JP2012169017A - 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】磁性層が良好な規則度と（００１）配向を有し、Ｈｃが高く、かつ、Ｈｃ分散の狭い熱アシスト記録媒体、及びそれを用いた磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、Ｌ１０構造を有する合金を主成分とする磁性層からなる磁気記録媒体において、該下地層の少なくとも一つが、ＭｎＯであることを特徴とする熱アシスト磁気記録媒体を用いる。また、ＭｎＯ下地層を、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成する。
【選択図】図１
【解決手段】基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、Ｌ１０構造を有する合金を主成分とする磁性層からなる磁気記録媒体において、該下地層の少なくとも一つが、ＭｎＯであることを特徴とする熱アシスト磁気記録媒体を用いる。また、ＭｎＯ下地層を、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成する。
【選択図】図１
Description
本発明は熱アシスト磁気記録媒体、及びそれを用いた磁気記憶装置に関する。
媒体に近接場光等を照射して表面を局所的に加熱し、媒体の保磁力を低下させて書き込みを行う熱アシスト記録は、１Ｔｂｉｔ／ｉｎｃｈ２クラスの面記録密度を実現できる次世代記録方式として注目されている。熱アシスト記録媒体としては、磁性層に、Ｌ１０型結晶構造を有するＦｅＰｔ合金を用いた媒体が用いられる。上記ＦｅＰｔ合金は、１０６ Ｊ／ｍ３台の高い結晶磁気異方性Ｋｕを有するため、熱安定性を維持したまま、磁性粒径を６ｎｍ程度以下まで微細化できる。これにより、熱安定性を維持したまま、媒体ノイズを低減できる。
高い垂直磁気異方性を有する熱アシスト記録媒体を得るには、磁性層に用いられるＬ１０型ＦｅＰｔ合金は良好な（００１）配向をとっている必要がある。これを実現するには、下地層に適切な材料を用いる必要がある。例えば、特許文献１にはＭｇＯ下地層を用いることによって、ＦｅＰｔ磁性層が（００１）配向を示すことが示されている。ＭｇＯはＮａＣｌ構造をとり、格子定数は０．４２１ｎｍと、Ｌ１０構造のＦｅＰｔ合金のａ軸長と近い。このため、（１００）配向したＭｇＯ下地層上にＦｅＰｔ磁性層を形成することにより、該磁性層に（００１）配向をとらせることができる。また、非特許文献１には、ＴｉＮ下地層を用いることにより、ＦｅＰｔ磁性層が（００１）配向を示すことが記載されている。ＴｉＮもＭｇＯ同様、ＮａＣｌ構造をとり、格子定数もＭｇＯと近い。このため、ＭｇＯの場合と同様、ＦｅＰｔ磁性層に（００１）配向をとらせることができる。
Ｊ． Ｖａｃ． Ｓｃｉ． Ｔｅｃｈｎｏｌ． Ｂ ２５ （６）， １８９２−１８９５ （２００７）
磁性層を構成するＬ１０型ＦｅＰｔ合金の規則度を高め、かつ良好な（００１）配向をとらせることが、高い媒体ＳＮＲを示す熱アシスト記録媒体を得る上で重要な課題である。上記課題は、ＭｇＯ下地層、もしくはＴｉＮ下地層を用いることによってある程度は改善できるが、依然として不十分である。よって、新規下地層材料の開発により、ＦｅＰｔ合金のＬ１０規則度、（００１）配向性を更に高める必要がある。
上記課題は、基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、Ｌ１０構造を有する合金を主成分とする磁性層からなる磁気記録媒体において、該下地層の少なくとも一つが、ＭｎＯであることを特徴とする熱アシスト磁気記録媒体を用いることによって解決できる。すなわち本願発明は下記の発明に関する。
（１）基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、Ｌ１０構造を有する合金を主成分とする磁性層を含む磁気記録媒体において、該下地層の少なくとも一つが、ＭｎＯを含むことを特徴とする熱アシスト磁気記録媒体。
（２）前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（３）前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有し、更に、Ｂ、Ｃのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（４）前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂ、もしくはこれらを含有する格子定数が０．３ｎｍ以上のＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（５）前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｂ２構造を有するＮｉＡｌ、もしくはＲｕＡｌからなる下地層の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（６）前記ＭｎＯを含む下地層が、ＭｇＯからなる下地層の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（７）前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（６）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（８）前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有し、更に、Ｂ、Ｃのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（６）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（９）前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂ、もしくはこれらを含有する格子定数が０．３ｎｍ以上のＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（６）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（１０）前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｂ２構造を有するＮｉＡｌ、もしくはＲｕＡｌからなる下地層の上に形成されていることを特徴とする（６）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（１１）磁性層がＬ１０構造を有するＦｅＰｔ、もしくはＣｏＰｔ合金を主成分とし、かつ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｎＯ、ＴｉＯ、ＺｎＯ、Ｃから選択される少なくとも一種類の酸化物、もしくは元素を含有していることを特徴とする（１）乃至（１０）の何れか１項に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（１２）磁気記録媒体と、該磁気記録媒体を回転させるための駆動部と、該磁気記録媒体を加熱するためのレーザー発生部と、該レーザー発生部から発生したレーザー光をヘッド先端まで導く導波路と、ヘッド先端に取り付けられた近接場光発生部を備えた磁気ヘッドと、該磁気ヘッドを移動させるための駆動部と、記録再生信号処理系から構成さる磁気記憶装置において、該磁気記録媒体が（１）乃至（１１）の何れか１項に記載の熱アシスト媒体であることを特徴とする磁気記憶装置。
（２）前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（３）前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有し、更に、Ｂ、Ｃのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（４）前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂ、もしくはこれらを含有する格子定数が０．３ｎｍ以上のＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（５）前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｂ２構造を有するＮｉＡｌ、もしくはＲｕＡｌからなる下地層の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（６）前記ＭｎＯを含む下地層が、ＭｇＯからなる下地層の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（７）前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（６）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（８）前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有し、更に、Ｂ、Ｃのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（６）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（９）前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂ、もしくはこれらを含有する格子定数が０．３ｎｍ以上のＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする（６）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（１０）前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｂ２構造を有するＮｉＡｌ、もしくはＲｕＡｌからなる下地層の上に形成されていることを特徴とする（６）に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（１１）磁性層がＬ１０構造を有するＦｅＰｔ、もしくはＣｏＰｔ合金を主成分とし、かつ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｎＯ、ＴｉＯ、ＺｎＯ、Ｃから選択される少なくとも一種類の酸化物、もしくは元素を含有していることを特徴とする（１）乃至（１０）の何れか１項に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
（１２）磁気記録媒体と、該磁気記録媒体を回転させるための駆動部と、該磁気記録媒体を加熱するためのレーザー発生部と、該レーザー発生部から発生したレーザー光をヘッド先端まで導く導波路と、ヘッド先端に取り付けられた近接場光発生部を備えた磁気ヘッドと、該磁気ヘッドを移動させるための駆動部と、記録再生信号処理系から構成さる磁気記憶装置において、該磁気記録媒体が（１）乃至（１１）の何れか１項に記載の熱アシスト媒体であることを特徴とする磁気記憶装置。
本発明により、磁性層が良好な規則度と（００１）配向を有し、保磁力の高い熱アシスト記録媒体が実現され、これを用いた磁気記憶装置を提供することができる。
本願発明は、基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、Ｌ１０構造を有する合金を主成分とする磁性層を含む磁気記録媒体において、下地層の少なくとも一つを、ＭｎＯを含む構成とすることを特徴とする。本願発明はこのような構成を採用することにより、ＭｎＯ下地層を（１００）配向させ、この（１００）配向したＭｎＯ下地層上に、５００−６００℃以上の高温でＦｅＰｔ合金からなる磁性層を形成することにより、該ＦｅＰｔ合金に良好なＬ１０規則度と、（００１）配向性をとらせることができる。
また本願発明では、ＭｎＯ下地層に（１００）配向をとらせるため、ＭｎＯ下地層を（１００）配向したＣｒ、もしくはＣｒ合金下地層の上に形成するのが望ましい。Ｃｒ合金としては、ＣｒＴｉ、ＣｒＶ、ＣｒＭｏ、ＣｒＷ、ＣｒＭｎ、ＣｒＲｕ等を用いることができる。また、これらの合金にＢ、Ｃを添加してもよい。これにより、反転磁界分散ＳＦＤを大幅に低減できる。上記Ｃｒ、もしくはＣｒ合金下地層は、例えば、Ｎｉ−５０ａｔ％ＴａやＮｉ−５０ａｔ％Ｔｉ等の非晶質合金からなるシード層上に、１５０℃以上の高温で形成するのが望ましい。これによって、Ｃｒ、もしくはＣｒ合金下地層に良好な（１００）配向をとらせることができる。上記、非晶質シード層は、Ｃｏ−５０ａｔ％Ｔｉ、Ｃｏ−５０ａｔ％Ｔａ、Ｃｒ−５０ａｔＴｉ合金等、非晶質合金であれば特に制限はない。
また、（１００）配向したＢ２構造を有するＮｉＡｌ合金、もしくはＲｕＡｌ合金下地層上にＭｎＯ下地層を形成してもよい。この場合もエピタキシャル成長により、ＭｎＯは（１００）配向をとる。ＮｉＡｌ下地層、ＲｕＡｌ下地層についても、Ｃｒ下地層と同様、非晶質合金下地層上に形成することによって、（１００）配向をとらせることができる。この場合、基板加熱はなくてもよいが、良好な（１００）配向をとらせるには、１５０℃以上の基板加熱を行うのが望ましい。
ＭｎＯをＭｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂ、もしくはこれらを含有するＢＣＣ構造の合金からなる（１００）配向した下地層上に形成してもよい。この場合、上記ＢＣＣ合金の格子定数は０．３ｎｍ以上とすることが望ましい。これにより、ＭｎＯ下地層を介して磁性層中のＬ１０型ＦｅＰｔ合金に引っ張り応力を導入でき、規則度を更に高めることができる。上記Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂ、もしくはこれらを含有する格子定数が０．３ｎｍ以上のＢＣＣ合金からなる下地層を以後、応力導入層と記す。応力導入層は、（１００）配向をとっている必要があるため、（１００）配向したＣｒ下地層、Ｃｒ合金下地層、ＮｉＡｌ下地層、ＲｕＡｌ下地層の上に形成することが望ましい。
更に、ＭｎＯ下地層を（１００）配向したＭｇＯ下地層の上に形成してもよい。ＭｇＯ下地層に（１００）配向をとらせるには、ＭｇＯ下地層を、上記（１００）配向したＣｒ下地層、Ｃｒ合金下地層、ＮｉＡｌ下地層、ＲｕＡｌ下地層の上に形成すればよい。また、ＭｇＯ下地層と、（１００）配向したＣｒ下地層、Ｃｒ合金下地層、ＮｉＡｌ下地層、ＲｕＡｌ下地層の間に、上記応力導入層を形成しても良い。この場合も、ＭｇＯ下地層と、その上に形成されたＭｎＯ下地層を介して磁性層中のＬ１０型ＦｅＰｔ合金に引っ張り応力を導入でき、規則度を更に高めることができる。
本願発明のＭｎＯ下地層は、Ｍｎをアルゴンと酸素の混合ガス雰囲気中で形成してもよいし、Ｍｎ−５０ａｔ％Ｏ複合ターゲットを用いてもよい。ＭｎＯ下地層はＮａＣｌ構造をとっていることが望ましいが、ＭｎＯ下地層上に形成されたＬ１０型ＦｅＰｔのエピタキシャル成長を大幅に阻害しない程度あれば、ひずみがはいって正方晶、斜方晶、三方晶等になったＭｎＯ結晶が混在していてもよい。ＭｎＯが正方晶、もしくは斜方晶構造緒をとっている場合、（０１０）面や（００１）面は、（１００）面と区別されるべきであるが、ＭｎＯに関しては、便宜上これらの面指数は全て（１００）面と記す。また、Ｌ１０型ＦｅＰｔのエピタキシャル成長を大幅に阻害しない程度あれば、ＭｎＯ膜形成時の過剰酸素によって生成されるＭｎＯ２、Ｍｎ３Ｏ３、Ｍｎ３Ｏ４が混在していてもよい。
熱アシスト記録では、記録時に加熱された磁性層の冷却速度が遅いと、磁化遷移幅が広がりＳＮＲが劣化するため、磁性層は速やかに冷却される必要がある。このため、熱伝導率の高い材料からなるヒートシンク層を形成するのが望ましい。ヒートシンク層としては、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕ、もしくはこれらの元素を主成分とする合金を用いることができる。
また、軟磁性下地層を形成しても良い。軟磁性下地層には、ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＦｅＴａＢ、ＣｏＦｅＴａＳｉ、ＣｏＦｅＴａＺｒ等の非晶質合金、ＦｅＴａＣ、ＦｅＴａＮ等の微結晶合金、ＮｉＦｅ等の多結晶合金を用いることが出来る。軟磁性下地層は、上記合金からなる単層膜でもよいし、適切な膜厚のＲｕ層を挟んで反強磁性結合した積層膜でもよい。
磁性層には、Ｌ１０型のＦｅＰｔ合金、もしくはＬ１０型のＣｏＰｔ合金を用いるのが望ましい。また、結晶粒間の交換結合を低減するため、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｎＯ、ＴｉＯ、ＺｎＯ、Ｃを粒界相材料として添加するのが望ましい。
（実施例１）
図１に本実施例で作製した磁気記録媒体の層構成の一例を示す。本実施例では、ガラス基板上１０１に、５ｎｍのＮｉ−３７ａｔ％Ｔａ接着層１０２、５０ｎｍのＣｕ−０．５ａｔ％Ｚｒヒートシンク層１０３、５ｎｍのＮｉ−５０ａｔ％Ｔｉ下地層１０４を形成し、２２０℃まで基板加熱を行った。その後、１０ｎｍのＣｒ−５ａｔ％Ｔｉ下地層１０５、３ｎｍのＭｎＯ下地層１０６を形成し、再度、４８０−６４０℃まで基板加熱を行った後、１５ｎｍの（Ｆｅ−４７ａｔ％Ｐｔ−３ａｔ％Ｃｕ）−５０ａｔ％Ｃ磁性層１０７、５ｎｍのＣｏ−２０ａｔ％Ｃｒ−１６ａｔ％Ｐｔ−１０ａｔ％Ｂキャップ層１０８を形成した。更に、保護膜として３．２ｎｍのＤＬＣ膜１０９を形成した。ここで、ＭｎＯ下地層は、ＭｎターゲットをＡｒと酸素の混合ガス雰囲気中でＤＣ放電させることによって形成した。また、比較例として、ＭｎＯ下地層の代わりに３ｎｍのＭｇＯ下地層を形成した媒体を作製した。
図１に本実施例で作製した磁気記録媒体の層構成の一例を示す。本実施例では、ガラス基板上１０１に、５ｎｍのＮｉ−３７ａｔ％Ｔａ接着層１０２、５０ｎｍのＣｕ−０．５ａｔ％Ｚｒヒートシンク層１０３、５ｎｍのＮｉ−５０ａｔ％Ｔｉ下地層１０４を形成し、２２０℃まで基板加熱を行った。その後、１０ｎｍのＣｒ−５ａｔ％Ｔｉ下地層１０５、３ｎｍのＭｎＯ下地層１０６を形成し、再度、４８０−６４０℃まで基板加熱を行った後、１５ｎｍの（Ｆｅ−４７ａｔ％Ｐｔ−３ａｔ％Ｃｕ）−５０ａｔ％Ｃ磁性層１０７、５ｎｍのＣｏ−２０ａｔ％Ｃｒ−１６ａｔ％Ｐｔ−１０ａｔ％Ｂキャップ層１０８を形成した。更に、保護膜として３．２ｎｍのＤＬＣ膜１０９を形成した。ここで、ＭｎＯ下地層は、ＭｎターゲットをＡｒと酸素の混合ガス雰囲気中でＤＣ放電させることによって形成した。また、比較例として、ＭｎＯ下地層の代わりに３ｎｍのＭｇＯ下地層を形成した媒体を作製した。
本実施例媒体のＸ線回折測定を行ったところ、全ての媒体の磁性層からは、Ｌ１０−ＦｅＰｔ（００１）ピークと、Ｌ１０−ＦｅＰｔ（００２）ピークとＦＣＣ−ＦｅＰｔ（２００）ピークの混合ピークのみが観察された。よって、磁性層中のＦｅＰｔ合金は、エピタキシャル成長により良好な（００１）配向をとっていると考えられる。図２に、上記（００１）ピークの積分強度と、（００２）ピークと（２００）ピークの混合ピークの積分強度の比率を、基板温度の関数としてプロットした。尚、上記積分強度比は、磁性層中のＬ１０−ＦｅＰｔ合金の規則度を表す指標であり、この値が高い程、規則度が良好であることを示している。尚、同図には比較のため、ＭｇＯ下地層を形成した比較例媒体の値も示してある。積分強度比は、実施例媒体、比較例媒体共に基板温度の増加に伴って増大しているが、基板温度に依らず実施例媒体が０．１５−０．２５程度高い値を示した。このことは、実施例媒体の方が、磁性層中のＬ１０−ＦｅＰｔ合金がより良好な規則度をとっていることを表している。
図３に実施例媒体、及び比較例媒体の保磁力Ｈｃの基板温度依存性を示す。尚、ＨｃはＰＰＭＳを用いて、７Ｔの最大磁界を印加して室温で測定したループから見積もった。Ｈｃは、実施例媒体、比較例媒体共に基板温度の増加に伴って増大しているが、基板温度によらず実施例媒体が３−５ｋＯｅ程度高い値を示している。特に基板温度を６００℃以上で作製した実施例媒体は、３０ｋＯｅ以上の高いＨｃを示した。以上より、ＭｇＯの代わりにＭｎＯ下地層を使用することにより、規則度が改善され、よりＨｃの高い熱アシスト媒体が得られることがわかった。
（実施例２）
実施例１と同様な膜構成で、Ｃｒ−５ａｔ％下地層とＭｎＯ下地層の間に、応力導入層として、５ｎｍのＭｏ−２０ａｔ％Ｃｒ（実施例２．１）、Ｗ−２０ａｔ％Ｖ（実施例２．２）、Ｔａ−５０ａｔ％Ｍｏ（実施例２．３）、Ｎｂ−５０ａｔ％Ｗ（実施例２．４）、Ｍｏ（実施例２．５）、Ｗ（実施例２．６）、Ｔａ（実施例２．７）、Ｎｂ（実施例２．８）を形成した。ここで、ＭｎＯ下地層形成後の基板加熱温度は、５６０℃とした。
実施例１と同様な膜構成で、Ｃｒ−５ａｔ％下地層とＭｎＯ下地層の間に、応力導入層として、５ｎｍのＭｏ−２０ａｔ％Ｃｒ（実施例２．１）、Ｗ−２０ａｔ％Ｖ（実施例２．２）、Ｔａ−５０ａｔ％Ｍｏ（実施例２．３）、Ｎｂ−５０ａｔ％Ｗ（実施例２．４）、Ｍｏ（実施例２．５）、Ｗ（実施例２．６）、Ｔａ（実施例２．７）、Ｎｂ（実施例２．８）を形成した。ここで、ＭｎＯ下地層形成後の基板加熱温度は、５６０℃とした。
本実施例媒体のＸ線回折測定を行ったところ、全ての媒体の磁性層からは、Ｌ１０−ＦｅＰｔ（００１）ピークと、Ｌ１０−ＦｅＰｔ（００２）ピークとＦＣＣ−ＦｅＰｔ（２００）ピークの混合ピークのみが観察された。よって、磁性層中のＦｅＰｔ合金は、配向導入層を形成しなかった実施例１で示した媒体と同様、エピタキシャル成長により良好な（００１）配向をとっていると考えられる。
表１に、本実施例媒体の（００１）ピークの積分強度と、（００２）ピークと（２００）ピークの混合ピークの積分強度比、及びＨｃの値を示す。ここでＨｃは実施例１と同様の手法で見積もった。また、同表には実施例１で示した応力導入層を形成せず、５６０℃の基板加熱後に磁性層を形成した媒体（実施例媒体１）の値も示してある。本実施例媒体（実施例媒体２．１〜２．８）の積分強度は、応力導入層を形成していない比較例媒体よりも高く、Ｈｃも１−５ｋＯｅ程度高かった。
尚、表１には、本実施例で用いた応力導入層の格子定数も示してある。本実施例の応力導入層は５ｎｍと薄く、Ｘ線回折プロファイルにおいて明瞭な回折ピークがみられなかった為、格子定数を実験的に見積もることができなかった。よって、応力導入層の格子定数は、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｂ、Ｔａについては文献値を、Ｍｏ−２０ａｔ％Ｃｒ、Ｗ−２０ａｔ％Ｖ、Ｔａ−５０ａｔ％Ｍｏ、Ｎｂ−５０ａｔ％Ｗについては、上記文献値を用いてＶｅｇａｒｄ則により見積もった。Ｍｏ−Ｃｒ、Ｗ−Ｖ、Ｔａ−Ｍｏ、Ｎｂ−Ｗは全率固溶合金なので、Ｖｅｇａｒｄ則により格子定数を見積もることができる。格子定数が０．３１ｎｍ以上、０．３２ｎｍ未満である実施例媒体２．２、実施例媒体２．５、実施例媒体２．６が、特に積分強度比が高く、高いＨｃを示した。これは、ＭｎＯ下地層を介して磁性層中のＦｅＰｔ合金に適度な引っ張り応力が導入された結果と考えられる。格子定数を０．３２ｎｍ以上に増加させた実施例媒体２．３、実施例媒体２．４、実施例媒体２．７、実施例媒体２．８の積分強度比がやや低くなっているのは、格子ミスフィットが増大したためと考えられる。但し、これらの媒体でも応力導入層を形成しない実施例媒体１に比べると積分強度比が高く、磁性層中のＬ１０−ＦｅＰｔ合金の規則度が良好であることがわかる。以上より、ＭｎＯ下地層を、格子定数が０．３ｎｍ以上のＢＣＣ金属、もしくはＢＣＣ合金からなる応力導入層の上に形成することにより、磁性層中のＦｅＰｔ合金の規則度が更に改善され、高いＨｃを示す熱アシスト媒体が得られることがわかった。また、応力導入層の格子定数を０．３１ｎｍ以上、０．３２ｎｍ未満とすることにより、特に規則度が改善され、Ｈｃを更に高められることがわかった。
（実施例３）
図４に本実施例で作製した磁気記録媒体の層構成の一例を示す。本実施例では、ガラス基板４０１上に、５ｎｍのＣｒ−５０ａｔ％Ｔｉ接着層４０２、４０ｎｍのＡｇ−３ａｔ％Ｐｄヒートシンク層４０３、２０ｎｍのＦｅ−８ａｔ％Ｔａ−１２ａｔ％Ｃ軟磁性下地層４０４、５ｎｍのＣｏ−５０ａｔ％Ｔｉ下地層４０５を形成したのち、２２０℃の基板加熱を行った。その後、１０ｎｍのＣｒ−１５ａｔ％Ｍｎ下地層４０６、２ｎｍのＭｇＯ下地層４０７、２ｎｍのＭｎＯ下地層４０８を形成し、６００℃の基板加熱を行った。その後、１０ｎｍの（Ｆｅ−５０ａｔ％Ｐｔ）−１２ｍｏｌ％ＳｉＯ２−８ｍｏｌ％ＴｉＯ２磁性層４０９を形成し、更に４ｎｍのＣｏ−１２ａｔ％Ｃｒ−１８ａｔ％Ｐｔキャップ層４１０、ＤＬＣ保護膜４１１を形成した。ここで、ＭｎＯ下地層は、ＭｎＯ複合ターゲットを用いてＲＦスパッタにより形成した。また、比較例として、ＭｎＯ下地層を形成しない媒体を作製した。
図４に本実施例で作製した磁気記録媒体の層構成の一例を示す。本実施例では、ガラス基板４０１上に、５ｎｍのＣｒ−５０ａｔ％Ｔｉ接着層４０２、４０ｎｍのＡｇ−３ａｔ％Ｐｄヒートシンク層４０３、２０ｎｍのＦｅ−８ａｔ％Ｔａ−１２ａｔ％Ｃ軟磁性下地層４０４、５ｎｍのＣｏ−５０ａｔ％Ｔｉ下地層４０５を形成したのち、２２０℃の基板加熱を行った。その後、１０ｎｍのＣｒ−１５ａｔ％Ｍｎ下地層４０６、２ｎｍのＭｇＯ下地層４０７、２ｎｍのＭｎＯ下地層４０８を形成し、６００℃の基板加熱を行った。その後、１０ｎｍの（Ｆｅ−５０ａｔ％Ｐｔ）−１２ｍｏｌ％ＳｉＯ２−８ｍｏｌ％ＴｉＯ２磁性層４０９を形成し、更に４ｎｍのＣｏ−１２ａｔ％Ｃｒ−１８ａｔ％Ｐｔキャップ層４１０、ＤＬＣ保護膜４１１を形成した。ここで、ＭｎＯ下地層は、ＭｎＯ複合ターゲットを用いてＲＦスパッタにより形成した。また、比較例として、ＭｎＯ下地層を形成しない媒体を作製した。
本実施例媒体のＸ線回折測定を行ったところ、全ての媒体の磁性層からは、Ｌ１０−ＦｅＰｔ（００１）ピークと、Ｌ１０−ＦｅＰｔ（００２）ピークとＦＣＣ−ＦｅＰｔ（２００）ピークの混合ピークのみが観察された。後者の混合ピークの積分強度に対する前者のピークの積分強度比は、２．０１であった。一方、ＭｎＯを形成しなかった比較例媒体の積分強度比は１．６７であった。
表２に本実施例媒体、及び比較例媒体の保磁力Ｈｃ、及び保磁力分散ΔＨｃ／Ｈｃの値を示す。ここで、ΔＨｃ／Ｈｃは、「ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ． Ｍａｇｎ．， ｖｏｌ．２７， ｐｐ４９７５−４９７７， １９９１」に記載の方法で測定した。具体的には、７Ｔの最大磁界を印加して室温で測定したメジャーループ、及びマイナーループにおいて、磁化の値が飽和値の５０％となるときの磁界を測定し、両者の差分から、Ｈｃ分布がガウス分布であると仮定してΔＨｃ／Ｈｃを算出した。ΔＨｃ／Ｈｃは、反転磁界分散に相当するパラメーターであり、この値が低いほど、高い媒体ＳＮＲが得られるため、望ましい。ＭｎＯ下地層を形成した本実施例媒体は、比較例媒体に比べてＨｃが６．８ｋＯｅ高く、ΔＨｃ／Ｈｃは１６％程度低い値を示した。これは上述のように規則度が改善されたためと考えられる。以上より、ＭｎＯ下地層をＭｇＯ下地層上に形成することにより、Ｈｃが高く、かつ、Ｈｃ分散が低い熱アシスト媒体が得られることがわかった。
尚、本実施例媒体のＭｇＯ下地層の直下に実施例２で示した応力導入層を導入した場合でも、磁性層の規則度が改善され、Ｈｃが１〜５ｋＯｅ程度向上した。
尚、本実施例媒体のＭｇＯ下地層の直下に実施例２で示した応力導入層を導入した場合でも、磁性層の規則度が改善され、Ｈｃが１〜５ｋＯｅ程度向上した。
（実施例４）
実施例３と同一層構成で、ＭｇＯ下地層の直下の下地層として、Ｃｒ−５ａｔ％Ｔｉ（実施例４．１）、Ｃｒ−２０ａｔ％Ｖ（実施例４．２）、Ｃｒ−１２ａｔ％Ｍｏ（実施例４．３）、Ｃｒ−１０ａｔ％Ｗ（実施例４．４）、Ｃｒ−１０ａｔ％Ｍｎ（実施例４．５）、Ｃｒ−２ａｔ％Ｒｕ（実施例４．６）、Ｃｒ−５ａｔ％Ｔｉ−２ａｔ％Ｂ（実施例４．７）、Ｃｒ−５ａｔ％Ｍｏ−２ａｔ％Ｃ（実施例４．９）、Ｃｒ−５ａｔ％Ｍｎ−２ａｔ％Ｂ（実施例４．８）、Ｃｒ−５ａｔ％Ｒｕ−２ａｔ％Ｃ（実施例４．１０）下地層を形成した媒体を作製した。
実施例３と同一層構成で、ＭｇＯ下地層の直下の下地層として、Ｃｒ−５ａｔ％Ｔｉ（実施例４．１）、Ｃｒ−２０ａｔ％Ｖ（実施例４．２）、Ｃｒ−１２ａｔ％Ｍｏ（実施例４．３）、Ｃｒ−１０ａｔ％Ｗ（実施例４．４）、Ｃｒ−１０ａｔ％Ｍｎ（実施例４．５）、Ｃｒ−２ａｔ％Ｒｕ（実施例４．６）、Ｃｒ−５ａｔ％Ｔｉ−２ａｔ％Ｂ（実施例４．７）、Ｃｒ−５ａｔ％Ｍｏ−２ａｔ％Ｃ（実施例４．９）、Ｃｒ−５ａｔ％Ｍｎ−２ａｔ％Ｂ（実施例４．８）、Ｃｒ−５ａｔ％Ｒｕ−２ａｔ％Ｃ（実施例４．１０）下地層を形成した媒体を作製した。
本実施例媒体のＸ線回折測定を行ったところ、全ての媒体の磁性層からは、Ｌ１０−ＦｅＰｔ（００１）ピークと、Ｌ１０−ＦｅＰｔ（００２）ピークとＦＣＣ−ＦｅＰｔ（２００）ピークの混合ピークのみが観察された。後者の混合ピークの積分強度に対する前者のピークの積分強度比は、全ての実施例媒体について２以上であった。以上より、本実施例媒体の磁性層中のＦｅＰｔ合金は、良好な（００１）配向をとっており、かつ良好なＬ１０規則度を有していることがわかった。
表３に本実施例媒体のＨｃ、及びΔＨｃ／Ｈｃを示す。Ｃｒ−１２ａｔ％Ｍｏ、Ｃｒ−１０ａｔ％Ｗ下地層を用いた媒体が特に高いＨｃを示した。また、Ｂ、もしくはＣを添加したＣｒ−５ａｔ％Ｔｉ−２ａｔ％Ｂ、Ｃｒ−５ａｔ％Ｍｏ−２ａｔ％Ｃ、Ｃｒ−５ａｔ％Ｍｎ−２ａｔ％Ｂ、Ｃｒ−５ａｔ％Ｒｕ−２ａｔ％Ｃ下地層を用いた媒体が特に低いΔＨｃ／Ｈｃを示しており、下地層へのＢ添加、Ｃ添加がＨｃ分散低減に効果的であることがわかった。
（実施例５）
実施例３で示した媒体（実施例媒体３、比較例媒体３）、及び実施例４で示した媒体（実施例媒体４．１〜４．１０）にパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を塗布したのち、図５に示した磁気記憶装置に組み込んだ。本磁気記憶装置は、磁気記録媒体５０１と、磁気記録媒体を回転させるための駆動部５０２と、磁気ヘッド５０３と、ヘッドを移動させるための駆動部５０４と、記録再生信号処理系５０５から構成される。図６に磁気ヘッドの詳細を示す。ヘッドは、主磁極６０１、補助磁極６０２、磁界を発生させるためのコイル６0３、レーザーダイオードＬＤ６０４、ＬＤから発生したレーザー光６０５を近接場発生素子６０６まで伝達するための導波路６０７から構成される記録ヘッド６０８、及びシールド６０９で挟まれた再生素子６１０から構成される再生ヘッド６１１からなる。近接場光素子から発生した近接場光により媒体５０１を加熱し、媒体の保磁力をヘッド磁界以下まで低下させて記録できる。
実施例３で示した媒体（実施例媒体３、比較例媒体３）、及び実施例４で示した媒体（実施例媒体４．１〜４．１０）にパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を塗布したのち、図５に示した磁気記憶装置に組み込んだ。本磁気記憶装置は、磁気記録媒体５０１と、磁気記録媒体を回転させるための駆動部５０２と、磁気ヘッド５０３と、ヘッドを移動させるための駆動部５０４と、記録再生信号処理系５０５から構成される。図６に磁気ヘッドの詳細を示す。ヘッドは、主磁極６０１、補助磁極６０２、磁界を発生させるためのコイル６0３、レーザーダイオードＬＤ６０４、ＬＤから発生したレーザー光６０５を近接場発生素子６０６まで伝達するための導波路６０７から構成される記録ヘッド６０８、及びシールド６０９で挟まれた再生素子６１０から構成される再生ヘッド６１１からなる。近接場光素子から発生した近接場光により媒体５０１を加熱し、媒体の保磁力をヘッド磁界以下まで低下させて記録できる。
表４に１２００ｋＦＣＩの信号を記録し、記録再生特性を評価したときのＳＮＲとオーバーライト特性ＯＷを示す。ここで、記録時のＬＤパワーは、トラックプロファイルの半値幅と定義した記録トラック幅が７０ｎｍとなるように調整した。実施例媒体３、及び実施例媒体４．１〜４．１０はいずれも１６ｄＢ以上の高いＳＮＲと、３０ｄＢ以上の高いＯＷを示した。一方、比較例媒体３は、前記媒体に比べてＳＮＲが２ｄＢ以上低く、ＯＷも３０ｄＢ以下であった。以上より、ＭｇＯ下地層上にＭｎＯ下地層を積層することにより、ＳＮＲが高く、良好なＯＷ特性を示す熱アシスト媒体が得られることがわかった。
実施例媒体４．１〜４．１０の中でも、ΔＨｃ／Ｈｃが特に小さかった実施例媒体４．７〜実施例媒体４．１０が１６．７ｄＢ以上の高いＳＮＲを示した。また、実施例媒体４．１、実施例媒体４．５が特に高いＯＷ特性を示した。よって、ＯＷ特性を上げる場合は、ＭｎＯ下地層の直下にＣｒＴｉ下地層、もしくはＣｒＭｎ下地層を形成することが望ましいことがわかった。
１０１…ガラス基板
１０２…ＮｉＴａ接着層
１０３…ＣｕＺｒヒートシンク層
１０４…ＮｉＴｉ下地層
１０５…ＣｒＴｉ下地層
１０６…ＭｎＯ下地層
１０７…磁性層
１０８…キャップ層
１０９…ＤＬＣ保護膜
４０１…ガラス基板
４０２…ＣｒＴｉ接着層
４０３…ＡｇＰｄヒートシンク層
４０４…軟磁性下地層
４０５…ＣｏＴｉ下地層
４０６…ＣｒＭｎ下地層
４０７…ＭｇＯ下地層
４０８…ＭｎＯ下地層
４０９…磁性層
４１０…キャップ層
４１１…ＤＬＣ保護膜
５０１…磁気記録媒体
５０２…媒体駆動部
５０３…磁気ヘッド
５０４…ヘッド駆動部
５０５…記録再生信号処理系
６０１…主磁極
６０２…補助磁極
６０３…コイル
６０４…半導体レーザーダイオード
６０５…レーザー光
６０６…近接場光発生部
６０７…導波路
６０８…記録ヘッド
６０９…シールド
６１０…再生素子
６１１…再生ヘッド
１０２…ＮｉＴａ接着層
１０３…ＣｕＺｒヒートシンク層
１０４…ＮｉＴｉ下地層
１０５…ＣｒＴｉ下地層
１０６…ＭｎＯ下地層
１０７…磁性層
１０８…キャップ層
１０９…ＤＬＣ保護膜
４０１…ガラス基板
４０２…ＣｒＴｉ接着層
４０３…ＡｇＰｄヒートシンク層
４０４…軟磁性下地層
４０５…ＣｏＴｉ下地層
４０６…ＣｒＭｎ下地層
４０７…ＭｇＯ下地層
４０８…ＭｎＯ下地層
４０９…磁性層
４１０…キャップ層
４１１…ＤＬＣ保護膜
５０１…磁気記録媒体
５０２…媒体駆動部
５０３…磁気ヘッド
５０４…ヘッド駆動部
５０５…記録再生信号処理系
６０１…主磁極
６０２…補助磁極
６０３…コイル
６０４…半導体レーザーダイオード
６０５…レーザー光
６０６…近接場光発生部
６０７…導波路
６０８…記録ヘッド
６０９…シールド
６１０…再生素子
６１１…再生ヘッド
Claims (12)
- 基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、Ｌ１０構造を有する合金を主成分とする磁性層を含む磁気記録媒体において、該下地層の少なくとも一つが、ＭｎＯを含むことを特徴とする熱アシスト磁気記録媒体。
- 前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
- 前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有し、更に、Ｂ、Ｃのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
- 前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂ、もしくはこれらを含有する格子定数が０．３ｎｍ以上のＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
- 前記ＭｎＯを含む下地層が、Ｂ２構造を有するＮｉＡｌ、もしくはＲｕＡｌからなる下地層の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
- 前記ＭｎＯを含む下地層が、ＭｇＯからなる下地層の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
- 前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
- 前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｃｒ、もしくはＣｒを主成分とし、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕのうちの少なくとも１種類を含有し、更に、Ｂ、Ｃのうちの少なくとも１種類を含有したＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
- 前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂ、もしくはこれらを含有する格子定数が０．３ｎｍ以上のＢＣＣ構造を有する下地層の上に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
- 前記ＭｇＯからなる下地層が、Ｂ２構造を有するＮｉＡｌ、もしくはＲｕＡｌからなる下地層の上に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
- 磁性層がＬ１０構造を有するＦｅＰｔ、もしくはＣｏＰｔ合金を主成分とし、かつ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｎＯ、ＴｉＯ、ＺｎＯ、Ｃから選択される少なくとも一種類の酸化物、もしくは元素を含有していることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
- 磁気記録媒体と、該磁気記録媒体を回転させるための駆動部と、該磁気記録媒体を加熱するためのレーザー発生部と、該レーザー発生部から発生したレーザー光をヘッド先端まで導く導波路と、ヘッド先端に取り付けられた近接場光発生部を備えた磁気ヘッドと、該磁気ヘッドを移動させるための駆動部と、記録再生信号処理系から構成さる磁気記憶装置において、該磁気記録媒体が請求項１乃至１１の何れか１項に記載の熱アシスト媒体であることを特徴とする磁気記憶装置。
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