JP2013077843A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013077843A5
JP2013077843A5 JP2013006141A JP2013006141A JP2013077843A5 JP 2013077843 A5 JP2013077843 A5 JP 2013077843A5 JP 2013006141 A JP2013006141 A JP 2013006141A JP 2013006141 A JP2013006141 A JP 2013006141A JP 2013077843 A5 JP2013077843 A5 JP 2013077843A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
temperature
processed
etching solution
processing chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013006141A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2013077843A (ja
JP5552653B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013006141A priority Critical patent/JP5552653B2/ja
Priority claimed from JP2013006141A external-priority patent/JP5552653B2/ja
Publication of JP2013077843A publication Critical patent/JP2013077843A/ja
Publication of JP2013077843A5 publication Critical patent/JP2013077843A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5552653B2 publication Critical patent/JP5552653B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2013006141A 2013-01-17 2013-01-17 基板の処理装置および基板の処理方法 Expired - Fee Related JP5552653B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013006141A JP5552653B2 (ja) 2013-01-17 2013-01-17 基板の処理装置および基板の処理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013006141A JP5552653B2 (ja) 2013-01-17 2013-01-17 基板の処理装置および基板の処理方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010212632A Division JP5238782B2 (ja) 2010-09-22 2010-09-22 基板の処理装置および基板の処理方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013077843A JP2013077843A (ja) 2013-04-25
JP2013077843A5 true JP2013077843A5 (enExample) 2013-06-06
JP5552653B2 JP5552653B2 (ja) 2014-07-16

Family

ID=48481054

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013006141A Expired - Fee Related JP5552653B2 (ja) 2013-01-17 2013-01-17 基板の処理装置および基板の処理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5552653B2 (enExample)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6473592B2 (ja) * 2014-09-29 2019-02-20 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
US9966282B2 (en) * 2014-09-30 2018-05-08 Shibaura Mechatronics Corporation Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP6654534B2 (ja) 2016-09-15 2020-02-26 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
CN110383428B (zh) 2017-03-10 2023-04-04 三菱电机株式会社 半导体制造装置以及半导体制造方法
JP7412990B2 (ja) * 2019-12-04 2024-01-15 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、および基板処理方法
CN114420552B (zh) * 2021-12-31 2025-10-03 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 一种基于流场控制的高温蚀刻方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0774140A (ja) * 1993-09-02 1995-03-17 Toshiba Corp 半導体装置の製造装置
JP2000119874A (ja) * 1998-10-07 2000-04-25 Toshiba Corp 基板処理装置
JP2006165372A (ja) * 2004-12-09 2006-06-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 枚葉式洗浄装置および洗浄方法
JP2006344907A (ja) * 2005-06-10 2006-12-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法および基板処理装置
JP5173502B2 (ja) * 2008-03-14 2013-04-03 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置および基板処理方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013077843A5 (enExample)
JP5238782B2 (ja) 基板の処理装置および基板の処理方法
JP2017010940A5 (ja) グラフェン化合物シートの形成方法
JP2012146951A5 (enExample)
WO2012134148A3 (en) Controlling method for clothes dryer
WO2012096483A3 (en) Operating method for clothes treating apparatus
WO2016204143A1 (ja) 基板処理システム及び基板処理方法
JP2012138500A5 (enExample)
JP2017512379A5 (enExample)
WO2012134149A3 (en) Clothes treating apparatus having heat exchanger cleaning device
JP2014063972A5 (enExample)
JP2012204806A5 (ja) パターン形成方法、処理容器内の部材の温度制御方法、基板処理システム、フォーカスリングの温度制御方法及び基板のエッチング方法
JP2016072613A5 (enExample)
JP2014522574A5 (enExample)
MX360692B (es) Dispositivo de secado de recubrimiento y método de secado de recubrimiento.
WO2009020327A3 (en) Clothes treating apparatus and controlling method thereof
JP5552653B2 (ja) 基板の処理装置および基板の処理方法
JP2006210948A5 (enExample)
JP2017056070A5 (enExample)
JP2019010683A5 (enExample)
CN202692619U (zh) 一种酸洗线铜带表面干燥装置
JP2017219231A (ja) 水・空気接触型空気調和機の制御方法、水・空気接触型空気調和機、水・空気接触型空気調和機の制御器、水・空気接触型空気調和機の制御プログラム
JP2012231001A5 (enExample)
KR101099737B1 (ko) 고온의 약액을 공급하는 장치
CN203697633U (zh) 篷布的生产装置