JP2011523158A5 - - Google Patents
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Claims (5)
- 不揮発性メモリセル用の回路(10,20,30,40,50,60,70,80,90,100)であって、
電荷変更端子(102,202,302,402,502,602,702,802,902,1002)と、
不揮発性メモリセルを読み取るときにメモリセルの状態に対応する信号を供給するように構成された出力端子(108,208,308,408,508,608,708,808,902,1008)と、
電気的に浮遊しているゲート電極と、電流伝達電極を含む活性領域とを含む第1のトランジスタ(11,21,31,41,51,61,71,81,91,1021)と、電流伝達電極は出力端子に結合されていることと、
第1の電極と第2の電極とを含む第2のトランジスタ(12,22,32,42,52,62,72,82,92,1022)と、第1の電極は第1のトランジスタのゲート電極に結合され、第2の電極は電荷変更端子に結合されていることと、
を含み、
メモリセルの状態を変化させるとき、第2のトランジスタが活性となり、第1のトランジスタのゲート電極と第1のトランジスタの活性領域との間において有意な量の電荷キャリアが移動しないように設計されている回路。 - 電流伝達電極を含む第3のトランジスタ(13,23,33,43,53,63,73,83,93,1023)をさらに含み、
第1のトランジスタ(11,21,31,41,51,61,71,81,91,1021)の電流伝達電極および第3のトランジスタの電流伝達電極は導通するように互いに結合されている、請求項1に記載の回路。 - 第2のトランジスタの第1の電極(92,1022)はゲート電極を含み、
第2のトランジスタの第2の電極は電流伝達電極を含み、
前記回路は、電流伝達電極およびゲート電極を含む第4のトランジスタ(94,1024)を含み、
第4のトランジスタの電流伝達電極および第2のトランジスタの電流伝達電極は、第1のトランジスタのゲート電極に結合されており、
第4のトランジスタのゲート電極は選択ラインに結合されている、請求項2に記載の回路。 - 電流伝達電極およびゲート電極を含む第5のトランジスタ(1026)と、
電流伝達電極およびゲート電極を含む第6のトランジスタ(1025)とをさらに含み、
第1のトランジスタの電流伝達電極および第3のトランジスタの電流伝達電極は、第5のトランジスタのゲート電極および第6のトランジスタのゲート電極に結合されており、
第6のトランジスタの電流伝達電極および第5のトランジスタの電流伝達電極は互いに結合されている、請求項3に記載の回路。 - 不揮発性メモリセルを含む電子デバイスにおいて、
不揮発性メモリセルは、
第1の活性領域(123)と、
第1の活性領域から離間した第2の活性領域(123,124)と、
第1の部分および第2の部分を含むフローティング・ゲート電極(142)であって、
第1のトランジスタ(21)は、フローティング・ゲート電極(142)の第1の部分と、第1の活性領域(123)とを含み、
第2のトランジスタ(25,26)は、フローティング・ゲート電極の第2の部分と、第2の活性領域(123,124)とを含み、
他のゲート電極はフローティング・ゲート電極に重なっていない、フローティング・ゲート電極と、
第1のトランジスタに結合されている出力端子(178)と、
第2のトランジスタに結合されている電荷変更端子(172,173)とを備える電子デバイス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/126,069 | 2008-05-23 | ||
US12/126,069 US7773424B2 (en) | 2008-05-23 | 2008-05-23 | Circuit for and an electronic device including a nonvolatile memory cell and a process of forming the electronic device |
PCT/US2009/038500 WO2009142824A1 (en) | 2008-05-23 | 2009-03-27 | Circuit for and an electronic device including a nonvolatile memory cell and a process of forming the electronic device |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011523158A JP2011523158A (ja) | 2011-08-04 |
JP2011523158A5 true JP2011523158A5 (ja) | 2012-11-15 |
JP5527855B2 JP5527855B2 (ja) | 2014-06-25 |
Family
ID=41340446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011510525A Active JP5527855B2 (ja) | 2008-05-23 | 2009-03-27 | 不揮発性メモリセルを含む電子デバイス用の回路および電子デバイスの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7773424B2 (ja) |
JP (1) | JP5527855B2 (ja) |
KR (1) | KR101588069B1 (ja) |
CN (1) | CN102037518B (ja) |
TW (1) | TWI485702B (ja) |
WO (1) | WO2009142824A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8269552B2 (en) | 2010-02-25 | 2012-09-18 | Fairchild Semiconductor Corporation | Control pin powered analog switch |
US8310301B2 (en) | 2010-02-25 | 2012-11-13 | Fairchild Semiconductor Corporation | Fully featured control pin powered analog switch |
US9018691B2 (en) | 2012-12-27 | 2015-04-28 | Ememory Technology Inc. | Nonvolatile memory structure and fabrication method thereof |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2554620B2 (ja) * | 1985-12-12 | 1996-11-13 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JPH02199698A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-08-08 | Kawasaki Steel Corp | 半導体集積回路 |
US5604700A (en) * | 1995-07-28 | 1997-02-18 | Motorola, Inc. | Non-volatile memory cell having a single polysilicon gate |
US5892709A (en) * | 1997-05-09 | 1999-04-06 | Motorola, Inc. | Single level gate nonvolatile memory device and method for accessing the same |
US6028789A (en) * | 1999-06-15 | 2000-02-22 | Vantis Corporation | Zero-power CMOS non-volatile memory cell having an avalanche injection element |
US6307781B1 (en) * | 1999-09-30 | 2001-10-23 | Infineon Technologies Aktiengesellschaft | Two transistor flash memory cell |
JP3906177B2 (ja) * | 2002-05-10 | 2007-04-18 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US7212446B2 (en) * | 2002-09-16 | 2007-05-01 | Impinj, Inc. | Counteracting overtunneling in nonvolatile memory cells using charge extraction control |
US6898123B2 (en) * | 2003-01-07 | 2005-05-24 | Intersil Americas Inc. | Differential dual floating gate circuit and method for programming |
JP4278438B2 (ja) * | 2003-05-27 | 2009-06-17 | 三洋電機株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置及びその制御方法 |
US7046549B2 (en) * | 2003-12-31 | 2006-05-16 | Solid State System Co., Ltd. | Nonvolatile memory structure |
TWI252488B (en) * | 2004-02-16 | 2006-04-01 | Vanguard Int Semiconduct Corp | Non-volatile memory cell and fabrication method thereof |
KR100615596B1 (ko) * | 2004-12-22 | 2006-08-25 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 |
KR100660277B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2006-12-20 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 에스램 소자 및 그 제조 방법 |
US7382658B2 (en) * | 2006-01-26 | 2008-06-03 | Mosys, Inc. | Non-volatile memory embedded in a conventional logic process and methods for operating same |
US7252033B1 (en) * | 2006-03-14 | 2007-08-07 | Uni-Splendor Corp | Automatic coffee maker |
US20070241384A1 (en) * | 2006-04-14 | 2007-10-18 | Gigadevice Semiconductor Inc. | Methods and apparatus for non-volatile semiconductor memory devices |
US8243510B2 (en) * | 2006-08-30 | 2012-08-14 | Broadcom Corporation | Non-volatile memory cell with metal capacitor |
-
2008
- 2008-05-23 US US12/126,069 patent/US7773424B2/en active Active
-
2009
- 2009-03-25 TW TW098109788A patent/TWI485702B/zh active
- 2009-03-27 JP JP2011510525A patent/JP5527855B2/ja active Active
- 2009-03-27 KR KR1020107029038A patent/KR101588069B1/ko active IP Right Grant
- 2009-03-27 CN CN200980118853.2A patent/CN102037518B/zh active Active
- 2009-03-27 WO PCT/US2009/038500 patent/WO2009142824A1/en active Application Filing
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