこれを用いたTFTの製造方法
US7576394B2 (en) 2006-02-02 2009-08-18 Kochi Industrial Promotion Center Thin film transistor including low resistance conductive thin films and manufacturing method thereof
US7977169B2 (en) 2006-02-15 2011-07-12 Kochi Industrial Promotion Center Semiconductor device including active layer made of zinc oxide with controlled orientations and manufacturing method thereof
KR20070101595A (ko) 2006-04-11 2007-10-17 삼성전자주식회사 ZnO TFT
US20070252928A1 (en) 2006-04-28 2007-11-01 Toppan Printing Co., Ltd. Structure, transmission type liquid crystal display, reflection type display and manufacturing method thereof
US7443202B2 (en) 2006-06-02 2008-10-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and electronic apparatus having the same
JP5028033B2 (ja) 2006-06-13 2012-09-19 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP4999400B2 (ja) 2006-08-09 2012-08-15 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP4609797B2 (ja) 2006-08-09 2011-01-12 Nec液晶テクノロジー株式会社 薄膜デバイス及びその製造方法
JP4332545B2 (ja) 2006-09-15 2009-09-16 キヤノン株式会社 電界効果型トランジスタ及びその製造方法
JP5164357B2 (ja) 2006-09-27 2013-03-21 キヤノン株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP4274219B2 (ja) 2006-09-27 2009-06-03 セイコーエプソン株式会社 電子デバイス、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機薄膜半導体装置
US7622371B2 (en) 2006-10-10 2009-11-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Fused nanocrystal thin film semiconductor and method
US7772021B2 (en) 2006-11-29 2010-08-10 Samsung Electronics Co., Ltd. Flat panel displays comprising a thin-film transistor having a semiconductive oxide in its channel and methods of fabricating the same for use in flat panel displays
JP2008140684A (ja) 2006-12-04 2008-06-19 Toppan Printing Co Ltd カラーelディスプレイおよびその製造方法
US7576582B2 (en) 2006-12-05 2009-08-18 Electronics And Telecommunications Research Institute Low-power clock gating circuit
KR101303578B1 (ko) 2007-01-05 2013-09-09 삼성전자주식회사 박막 식각 방법
US8207063B2 (en) 2007-01-26 2012-06-26 Eastman Kodak Company Process for atomic layer deposition
KR100851215B1 (ko) 2007-03-14 2008-08-07 삼성에스디아이 주식회사 박막 트랜지스터 및 이를 이용한 유기 전계 발광표시장치
US7795613B2 (en) 2007-04-17 2010-09-14 Toppan Printing Co., Ltd. Structure with transistor
KR101325053B1 (ko) 2007-04-18 2013-11-05 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법
KR20080094300A (ko) 2007-04-19 2008-10-23 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법과 박막 트랜지스터를포함하는 평판 디스플레이
KR101334181B1 (ko) 2007-04-20 2013-11-28 삼성전자주식회사 선택적으로 결정화된 채널층을 갖는 박막 트랜지스터 및 그제조 방법
US8274078B2 (en) 2007-04-25 2012-09-25 Canon Kabushiki Kaisha Metal oxynitride semiconductor containing zinc
KR101345376B1 (ko) 2007-05-29 2013-12-24 삼성전자주식회사 ZnO 계 박막 트랜지스터 및 그 제조방법
JP5215158B2 (ja) 2007-12-17 2013-06-19 富士フイルム株式会社 無機結晶性配向膜及びその製造方法、半導体デバイス
JP5140459B2 (ja) 2008-02-28 2013-02-06 ローム株式会社 不揮発性記憶ゲートおよびその動作方法、および不揮発性記憶ゲート組込み型論理回路およびその動作方法
KR100941843B1 (ko) 2008-04-14 2010-02-11 삼성모바일디스플레이주식회사 인버터 및 이를 구비한 표시장치
US8314765B2 (en) 2008-06-17 2012-11-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Driver circuit, display device, and electronic device
JP4623179B2 (ja) 2008-09-18 2011-02-02 ソニー株式会社 薄膜トランジスタおよびその製造方法
JP5451280B2 (ja) 2008-10-09 2014-03-26 キヤノン株式会社 ウルツ鉱型結晶成長用基板およびその製造方法ならびに半導体装置
JP5781720B2 (ja) 2008-12-15 2015-09-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
KR101746198B1 (ko) * 2009-09-04 2017-06-12 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시장치 및 전자기기
WO2011034012A1 (en) 2009-09-16 2011-03-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Logic circuit, light emitting device, semiconductor device, and electronic device
KR101740943B1 (ko) 2009-09-24 2017-06-15 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시 장치
KR101711236B1 (ko) 2009-10-09 2017-02-28 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치
KR102689629B1 (ko) 2009-10-16 2024-07-31 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치
KR101745747B1 (ko) 2009-10-16 2017-06-27 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 논리 회로 및 반도체 장치
EP2494594B1 (en) 2009-10-29 2020-02-19 Semiconductor Energy Laboratory Co. Ltd. Semiconductor device
SG188112A1 (en) 2009-10-30 2013-03-28 Semiconductor Energy Lab Logic circuit and semiconductor device
KR101700154B1 (ko) 2009-11-20 2017-01-26 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 래치 회로와 회로
KR101781336B1 (ko) 2009-12-25 2017-09-25 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치
WO2011096262A1 (en) * 2010-02-05 2011-08-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device
JP5714973B2 (ja) 2010-05-21 2015-05-07 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
WO2011145706A1 (en) 2010-05-21 2011-11-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and display device
WO2011145707A1 (en) 2010-05-21 2011-11-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and display device
US8928466B2 (en) 2010-08-04 2015-01-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device
TWI524347B (zh) * 2010-08-06 2016-03-01 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置及其驅動方法
US8422272B2 (en) * 2010-08-06 2013-04-16 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and driving method thereof
WO2012029638A1 (en) 2010-09-03 2012-03-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device
TWI632551B (zh) 2010-12-03 2018-08-11 半導體能源研究所股份有限公司 積體電路,其驅動方法,及半導體裝置
TWI621121B (zh) 2011-01-05 2018-04-11 半導體能源研究所股份有限公司 儲存元件、儲存裝置、及信號處理電路
US8760903B2 (en) * 2011-03-11 2014-06-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Storage circuit
WO2012153697A1 (en) * 2011-05-06 2012-11-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor memory device
KR101922397B1 (ko) * 2011-05-20 2018-11-28 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치

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