JP2012146951A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012146951A5 JP2012146951A5 JP2011223208A JP2011223208A JP2012146951A5 JP 2012146951 A5 JP2012146951 A5 JP 2012146951A5 JP 2011223208 A JP2011223208 A JP 2011223208A JP 2011223208 A JP2011223208 A JP 2011223208A JP 2012146951 A5 JP2012146951 A5 JP 2012146951A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- liquid
- processing
- volatile
- supplying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 94
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 83
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 12
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011223208A JP5712101B2 (ja) | 2010-12-24 | 2011-10-07 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
| KR1020110118816A KR101601341B1 (ko) | 2010-12-24 | 2011-11-15 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
| TW100142271A TWI548467B (zh) | 2010-12-24 | 2011-11-18 | 基板處理方法及基板處理裝置 |
| US13/332,652 US8978671B2 (en) | 2010-12-24 | 2011-12-21 | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| KR1020160016384A KR101864001B1 (ko) | 2010-12-24 | 2016-02-12 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010288614 | 2010-12-24 | ||
| JP2010288614 | 2010-12-24 | ||
| JP2011223208A JP5712101B2 (ja) | 2010-12-24 | 2011-10-07 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012146951A JP2012146951A (ja) | 2012-08-02 |
| JP2012146951A5 true JP2012146951A5 (enExample) | 2013-11-28 |
| JP5712101B2 JP5712101B2 (ja) | 2015-05-07 |
Family
ID=46317714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011223208A Active JP5712101B2 (ja) | 2010-12-24 | 2011-10-07 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8978671B2 (enExample) |
| JP (1) | JP5712101B2 (enExample) |
| KR (2) | KR101601341B1 (enExample) |
| TW (1) | TWI548467B (enExample) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101596750B1 (ko) * | 2010-06-23 | 2016-02-23 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 방법, 이 기판 처리 방법을 실행하기 위한 컴퓨터 프로그램이 기록된 기록 매체 및 기판 처리 장치 |
| JP5632860B2 (ja) * | 2012-01-05 | 2014-11-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び基板洗浄用記憶媒体 |
| TWI626701B (zh) * | 2014-02-27 | 2018-06-11 | 斯克林集團公司 | 基板處理裝置及基板處理方法 |
| US9460944B2 (en) * | 2014-07-02 | 2016-10-04 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate treating apparatus and method of treating substrate |
| JP6588819B2 (ja) | 2015-12-24 | 2019-10-09 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP6820736B2 (ja) * | 2016-12-27 | 2021-01-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
| JP6818607B2 (ja) * | 2017-03-27 | 2021-01-20 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
| JP7379042B2 (ja) * | 2019-09-20 | 2023-11-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空搬送装置および真空搬送装置の制御方法 |
| CN116529855A (zh) | 2020-11-16 | 2023-08-01 | 东京毅力科创株式会社 | 基片处理方法、基片处理装置和计算机可读取的存储介质 |
| KR102707901B1 (ko) * | 2022-08-09 | 2024-09-19 | 세메스 주식회사 | 처리액 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002009035A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-01-11 | Toshiba Corp | 基板洗浄方法及び基板洗浄装置 |
| JP2005166957A (ja) * | 2003-12-02 | 2005-06-23 | Ses Co Ltd | 基板処理法及び基板処理装置 |
| JP4732918B2 (ja) | 2006-02-21 | 2011-07-27 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
| JP2007227764A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板表面処理装置、基板表面処理方法および基板処理装置 |
| JP4791905B2 (ja) * | 2006-08-04 | 2011-10-12 | パナソニック株式会社 | 基板洗浄方法 |
| JP4960075B2 (ja) * | 2006-12-18 | 2012-06-27 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
| TWI490930B (zh) * | 2007-05-23 | 2015-07-01 | Semes Co Ltd | 乾燥基板的裝置及方法 |
| JP2009200193A (ja) * | 2008-02-21 | 2009-09-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| KR101005889B1 (ko) | 2008-10-28 | 2011-01-06 | 세메스 주식회사 | 구리 패턴이 노출된 기판을 건조하는 방법 및 이를 이용하는 금속 배선 형성 방법 |
-
2011
- 2011-10-07 JP JP2011223208A patent/JP5712101B2/ja active Active
- 2011-11-15 KR KR1020110118816A patent/KR101601341B1/ko active Active
- 2011-11-18 TW TW100142271A patent/TWI548467B/zh active
- 2011-12-21 US US13/332,652 patent/US8978671B2/en active Active
-
2016
- 2016-02-12 KR KR1020160016384A patent/KR101864001B1/ko not_active Ceased
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2012146951A5 (enExample) | ||
| JP2014165252A5 (enExample) | ||
| JP2015082525A5 (enExample) | ||
| JP2016072613A5 (enExample) | ||
| JP2014107313A5 (enExample) | ||
| JP2015092538A5 (enExample) | ||
| JP2015109419A5 (enExample) | ||
| JP2012044204A5 (ja) | メンテナンス方法、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
| JP2015193864A5 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | |
| CN102897759A (zh) | 一种大尺寸石墨烯的无损转移方法 | |
| JP2017010940A5 (ja) | グラフェン化合物シートの形成方法 | |
| KR20180084642A (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 | |
| JP2016051864A5 (enExample) | ||
| WO2012096483A3 (en) | Operating method for clothes treating apparatus | |
| JP2017168496A5 (enExample) | ||
| JP2016152370A5 (enExample) | ||
| JP2016131210A5 (enExample) | ||
| JP2014093449A5 (enExample) | ||
| JP2015092537A5 (enExample) | ||
| JP2016044361A5 (enExample) | ||
| JP2015216224A5 (enExample) | ||
| CN103730331A (zh) | 干燥方法及干燥装置 | |
| JP2011082200A5 (enExample) | ||
| JP2013077843A5 (enExample) | ||
| JP2013062435A5 (enExample) |