JP2012033886A - 基板処理システム - Google Patents

Abstract

【課題】カラーレジスト等の塗布液を基板上に塗布する塗布処理装置を効率よく使用し、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】塗布処理装置３４は、ウェハＷ上にカラーレジストを供給するレジストノズル１５２と、塗布処理が行われる塗布部１４０とを有している。塗布部１４０は、ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック１６０と、スピンチャック１６０に保持されたウェハＷの側方を囲むように設けられたカップ１７０と、カップ１７０内で回収された廃液を貯留する廃液容器１８０とを有している。廃液容器１８０には、当該廃液容器１８０内の廃液の高さを測定するレベルセンサが設けられている。前記レベルセンサで測定された廃液の高さが所定の高さに達した場合、制御部によって、排液管１８２を介して廃液容器１８０に連通するポンプを制御して、廃液容器１８０から廃液が排出される。
【選択図】図６

Description

本発明は、基板にフォトリソグラフィ処理を行い、当該基板上に所定のパターンを形成する基板処理システムに関する。

例えばイメージセンサ等の製造におけるフォトリソグラフィ処理では、例えば半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）上にカラーレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理、当該レジスト膜に所定のパターンを露光する露光処理、露光されたレジスト膜を現像する現像処理などが順次行われ、ウェハ上に所定のカラーレジストのレジストパターンが形成される。そして、例えばカラーフィルタを製造する際には、このフォトリソグラフィ処理が、緑色（Ｇｒｅｅｎ）のカラーレジスト、赤色（Ｒｅｄ）のカラーレジスト、青色（Ｂｌｕｅ）のカラーレジストに対して行われる。

上述したフォトリソグラフィ処理は、例えば塗布現像装置と露光装置で行われる。塗布現像装置には、例えば上述したレジスト塗布処理を行う塗布ユニットや、現像処理を行う現像ユニットなどを含む液処理ユニットが多段に積層されている。また、塗布ユニットには、例えば複数の塗布部が水平方向に並べて設けられている。各塗布部は、例えばウェハを保持して回転させるスピンチャックと、スピンチャックに保持されたウェハの側方の周囲に設けられたカップと、カップの底面に設けられ、カップ内で回収された廃液を排出する排液管とを有している（特許文献１）。

特開２００６−２２９１８３号公報

ここで、特許文献１の塗布現像装置では、塗布ユニットの下層に別の液処理ユニットが配置されているため、上述した排液管は、カップの底面から塗布ユニットの外部までほぼ水平に延伸する。このため、カップ内に回収されたカラーレジストなどの廃液は、排液管内を流れ難い。しかも、カラーレジストは、そのレジスト成分が溶剤に溶解し難く、固化し易い性質を有するため、カップ内や排液管内に詰まり易くなる。その結果、塗布ユニットを頻繁にメンテナンスする必要があった。そして、このメンテナンス時には塗布ユニットを使用することができないため、ウェハ処理のスループット向上の妨げとなっていた。

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、カラーレジスト等の塗布液を基板上に塗布する塗布処理装置を効率よく使用し、基板処理のスループットを向上させることを目的とする。

前記の目的を達成するため、本発明は、基板にフォトリソグラフィ処理を行い、当該基板上に所定のパターンを形成する基板処理システムにおいて、基板上に塗布液を塗布する塗布処理装置を含む基板の処理装置が鉛直方向に複数段に積層され、前記塗布処理装置には、基板を保持して回転させる回転保持部と、前記回転保持部に保持された基板上に塗布液を供給する塗布液ノズルと、前記回転保持部に保持された基板の側方を囲むように設けられたカップと、前記カップ内で回収された廃液を貯留する廃液貯留部と、前記廃液貯留部内の廃液の高さを測定するレベルセンサと、前記レベルセンサで測定された廃液の高さが所定の高さに達した場合、前記廃液貯留部から廃液を排出させるように、排液管を介して前記廃液貯留部に連通するポンプを制御する制御部と、が設けられていることを特徴としている。なお、所定の高さとは、廃液貯留部内において廃液が固化せず、排液管内を廃液が円滑に流れる高さである。

本発明によれば、塗布液ノズルから回転保持部に保持された基板上に塗布液が供給され、回転中の基板上に塗布液が塗布される。このとき、基板から飛散する塗布液はカップ内に回収される。そして、このようにカップ内で回収された廃液は、廃液貯留部内に一旦貯留された後、ポンプにより排液管を介して廃液貯留部から排出される。このように廃液は強制的に排出されるため、塗布液がカラーレジストのように固化し易いものであっても、従来のようにカップ内や排液管内に廃液が詰まることない。また、レベルセンサによって廃液の高さを測定し、その高さが所定の高さに達した場合に廃液貯留部から廃液を排出しているので、当該廃液貯留部内において廃液が固化せず、廃液は排液管内を円滑に流れる。以上のように、本発明によれば、廃液を円滑に排出することができるため、塗布処理装置のメンテナンス頻度が減少する。したがって、塗布処理装置を効率よく使用することができ、基板処理のスループットを向上させることができる。

前記排液管は、前記カップと前記ポンプとを接続し、前記廃液貯留部は、前記排液管に設けられた廃液容器であってもよい。

前記制御部は、レベルセンサで測定された廃液の高さに基づいて、前記廃液貯留部から廃液がオーバーフローしないように、前記カップからの廃液の排出を制御してもよい。

前記廃液容器の内部には、前記廃液が前記排液管に向かって流通する廃液流路が形成されていてもよい。

前記廃液容器の内部には、前記廃液流路と前記排液管に接続され、当該廃液流路からの廃液を一時的に溜める貯液部が設けられていてもよい。

また、前記廃液貯留部は、前記カップ自体であってもよい。

前記カップの下部には、環状の気液分離部が形成され、前記気液分離部は、前記排液管が接続され且つ前記廃液貯留部として機能する外側領域と、前記カップ内を排気する排気管が接続された内側領域とに区画され、前記外側領域には、常時所定の高さの廃液が貯留されていてもよい。

前記制御部は、レベルセンサで測定された廃液の高さに基づいて、前記廃液貯留部から廃液がオーバーフローしないように、前記塗布液ノズルを制御してもよい。

前記廃液貯留部は、前記カップ内で回収された廃液に加えて、前記塗布処理装置の内部であって前記カップ外で回収された廃液を貯留してもよい。

前記カップ内の廃液を排出する排出口には、当該廃液を通過させるためのフィルタが設けられ、前記フィルタは、本体部と当該本体部から突起した突起部とを有し、前記本体部と前記突起部には、前記廃液が通過する貫通孔がそれぞれ形成されていてもよい。

前記塗布処理装置の下層には、当該塗布処理装置から排出された廃液を回収する廃液回収装置が設けられ、廃液回収装置は、前記排液管に接続された廃液回収部を有し、前記排液管は、前記カップから鉛直下方に延伸する鉛直配管と、前記鉛直配管から前記廃液回収部に所定の角度で傾斜して延伸する傾斜配管とを有していてもよい。

前記カップの内部にリンス液を供給し、当該カップの内部を洗浄する際、前記制御部は、前記ポンプを制御して前記リンス液を前記排液管に供給し、当該排液管を洗浄してもよい。

前記塗布液ノズルに塗布液を供給する塗布液供給装置を有し、前記塗布液供給装置は、内部に塗布液を貯留する塗布液供給源と、前記塗布液供給源から前記塗布液ノズルに塗布液を供給するための塗布液供給管と、前記塗布液供給管に設けられ、前記塗布液供給源から前記塗布液ノズルに塗布液を圧送するためのポンプと、前記ポンプより前記塗布液ノズル側の前記塗布液供給管に設けられ、前記塗布液ノズルへの塗布液の供給を制御するバルブと、前記ポンプと前記バルブとの間の前記塗布液供給管に設けられ、当該塗布液供給管に塗布液の溶剤を供給し、前記バルブを洗浄する洗浄機構と、を有していてもよい。なお、塗布液の溶剤とは、当該塗布液を溶解させる溶剤をいう。

前記洗浄機構は、前記塗布液供給管と、前記溶剤を供給する洗浄媒体供給管とに接続された三方バルブを有し、前記三方バルブには、前記溶剤の流れを制御するダイヤフラムが前記洗浄媒体供給管側に設けられていてもよい。

前記塗布液ノズルは複数設けられ、当該複数の塗布液ノズルに対応して、前記塗布液供給管、前記バルブ及び前記三方バルブも複数設けられ、前記洗浄媒体供給管は分岐して前記複数の三方バルブに接続されていてもよい。

前記溶剤には、第１の溶剤と第２の溶剤の２種類の溶剤が用いられ、前記洗浄媒体供給管には、前記第１の溶剤を貯留する第１の溶剤供給源と、前記第２の溶剤を貯留する第２の溶剤供給源とが接続されていてもよい。

前記洗浄機構は、前記塗布液供給管に空気を供給し、前記バルブを洗浄してもよい。

本発明によれば、カラーレジスト等の塗布液を基板上に塗布する塗布処理装置を効率よく使用し、基板処理のスループットを向上させることができる。

本実施の形態にかかる塗布現像処理システムの内部構成の概略を示す平面図である。 塗布現像処理システムの内部構成の概略を示す側面図である。 塗布現像処理システムの内部構成の概略を示す側面図である。 塗布処理装置の構成の概略を示す縦断面図である。 塗布処理装置の構成の概略を示す横断面図である。 塗布部の構成の概略を示す縦断面図である。 廃液容器の構成の概略を示す斜視図である。 廃液容器の構成の概略を示す側面図である。 廃液容器の構成の概略を示す側面図である。 塗布処理装置と廃液回収装置の構成の概略を示す縦断面図である。 レジスト供給装置の構成の概略を示す説明図である。 洗浄機構の三方バルブの構成の概略を示す説明図である。 他の実施の形態にかかる塗布現像処理システムの内部構成の概略を示す側面図である。 他の実施の形態にかかる塗布部の構成の概略を示す縦断面図である。 他の実施の形態にかかるレジスト供給装置の構成の概略を示す説明図である。 他の実施の形態にかかる塗布部の一部の構成の概略を示す縦断面図である。 他の実施の形態にかかる塗布処理装置の構成の概略を示す縦断面図である。 他の実施の形態にかかる廃液容器の構成の概略を示す斜視図である。 他の実施の形態にかかる廃液容器の構成の概略を示す横断面図である。 他の実施の形態にかかる廃液容器の構成の概略を示す縦断面図である。 他の実施の形態にかかる廃液容器の構成の概略を示す縦断面図である。 他の実施の形態にかかる塗布部の一部の構成の概略を示す縦断面図である。 フィルタの構成の概略を示す平面図である。

以下、本発明の実施の形態について説明する。図１は、本発明にかかる基板処理システムとしての塗布現像処理システム１の内部構成の概略を示す平面図である。図２及び図３は、塗布現像処理システム１の内部構成の概略を示す側面図である。

塗布現像処理システム１は、図１に示すように例えば外部との間で複数枚のウェハＷを収容したカセットＣが搬入出されるカセットステーション２と、フォトリソグラフィ処理の中で枚葉式に所定の処理を施す複数の各種処理装置を備えた処理ステーション３と、処理ステーション３に隣接する露光装置４との間でウェハＷの受け渡しを行うインターフェイスステーション５とを一体に接続した構成を有している。

カセットステーション２には、カセット載置台１０が設けられている。カセット載置台１０には、複数、例えば４つのカセット載置板１１が設けられている。カセット載置板１１は、水平方向のＸ方向（図１中の上下方向）に一列に並べて設けられている。これらのカセット載置板１１には、塗布現像処理システム１の外部に対してカセットＣを搬入出する際に、カセットＣを載置することができる。

カセットステーション２には、図１に示すようにＸ方向に延びる搬送路２０上を移動自在なウェハ搬送装置２１が設けられている。ウェハ搬送装置２１は、上下方向及び鉛直軸周り（θ方向）にも移動自在であり、各カセット載置板１１上のカセットＣと、後述する処理ステーション３の第３のブロックＧ３の受け渡し装置との間でウェハＷを搬送できる。

処理ステーション３には、各種装置を備えた複数、例えば４つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４が設けられている。例えば処理ステーション３の正面側（図１のＸ方向負方向側）には、第１のブロックＧ１が設けられ、処理ステーション３の背面側（図１のＸ方向正方向側）には、第２のブロックＧ２が設けられている。また、処理ステーション３のカセットステーション２側（図１のＹ方向負方向側）には、第３のブロックＧ３が設けられ、処理ステーション３のインターフェイスステーション５側（図１のＹ方向正方向側）には、第４のブロックＧ４が設けられている。

例えば第１のブロックＧ１には、図３に示すように複数の液処理装置が鉛直方向に積層されている。例えばウェハＷを現像処理する現像処理装置３０、３１、後述する塗布処理装置３３、３４で排出された廃液を回収する廃液回収装置３２、ウェハＷ上に塗布液としてのカラーレジストを塗布してレジスト膜を形成する塗布処理装置３３、３４が下から順に５段に重ねられている。

現像処理装置３０、３１は、処理時にウェハＷを収容するカップＦを水平方向に複数有し、複数のウェハＷを並行して処理することができる。廃液回収装置３２、塗布処理装置３３、３４の詳細な構成については後述する。

なお、第１のブロックＧ１には、ウェハＷのレジスト膜の下層に反射防止膜を形成する下部反射防止膜形成装置や、ウェハＷのレジスト膜の上層に反射防止膜を形成する上部反射防止膜形成装置等が配置されていてもよい。

例えば第２のブロックＧ２には、図２に示すようにウェハＷの熱処理を行う熱処理装置４０や、ウェハＷを疎水化処理するアドヒージョン装置４１、ウェハＷの外周部を露光する周辺露光装置４２が上下方向と水平方向に並べて設けられている。熱処理装置４０は、ウェハＷを載置して加熱する熱板と、ウェハＷを載置して冷却する冷却板を有し、加熱処理と冷却処理の両方を行うことができる。なお、熱処理装置４０、アドヒージョン装置４１及び周辺露光装置４２の数や配置は、任意に選択できる。

例えば第３のブロックＧ３には、図２及び図３に示すように複数の受け渡し装置５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６が下から順に設けられている。また、第３のブロックＧ３の最下層には、廃液回収装置３２で回収した廃液を一旦貯留し、当該廃液を塗布現像処理システム１の外部に排出するための廃液排出装置６０が配置されている。廃液排出装置６０には、廃液を一旦貯留するためのタンク（図示せず）や、廃液を排出するためのポンプ（図示せず）などが設けられている。

また、第４のブロックＧ４には、複数の受け渡し装置７０、７１、７２が下から順に設けられている。

図１に示すように第１のブロックＧ１〜第４のブロックＧ４に囲まれた領域には、ウェハ搬送領域Ｄが形成されている。ウェハ搬送領域Ｄには、例えばウェハ搬送装置８０が配置されている。

ウェハ搬送装置８０は、例えばＹ方向、Ｘ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置８０は、ウェハ搬送領域Ｄ内を移動し、周囲の第１のブロックＧ１、第２のブロックＧ２、第３のブロックＧ３及び第４のブロックＧ４内の所定の装置にウェハＷを搬送できる。

ウェハ搬送装置８０は、例えば図２に示すように上下に複数台配置され、例えば各ブロックＧ１〜Ｇ４の同程度の高さの所定の装置にウェハＷを搬送できる。

また、ウェハ搬送領域Ｄには、第３のブロックＧ３と第４のブロックＧ４との間で直線的にウェハＷを搬送するシャトル搬送装置９０が設けられている。

シャトル搬送装置９０は、例えばＹ方向に直線的に移動自在になっている。シャトル搬送装置９０は、ウェハＷを支持した状態でＹ方向に移動し、第３のブロックＧ３の受け渡し装置５２と第４のブロックＧ４の受け渡し装置７２との間でウェハＷを搬送できる。

図１に示すように第３のブロックＧ３のＸ方向正方向側の隣には、ウェハ搬送装置１００が設けられている。ウェハ搬送装置１００は、例えばＸ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置１００は、ウェハＷを支持した状態で上下に移動して、第３のブロックＧ３内の各受け渡し装置にウェハＷを搬送できる。

インターフェイスステーション５には、ウェハ搬送装置１１０と受け渡し装置１１１が設けられている。ウェハ搬送装置１１０は、例えばＹ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置１１０は、例えば搬送アームにウェハＷを支持して、第４のブロックＧ４内の各受け渡し装置、受け渡し装置１１１及び露光装置４との間でウェハＷを搬送できる。

次に、上述した上層側の塗布処理装置３４の構成について説明する。塗布処理装置３４は、図４及び図５に示すように内部を密閉することができる処理容器１３０を有している。処理容器１３０のウェハ搬送領域Ｄ側の側面には、図５に示すようにウェハＷの搬入出口１３１が例えば３箇所に形成されている。これら搬入出口１３１は、後述する塗布部１４０、１４１、１４２に対応する位置に形成されている。

処理容器１３０の内部には、例えばウェハＷ上にカラーレジストを塗布する３つの塗布部１４０、１４１、１４２が設けられている。塗布部１４０、１４１、１４２は、Ｙ方向負方向（図５の左方向）側からＹ方向正方向（図５の右方向）側にこの順で並べて配置されている。

図５に示すように塗布部１４０、１４１、１４２のＸ方向負方向（図５の下方向）側には、Ｙ方向（図５の左右方向）に沿って延伸するレール１５０が形成されている。レール１５０は、例えば塗布部１４０のＹ方向負方向（図５の左方向）側の外方から塗布部１４２のＹ方向正方向（図５の右方向）側の外方まで形成されている。レール１５０には、アーム１５１が取り付けられている。

アーム１５１には、図４及び図５に示すようにカラーレジストを吐出する、塗布液ノズルとしてのレジストノズル１５２が支持されている。アーム１５１は、図５に示すノズル駆動部１５３により、レール１５０上を移動自在である。これにより、レジストノズル１５２は、塗布部１４０のＹ方向負方向側の外方に設置された待機部１５４から各塗布部１４０、１４１、１４２内のウェハＷの中心部上方まで移動でき、さらに当該ウェハＷの表面上をウェハＷの径方向に移動できる。また、アーム１５１は、ノズル駆動部１５３によって昇降自在であり、レジストノズル１５２の高さを調節できる。レジストノズル１５２には、図６に示すように当該レジストノズル１５２にカラーレジストを供給する、塗布液供給装置としてのレジスト供給装置１５５が接続されている。

なお、待機部１５４はノズルバスであり、当該待機部１５４では、レジストノズル１５２が待機中、当該レジストノズル１５２の先端部が収容され洗浄される。このレジストノズル１５２の洗浄は、例えばリンス液、例えばシンナーなどのカラーレジストを溶解させる溶剤（以下、単に「溶剤」という。）によって行われる。また、待機部１５４では、レジストノズル１５２からのカラーレジストのダミーディスペンスも行うことができる。そして、レジストノズル１５２の洗浄によって発生する廃液は、例えば待機部１５４に接続された排液管（図示せず）から排出され、廃液回収装置３２で回収される。

塗布部１４０には、図６に示すようにウェハＷを保持して回転させる回転保持部としてのスピンチャック１６０が設けられている。スピンチャック１６０は、水平な上面を有し、当該上面には、例えばウェハＷを吸引する吸引口（図示せず）が設けられている。この吸引口からの吸引により、ウェハＷをスピンチャック１６０上に吸着保持できる。

スピンチャック１６０は、シャフト１６１に取り付けられている。スピンチャック１６０の下方には、このシャフト１６１を介して例えばモータやシリンダなどを備えた回転駆動部１６２が設けられている。この回転駆動部１６２により、スピンチャック１６０は鉛直周りに所定の速度で回転でき、且つ昇降可能になっている。

スピンチャック１６０の下方側には、シャフト１６１を囲むようにカップベース１６３が設けられている。カップベース１６３は、スピンチャック１６０に保持されたウェハＷの裏面側に落下する液体を受け止め、回収することができる。カップベース１６３には、回収した廃液を排出するための排液管１６４が接続されている。

スピンチャック１６０の下方であって、カップベース１６３上には、ウェハＷの裏面にリンス液を噴射するバックリンスノズル１６５、１６５が例えば２箇所に設けられている。バックリンスノズル１６５には、リンス液供給源１６６に連通するリンス液供給管１６７が接続されている。リンス液供給源１６６には、リンス液、例えばシンナーなどの溶剤が貯留されている。

カップベース１６３の外周部には、断面形状が山形、すなわち上方に凸に突出した形状のガイドリング１６８が設けられている。このガイドリング１６８の外周部は下方側に屈曲して延伸している。

スピンチャック１６０、スピンチャック１６０に保持されたウェハＷ、及びガイドリング１６８の側方には、これらスピンチャック１６０、ウェハＷ及びガイドリング１６８を囲むようにカップ１７０が設けられている。カップ１７０は、ウェハＷから飛散又は落下する液体を受け止めることができ、回収することができる。

カップ１７０は、上面にスピンチャック１６０が昇降できるようにウェハＷよりも大きい開口部が形成されていると共に、内周側面とガイドリング１６８の外周縁との間に排出路をなす隙間１７１が形成されている。

また、カップ１７０の下部には、カップ１７０内の雰囲気を排気すると共に、カップ１７０内の廃液を回収する気液分離部１７２が環状に形成されている。気液分離部１７２には、ガイドリング１６８の外周部と、カップ１７０の底面に設けられた仕切壁１７３とにより屈曲路が形成されている。そして、この屈曲路により気液分離部１７２で気体と液体が分離される。すなわち、気液分離部１７２は、仕切壁１７３によって、カップ１７０内の廃液を排出するための外側領域１７４と、カップ１７０内の雰囲気を排気するための内側領域１７５に区画されている。外側領域１７４には、カップ１７０内の廃液を排出する排液管１７６が接続されている。また内側領域１７５には、カップ１７０内の雰囲気を排気するための排気管１７７が接続されている。

カップ１７０の下方には、カップベース１６３とカップ１７０内で回収された廃液を貯留する廃液貯留部としての廃液容器１８０が設けられている。なお、廃液容器１８０には、例えばその内側面にカラーレジストなどの廃液が付着し難い材料、例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン、Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ）が用いられる。

廃液容器１８０の上面には、図７に示すようにカップベース１６３で回収した廃液を排出する排液管１６４と、カップ１７０内で回収した廃液を排出する排液管１７６とが接続されている。さらに廃液容器１８０の上面には、当該廃液容器１８０の内部を洗浄するためのリンス液を供給するリンス液供給管１８１が接続されている。リンス液供給管１８１は、当該リンス液供給管１８１にリンス液を供給するリンス液供給源（図示せず）に連通している。

廃液容器１８０の一の側面には、排液管１８２が接続されている。排液管１８２は、図３に示すように後述する廃液回収装置３２のポンプ２０３に連通し、回収タンク２００に接続されている。そして、このポンプ２０３により、排液管１８２を介して廃液容器１８０内の廃液が排出される。なお、本実施の形態では、排液管１８２に連通するポンプ２０３は廃液回収装置３２内に設けられているが、当該ポンプを配置する場所は本実施の形態に限定されない。例えば塗布処理装置３４の近傍にポンプを配置してもよい。また、ポンプ２０３は、各排液管１８２毎に１基ずつ設けられていてもよいし、複数の排液管１８２に対して１基設けられてもよい。但し、廃液容器１８０からの廃液の排出制御が個別に可能となる点で、ポンプ２０３を各排液管１８２毎に１基ずつ設けた方が好適である。すなわち、各ポンプ２０３を個別に制御することで、例えば後述するように所定の高さまで廃液が貯留された廃液容器１８０のみから廃液を排出させ、所定の高さまで廃液が貯留されていない廃液容器１８０からの廃液の排出を停止させることができ、廃液の排出を効率よく行うことができる。

廃液容器１８０の内部には、図８及び図９に示すように廃液を貯留する貯留空間１８３が形成されている。貯留空間１８３の底面（図８及び図９の点線部分）は、排液管１８２に向かって傾斜している。

廃液容器１８０の一の外側面には、当該廃液容器１８０内の廃液の高さを測定するレベルセンサ１８４、１８５が２箇所に設けられている。第１のレベルセンサ１８４は、廃液容器１８０内の廃液が排出される所定の高さ（図８及び図９中の一点鎖線）に配置されている。すなわち、廃液が廃液容器１８０内に貯留され、第１のレベルセンサ１８４の測定位置まで達すると、第１のレベルセンサ１８４から後述する制御部２５０に信号が送信される。制御部２５０ではこの信号に基づいてポンプ２０３が作動するように制御し、廃液容器１８０から廃液が排出される。

また、第２のレベルセンサ１８５は、廃液容器１８０内の廃液がオーバーフローする所定の高さ（図８及び図９中の二点鎖線）に配置されている。すなわち、廃液が廃液容器１８０内に貯留され、第２のレベルセンサ１８５の測定位置まで達すると、第２のレベルセンサ１８５から後述する制御部２５０に信号が送信される。制御部２５０ではこの信号に基づいて、例えば少なくともカップ１７０又はカップベース１６３からの廃液の排出を制御する。この廃液の排出を制御する際には、例えば排液管１６４、１７６に設けられた流量調整バルブ（図示せず）によって廃液の排出量を調整してもよいし、あるいは例えばレジストノズル１５２からのカラーレジストの供給量やバックリンスノズル１６５からのリンス液の供給量を調整してもよい。そして、このようにカップ１７０又はカップベース１６３からの廃液の排出を制御することにより、廃液容器１８０内で廃液がオーバーフローするのを防止できる。

なお、本実施の形態では、廃液容器１８０には２つのレベルセンサ１８４、１８５が設けられていたが、１つのレベルセンサを設けて廃液容器１８０からの廃液の排出とオーバーフローを制御してもよい。このレベルセンサは例えば圧力センサ等が用いられ、当該レベルセンサを任意の位置に配置して廃液容器１８０内の廃液の高さを測定できる。また、本実施の形態では、レベルセンサ１８４、１８５として静電容量センサを用いることが好ましい。カラーレジストは光を通し難いので、光電センサでは正確な廃液の高さの検出が困難である。

なお、塗布部１４１、１４２の構成については、上述した塗布部１４０と同様であるので説明を省略する。

次に、上述した下層側の塗布処理装置３３の構成と廃液回収装置３２の構成について説明する。

下層側の塗布処理装置３３は、上述した上層側の塗布処理装置３４とほぼ同様の構成を有している。塗布処理装置３３の内部には、図１０に示すように例えばウェハＷ上にカラーレジストを塗布する３つの塗布部１９０、１９１、１９２が、Ｙ方向負方向（図１０の左方向）側からＹ方向正方向（図１０の右方向）側にこの順で並べて配置されている。これら塗布部１９０、１９１、１９２の構成は、上述した塗布処理装置３４の塗布部１４０の構成とほぼ同様であるが、塗布部１９０、１９１、１９２には、廃液容器１８０に代えて液受け容器１９３がそれぞれ設けられている。液受け容器１９３は、廃液容器１８０のように廃液を一旦貯留する機能は無く、単に排液管１６４、１７６からの廃液を集めて、廃液回収装置３２に流すための容器である。

なお、塗布処理装置３３においても液受け容器１９３を用いずに、廃液容器１８０を用いても勿論よい。また、塗布処理装置３３のその他の構成は、上述した塗布処理装置３４の構成と同様であるので説明を省略する。

廃液回収装置３２の内部には、塗布処理装置３３、３４からの廃液を回収する廃液回収部としての回収タンク２００が設けられている。回収タンク２００は、鉛直配管２０１及び傾斜配管２０２を介して、上述した液受け容器１９３と接続されている。鉛直配管２０１は、液受け容器１９３（カップ１７０）から鉛直下方に延伸して設けられている。傾斜配管２０２は、鉛直配管２０１の端部から回収タンク２００に所定の角度で傾斜して延伸して設けられている。この所定の角度は、傾斜配管２０２内を廃液が詰まることなく円滑に流れる角度であって、例えば水平方向から１５度以上である。

なお、図３に示すように回収タンク２００には、塗布処理装置３４の排液管１８２が接続される。また、図示はしないが、回収タンク２００には、塗布処理装置３３、３４の待機部１５４からの廃液を排出する排液管も接続される。

図１０に示すように廃液回収装置３２の内部には、排液管１８２から廃液を排出させるためのポンプ２０３が設けられている。回収タンク２００には排液管２０４が接続され、図３に示すように排液管２０４は廃液排出装置６０に連通している。そして、廃液排出装置６０内のポンプによって回収タンク２００から廃液排出装置６０に廃液が排出され、さらに廃液排出装置６０から塗布現像処理システム１の外部に廃液が排出される。なお、上述したようにポンプ２０３が各排液管１８２毎に１基ずつ設けられている場合には、当該排液管１８２からの廃液は回収タンク２００を経由せず、当該廃液は廃液排出装置６０に直接排出されてもよい。

なお、廃液回収装置３２には、回収タンク２００の内部を洗浄する洗浄機構（図示せず）や、回収タンク２００から排出される廃液の不純物を除去するためのフィルタ（図示せず）などが設けられていてもよい。

次に、上述したレジスト供給装置１５５の構成について説明する。レジスト供給装置１５５は、図１１に示すように内部にカラーレジストを貯留する、塗布液供給源としてのレジスト供給源２１０を有している。レジスト供給源２１０の上部には、レジスト供給源２１０内に空気を供給するための空気供給管２１１が接続されている。空気供給管２１１は、内部に空気を貯留する空気供給源２１２に連通している。そして、空気供給源２１２からレジスト供給源２１０内に空気が供給され、レジスト供給源２１０内の圧力が所定の圧力に維持されている。なお、空気として例えば不活性ガスを用いてもよい。

また、レジスト供給源２１０の上部には、レジストノズル１５２にカラーレジストを供給するための塗布液供給管としてのレジスト供給管２１３が設けられている。すなわち、レジスト供給管２１３は、レジスト供給源２１０とレジストノズル１５２を接続して設けられている。

レジスト供給源２１０の下流側のレジスト供給管２１３には、カラーレジストを一旦貯留させておくリキッドエンドタンク２１４が設けられている。リキッドエンドタンク２１４は、バッファタンクとしての役割を果たしており、レジスト供給源２１０から供給されるカラーレジストが無くなった場合でも、リキッドエンドタンク２１４内に貯留されているカラーレジストをレジストノズル１５２に供給することができる。

リキッドエンドタンク２１４の下流側のレジスト供給管２１３には、レジスト供給源２１０からレジストノズル１５２にカラーレジストを圧送するポンプ２１５が設けられている。また、ポンプ２１５の下流側のレジスト供給管２１３には、カラーレジスト中の異物を捕集し除去するフィルタ２１６が設けられている。さらに、フィルタ２１６の下流側のレジスト供給管２１３には、レジストノズル１５２へのカラーレジストの供給を制御するバルブ２１７が設けられている。すなわち、このバルブ２１７によって、レジストノズル２１５へのカラーレジストの供給を開始又は停止させることができる。

フィルタ２１６とバルブ２１７との間のレジスト供給管２１３には、当該レジスト供給管２１３内に例えばシンナーなどの溶剤を供給し、バルブ２１７を洗浄する洗浄機構２２０が介設されている。洗浄機構２２０は三方バルブ２２１を有し、三方バルブ２２１はレジスト供給管２１３と洗浄媒体供給管２２２とに接続されている。なお、三方バルブ２２１の詳細な構成については後述する。

洗浄機構２２０は、内部に溶剤を貯留する溶剤供給源２３０を有している。溶剤には、例えばシンナーであるペグミアが用いられる。溶剤供給源２３０の上部には、溶剤供給源２３０内に空気を供給するための空気供給管２３１が接続されている。空気供給管２３１は、内部に空気を貯留する空気供給源２３２に連通している。そして、空気供給源２３２から溶剤供給源２３０内に空気が供給され、溶剤供給源２３０内の圧力が所定の圧力に維持されている。なお、空気として例えば不活性ガスを用いてもよい。

また、溶剤供給源２３０の上部には、洗浄媒体供給管２２２に溶剤を供給するための溶剤供給管２３３が設けられている。溶剤供給管２３３は、バルブ２３４を介して洗浄媒体供給管２２２に接続されている。

溶剤供給源２３０とバルブ２３４との間の溶剤供給管２３３には、溶剤を一旦貯留させておくリキッドエンドタンク２３５が設けられている。リキッドエンドタンク２３５は、バッファタンクとしての役割を果たしており溶剤供給源２３０から供給される溶剤が無くなった場合でも、リキッドエンドタンク２３５内に貯留されている溶剤を洗浄媒体供給管２２２に供給することができる。

空気供給管２３１は、空気供給源２３２と溶剤供給源２３０との間で、別の空気供給管２３６に分岐している。空気供給管２３６は、バルブ２３７を介して洗浄媒体供給管２２２に接続されている。そして、三方バルブ２２１とバルブ２３７を制御することで、空気供給源２３２からの空気が洗浄媒体供給管２２２内を流通し、レジスト供給管２１３に供給される。そして、後述するようにこの空気もバルブ２１７の洗浄に用いられる。

上述した三方バルブ２２１は、図１２に示すようにレジスト供給管２１３と洗浄媒体供給管２２２とを接続する流通路２４０と、流通路２４０の洗浄媒体供給管２２２側に設けられたダイヤフラム２４１とを有している。ダイヤフラム２４１は、例えば空気圧によって移動自在であり、流通路２４０の洗浄媒体供給管２２２側の開口部を開閉自在に構成されている。このダイヤフラム２４１により、三方バルブ２２１は、洗浄媒体供給管２２２からレジスト供給管２１３への洗浄媒体（溶剤や空気）の供給を制御することができる。

なお、塗布現像処理システム１には、図１１に示すようにレジストノズル１５２が複数設けられている。すなわち、本実施の形態では、レジストノズル１５２は塗布処理装置３３、３４にそれぞれ設けられている。また、塗布処理装置３３、３４の数は本実施の形態に限定されず、例えば塗布現像処理システム１にレジストノズル１５２を有する塗布処理装置を３つ以上設けてもよい。さらに、本実施の形態では、塗布処理装置３３、３４に１つのレジストノズル１５２がそれぞれ設けられていたが、カラーレジストの種類ごと、すなわち赤色のカラーレジスト、緑色のカラーレジスト、青色のカラーレジストごとに３つのレジストノズル１５２を設けてもよい。

このように塗布現像処理システム１にはレジストノズル１５２が複数設けられており、それぞれのレジストノズル１５２にレジスト供給管２１３が接続されている。そして、各レジスト供給管２１３には、レジスト供給源２１０、空気供給管２１１、空気供給源２１２、リキッドエンドタンク２１４、ポンプ２１５、フィルタ２１６、バルブ２１７、及び洗浄機構２２０の三方バルブ２２１が設けられている。

また、洗浄機構２２０の洗浄媒体供給管２２２は、分岐して複数の三方バルブ２２１に接続されている。そして、洗浄機構２２０は、複数のバルブ２１７を同時に洗浄することができる。

以上の塗布現像処理システム１には、図１に示すように制御部２５０が設けられている。制御部２５０は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、塗布現像処理システム１におけるウェハ処理を実行するプログラムが格納されている。なお、前記プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルデスク（ＭＯ）、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体Ｈに記録されていたものであって、その記憶媒体Ｈから制御部２５０にインストールされたものであってもよい。

次に、以上のように構成された塗布現像処理システム１を用いて行われるウェハＷの処理方法について説明する。

先ず、複数枚のウェハＷを収容したカセットＣが、カセットステーション２の所定のカセット載置板１１に載置される。その後、ウェハ搬送装置２１によりカセットＣ内の各ウェハＷが順次取り出され、処理ステーション３の第３のブロックＧ３の例えば受け渡し装置５４に搬送される。

次にウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって第２のブロックＧ２の熱処理装置４０に搬送され、温度調節される。その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって第２のブロックＧ２のアドヒージョン装置４１に搬送され、アドヒージョン処理される。その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって熱処理装置４０に搬送され、温度調節される。

その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって塗布処理装置３４に搬送される。塗布処理装置３４では、回転中のウェハＷ上にカラーレジストを塗布し、ウェハＷ上にレジスト膜が形成される。なお、この塗布処理装置３４おけるウェハＷのカラーレジスト塗布処理については後述する。

その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって熱処理装置４０に搬送されて、プリベーク処理される。その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって第３のブロックＧ３の受け渡し装置５５に搬送される。

次にウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって周辺露光装置４２に搬送され、周辺露光処理される。その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって第３のブロックＧ３の受け渡し装置５６に搬送される。

次にウェハＷは、ウェハ搬送装置１００によって受け渡し装置５２に搬送され、シャトル搬送装置９０によって第４のブロックＧ４の受け渡し装置７２に搬送される。

その後ウェハＷは、インターフェイスステーション５のウェハ搬送装置１１０によって露光装置４に搬送され、露光処理される。

次に、ウェハＷは、ウェハ搬送装置１１０によって露光装置４から第４のブロックＧ４の受け渡し装置７０に搬送される。その後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって第２のブロックＧ２の熱処理装置４０に搬送され、露光後ベーク処理される。その後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって第１のブロックＧ１の現像処理装置３０に搬送され、現像される。現像終了後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって第２のブロックＧ２の熱処理装置４０に搬送され、ポストベーク処理される。

その後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置８０によって第３のブロックＧ３の受け渡し装置５０に搬送され、その後カセットステーション２のウェハ搬送装置２１によって所定のカセット載置板１１のカセットＣに搬送される。こうして、ウェハＷ上に所定のパターンとしてのカラーレジストのレジストパターンが形成され、一連のフォトリソグラフィ処理が終了する。

なお、例えばイメージセンサのカラーフィルタを製造する際には、かかる一連のフォトリソグラフィ処理は、例えば緑色のカラーレジスト、赤色のカラーレジスト、青色のカラーレジストに対してそれぞれ行われ、ウェハＷ上に所定のレジストパターンが形成される。また、上述した一連のフォトリソグラフィ処理をさらに行って、当該カラーフィルタ上にマイクロレンズを形成するためのレジストパターンを形成してもよい。

次に、レジスト供給装置１５５から塗布処理装置３４のレジストノズル１５２にカラーレジストを供給し、塗布処理装置３４でカラーレジストをウェハＷ上に塗布する一連のカラーレジスト塗布処理について説明する。

先ず、レジスト供給装置１５５において、バルブ２１７を開くと共に、ポンプ２１５を作動させる。また、三方バルブ２２１は、レジスト供給管２１３内にカラーレジストが流通するように操作される。すなわち、三方バルブ２２１では、ダイヤフラム２４１によって流通路２４０の洗浄媒体供給管２２２側の開口部を閉じ、洗浄媒体供給管２２２からレジスト供給管２１３に洗浄媒体が流れないようにする。

そうすると、レジスト供給源２１０からリキッドエンドタンク２１４にカラーレジストが圧送される。カラーレジストは一旦リキッドエンドタンク２１４に貯留される。リキッドエンドタンク２１４内に所定量のカラーレジストが貯留されると、その後レジスト供給源２１０からリキッドエンドタンク２１４に流入するカラーレジストによって、カラーレジストがリキッドエンドタンク２１４からレジストノズル１５２側に流出する。

その後、カラーレジストは、レジスト供給管２１３内を流れ、ポンプ２１５、フィルタ２１６、三方バルブ２２１、バルブ２１７を通って、レジストノズル１５２に供給される。なお、カラーレジストがフィルタ２１６を通過する際、当該カラーレジスト中の異物が捕集され除去される。

レジストノズル１５２にカラーレジストが供給される際には、塗布処理装置３４内にウェハＷが搬入され、スピンチャック１６０に吸着保持されている。また、レジストノズル１５２がウェハＷの中心部の上方まで移動している。

そして、レジストノズル１５２にカラーレジストが供給されると、スピンチャック１６０に保持されたウェハＷを回転駆動部１６２によって回転させると共に、レジストノズル１５２からウェハＷの中心部にカラーレジストを供給する。ウェハＷ上に塗布されたカラーレジストは、ウェハＷの回転により生じる遠心力によってウェハＷの表面の全体に拡散し、ウェハＷの表面にカラーレジストが塗布される。その後、レジストノズル１５２からのカラーレジストの供給を停止した後、引き続きウェハＷを回転させる。そして、ウェハＷ上のカラーレジストの膜厚を調整し、当該カラーレジストを乾燥させて、ウェハＷ上にレジスト膜が形成される。続いてバックリンスノズル１６５からウェハＷの裏面にリンス液を噴射し、ウェハＷの裏面及び外周部の洗浄が行われる。その後ウェハＷの回転が停止され、スピンチャック１３０上からウェハＷが搬出されて、一連のカラーレジスト塗布処理が終了する。

上述のようにレジストノズル１５２からウェハＷ上にカラーレジストを塗布する際、ウェハＷから飛散するカラーレジストはカップ１７０内又はカップベース１６３に回収される。なお、カップベース１６３で回収されるカラーレジストは極めて少量であり、カップベース１６３で回収される廃液は、主にバックリンスノズル１６５から噴射されるリンス液を主に含んでいる。また、バックリンスノズル１６５からウェハＷの裏面にリンス液を塗布する際、発生する廃液はカップベース１６３又はカップ１７０内に回収される。そして、カップ１７０で回収された廃液は、気液分離部１７２の外側領域１７４から排液管１７６を通って廃液容器１８０に排出される。また、カップベース１６３で回収された廃液は、排液管１６４を通って廃液容器１８０に排出される。

廃液容器１８０では、レベルセンサ１８４、１８５によって当該廃液容器１８０内の高さが測定されている。そして、廃液が廃液容器１８０内に一旦貯留され、第１のレベルセンサ１８４の測定位置まで達すると、第１のレベルセンサ１８４から後述する制御部２５０に信号が送信される。制御部２５０ではこの信号に基づいてポンプ２０３が作動するように制御し、廃液容器１８０から廃液が排出される。廃液容器１８０から排出された廃液は、排液管１８２を通って廃液回収装置３２の回収タンク２００に一旦回収され、その後廃液排出装置６０を介して塗布現像処理システム１の外部に排出される。

一方、廃液が廃液容器１８０内に貯留され、第２のレベルセンサ１８５の測定位置まで達した場合、第２のレベルセンサ１８５から後述する制御部２５０に信号が送信される。制御部２５０ではこの信号に基づいて、少なくともカップ１７０又はカップベース１６３からの廃液の排出を制御する。これによって、廃液容器１８０内で廃液がオーバーフローするのを防止できる。

なお、塗布処理装置３３におけるウェハＷへのカラーレジスト塗布処理は、上述した塗布処理装置３４における塗布処理と同様の方法で行われる。但し、塗布処理装置３３では、カップ１７０やカップベース１６３からの廃液は、液受け容器１９３、鉛直配管２０１及び傾斜配管２０２を介して、回収タンク２００に排出される。このとき、鉛直配管２０１と傾斜配管２０２が所定の傾斜を有しているので、鉛直配管２０１と傾斜配管２０２内を廃液は詰まることなく円滑に流れる。

以上のような一連のカラーレジスト塗布処理を繰り返し行うと、レジスト供給装置１５５において、バルブ２１７内にカラーレジストが固化して堆積してしまう。この場合、固化したカラーレジストがレジストノズル１５２からウェハＷ上に供給され、製品の歩留まりが低下するおそれがある。このため、所定のタイミングで洗浄機構２２０によってバルブ２１７を洗浄する必要がある。

上述の洗浄機構２２０によってバルブ２１７を洗浄する際には、先ず、ポンプ２１５の動作を停止すると共に、バルブ２１７を開く。その後、洗浄機構２２０のバルブ２３７を開き、さらに三方バルブ２２１の洗浄媒体供給管２２２側を開く。すなわち、三方バルブ２２１においては、ダイヤフラム２４１を移動させて流通路２４０の開口部を開放し、洗浄媒体供給管２２２と流通路２４０を連通される。そして、空気供給源２３２から、空気供給管２３１、２３６、バルブ２３７、洗浄媒体供給管２２２、三方バルブ２２１を介して、レジスト供給管２１３に空気を供給する。レジスト供給管２１３内に供給された空気は、バルブ２１７に流れる。この空気によって、バルブ２１７内に堆積したカラーレジストが概ね洗浄される。所定の経過後、バルブ２３７を閉じ、レジスト供給管２１３への空気の供給が停止される。なお、空気供給源２３２からの空気は、例えばポンプ（図示せず）によってレジスト供給管２１３に供給される。また、この空気の供給タイミングや供給時間、供給量は、例えば制御部２５０によって制御される。

その後、バルブ２３４を開き、溶剤供給源２３０から、溶剤供給管２３３（リキッドエンドタンク２３５）、バルブ２３４、洗浄媒体供給管２２２を介して、レジスト供給管２１３に溶剤を供給する。レジスト供給管２１３内に供給された溶剤は、バルブ２１７に流れる。この溶剤によって、空気では洗浄しきれなかったバルブ２１７内に残存するカラーレジストが洗浄される。所定の経過後、バルブ２３４を閉じ、レジスト供給管２１３への溶剤の供給が停止される。なお、溶剤供給源２３０からの溶剤は、例えばポンプ（図示せず）によってレジスト供給管２１３に供給される。また、この溶剤の供給タイミングや供給時間、供給量は、例えば制御部２５０によって制御される。

その後、さらにバルブ２３７を開き、レジスト供給管２１３とバルブ２１７に空気を供給する。この空気によって、レジスト供給管２１３やバルブ２１７、ダイヤフラム２４１とレジスト供給管２１３とを接続する流通路２４０の内部に残存する溶剤などが除去され、当該内部が乾燥される。所定の経過後、バルブ２３７を閉じると共に、三方バルブ２２１の洗浄媒体供給管２２２側を閉じる。

こうして、洗浄機構２２０によってバルブ２１７が洗浄される。なお、その後バルブ２１７が閉じられ、レジスト供給源２１０からのカラーレジストにより、レジスト供給管２１３内がパージされる。

以上の実施の形態によれば、塗布処理装置３４において、カップ１７０内やカップベース１６３で回収される廃液は、排液管１７６、１６４を通って廃液容器１８０に排出される。かかる廃液は、廃液容器１８０内に一旦貯留された後、ポンプ２０３により排液管１８２を介して廃液容器１８０から排出される。このように廃液は強制的に排出されるため、従来のようにカップ内や排液管内に廃液が詰まることない。また、第１のレベルセンサ１８４によって廃液の高さを測定し、その高さが所定の高さ、すなわち第１のレベルセンサ１８４の高さに達した場合に、廃液容器１８０から廃液を排出しているので、当該廃液容器１８０内において廃液が固化せず、廃液は排液管１８２内を円滑に流れる。以上のように、本実施の形態によれば、カラーレジストなどの廃液を円滑に排出することができるため、塗布処理装置３４のメンテナンス頻度が減少する。したがって、塗布処理装置３４を効率よく使用することができ、ウェハ処理のスループットを向上させることができる。

また、廃液容器１８０において、第２のレベルセンサ１８５によって廃液の高さを測定し、その高さが所定の高さ、すなわち第２のレベルセンサ１８５の高さに達した場合、制御部２５０によって少なくともカップ１７０又はカップベース１６３からの廃液の排出が制御される。これによって、廃液容器１８０内で廃液がオーバーフローするのを防止することができる。

また、塗布処理装置３３において、カップ１７０内やカップベース１６３で回収される廃液は、鉛直配管２０１と傾斜配管２０２を通って、廃液回収装置３２の回収タンク２００に排出される。かかる場合、塗布処理装置３３の下層に廃液回収装置３２を設けているので、当該廃液回収装置３２内に鉛直配管２０１と所定の角度で傾斜する傾斜配管２０２を配置することができる。したがって、塗布処理装置３３で発生した廃液は、従来のようにカップ内や排液管内に廃液が詰まることなく、回収タンク２００に円滑に排出される。このため、塗布処理装置３３のメンテナンス頻度も減少し、塗布処理装置３３を効率よく使用することができ、ウェハ処理のスループットを向上させることができる。

また、レジストノズル１５２にカラーレジストを供給するレジスト供給装置１５５には洗浄機構２２０が設けられているので、当該洗浄機構２２０からレジスト供給管２１３に供給される空気及び溶剤によって、バルブ２１７を洗浄することができる。このように２つの洗浄媒体が用いられるため、バルブ２１７を確実に洗浄することができる。したがって、レジスト供給装置１５５からレジストノズル１５２にカラーレジストを適切に供給することができ、塗布処理装置３３、３４におけるカラーレジスト塗布処理を適切に行うことができる。また、この場合、製品の歩留まりの低下を抑制することができる。

しかも、レジスト供給管２１３に設けられる三方バルブ２２１には、洗浄媒体供給管２２２側にダイヤフラム２４１が設けられているので、空気や溶剤の洗浄媒体の流れを確実に制御できる。また、洗浄媒体供給管２２２側にのみダイヤフラム２４１を設け、レジスト供給管２１３には三方バルブ２２１を開閉するための切り換え弁等を設けていないので、このレジスト供給管２１３側の切り換え弁にカラーレジストが堆積して固化するというおそれもない。したがって、バルブ２１７を適切に洗浄することができる。

さらに、洗浄媒体供給管２２２は、分岐して複数の三方バルブ２２１に接続されているので、洗浄機構２２０は、複数のバルブ２１７を同時に効率よく洗浄することができる。

以上の実施の形態の塗布現像処理システム１では、第１のブロックＧ１に塗布処理装置３３、３４と廃液回収装置３２が積層されていたが、塗布処理装置３３と廃液回収装置３２に代えて、図１３に示すように塗布処理装置３４、３４を設けてもよい。すなわち、塗布処理装置３４が３層に積層されて配置されてもよい。かかる場合、塗布処理装置３４の排液管１８２は廃液排出装置６０に接続され、廃液容器１８０からの廃液は排液管１８２を通って直接廃液排出装置６０に排出される。本実施の形態によれば、塗布処理装置３４の数を増加させることができるので、カラーレジスト塗布処理をより多くのウェハＷに対して行うことができ、ウェハ処理のスループットをさらに向上させることができる。

以上の実施の形態の塗布処理装置３４の塗布部１４０では、廃液貯留部としての廃液容器１８０が設けられていたが、廃液容器１８０に代えて、図１４に示すようにカップ１７０自体を廃液貯留部としてもよい。かかる場合、カップ１７０内の気液分離部１７２において、外側領域１７４が廃液貯留部として機能する。外側領域１７４に設けられた排液管１７６は、例えば上述の廃液回収装置３２のポンプ２０３に接続されている。

また、カップ１７０の外側面には、レベルセンサ３００、３０１が設けられている。これらレベルセンサ３００、３０１は、それぞれ上記実施の形態のレベルセンサ１８４、１８５と同じ機能を有している。

すなわち、第１のレベルセンサ３００は、カップ１７０内の廃液が排出される所定の高さに配置されている。そして、廃液が外側領域１７４内に貯留され、第１のレベルセンサ３００の測定位置まで達すると、第１のレベルセンサ３００から制御部２５０に信号が送信される。制御部２５０ではこの信号に基づいてポンプ２０３が作動するように制御し、外側領域１７４から廃液が排出される。

一方、第２のレベルセンサ３０１は、カップ１７０内の廃液がオーバーフローする高さに配置されている。そして、廃液が外側領域１７４内に貯留され、第２のレベルセンサ３０１の測定位置まで達すると、第２のレベルセンサ３０１から制御部２５０に信号が送信される。制御部２５０ではこの信号に基づいて、例えば少なくともレジストノズル１５２からのカラーレジストの供給量又はバックリンスノズル１６５からのリンス液の供給量を制御する。これによって、外側領域１７４内で廃液がオーバーフローするのを防止できる。

なお、塗布部１４０のその他の構成については、上記実施の形態における塗布部１４０の構成と同様であるので説明を省略する。

本実施の形態によれば、カップ１７０の外側領域１７４を廃液貯留部として利用しているので、大量の廃液を貯留することができる。したがって、塗布処理装置３４において、廃液の排出を制御する自由度が向上する。

なお、外側領域１７４内の廃液は、常時所定の高さまで貯留されているのが好ましい。具体的には、当該廃液は仕切壁１７３よりも低い高さに維持されているのが好ましい。かかる場合、例えばカップ１７０内にミスト状のカラーレジストが発生した場合でも、当該ミスト状のカラーレジストが外側領域１７４及び内側領域１７５を通って排気管１７７に流入するのを防止することができる。これにより、排気管１７７のメンテナンス頻度を減少させることができ、塗布処理装置３４をさらに効率よく使用することができる。

以上の実施の形態のレジスト供給装置１５５において、洗浄機構２２０は２種類の溶剤を用いてバルブ２１７を洗浄するようにしてもよい。なお、本実施の形態においては、説明の都合上、上述した溶剤供給源２３０を第１の溶剤供給源２３０といい、当該第１の溶剤供給源２３０に貯留される溶剤を第１の溶剤という。

かかる場合、図１５に示すように洗浄機構２２０は、内部に第２の溶剤を貯留する第２の溶剤供給源３１０を有している。第２の溶剤供給源３１０の上部には、空気供給管２３１から分岐した別の空気供給管３１１が接続されている。

また、第２の溶剤供給源３１０の上部には、洗浄媒体供給管２２２に第２の溶剤を供給するための溶剤供給管３１２が設けられている。溶剤供給管３１２は、バルブ３１３を介して洗浄媒体供給管２２２に接続されている。

第２の溶剤供給源３１０とバルブ３１３との間の溶剤供給管３１２には、第２の溶剤を一旦貯留させておくリキッドエンドタンク３１４が設けられている。リキッドエンドタンク３１４は、バッファタンクとしての役割を果たしており第２の溶剤供給源３１０から供給される第２の溶剤が無くなった場合でも、リキッドエンドタンク３１４内に貯留されている第２の溶剤を洗浄媒体供給管２２２に供給することができる。

なお、洗浄機構２２０及びレジスト供給装置１５５のその他の構成は、上記実施の形態における洗浄機構２２０及びレジスト供給装置１５５の構成と同様であるので説明を省略する。

かかる洗浄機構２２０を用いてバルブ２１７を洗浄する際には、先ず、ポンプ２１５の動作を停止すると共に、バルブ２１７を開く。その後、洗浄機構２２０のバルブ２３７を開き、さらに三方バルブ２２１の洗浄媒体供給管２２２側を開く。そして、空気供給源２３２からレジスト供給管２１３に空気を供給する。この空気によって、バルブ２１７内に堆積したカラーレジストが洗浄される。所定の経過後、バルブ２３７を閉じ、レジスト供給管２１３への空気の供給が停止される。

その後、バルブ２３４を開き、第１の溶剤供給源２３０からレジスト供給管２１３に第１の溶剤を供給する。この第１の溶剤によってバルブ２１７内に残存するカラーレジストが概ね洗浄される。所定の経過後、バルブ２３４を閉じ、レジスト供給管２１３への第１の溶剤の供給が停止される。

その後、バルブ３１３を開き、第２の溶剤供給源３１０から、溶剤供給管３１２（リキッドエンドタンク３１４）、バルブ３１３、洗浄媒体供給管２２２を介して、レジスト供給管２１３に第２の溶剤を供給する。レジスト供給管２１３内に供給された第２の溶剤は、バルブ２１７に流れる。この第２の溶剤によって、例えばバルブ２１７のデッドスペースに残った第１の溶剤やカラーレジストが洗浄される。所定の経過後、バルブ３１３を閉じ、レジスト供給管２１３への第２の溶剤の供給が停止される。なお、第２の溶剤供給源３１０からの第２の溶剤は、例えばポンプ（図示せず）によってレジスト供給管２１３に供給される。また、この第２の溶剤の供給タイミングや供給時間、供給量は、例えば制御部２５０によって制御される。

その後、さらにバルブ２３７を開き、レジスト供給管２１３とバルブ２１７に空気を供給する。この空気によって、レジスト供給管２１３とバルブ２１７の内部が乾燥される。所定の経過後、バルブ２３７を閉じると共に、三方バルブ２２１の洗浄媒体供給管２２２側を閉じる。こうして、洗浄機構２２０によってバルブ２１７が洗浄される。

本実施の形態によれば、２種類の溶剤を使用してバルブ２１７を洗浄しているので、バルブ２１７をより適切に洗浄することができる。したがって、レジスト供給装置１５５からレジストノズル１５２にカラーレジストをより適切に供給することができる。

以上の実施の形態では、バルブ２１７を洗浄する際、空気を用いてバルブ２１７内のカラーレジストの仮洗浄、及び洗浄後のバルブ２１７内部の乾燥を行っていたが、空気を用いることなく溶剤のみでバルブ２１７を洗浄し、その後すぐにカラーレジストに置換してもよい。かかる場合、先ず、バルブ２１７内に溶剤を供給し、当該バルブ２１７内のカラーレジストを洗浄する。溶剤としては、上記実施の形態で説明したように１種類の溶剤を用いてもよいし、２種類の溶剤を用いてもよい。なお、この溶剤によるカラーレジストの洗浄方法は、上記実施の形態と同様であるので説明を省略する。こうして、洗浄機構２２０によってバルブ２１７が洗浄される。その後、バルブ２１７が閉じられ、レジスト供給源２１０からのカラーレジストにより、レジスト供給管２１３内がパージされ、さらにカラーレジストのダミーディスペンスを行うことにより、レジスト供給管２１３内に残存する溶剤をカラーレジストに置換する。本実施の形態によれば、カラーレジストはレジスト供給管２１３内において空気に触れることがないため、当該カラーレジストが乾燥して固化することを防止できる。また、レジスト供給管２１３には三方バルブ２２１を開閉するための切り換え弁等を設けていないので、このレジスト供給管２１３側の切り換え弁にカラーレジストが堆積して固化するというおそれもない。

なお、以上の実施の形態の塗布処理装置３４では、ウェハＷにカラーレジスト塗布処理を行っていない場合、例えばカップ１７０の洗浄が行われる。カップ１７０の洗浄は、図１６に示すように例えば洗浄装置３２０を用いて行われる。洗浄装置３２０からカップ１７０の上端部に形成されたリンス液吐出口３２１にリンス液が供給されると共に、洗浄装置３２０からガイドリング１６８の上端部に形成されたリンス液吐出口３２２にリンス液が供給される。そして、これらリンス液供給口３２１、３２２からカップ１７０内にリンス液が供給され、カップ１７０の内部が洗浄される。なお、リンス液には、例えばシンナーなどの溶剤が用いられる。また、カップ１７０の洗浄は、例えばウェハＷにカラーレジスト塗布処理を行う度に枚葉式に行ってもよい。

そして、このようにカップ１７０の内部を洗浄する際、カップ１７０内のリンス液が排液管１７６、廃液容器１８０、排液管１８２を流通するようにポンプ２０３を制御する。このリンス液によって、排液管１７６、廃液容器１８０、排液管１８２が洗浄される。かかる場合、カップ１７０と共に、排液管１７６、廃液容器１８０及び排液管１８２を洗浄することができるので、塗布処理装置３４のメンテナンスを効率よく行うことができ、塗布処理装置３４をより効率よく使用することができる。

以上の実施の形態では、廃液容器１８０はカップベース１６３内の廃液とカップ１７０の外側領域１７４内の廃液を回収して貯留していたが、塗布処理装置３４において排出される他の廃液を回収するようにしてもよい。

例えば図１７に示すように廃液容器４００の上面には、上記実施の形態の廃液容器１８０と同様に、カップベース１６３からの排液管１６４と、カップ１７０の外側領域１７４からの排液管１７６とが接続されている。これら排液管１６４、１７６に加えて、廃液容器４００の上面には、カップ１７０の内側領域１７５からの廃液を排出する排液管４１０が接続されていてもよい。ここで、カップ１７０の内側領域１７５には、通常はカップ１７０内の雰囲気が流入するが、ミスト状のカラーレジストも流入する場合がある。かかるカラーレジストなどのミストを回収するため、排気管１７７にミスト回収部４１１が設けられる。またミスト回収部４１１には、上記排液管４１０が接続されている。そして、カップ１７０の内部、排気管１７７の内部、ミスト回収部４１０の内部をリンス液によって洗浄する際に、リンス液によって洗い流されたカラーレジストがリンス液と共に廃液として排液管４１０から排出される。

また、廃液容器４００は、塗布処理装置３４の内部であってカップ１７０の外部で回収された廃液を貯留するようにしてもよい。例えば上記実施の形態では、待機部１５４内の廃液は、廃液回収装置３２に直接排出されていたが、廃液容器４００に排出されるようにしてもよい。かかる場合、廃液容器４００の上面には、待機部１５４内の廃液を排出する排液管４１２が接続される。

ここで、塗布処理装置３４には、スピンチャック１６０に保持されたウェハＷの外周部上にリンス液を吐出するエッジリンスノズル４２０が設けられていてもよい。エッジリンスノズル４２０は、例えばレジストノズル１５２のアーム１５１と同様の構成を有するアーム４２１に支持されている。かかる構成により、エッジリンス４２０は、昇降自在であり、且つカップ１７０内のウェハＷ上を移動可能であると共に、カップ１７０の外側に設置された待機部４２２まで移動できる。そして、例えばウェハＷ上にレジスト膜を形成後、バックリンスノズル１６５によってウェハＷの裏面にリンス液を噴射する際に、エッジリンスノズル４２０からもウェハＷの外周部にリンス液を吐出する。こうして、ウェハＷの裏面及び外周部の洗浄が行われる。

なお、待機部４２２はノズルバスであり、当該待機部４２２では、エッジリンスノズル４２０が待機中、当該エッジリンスノズル４２０の先端部が収容され洗浄される。また、待機部４２２では、エッジリンスノズル４２０からのリンス液のダミーディスペンスも行うことができる。そして、エッジリンスノズル４２０の洗浄によって発生する廃液は、待機部４２２に接続された排液管４２３から排出され、廃液容器４００で回収される。すなわち、廃液容器４００の上面には、待機部４２２からの排液管４２３が接続される。

以上のように廃液容器４００の上面には、図１８に示すように排液管１６４、１７６、４１０、４１２、４２３が接続されている。廃液容器４００の内部空間は、図１９に示すように排液管１７６、４１０、４１２、４２３からのカラーレジストを含む廃液が流通する廃液流路４３０と、排液管１６４からの廃液を貯留する貯留空間４３１とに区画されている。また、廃液容器４００の内部には、廃液流路４３０と貯留空間４３１からの廃液を一時的に溜める貯液部としての貯液カップ４３２が設けられている。

廃液流路４３０の貯液カップ４３２と反対側の端部には、リンス液供給管１８１が廃液容器４００の側面に接続されている。なお、このリンス液供給管１８１は、上記実施の形態の廃液容器１８０の上面に接続されていたものを廃液容器４００の側面に接続したものであり、構成は同じであるので詳細な説明を省略する。廃液流路４３０の底面は、図１９及び図２０に示すようにリンス液供給管１８１から貯液カップ４３２に向けて傾斜している。そして、リンス液供給管１８１からのリンス液によって、廃液流路４３０の内部が洗浄される。

貯留空間４３１の底面も、図１９及び図２１に示すように貯液カップ４３２に向かって傾斜している。なお、貯留空間４３１に貯留される廃液は、排液管１６４を介してカップベース１６３で回収された廃液である。この廃液は、バックリンスノズル１６５から噴射されるリンス液を主に含み、カラーレジストを殆ど含んでいない。そうすると、貯留空間４３１の内部にはカラーレジストが固化して堆積することがなく、当該貯留空間４３１の内部をリンス液によって洗浄する必要がない。このため、貯留空間４３１には上述したリンス液供給管１８１が接続されていない。

図２０及び図２１に示すように貯液カップ４３２の下端部には、廃液回収装置３２に連通する排液管１８２が接続されている。

また、廃液容器４００の一の外側面には、図１８、図２０及び図２１に示すように当該廃液容器４００内の廃液の高さを測定する第１のレベルセンサ１８４と第２のレベルセンサ１８５が設けられている。第１のレベルセンサ１８４は廃液容器４００から廃液を排出するタイミングを制御するためのセンサであり、第２のレベルセンサ１８５は廃液容器４００内で廃液がオーバーフローするのを防止するためのセンサである。なお、これら第１のレベルセンサ１８４と第２のレベルセンサ１８５の構成、作用及び効果は、上記実施の形態と同様であるので説明を省略する。

本実施の形態によれば、廃液容器４００では、カップベース１６３内の廃液とカップ１７０内の廃液に加えて、カップ１７０の外部である待機部１５４、４２２内の廃液も回収することができる。したがって、塗布処理装置３４の内部の廃液を一の廃液容器４００で効率よく回収することができる。

また、廃液容器４００の内部空間は、カラーレジストを含む廃液が流通する廃液流路４３０と、カラーレジストを含まない廃液を回収する貯留空間４３１に区画されているので、固化し易いカラーレジストを限られた範囲（廃液流路４３０）にのみ流通させることができる。したがって、リンス液供給管１８１からのリンス液によってカラーレジストが洗浄される空間を小さくすることができる。またリンス液の使用量を少量にすることができ、廃液容器４００において廃液を効率よく回収することができる。そして、回収された廃液を貯液カップ４３２から廃液回収装置３２に適切に排出することができる。

以上の実施の形態において、図２２に示すようにカップ１７０内の廃液を排出する排出口４４０には、当該廃液のみを排液管１７６に排出するためのフィルタ４５０が設けられていてもよい。フィルタ４５０は、排出口４４０に対して着脱自在に設けられている。

フィルタ４５０は、図２２及び図２３に示すように本体部４５１と突起部４５２とを有している。本体部４５１は、平面視において円形状を有し、排出口４４０を覆う長さの径を有している。また突起部４５２は、平面視において円形状を有し、本体部４５１の中央部において当該本体部４５１から突起して設けられている。なおフィルタ４５０は、カップ１７０において、突起部４５２が上方、すなわち排出口４４０と反対側に延伸するように設置される。

本体部４５１には、当該本体部４５１を厚み方向に貫通する貫通孔４５３が形成されている。貫通孔４５３は、例えば本体部４５１に２箇所に形成され、平面視において略半円形状を有している。また突起部４５２にも、当該突起部４５２を厚み方向に貫通する貫通孔４５４が形成されている。これら貫通孔４５３、４５４は、それぞれ固化したカラーレジストを通過させず、カラーレジストを含む廃液のみを通過させるような大きさで形成されている。また貫通孔４５３、４５４は、それぞれ排出口４４０に開口するように形成されている。

かかる場合、カップ１７０内でカラーレジストが固化しても、当該固化したカラーレジストはフィルタ４５０で捕捉され、排出管１７６に排出されない。このため、排出管１７６にはカラーレジストを含む廃液のみが排出されるので、当該排出管１７６やその下流側の廃液容器１８０、４００等が詰まることがない。また、フィルタ４５０は突起部４５２を有しているので、本体部４５１上に固化したカラーレジストが堆積して貫通孔４５３が塞がれた場合でも、突起部４５２の貫通孔４５４から廃液を排出することができる。したがって、フィルタ４５０によって廃液のみを確実に排出管１７６に排出することができる。なお、フィルタ４５０は着脱自在に設けられているので、フィルタ４５０に固化したカラーレジストが堆積したタイミングで、当該フィルタ４５０を交換することができる。

本発明は、カラーレジストだけでなく、他の塗布液、例えば通常のレジストや、ＳＯＤ（Ｓｐｉｎ Ｏｎ Ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ）膜用処理液やＳＯＧ（Ｓｐｉｎ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）膜用処理液、又はポリイミド膜を得るためのポリアミド酸溶液などの高粘度の塗布液に対しても好適に適用することができる。

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。本発明は、基板がウェハ以外のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板である場合にも適用できる。

１ 塗布現像処理システム
３０、３１ 現像処理装置
３２ 廃液回収装置
３３、３４ 塗布処理装置
６０ 廃液排出装置
１４０〜１４２ 塗布部
１５２ レジストノズル
１５４ 待機部
１５５ レジスト供給装置
１６０ スピンチャック
１６３ カップベース
１６４ 排液管
１６５ バックリンスノズル
１６８ ガイドリング
１７０ カップ
１７２ 気液分離部
１７３ 仕切壁
１７４ 外側領域
１７５ 内側領域
１７６ 排液管
１７７ 排気管
１８０ 廃液容器
１８２ 排液管
１８４、１８５ レベルセンサ
１９０〜１９２ 塗布部
２００ 回収タンク
２０１ 鉛直配管
２０２ 傾斜配管
２０３ ポンプ
２０４ 排液管
２１０ レジスト供給源
２１３ レジスト供給管
２１５ ポンプ
２１７ バルブ
２２０ 洗浄機構
２２１ 三方バルブ
２２２ 洗浄媒体供給管
２３０ （第１の）溶剤供給源
２３６ 空気供給管
２４１ ダイヤフラム
２５０ 制御部
３００、３０１ レベルセンサ
３１０ 第２の溶剤供給源
３２０ 洗浄装置
４００ 廃液容器
４１０ 排液管
４１２ 排液管
４２０ エッジリンスノズル
４２２ 待機部
４２３ 排液管
４３０ 廃液流路
４３１ 貯留空間
４３２ 貯液カップ
４４０ 排出口
４５０ フィルタ
４５１ 本体部
４５２ 突起部
４５３、４５４ 貫通孔
Ｗ ウェハ

Claims (17)

1. 基板にフォトリソグラフィ処理を行い、当該基板上に所定のパターンを形成する基板処理システムにおいて、
   基板上に塗布液を塗布する塗布処理装置を含む基板の処理装置が鉛直方向に複数段に積層され、
   前記塗布処理装置には、
   基板を保持して回転させる回転保持部と、
   前記回転保持部に保持された基板上に塗布液を供給する塗布液ノズルと、
   前記回転保持部に保持された基板の側方を囲むように設けられたカップと、
   前記カップ内で回収された廃液を貯留する廃液貯留部と、
   前記廃液貯留部内の廃液の高さを測定するレベルセンサと、
   前記レベルセンサで測定された廃液の高さが所定の高さに達した場合、前記廃液貯留部から廃液を排出させるように、排液管を介して前記廃液貯留部に連通するポンプを制御する制御部と、が設けられていることを特徴とする、基板処理システム。
2. 前記排液管は、前記カップと前記ポンプとを接続し、
   前記廃液貯留部は、前記排液管に設けられた廃液容器であることを特徴とする、請求項１に記載の基板処理システム。
3. 前記制御部は、レベルセンサで測定された廃液の高さに基づいて、前記廃液貯留部から廃液がオーバーフローしないように、前記カップからの廃液の排出を制御することを特徴とする、請求項２に記載の基板処理システム。
4. 前記廃液容器の内部には、前記廃液が前記排液管に向かって流通する廃液流路が形成されていることを特徴とする、請求項２又は３に記載の基板処理システム。
5. 前記廃液容器の内部には、前記廃液流路と前記排液管に接続され、当該廃液流路からの廃液を一時的に溜める貯液部が設けられていることを特徴とする、請求項４に記載の基板処理システム。
6. 前記廃液貯留部は、前記カップ自体であることを特徴とする、請求項１に記載の基板処理システム。
7. 前記カップの下部には、環状の気液分離部が形成され、
   前記気液分離部は、前記排液管が接続され且つ前記廃液貯留部として機能する外側領域と、前記カップ内を排気する排気管が接続された内側領域とに区画され、
   前記外側領域には、常時所定の高さの廃液が貯留されていることを特徴とする、請求項６に記載の基板処理システム。
8. 前記制御部は、レベルセンサで測定された廃液の高さに基づいて、前記廃液貯留部から廃液がオーバーフローしないように、前記塗布液ノズルを制御することを特徴とする、請求項６又は７に記載の基板処理システム。
9. 前記廃液貯留部は、前記カップ内で回収された廃液に加えて、前記塗布処理装置の内部であって前記カップ外で回収された廃液を貯留することを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の基板処理システム。
10. 前記カップ内の廃液を排出する排出口には、当該廃液を通過させるためのフィルタが設けられ、
    前記フィルタは、本体部と当該本体部から突起した突起部とを有し、
    前記本体部と前記突起部には、前記廃液が通過する貫通孔がそれぞれ形成されていることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の基板処理システム。
11. 前記塗布処理装置の下層には、当該塗布処理装置から排出された廃液を回収する廃液回収装置が設けられ、
    廃液回収装置は、前記排液管に接続された廃液回収部を有し、
    前記排液管は、前記カップから鉛直下方に延伸する鉛直配管と、前記鉛直配管から前記廃液回収部に所定の角度で傾斜して延伸する傾斜配管とを有することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載の基板処理システム。
12. 前記カップの内部にリンス液を供給し、当該カップの内部を洗浄する際、
    前記制御部は、前記ポンプを制御して前記リンス液を前記排液管に供給し、当該排液管を洗浄することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれかに記載の基板処理システム。
13. 前記塗布液ノズルに塗布液を供給する塗布液供給装置を有し、
    前記塗布液供給装置は、
    内部に塗布液を貯留する塗布液供給源と、
    前記塗布液供給源から前記塗布液ノズルに塗布液を供給するための塗布液供給管と、
    前記塗布液供給管に設けられ、前記塗布液供給源から前記塗布液ノズルに塗布液を圧送するためのポンプと、
    前記ポンプより前記塗布液ノズル側の前記塗布液供給管に設けられ、前記塗布液ノズルへの塗布液の供給を制御するバルブと、
    前記ポンプと前記バルブとの間の前記塗布液供給管に設けられ、当該塗布液供給管に塗布液の溶剤を供給し、前記バルブを洗浄する洗浄機構と、を有することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれかに記載の基板処理システム。
14. 前記洗浄機構は、前記塗布液供給管と、前記溶剤を供給する洗浄媒体供給管とに接続された三方バルブを有し、
    前記三方バルブには、前記溶剤の流れを制御するダイヤフラムが前記洗浄媒体供給管側に設けられていることを特徴とする、請求項１３に記載の基板処理システム。
15. 前記塗布液ノズルは複数設けられ、当該複数の塗布液ノズルに対応して、前記塗布液供給管、前記バルブ及び前記三方バルブも複数設けられ、
    前記洗浄媒体供給管は分岐して前記複数の三方バルブに接続されていることを特徴とする、請求項１４に記載の基板処理システム。
16. 前記溶剤には、第１の溶剤と第２の溶剤の２種類の溶剤が用いられ、
    前記洗浄媒体供給管には、前記第１の溶剤を貯留する第１の溶剤供給源と、前記第２の溶剤を貯留する第２の溶剤供給源とが接続されていることを特徴とする、請求項１４又は１５に記載の基板処理システム。
17. 前記洗浄機構は、前記塗布液供給管に空気を供給し、前記バルブを洗浄することを特徴とする、請求項１３〜１６のいずれかに記載の基板処理システム。

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