JP2011222657A - 基板位置合せ装置、基板貼り合せ装置、積層半導体装置の製造方法及び積層半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一の基板を保持する第1のテーブルと、他の基板を保持する第2のテーブルと、第1のテーブルに保持された一の基板の表面に設けられた指標を観察する第1の顕微鏡と、第2のテーブルに保持された他の基板の表面に設けられた指標を観察する第2の顕微鏡と、一の基板における複数の指標のうちの最初の指標から最後の指標を観察するまでの観察時間と、他の基板における複数の指標のうちの最初の指標から最後の指標までの観察時間とが少なくとも一部重なるように制御し、第1の顕微鏡による一の基板の指標の観察結果および第2の顕微鏡による他の基板の指標の観察結果に基づいて、一の基板と他の基板とを位置合わせする制御部とを備える基板位置合せ装置が提供される。
【選択図】図4
Description
特許文献1 特開2009−231671号公報
Claims (16)
- 一の基板を保持する第1のテーブルと、
他の基板を保持する第2のテーブルと、
前記第1のテーブルに保持された前記一の基板の表面に設けられた指標を観察する第1の顕微鏡と、
前記第2のテーブルに保持された前記他の基板の表面に設けられた指標を観察する第2の顕微鏡と、
前記一の基板における複数の指標のうちの最初の指標から最後の指標を観察するまでの観察時間と、前記他の基板における複数の指標のうちの最初の指標から最後の指標までの観察時間とが少なくとも一部重なるように制御し、前記第1の顕微鏡による前記一の基板の指標の観察結果および前記第2の顕微鏡による前記他の基板の指標の観察結果に基づいて、前記一の基板と前記他の基板とを位置合わせする制御部と
を備える基板位置合せ装置。 - 前記制御部は、前記一の基板における複数の指標のいずれかが前記第1の顕微鏡の視野内に入るときに前記他の基板における複数の指標のうちの対応するいずれかが前記第2の顕微鏡の視野内に入るべく、前記第2のテーブルを移動する請求項1に記載の基板位置合わせ装置。
- 前記第1の顕微鏡および前記第2の顕微鏡のうち少なくとも一方の焦点位置が可変である請求項1又は2に記載の基板位置合せ装置。
- 前記第1の顕微鏡と前記第2の顕微鏡とは、前記一の基板の面方向について、前記第1のテーブルにおける前記一の基板が置かれるべき位置に前記一の基板が置かれた場合の前記一の基板の中心、および前記第2のテーブルにおける前記他の基板が置かれるべき位置に前記他の基板が置かれた場合の前記他の基板の中心に対して、対称な位置に配される請求項1から3のいずれかに記載の基板位置合せ装置。
- 前記第1のテーブルと前記第2の顕微鏡との相対位置、および、前記第2のテーブルと前記第1の顕微鏡との相対位置、の少なくとも一方が可変である請求項1から3のいずれかに記載の基板位置合せ装置。
- 前記第1の顕微鏡による観察および前記第2の顕微鏡による観察に先立って、前記第1のテーブルに前記一の基板を搬送するとともに前記第2のテーブルに前記他の基板を搬送する搬送部をさらに備える請求項1から5のいずれかに記載の基板位置合せ装置。
- 前記第1のテーブルおよび前記第2のテーブルとは別個の位置において、前記一の基板の外形および前記他の基板の外形をそれぞれの観察時間の少なくとも一部が重なるように観察するプリアラインメント部をさらに備える請求項6に記載の基板位置合せ装置。
- 前記第1のテーブルおよび前記第2のテーブルとは別個の位置において、前記一の基板の外形および前記他の基板の外形を順次、観察し、先に観察を終了した前記一の基板を反転するプリアラインメント部をさらに備える請求項6に記載の基板位置合せ装置。
- 前記搬送部は、前記第1のテーブルに前記一の基板を搬送する第1のアーム、前記第2のテーブルに前記他の基板を搬送する第2のアーム、並びに、前記一の基板と前記他の基板とが重なった状態で前記1のテーブルおよび前記第2のテーブルから搬出する第3のアームを有する請求項6に記載の基板位置合せ装置。
- 請求項1から9のいずれかに記載の基板位置合せ装置と、
位置合わせされた前記一の基板および前記他の基板を加圧する加圧部と
を備える基板貼り合せ装置。 - 一の基板を第1のテーブルに保持する第1保持ステップと、
他の基板を第2のテーブルに保持する第2保持ステップと、
前記第1のテーブルに保持された前記一の基板の表面に設けられた指標を第1の顕微鏡で観察する第1観察ステップと、
前記第2のテーブルに保持された前記他の基板の表面に設けられた指標を、前記第2のテーブルに対向して配された第2の顕微鏡で観察する第2観察ステップと、
前記第1の顕微鏡による前記一の基板の指標の観察結果および前記第2の顕微鏡による前記他の基板の指標の観察結果に基づいて、前記一の基板と前記他の基板とを位置合わせする位置合わせステップと
を備え、
前記第1観察ステップおよび前記第2観察ステップにおいて、前記一の基板における複数の指標のうちの最初の指標から最後の指標を観察するまでの観察時間と、前記他の基板における複数の指標のうちの最初の指標から最後の指標までの観察時間とが少なくとも一部重なる基板位置合わせ方法。 - 前記第1観察ステップおよび前記第2観察ステップにおいて、前記一の基板における複数の指標のいずれかが前記第1の顕微鏡の視野内に入るときに前記他の基板における複数の指標のうちの対応するいずれかが前記第2の顕微鏡の視野内に入るべく、前記第2のテーブルを移動する請求項11に記載の基板位置合わせ方法。
- 互いに対応する指標について、前記第1観察ステップおよび前記第2観察ステップが同時に行われる請求項12に記載の基板位置合わせ方法。
- 前記第1観察ステップおよび前記第2観察ステップにおいて、前記一の基板における複数の指標のいずれかが前記第1の顕微鏡の視野内に入るときに前記他の基板における複数の指標のうちの対応するいずれかが前記第2の顕微鏡の視野内に入らない場合に、前記第1観察ステップおよび前記第2観察ステップのいずれか一方を行った後に、さらに前記第2のテーブルを移動して前記第1観察ステップおよび前記第2観察ステップの一方を行う請求項13に記載の基板位置合わせ方法。
- 請求項11から14のいずれかに記載の基板位置合わせ方法により位置合わせされた前記一の基板と前記他の基板とを積層する積層半導体の製造方法。
- 請求項15の積層半導体の製造方法により製造された積層半導体装置。
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