JP2022119084A - 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体製造装置は、チャンバーと、チャンバーの内部に設けられ半導体ウエハを載置する載置台と、載置台に載置された半導体ウエハの表面に液体を供給する液体供給部と、チャンバーから回収された液体を溜めるタンクと、を備え、タンクの内部に、第1の領域と、チャンバーから回収され第1の領域を通過した液体を溜める第2の領域と、が設けられており、第1の領域と第2の領域は部分的に開口を有する仕切りで分けられており、タンクの第1の領域に第1の流路と第2の流路とが接続されており、第1の流路はタンクの第1の領域とチャンバーとを接続している。
【選択図】図1
Description
<A-1.構成>
図1は本実施の形態の半導体製造装置101を示す。半導体製造装置101は、例えば、枚葉式のスピンエッチング装置である。
半導体製造装置101を用いてウエハ2を処理する際、チャンバー10内には薬液13が供給される。薬液13の化学反応または飛散によってチャンバー10内でミストが発生する。ミストがウエハに付着すると、ウエハ2の表面の異物または染みとなり、ウエハ2の品質が不良となるため、チャンバー10内のミストを低減することが望ましい。
半導体製造装置101は、タンク14からの排気ラインである配管15に設置されたバルブをさらに備えていてもよい。当該バルブは例えばエアオペバルブである。
<B-1.構成・動作>
本実施の形態の半導体製造装置(以下、半導体製造装置102とする)は、半導体製造装置101と比べると、タンク14の代わりにタンク14bを備える。図2は、半導体製造装置102の備えるタンク14bを示す。また、半導体製造装置102は配管20をさらに備え、配管20はタンク14bの内部を通るように配置されている。これらの他の点では、半導体製造装置102は半導体製造装置101と同様である。配管20は、タンク14bに溜められた薬液13を冷却するための冷却配管である。
半導体製造装置102は、タンク14bからの排気ラインである配管15に設置されたバルブをさらに備えていてもよい。当該バルブは例えばエアオペバルブである。
<C-1.構成・動作>
本実施の形態の半導体製造装置(以下、半導体製造装置103とする)は、半導体製造装置101と比べると、チャンバー10の代わりにチャンバー10cを備える。その他の点では、半導体製造装置103は半導体製造装置101と同様である。
半導体製造装置103は、半導体製造装置101からチャンバー10がチャンバー10cに変更された構成として説明したが、半導体製造装置103は、タンク14には仕切り19が設けられていなくてもよい。この場合も、返し21により、チャンバー10c内のミストを低減することができる。
<D-1.構成・動作>
本実施の形態の半導体製造装置(以下、半導体製造装置104とする)は、半導体製造装置101と比べ、下カップ8の代わりに下カップ8dを備える。半導体製造装置104は、その他の点では半導体製造装置101と同様である。
半導体製造装置104は、タンク14に仕切り19が設けられていないものでもよい。その場合でも、下カップ8dにより、<D-1.構成・動作>で説明した効果が得られる。但し、タンク14が仕切り19を備えていることで、薬液13の揮発量を低減する効果が得られ、その分、排気量を上げて、チャンバー10内のミストをより低減することができる。
<E-1.構成>
図8は、実施の形態1から4の半導体製造装置のいずれかを用いて製造される半導体装置の一例である半導体素子50を示す図である。半導体素子50はIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)である。
実施の形態1から4の半導体製造装置のいずれかを用いた半導体素子50の製造方法について説明する。
Claims (15)
- チャンバーと、
前記チャンバーの内部に設けられ半導体ウエハを載置する載置台と、
前記載置台に載置された前記半導体ウエハの表面に液体を供給する液体供給部と、
前記チャンバーから回収された前記液体を溜めるタンクと、
を備え、
前記タンクの内部に、第1の領域と、前記チャンバーから回収され前記第1の領域を通過した前記液体を溜める第2の領域と、が設けられており、
前記第1の領域と前記第2の領域は部分的に開口を有する仕切りで分けられており、
前記タンクの前記第1の領域に第1の流路と第2の流路とが接続されており、
前記第1の流路は前記タンクの前記第1の領域と前記チャンバーとを接続している、
半導体製造装置。 - 請求項1に記載の半導体製造装置であって、
前記第1の領域は前記第2の領域側に向けて突き出た突部を有し、
前記仕切りの前記開口は前記突部の前記第2の領域側の先端部分に位置する、
半導体製造装置。 - 請求項1または2に記載の半導体製造装置であって、
前記仕切りの前記第1の領域側の表面は漏斗状の構造を有する、
半導体製造装置。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載の半導体製造装置であって、
前記タンクの前記第2の領域に第3の流路が接続されており、
前記第3の流路は、前記タンクの前記第2の領域と前記液体供給部を接続している、
半導体製造装置。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体製造装置であって、
前記タンクの内部の前記第2の領域に、前記タンクの内容物とは区切られた、第4の流路が設けられている、
半導体製造装置。 - チャンバーと、
前記チャンバーの内部に設けられ半導体ウエハを載置する載置台と、
前記載置台に載置された前記半導体ウエハの表面に液体を供給する液体供給部と、
前記チャンバーから回収された前記液体を溜めるタンクと、
を備え、
前記タンクには第1の流路と第2の流路とが接続されており、
前記第1の流路は前記タンクと前記チャンバーとを接続しており、
前記タンクの内部に、前記タンクの内容物とは区切られた、第4の流路が設けられている、
半導体製造装置。 - 請求項5または6に記載の半導体製造装置であって、
前記第4の流路は前記タンクの内容物を冷却する冷媒を流す用の流路である、
半導体製造装置。 - 請求項1から7のいずれか1項に記載の半導体製造装置であって、
前記第2の流路は前記タンク内の気体を排気する用の流路である、
半導体製造装置。 - 請求項1から8のいずれか1項に記載の半導体製造装置であって、
前記載置台に載置された前記半導体ウエハの周囲を少なくとも部分的に囲うカップをさらに備え、
前記カップは前記第1の流路に繋がる経路の側壁の少なくとも一部を構成し、
前記カップには返しが設けられており、
前記返しは、前記第1の流路に繋がる前記経路を遮る度合いを変えられるように可動である、
半導体製造装置。 - チャンバーと、
前記チャンバーの内部に設けられ半導体ウエハを載置する載置台と、
前記載置台に載置された前記半導体ウエハの表面に液体を供給する液体供給部と、
前記チャンバーから回収された前記液体を溜めるタンクと、
を備え、
前記タンクに第1の流路が接続されており、
前記第1の流路は前記タンクと前記チャンバーとを接続しており、
前記載置台に載置された前記半導体ウエハの周囲を少なくとも部分的に囲うカップをさらに備え、
前記カップは前記第1の流路に繋がる経路の側壁の少なくとも一部を構成し、
前記カップには返しが設けられており、
前記返しは、前記第1の流路に繋がる前記経路を遮る度合いを変えられるように可動である、
半導体製造装置。 - 請求項9または10に記載の半導体製造装置であって、
前記返しは、前記第1の流路に繋がる前記経路の吸引口を遮る度合いを変えられるように可動である、
半導体製造装置。 - 請求項9から11のいずれか1項に記載の半導体製造装置であって、
前記返しは前記カップに対し着脱可能である、
半導体製造装置。 - 請求項9から12のいずれか1項に記載の半導体製造装置であって、
前記カップの底面は2重底になっており、
前記2重底の2つの底面のうち下側の底面には前記第1の流路に繋がる開口が設けられており、
前記2重底の2つの底面のうち上側の底面には周方向の複数の位置に開口が設けられており、
前記上側の底面の前記複数の位置の前記開口は、それぞれ、平面視で前記下側の底面の前記開口と重ならない位置に設けられている、
半導体製造装置。 - チャンバーと、
前記チャンバーの内部に設けられ半導体ウエハを載置する載置台と、
前記載置台に載置された前記半導体ウエハの表面に液体を供給する液体供給部と、
前記チャンバーから回収された前記液体を溜めるタンクと、
を備え、
前記タンクに第1の流路が接続されており、
前記第1の流路は前記タンクと前記チャンバーとを接続しており、
前記載置台に載置された前記半導体ウエハの周囲を少なくとも部分的に囲い、前記第1の流路に繋がる経路の側壁の少なくとも一部を構成するカップをさらに備え、
前記カップの底面は2重底になっており、
前記2重底の2つの底面のうち下側の底面には前記第1の流路に繋がる開口が設けられており、
前記2重底の2つの底面のうち上側の底面には周方向の複数の位置に開口が設けられており、
前記上側の底面の前記複数の位置の前記開口は、それぞれ、平面視で前記下側の底面の前記開口と重ならない位置に設けられている、
半導体製造装置。 - 請求項1から14のいずれか一項に記載の半導体製造装置を用い、前記半導体ウエハの表面に前記液体を供給する、
半導体装置の製造方法。
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JP2006344310A (ja) * | 2005-06-09 | 2006-12-21 | Sony Corp | 現像方法および現像装置 |
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- 2021-02-03 JP JP2021016077A patent/JP7412369B2/ja active Active
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